JP2013165163A - メタルシールド板の製造方法およびメタルシールド板 - Google Patents

メタルシールド板の製造方法およびメタルシールド板 Download PDF

Info

Publication number
JP2013165163A
JP2013165163A JP2012027380A JP2012027380A JP2013165163A JP 2013165163 A JP2013165163 A JP 2013165163A JP 2012027380 A JP2012027380 A JP 2012027380A JP 2012027380 A JP2012027380 A JP 2012027380A JP 2013165163 A JP2013165163 A JP 2013165163A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
permalloy
metal shield
shield plate
processed
heat treatment
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2012027380A
Other languages
English (en)
Inventor
Koji Tomita
田 幸 治 冨
Satoshi Shibazaki
崎 聡 柴
Masachika Masuda
田 正 親 増
Masaki Yazaki
崎 雅 樹 矢
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dai Nippon Printing Co Ltd filed Critical Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority to JP2012027380A priority Critical patent/JP2013165163A/ja
Publication of JP2013165163A publication Critical patent/JP2013165163A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4805Shape
    • H01L2224/4809Loop shape
    • H01L2224/48091Arched
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/481Disposition
    • H01L2224/48151Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/48221Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/48245Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
    • H01L2224/48247Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic connecting the wire to a bond pad of the item

Landscapes

  • Shielding Devices Or Components To Electric Or Magnetic Fields (AREA)
  • Mram Or Spin Memory Techniques (AREA)

Abstract

【課題】メタルシールド板に要求される特性(高い透磁率および低い保磁力)を確保しつつ、効率良く、高い良品率でメタルシールド板を作製することが可能なメタルシールド板の製造方法を提供する。
【解決手段】まず熱処理炉90内でパーマロイPC材70を不活性ガス雰囲気中で1000℃乃至1300℃で熱処理する。次に熱処理済のパーマロイPC材70を加工して、メタルシールド板40を含む平板状の加工済みパーマロイPC材10を作製する。その後、加工済みパーマロイPC材10からメタルシールド板40を分離することにより、メタルシールド板40が得られる。
【選択図】図7

Description

本発明は、半導体チップと、半導体チップを封止する封止樹脂とを含む半導体装置に用いられ、半導体チップを外部磁気から保護する半導体装置用のメタルシールド板の製造方法およびメタルシールド板に関する。
MRAM等の半導体チップを有する半導体装置には、その内部にメタルシールド板が設けられているものがある。このメタルシールド板は、MRAM等の半導体チップをパッケージに納める時に、半導体チップの表面、もしくは両面に配置される。このようなメタルシールド板は、外部からの磁気による影響を防止もしくは低減させる目的で使用されるため、一般に磁気シールド効果のある金属材料から作製される。
例えばMRAM用のメタルシールド板の材料として透磁率が高く、保磁力の低いパーマロイPC材を使用することにより、半導体チップのシールド効果を高めることが可能となる。このメタルシールド板は、パーマロイPC材を所望の形状に成型した後、加熱処理を施すことにより作成される。このことにより、加工後のメタルシールド板が高い透磁率と低い保磁力特性を得ることができる。
特開2009−141194
ところで、パーマロイPC材をこのような高温(約1100℃)で熱処理する場合、熱処理炉内の温度はパーマロイPC材の金属の再結晶を促す温度領域に達する。このため、パーマロイPC材同士を積層し熱処理を行う場合、パーマロイPC材同士が互いに付着してしまう。これを防止するため、熱処理炉内でアルミナ粉末をパーマロイPC材同士の間に介在させた状態で熱処理を行っている。
しかしながら、この場合、パーマロイPC材同士の間にアルミナ粉末を介在させる手間がかかるため、熱処理の前段取りを行う費用が高くなってしまう。また、熱処理が終了した後、アルミナ粉末を取り除くための洗浄作業が必要となる。さらに、熱処理炉内の温度を約1100℃という高温にして熱処理するため、パーマロイPC材が軟化して塑性変形しやすく、メタルシールド板の良品率が低下することにつながっている。
この場合、熱処理工程におけるパーマロイPC材同士の付着を防止するため、熱処理温度を低下させることも考えられるが、このように熱処理温度を低下させると、高い透磁率と低い保磁力を得ることはむずかしい。
本発明はこのような点を考慮してなされたものであり、メタルシールド板に要求される特性(高い透磁率および低い保磁力)を確保しつつ、効率良く、高い良品率でメタルシールド板を作製することが可能なメタルシールド板の製造方法およびメタルシールド板を提供することを目的とする。
本発明は、半導体チップと、半導体チップを封止する封止樹脂とを含む半導体装置に用いられ、半導体チップを外部磁気から保護するメタルシールド板の製造方法において、パーマロイPC材を準備する工程と、熱処理炉内でパーマロイPC材を不活性ガス雰囲気中で熱処理する工程と、パーマロイPC材を加工して、複数のメタルシールド板を含む平板状の加工済みパーマロイPC材を作製する工程と、加工済みパーマロイPC材からメタルシールド板を分離する工程とを備えたことを特徴とするメタルシールド板の製造方法である。
本発明は、パーマロイPC材を熱処理する工程は、パーマロイPC材を1000℃〜1300℃まで加熱した後、このパーマロイPC材を徐冷する焼鈍工程からなることを特徴とするメタルシールド板の製造方法である。
本発明は、帯状のパーマロイPC材を巻取って第1巻取体を形成する工程を更に備え、第1巻取体から帯状のパーマロイPC材を繰り出し、この帯状のパーマロイPC材に対して熱処理炉内で熱処理することを特徴とするメタルシールド板の製造方法である。
本発明は、熱処理炉で熱処理された帯状のパーマロイPC材を巻取って第2巻取体を形成する工程を更に備えたことを特徴とするメタルシールド板の製造方法である。
本発明は、平板状の加工済みパーマロイPC材を洗浄する工程を更に備えたことを特徴とするメタルシールド板の製造方法である。
本発明は、上記記載のメタルシールド板の製造方法によって得られたメタルシールド板である。
以上のように本発明によれば、加工前のパーマロイPC材を不活性ガス雰囲気中で熱処理した後、パーマロイPC材を加工して、複数のメタルシールド板を含む平板上の加工済みパーマロイPC材を作製するので、加工済みパーマロイPC材を熱処理する場合のように、熱処理を行う際、加工済みパーマロイPC材同士の間にアルミナ粉末を介在させる必要がない。また加工前のパーマロイPC材を熱処理するため、加工済みパーマロイPC材を熱処理する場合に比べて高温での熱処理が可能となる。このことにより、半導体装置用のメタルシールド板に要求される特性(高い透磁率および低い保磁力)を確保しつつ、効率良くメタルシールド板を作製することができる。
図1は、メタルシールド板を有する半導体装置(SOP)を示す概略断面図。 図2は、メタルシールド板を有する半導体装置(BGA)を示す概略断面図。 図3は、メタルシールド板を有する半導体装置(SOP)を示す概略断面図。 図4は、メタルシールド板を有する半導体装置(BGA)を示す概略断面図。 図5は、メタルシールド板を示す斜視図。 図6は、加工済みパーマロイPC材を示す平面図。 図7(a)(b)は、本発明の一実施の形態によるメタルシールド板の製造方法を示す図。 図8(a)〜(f)は、熱処理済みのパーマロイPC材を加工して複数のメタルシールド板を含む平板状の加工済みパーマロイPC材を作製する工程を示す概略斜視図。 図9は、メタルシールド板の透磁率と外部磁力からの遮蔽効果との関係を説明するための図。 図10は、本発明の実施例におけるメタルシールド板のヒステリシス曲線を示す図。
以下、図面を参照して本発明の一実施の形態について説明する。図1乃至図10は、本発明の一実施の形態を示す図である。
半導体装置の構成
まず、図1乃至図4により、メタルシールド板を有する半導体装置の概略について説明する。図1および図3は、それぞれ半導体装置がSOP(Small Outline Packageの略)からなる場合を示す図であり、図2および図4は、それぞれ半導体装置がBGA(Ball GridArray Packageの略)からなる場合を示す図である。
図1に示すSOPからなる半導体装置50は、ダイパッド52と、ダイパッド52に載置され、回路面51Aを有する半導体チップ51と、半導体チップ51の回路面51Aに設けられたメタルシールド板40とを備えている。このうち半導体チップ51は、磁気抵抗効果を示す記憶素子を含むMRAM等の半導体メモリからなっている。
メタルシールド板40は、後述するように、シールド板本体41と、シールド板本体41の側方に突出するバリ42とを有している。
また半導体チップ51の回路面51Aとリードフレーム54とは、金製のボンディングワイヤ55により電気的に接続されている。さらにダイパッド52、半導体チップ51、メタルシールド板40、およびボンディングワイヤ55は、封止樹脂56により封止されている。
一方、図2に示すBGAからなる半導体装置60は、パッケージ基板67と、パッケージ基板67上に設けられたダイパッド62と、ダイパッド62に載置され、回路面61Aを有する半導体チップ61と、半導体チップ61の回路面61Aに設けられたメタルシールド板40とを備えている。このうち半導体チップ61は、上述した半導体チップ51と同様、磁気抵抗効果を示す記憶素子を含むMRAM等の半導体メモリからなっている。
メタルシールド板40は、後述するように、シールド板本体41と、シールド板本体41の側方に突出するバリ42とを有している。
またパッケージ基板67上に端子部64が設けられ、端子部64にはんだボール68が電気的に接続されている。このはんだボール68は、パッケージ基板67から外方に突出している。また端子部64と半導体チップ61の回路面61Aとは、金製のボンディングワイヤ65により電気的に接続されている。さらにダイパッド62、半導体チップ61、メタルシールド板40、端子部64、およびボンディングワイヤ65は、封止樹脂66により封止されている。
図1において、メタルシールド板40は半導体チップ51、61の回路面51A、61A側に設けられている。しかしながらこれに限らず、図3および図4に示すように、メタルシールド板40に加え、半導体チップ51、61の回路面51A、61Aと反対側の面51B、61Bに追加のメタルシールド板40Aが設けられていても良い。
図3および図4に示す半導体装置50、60は、追加のメタルシールド板40Aを設けた点が異なるのみであり、他は図1および図2にそれぞれ示す半導体装置50、60と同一である。図3および図4において、図1および図2に示す実施の形態と同一部分は同一符号を付しておく。また図3および図4に示す追加のメタルシールド板40Aの構成は、上述したメタルシールド板40の構成と同一である。
すなわち図3に示すように、SOPからなる半導体装置50において、半導体チップ51の回路面51Aと反対側の面51Bに、追加のメタルシールド板40Aが設けられている。この場合、追加のメタルシールド板40Aは、半導体チップ51とダイパッド52との間に介在される。
一方、図4に示すように、BGAからなる半導体装置60において、半導体チップ61の回路面61Aと反対側の面61Bに、追加のメタルシールド板40Aが設けられている。この場合、追加のメタルシールド板40Aは、半導体チップ61とダイパッド62との間に介在される。
メタルシールド板の構成
次に図5により、本発明によるメタルシールド板の製造方法により作製されるメタルシールド板の概略について説明する。
図5に示す半導体装置用のメタルシールド板40は、上述したように半導体装置50、60に含まれるものである。
このような構成からなるメタルシールド板40は、矩形状のシールド板本体41と、シールド板本体41の側方に突出するバリ(具体的には連結部30を切断した残り)42とを備えている。
このうちバリ42は、シールド板本体41の一面41a側に位置している。このバリ42の厚さはシールド板本体41の厚さより薄い。なおバリ42は、後述する加工済みパーマロイPC材10の連結部30の一部に相当する。
メタルシールド板40は、パーマロイPC材、すなわち70%乃至85%のニッケルを含むFe−Ni合金にモリブデン、銅等の添加元素を含んだソフトマグネティック金属材料からなっている。
メタルシールド板40の大きさは問わないが、その厚みは50μm乃至200μmとすることが好ましく、100μm乃至150μmとすることが更に好ましい。メタルシールド板40の厚みが50μm未満となると、外部の磁気から半導体チップを十分に保護できないおそれがある。他方、メタルシールド板40の厚みが200μm超となると半導体装置50、60全体の厚さが厚くなるので好ましくない。
加工済みパーマロイPC材(メタルシールド用シート)の構成
次に図6により、本発明によるメタルシールド板の製造方法において用いられる加工済みパーマロイPC材(メタルシールド用シート)の概略について説明する。
図6に示すように、加工済みパーマロイPC材10は、複数の矩形状の開口21を有する枠体20と、枠体20の開口21内に配置され、枠体20に連結部30を介して連結された複数のメタルシールド板40とを備えている。
このうち枠体20は、複数の開口21全体を取り囲む外枠部22と、隣接する各開口21間に形成され、互いに平行に配置された複数の細長いステー部23とを有している。これら枠体20の外枠部22、ステー部23、およびメタルシールド板40は、互いに同一の厚さからなっている。
図6に示すように、連結部30は、各メタルシールド板40の側部にそれぞれ設けられている。すなわち各連結部30は、メタルシールド板40の側部と枠体20のステー部23(または外枠部22)とを連結するものである。なお連結部30は、ハーフエッチングによりメタルシールド板40より薄く形成されていることが好ましい。
また、メタルシールド板40は、加工済みパーマロイPC材10の連結部30を切断して、枠体20から分離することにより作製されたものである。なお、メタルシールド板40の構成は図5を用いて既に説明したので、ここでは詳細な説明を省略する。
加工済みパーマロイPC材10は、後述するように一枚の金属板(パーマロイPC材70)をエッチング加工することにより作製されたものである。すなわち加工済みパーマロイPC材10の枠体20、連結部30、およびメタルシールド板40は互いに一体に形成されている。
この加工済みパーマロイPC材10は、上述したメタルシールド板40と同様、パーマロイPC材からなっている。また加工済みパーマロイPC材10の厚みについても、メタルシールド板40と同様に、50μm乃至200μmとすることが好ましく、100μm乃至150μmとすることが更に好ましい。
メタルシールド板の製造方法
次に、本発明によるメタルシールド板の製造方法について、図7(a)(b)、図8(a)〜(f)、および図9により説明する。
図7(a)に示すように、まず加工済みパーマロイPC材10を製造するための(未加工の)帯状のパーマロイPC材70を準備し、この帯状のパーマロイPC材70を巻取って第1巻取体70Aを作製する。
次に第1巻取体70Aから帯状のパーマロイPC材70を繰り出し、この帯状のパーマロイPC材70を熱処理炉90内に導く。その後、帯状のパーマロイPC材70に対して熱処理炉90内でバッチ方式で熱処理を施す。
このように帯状のパーマロイPC材70を熱処理することにより、帯状のパーマロイPC材70の磁気シールド効果を高めることができる。
熱処理炉90内で熱処理が施された帯状のパーマロイPC材70はその後巻取られて第2巻取体70Bを形成する。
この間、熱処理炉90内では以下のような熱処理工程が実行される。すなわち熱処理炉90は帯状のパーマロイPC材70を受け入れると、密閉され、熱処理炉90内に水素ガス等の不活性ガスが充填される。次に、帯状のパーマロイPC材70が不活性ガス雰囲気中で熱処理される。
この間、まず熱処理炉90内を所定の温度(1000℃〜1300℃)まで昇温し、この状態で、帯状のパーマロイPC材70を例えば2分間程度加熱する。
その後、帯状のパーマロイPC材70が常温となるまで熱処理炉90内で徐冷することにより、帯状のパーマロイPC材70の金属の再結晶が促される(焼鈍工程)。このようにして、磁気シールド効果が高められた帯状のパーマロイPC材70を得ることができる。
なお、熱処理温度が650℃を下回ると、メタルシールド板40の透磁率(μi)および保磁力(Hc)の特性が不十分となる。すなわち図9に示すように、一般にメタルシールド板40の透磁率(比透磁率:μi)が高いほど、外部からの磁力がメタルシールド板40に沿って透磁されやすくなるため、半導体チップ51を外部磁力から遮蔽する効果が高まる。また、一般にメタルシールド板40の保磁力(Hc)が低いほど、半導体チップ51を外部磁力から遮蔽する効果が高まる。ここで、半導体装置50、60用のメタルシールド板40に要求される透磁率(μi)は、6000以上であり、保磁力(Hc)は、6.0A/m以下である。そして帯状のパーマロイPC材70の熱処理温度が1000℃を下回った場合、これらの透磁率(μi)および保磁力(Hc)の要求値を満たさないおそれがある。
他方、熱処理温度が1300℃を上回ると、パーマロイPC材の金属の再結晶を促す温度領域に近づくため、帯状のパーマロイPC材70が軟化して変形するおそれがある。
このため、熱処理炉90内における熱処理温度は、上述のように、1000℃〜1300℃と定めることができる。
なお、熱処理炉90内では、加工前の帯状のパーマロイPC材70を熱処理するので、加工済みパーマロイPC材10を熱処理する場合に比べて加工済みパーマロイPC材10同士の付着を問題とする必要はなく、高温による熱処理が可能となる。
次に図7(b)に示すように、第2巻取体70Bから帯状のパーマロイPC材70が繰り出され、この帯状のパーマロイPC材70が加工し易い所定形状に打ち抜かれる。そして所定形状をもつパーマロイPC材70に対して加工が施されて、複数のメタルシールド板40を含む平板状の加工済パーマロイPC材10がエッチングにより作製される。
すなわち、まず帯状のパーマロイPC材70が加工し易い所定形状に打抜かれ、この所定形状をもつパーマロイPC材70の一方の面全体にレジスト層71を設けるととともに、他方の面全体にレジスト層72を設ける(図8(a)(b))。
次いで、レジスト層71、72に各々所定形状からなるパターンを形成する(図8(c))。この場合、例えば図示しない露光用マスクを介してレジスト層71、72を露光し、硬化させ、次いでレジスト層71、72を現像し、その後レジスト層71、72の不要部分を除去することにより、各レジスト層71、72に所定のパターンを形成することができる。
次に、パーマロイPC材70の両面にエッチング加工を施し、パーマロイPC材70のうちレジスト層71、72が設けられていない部分を除去する(図8(d))。パーマロイPC材70のうちこのようにして除去された部分は、主に加工済みパーマロイPC材10の枠体20の開口21に対応する。一方、パーマロイPC材70のうち除去されなかった部分は、加工済みパーマロイPC材10の枠体20、連結部30、およびメタルシールド板40に対応する。またこの際、ハーフエッチングにより、連結部30をメタルシールド板40より薄く形成する。なお、このエッチング加工で用いられるエッチング液としては、塩化第2鉄水溶液、塩化第2銅水溶液、および銅アンモニウム錯イオンを含むアルカリ水溶液などが挙げられる。
その後、レジスト層71、72を除去することにより、上述した平板状の加工済みパーマロイPC材10が得られる(図8(e))。この加工済みパーマロイPC材10には、枠体20、連結部30、およびメタルシールド板40が含まれる。
次に、このようにして作製された加工済みパーマロイPC材10は洗浄ノズル91を有する洗浄部91Aへ送られ、洗浄ノズル91から噴出される洗浄液92により洗浄される(図7(b)、図8(f)参照)。洗浄後の加工済みパーマロイPC材10は、その後半導体装置50、60の組立て工程に搬送される。
この半導体装置50、60の組立て工程において、加工済みパーマロイPC材10を固定し、ダイヤモンド砥石等からなるブレード80によって連結部30を切断する(図8(g))。これによりメタルシールド板40が枠体20から分離される(ソーイング(sawing)工程)。このようにして、加工済みパーマロイPC材10から個々のメタルシールド板40(図5参照)が分離されて得られる。
なお、メタルシールド板40を枠体20から分離する工程において、ブレード80により連結部30をステー部23から各々切断しても良いが、ステー部23より幅広のブレード80を用いて、ステー部23および連結部30を一体として切断することが好ましい。
すなわちブレード80をステー部23の長手方向に沿って移動させることにより(図6の線分L参照)、ステー部23と、このステー部23の両側に位置する連結部30、30とを一度に連続して切断することがメタルシールド板40を効率的に分離するうえで好ましい。
その後、半導体装置50、60の組立て工程において、このようにして製造されたメタルシールド板40を用いて、上述した半導体装置50、60が製造される。
このように本実施の形態によれば、加工前の帯状のパーマロイPC材70を熱処理炉90内で熱処理するので、加工済みパーマロイPC材を熱処理する場合と比較して、熱処理を行う際、加工済みパーマロイPC材同士の間にアルミナ粉末を介在させる必要がない。これにより、メタルシールド板40に要求される特性(透磁率および保磁力)を確保しつつ、効率良くメタルシールド板40を作製することができる。すなわち熱処理の前段取りを行う費用を削減することができるとともに、熱処理が終了した後、アルミナ粉末を取り除くための洗浄作業を行う必要がなくなる。また加工前の帯状のパーマロイPC材70を熱処理するため、加工済みパーマロイPC材70を熱処理する場合に比べて高温での熱処理が可能となる。
次に、本発明の具体的実施例について説明する。
まず、板厚t=0.150mmの帯状のパーマロイPC材70を準備し、このパーマロイPC材70を熱処理炉(空気炉)90内において、不活性ガス(水素ガス)雰囲気の下で1100℃まで加熱した。
次に帯状のパーマロイPC材70を1100℃で2分間保持した後除冷することにより、パーマロイPC材70を焼鈍した。次にこのパーマロイPC材70をエッチングにより加工した。具体的には、連結部30がハーフエッチングにより薄く仕上がるように設計した原版を用いて製版し、その後エッチングにより複数のメタルシールド板40を含む平板状の加工済みパーマロイPC材10を作製した。
次に、メタルシールド板40に対して外部から磁界をかけていったときのヒステリシス曲線を作成した(図10)。また、メタルシールド板40の特性値として透磁率(μi)および保磁力(Hc)を測定した。この結果、透磁率(μi)が21,500となり、保磁力(Hc)が4.5(A/m)となった。これは、MRAM用のメタルシールド板40の特性値として十分満足する値であった。
10 加工済みパーマロイPC材
20 枠体
21 開口
22 外枠部
23 ステー部
30 連結部
40 メタルシールド板
40A 追加のメタルシールド板
41 シールド板本体
42 バリ
50 半導体装置(SOP)
51 半導体チップ
52 ダイパッド
54 リードフレーム
55 ボンディングワイヤ
56 封止樹脂
60 半導体装置(BGA)
61 半導体チップ
62 ダイパッド
64 端子部
65 ボンディングワイヤ
66 封止樹脂
67 パッケージ基板
68 はんだボール
70 パーマロイPC材
90 熱処理炉
91 洗浄ノズル
92 洗浄液

Claims (6)

  1. 半導体チップと、半導体チップを封止する封止樹脂とを含む半導体装置に用いられ、半導体チップを外部磁気から保護するメタルシールド板の製造方法において、
    パーマロイPC材を準備する工程と、
    熱処理炉内でパーマロイPC材を不活性ガス雰囲気中で熱処理する工程と、
    パーマロイPC材を加工して、複数のメタルシールド板を含む平板状の加工済みパーマロイPC材を作製する工程と、
    加工済みパーマロイPC材からメタルシールド板を分離する工程とを備えたことを特徴とするメタルシールド板の製造方法。
  2. パーマロイPC材を熱処理する工程は、パーマロイPC材を1000℃〜1300℃まで加熱した後、このパーマロイPC材を徐冷する焼鈍工程からなることを特徴とする請求項1記載のメタルシールド板の製造方法。
  3. 帯状のパーマロイPC材を巻取って第1巻取体を形成する工程を更に備え、
    第1巻取体から帯状のパーマロイPC材を繰り出し、この帯状のパーマロイPC材に対して熱処理炉内で熱処理することを特徴とする請求項1記載のメタルシールド板の製造方法。
  4. 熱処理炉で熱処理された帯状のパーマロイPC材を巻取って第2巻取体を形成する工程を更に備えたことを特徴とする請求項3記載のメタルシールド板の製造方法。
  5. 平板状の加工済みパーマロイPC材を洗浄する工程を更に備えたことを特徴とする請求項1記載のメタルシールド板の製造方法。
  6. 請求項1記載のメタルシールド板の製造方法によって得られたメタルシールド板。
JP2012027380A 2012-02-10 2012-02-10 メタルシールド板の製造方法およびメタルシールド板 Pending JP2013165163A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2012027380A JP2013165163A (ja) 2012-02-10 2012-02-10 メタルシールド板の製造方法およびメタルシールド板

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2012027380A JP2013165163A (ja) 2012-02-10 2012-02-10 メタルシールド板の製造方法およびメタルシールド板

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2013165163A true JP2013165163A (ja) 2013-08-22

Family

ID=49176347

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2012027380A Pending JP2013165163A (ja) 2012-02-10 2012-02-10 メタルシールド板の製造方法およびメタルシールド板

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2013165163A (ja)

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1093284A (ja) * 1996-09-19 1998-04-10 Daido Steel Co Ltd 磁気遮蔽用シートとその製造方法及びこれを用いたケーブル
JPH11197708A (ja) * 1998-01-19 1999-07-27 Daido Steel Co Ltd 軟磁性金属の薄箔とその製造方法
JP2009141194A (ja) * 2007-12-07 2009-06-25 Dainippon Printing Co Ltd 半導体装置用のメタルシールド板、メタルシールド用シート、半導体装置、メタルシールド用シートの製造方法、およびメタルシールド板の製造方法
JP2011014879A (ja) * 2009-06-05 2011-01-20 Dainippon Printing Co Ltd 半導体装置

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1093284A (ja) * 1996-09-19 1998-04-10 Daido Steel Co Ltd 磁気遮蔽用シートとその製造方法及びこれを用いたケーブル
JPH11197708A (ja) * 1998-01-19 1999-07-27 Daido Steel Co Ltd 軟磁性金属の薄箔とその製造方法
JP2009141194A (ja) * 2007-12-07 2009-06-25 Dainippon Printing Co Ltd 半導体装置用のメタルシールド板、メタルシールド用シート、半導体装置、メタルシールド用シートの製造方法、およびメタルシールド板の製造方法
JP2011014879A (ja) * 2009-06-05 2011-01-20 Dainippon Printing Co Ltd 半導体装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US8247888B2 (en) Semiconductor device and method for manufacturing metallic shielding plate
JP4941264B2 (ja) 半導体装置用のメタルシールド板、メタルシールド用シート、半導体装置、メタルシールド用シートの製造方法、およびメタルシールド板の製造方法
JP6401036B2 (ja) 磁気不揮発性メモリ素子の磁気シールドパッケージ
JP4471037B2 (ja) アンテナ用磁心、アンテナ用磁心の製造方法、およびアンテナ
JP5354376B2 (ja) 半導体装置および半導体装置の製造方法
JP2007293800A (ja) 半導体装置とそれを用いたメモリカード
TW201126674A (en) Thin foil for use in packaging integrated circuits
JP5577839B2 (ja) 半導体装置
KR101762025B1 (ko) 코일 부품 및 그 실장 기판
US9142493B2 (en) Semiconductor device
JP5190713B2 (ja) メタルシールド板の製造方法
JP2013165163A (ja) メタルシールド板の製造方法およびメタルシールド板
US10026677B2 (en) Semiconductor device
TWI274406B (en) Dual gauge leadframe
KR101472660B1 (ko) 기판 스트립
JP2013069720A (ja) 半導体装置及びその製造方法
JP2007213212A (ja) Icカードおよびその製造方法
JP6138496B2 (ja) 半導体素子搭載用基板及び半導体装置
JP2012209347A (ja) 半導体装置および半導体装置の製造方法
JP2017183417A (ja) 半導体装置
JP2013141047A (ja) 半導体装置、半導体装置の製造方法、およびシールド板
JP2013149789A (ja) 半導体装置、メタルシールド板およびメタルシールド用シート
JP6483278B2 (ja) 磁性材料を含む成形体の製造方法
JP2017069431A (ja) 半導体装置
JP2014236028A (ja) 半導体装置及び半導体装置の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20141219

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20150925

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20150930

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20160301