JP2013165642A - リニアモータ、リニアモータの制御方法及びステージ装置並びに露光装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】所定方向に配列された複数のコイル体63を有するコイルユニット62と発磁ユニットとを有し、駆動時には複数のコイル体に多相の電流が所定周期で順次供給されることで所定の力を発生させる。駆動時には、多相のうちの所定の同一の相の電流が供給される複数のコイル体への通電を独立して制御する制御装置CONTを有する。
【選択図】図5
Description
例えば2DOFモータにおいて可動子の移動に伴って相毎に励磁切替を行う場合、励磁切替時の電流値をゼロにすることができないため、円滑な制御が困難である。また、補正を伴って励磁切替を行う場合には、誤差が生じて高精度の推力発生に支障を来す虞もある。
本発明のリニアモータは、所定方向に配列された複数のコイル体(63、70、80)を有するコイルユニット(62)と発磁ユニット(65)とを有し、駆動時には複数のコイル体に多相の電流が所定周期で順次供給されることで所定の力を発生させるリニアモータ(30)であって、前記駆動時には、多相のうちの所定の同一の相の電流が供給される複数のコイル体への通電を独立して制御する制御装置(CONT)を有するものである。
また、本発明のリニアモータの制御方法は、所定方向に配列された複数のコイル体を有するコイルユニットと発磁ユニットとを有し、駆動時には前記複数のコイル体に多相の電流が所定周期で順次供給されることで所定の力を発生させるリニアモータの制御方法であって、前記駆動時には、多相のうちの所定の同一の相の電流が供給される前記複数のコイル体への通電を独立して制御するものである。
従来では、多相のうち所定の同一相の電流が供給されるコイル体への通電が同一で制御されていたが、本発明では同一相の電流が供給されるコイル体が独立して制御されるため、励磁切替前の通電量に関連性を有することなく励磁切替後の通電量を設定することができる。そのため、本発明では、円滑な励磁切替を容易に実施することができ、高精度の推力発生を実現できる。
従って、本発明のステージ装置では、円滑な励磁切替により円滑な推力発生を実現して、所定の物体を高精度で移動させることが可能になる。
また、本発明の露光装置は、先に記載のステージ装置(2)を備えるものである。
従って、本発明の露光装置では、マスクやウエハ等を高精度に移動させることが可能になり、高精度の露光処理を実施することができる。
従って、本発明のデバイスの製造方法では、高精度にパターンが形成された高品質のデバイスを得ることができる。
なお、本発明をわかりやすく説明するために、一実施例を示す図面の符号に対応付けて説明したが、本発明が実施例に限定されるものではないことは言うまでもない。
図1は本発明のリニアモータを駆動装置として備えた露光装置の一実施形態を示す概略構成図である。ここで、本実施形態における露光装置EXは、マスクMと感光基板Pとを同期移動しつつマスクMに設けられているパターンを投影光学系PLを介して感光基板P上に転写する所謂スキャニングステッパである。以下の説明において、投影光学系PLの光軸AXと一致する方向をZ軸方向、Z軸方向に垂直な平面内における前記同期移動方向(走査方向)をY軸方向、Z軸方向及びY軸方向と垂直な方向(非走査方向)をX軸方向とする。更に、X軸周り、Y軸周り、及びZ軸周りの回転方向をそれぞれθX方向、θY方向、及びθZ方向とする。また、ここでいう「感光基板」は半導体ウエハ上にレジストが塗布されたものを含み、「マスク」は感光基板上に縮小投影されるデバイスパターンが形成されたレチクルを含む。
図2に示すように、ステージ装置1(マスクステージMST)は、マスク定盤3上に設けられたマスク粗動ステージ16と、マスク粗動ステージ16上に設けられたマスク微動ステージ18と、マスク定盤3上において粗動ステージ16をY軸方向に所定ストロークで移動可能な一対のYリニアモータ20、20と、マスク定盤3の中央部の上部突出部3bの上面に設けられ、Y軸方向に移動する粗動ステージ16を案内する一対のYガイド部24、24と、粗動ステージ16上において微動ステージ18をX軸、Y軸、及びθZ方向に微小移動可能な一対のXボイスコイルモータ17X及び一対のYボイスコイルモータ17Yとを備えている。なお、図1では、粗動ステージ16及び微動ステージ18を簡略化して1つのステージとして図示している。
ここで、固定子31はベースプレート6に突設された支持部36(図1参照)に設けられている。なお、図1では固定子81及び可動子82は簡略化して図示されている。
また、固定子31におけるコイル体80に対する通電量及び通電の向きに応じた推力及び方向に可動子32がZ方向に移動する。
なお、この構成については、米国特許公開2006/0049697号に詳述されている。
なお、図6においては、可動子32(図6では不図示)を+Y側から−Y側に向けて移動させるものとして説明する。また、コイル体63(70、80)に対する通電制御は、全て制御装置CONT及び三相ドライバ91、92によって行われるものとして、各励磁切替ではその説明を省略する。
また、以下の説明では、コイル体63(70、80)に供給される電流の相に応じて、適宜コイル体u1、v1、w1〜コイル体u4、v4、w4と称する。
これにより、コイル体v1、w1、u2については、Y推力及びZ推力の双方の推力を発生させる通電が行われ、コイル体v2、w2、u3については、Y推力のみを発生させる通電が行われる。
このとき、コイル体v2は、コイル体v1の通電を調整する三相ドライバ91とは独立して設けられた三相ドライバ92に通電が調整されるため、コイル体v1への通電に拘束されることなく、例えば電流値がゼロのタイミング等、最適なタイミングでの通電が可能である。
これにより、図6(d)に示すように、コイル体w1、u2、v2については、Y推力及びZ推力の双方の推力を発生させる通電が行われ、コイル体w2、u3、v3については、Y推力のみを発生させる通電が行われる。
すなわち、可動子32は、リニアモータ30により、Y方向及びZ方向の2方向について移動可能となる。
また、本実施形態では、各相の電流が供給されるコイル体63に対して、三相ドライバ91が奇数番目のコイル体の通電を調整し、三相ドライバ92が偶数番目のコイル体の通電を調整しているため、コイル体への通電を独立して制御するための三相ドライバの数を最小限に抑えることができ、装置の小型化、低価格化に寄与できる。
また、上記実施形態では、固定子31を挟んだZ方向の両側に可動子32の永久磁石65が設けられる構成としたが、これに限られるものではなく、例えば図8に示すように、固定子31のZ方向一方側にのみ可動子32の永久磁石65が設けられる構成であっても本発明を適用可能である。
、これに限定されるものではなく、二相の電流が供給される構成や、四相以上の電流が供給される構成であっても本発明を適用可能である。
また、Z方向に沿って配置されるコイル体の数についても、上記実施形態では1層及び2層について例示したが、3層以上に配設する構成であってもよい。
さらに、上記実施形態では、複数のコイル体に対して独立した2つのドライバにより通電を制御する構成としたが、独立した3つ以上のドライバを設けてコイル体の通電を制御する構成としてもよい。
まず、ステップS10(設計ステップ)において、マイクロデバイスの機能・性能設計(例えば、半導体デバイスの回路設計等)を行い、その機能を実現するためのパターン設計を行う。引き続き、ステップS11(マスク製作ステップ)において、設計した回路パターンを形成したマスク(レチクル)を製作する。一方、ステップS12(ウエハ製造ステップ)において、シリコン等の材料を用いてウエハを製造する。
次に、ステップS13(ウエハ処理ステップ)において、ステップS10〜ステップS12で用意したマスクとウエハを使用して、後述するように、リソグラフィ技術等によってウエハ上に実際の回路等を形成する。次いで、ステップS14(デバイス組立ステップ)において、ステップS13で処理されたウエハを用いてデバイス組立を行う。このステップS14には、ダイシング工程、ボンティング工程、及びパッケージング工程(チップ封入)等の工程が必要に応じて含まれる。最後に、ステップS15(検査ステップ)において、ステップS14で作製されたマイクロデバイスの動作確認テスト、耐久性テスト等の検査を行う。こうした工程を経た後にマイクロデバイスが完成し、これが出荷される。
ステップS21(酸化ステップ)おいては、ウエハの表面を酸化させる。ステップS22(CVDステップ)においては、ウエハ表面に絶縁膜を形成する。ステップS23(電極形成ステップ)においては、ウエハ上に電極を蒸着によって形成する。ステップS24(イオン打込みステップ)においては、ウエハにイオンを打ち込む。以上のステップS21〜ステップS24のそれぞれは、ウエハ処理の各段階の前処理工程を構成しており、各段階において必要な処理に応じて選択されて実行される。
ウエハプロセスの各段階において、上述の前処理工程が終了すると、以下のようにして後処理工程が実行される。この後処理工程では、まず、ステップS25(レジスト形成ステップ)において、ウエハに感光剤を塗布する。引き続き、ステップS26(露光ステップ)において、上で説明したリソグラフィシステム(露光装置)及び露光方法によってマスクの回路パターンをウエハに転写する。次に、ステップS27(現像ステップ)においては露光されたウエハを現像し、ステップS28(エッチングステップ)において、レジストが残存している部分以外の部分の露出部材をエッチングにより取り去る。そして、ステップS29(レジスト除去ステップ)において、エッチングが済んで不要となったレジストを取り除く。これらの前処理工程と後処理工程とを繰り返し行うことによって、ウエハ上に多重に回路パターンが形成される。
Claims (12)
- 所定方向に配列された複数のコイル体を有するコイルユニットと発磁ユニットとを有し、駆動時には前記複数のコイル体に多相の電流が所定周期で順次供給されることで所定の力を発生させるリニアモータであって、
前記駆動時には、多相のうちの所定の同一の相の電流が供給される前記複数のコイル体への通電を独立して制御する制御装置を有するリニアモータ。 - 前記リニアモータは、n相の電流が供給され、
前記所定の同一の相の電流が供給される複数のコイル体は、前記所定方向において間に(n−1)個のコイル体を介して配列されている請求項1記載のリニアモータ。 - 前記リニアモータは、前記所定方向と略直行する方向に、前記コイル体のそれぞれと対向するように配列された複数の第2コイル体を有し、
前記制御装置は、前記コイル体への通電と前記第2コイル体への通電とを独立して制御する請求項1または2記載のリニアモータ。 - 前記コイル体と前記第2コイル体とは、前記所定方向に関し前記配列の位相がずれるように配置されている請求項3記載のリニアモータ。
- 請求項1から4のいずれか一項に記載のリニアモータを備えるステージ装置。
- 前記コイルユニットと前記発磁ユニットとの一方を含む移動体を有し、
前記制御装置は、前記移動体に対して前記所定方向と略直交する方向に作用する少なくとも2つの力が前記移動体に互いに異なる大きさで作用するように、前記コイル体および前記第2コイル体への通電を制御する請求項5記載のステージ装置。 - 請求項5または請求項6記載のステージ装置を備える露光装置。
- リソグラフィ工程を有するデバイスの製造法であって、前記リソグラフィ工程は請求項7記載の露光装置を用いるデバイスの製造方法。
- 所定方向に配列された複数のコイル体を有するコイルユニットと発磁ユニットとを有し、駆動時には前記複数のコイル体に多相の電流が所定周期で順次供給されることで所定の力を発生させるリニアモータの制御方法であって、
前記駆動時には、多相のうちの所定の同一の相の電流が供給される前記複数のコイル体への通電を独立して制御するリニアモータの制御方法。 - 前記リニアモータは、n相の電流が供給され、
前記所定の同一の相の電流が供給される複数のコイル体は、前記所定方向において間に(n−1)個のコイル体を介して配列されている請求項9記載のリニアモータの制御方法。 - 前記リニアモータは、前記所定方向と略直行する方向に、前記コイル体のそれぞれと対向するように配列された複数の第2コイルを有し、
前記コイル体への通電と前記第2コイル体への通電とを独立して制御する請求項9または10記載のリニアモータの制御方法。 - 前記コイル体と前記第2コイル体とを、前記所定方向に関し前記配列の位相をずらせて配置する請求項11記載のリニアモータの制御方法。
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