JP2013160707A - Capacitance detection circuit, optical module and electronic apparatus - Google Patents

Capacitance detection circuit, optical module and electronic apparatus Download PDF

Info

Publication number
JP2013160707A
JP2013160707A JP2012024888A JP2012024888A JP2013160707A JP 2013160707 A JP2013160707 A JP 2013160707A JP 2012024888 A JP2012024888 A JP 2012024888A JP 2012024888 A JP2012024888 A JP 2012024888A JP 2013160707 A JP2013160707 A JP 2013160707A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
signal
output
circuit
substrate
sine wave
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2012024888A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP6051534B2 (en
Inventor
Takeshi Nozawa
武史 野澤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Seiko Epson Corp filed Critical Seiko Epson Corp
Priority to JP2012024888A priority Critical patent/JP6051534B2/en
Publication of JP2013160707A publication Critical patent/JP2013160707A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP6051534B2 publication Critical patent/JP6051534B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a capacitance detection circuit that can reduce influence of parasitic capacitance and can highly accurately detect capacitance of a capacitor, and further to provide an optical module and an electronic apparatus.SOLUTION: A capacitance detection circuit 10 comprises: a detection target capacitor Cx; a sine wave generation circuit 11 for outputting an input signal, sine wave signal, to an input terminal of the detection target capacitor Cx; an operational amplifier 12 in which an output terminal of the detection target capacitor Cx is connected to an inverting input terminal and a non-inverting input terminal is connected to the GND; a feedback circuit 13 that is connected between an output terminal and the inverting input terminal of the operational amplifier 12 and is provided with an impedance element 13A; a timing signal generation circuit 15 for generating a timing signal synchronized with the input signal output from the sine wave generation circuit 11; and a sample-and-hold circuit 14 that is connected to the output terminal of the operational amplifier 12 and acquires an output signal from the operational amplifier 12 at timing based on the timing signal.

Description

本発明は、キャパシターの静電容量を検出する容量検出回路、及び容量検出回路を備えた光学モジュール、及び電子機器に関する。   The present invention relates to a capacitance detection circuit that detects a capacitance of a capacitor, an optical module including the capacitance detection circuit, and an electronic apparatus.

従来、キャパシターの容量を検出するための容量検出回路が知られている(例えば、特許文献1参照)。
図19に、従来の容量検出回路を示す。
図19に示すように、従来の容量検出回路は、検出用電圧の入力端子にスイッチS1が接続され、このスイッチS1の出力端に、容量検出対象であるキャパシターCx1と、スイッチS2とが接続される。キャパシターCx1は、スイッチS1が接続されない他方側の端子が、グランド(GND)に接続される。スイッチS2は、スイッチS1が接続されない他方側の端子が、オペアンプOPの反転入力端子に接続される。オペアンプOPの非反転入力端子は、GNDに接続される。また、オペアンプOPの出力端子と、オペアンプOPの反転入力端子との間には、帰還回路が設けられる。この帰還回路には、フィードバックキャパシターCfとスイッチS3とが並列に接続されている。そして、オペアンプOPの出力端子は、スイッチS4を介してサンプルアンドホールド回路に接続される。
Conventionally, a capacitance detection circuit for detecting the capacitance of a capacitor is known (see, for example, Patent Document 1).
FIG. 19 shows a conventional capacitance detection circuit.
As shown in FIG. 19, in the conventional capacitance detection circuit, a switch S1 is connected to an input terminal of a detection voltage, and a capacitor Cx1 that is a capacitance detection target and a switch S2 are connected to the output terminal of the switch S1. The Capacitor Cx1 has the other terminal to which switch S1 is not connected connected to the ground (GND). In the switch S2, the other terminal to which the switch S1 is not connected is connected to the inverting input terminal of the operational amplifier OP. The non-inverting input terminal of the operational amplifier OP is connected to GND. A feedback circuit is provided between the output terminal of the operational amplifier OP and the inverting input terminal of the operational amplifier OP. In this feedback circuit, a feedback capacitor Cf and a switch S3 are connected in parallel. The output terminal of the operational amplifier OP is connected to the sample and hold circuit via the switch S4.

図19に示すような従来の容量検出回路では、次の手順により、キャパシターCx1の容量が検出される。
まず、第1のタイミングで、検出用電圧の入力端子に電圧Vaを印加すると同時に、スイッチS1,S3を接続(ON状態)し、スイッチS2,S4を切断(OFF状態)する。これにより、帰還回路がショートし、フィードバックキャパシターCfの電荷が放電される。また、キャパシターCx1が充電される。
次に、第2のタイミングで、スイッチS1,S3をON状態、スイッチS2をON状態に切り替え、スイッチS4をOFF状態のまま維持する。これにより、キャパシターCx1の放電電流がオペアンプOPに流れ、これと等しい電流がフィードバックキャパシターCfにも流れるため、フィードバックキャパシターCfにおける電圧が上昇する。なお、フィードバックキャパシターCfは、容量固定であり、既知であるとする。
この後、第3のタイミングで、スイッチS4をON状態に切り替え、フィードバックキャパシターCfの電圧をサンプルアンドホールド回路に取り込む。
以上により、キャパシターCx1の容量に応じた電圧をフィードバックキャパシターCfに生じさせ、その電圧を測定することで、キャパシターCx1の容量を検出することが可能となる。
In the conventional capacitance detection circuit as shown in FIG. 19, the capacitance of the capacitor Cx1 is detected by the following procedure.
First, at the first timing, the voltage Va is applied to the detection voltage input terminal, and at the same time, the switches S1 and S3 are connected (ON state), and the switches S2 and S4 are disconnected (OFF state). As a result, the feedback circuit is short-circuited, and the charge of the feedback capacitor Cf is discharged. Further, the capacitor Cx1 is charged.
Next, at the second timing, the switches S1 and S3 are switched to the ON state, the switch S2 is switched to the ON state, and the switch S4 is maintained in the OFF state. As a result, the discharge current of the capacitor Cx1 flows to the operational amplifier OP, and an equal current also flows to the feedback capacitor Cf, so that the voltage at the feedback capacitor Cf increases. Note that the feedback capacitor Cf has a fixed capacity and is known.
Thereafter, at the third timing, the switch S4 is switched to the ON state, and the voltage of the feedback capacitor Cf is taken into the sample and hold circuit.
As described above, a voltage corresponding to the capacitance of the capacitor Cx1 is generated in the feedback capacitor Cf, and by measuring the voltage, the capacitance of the capacitor Cx1 can be detected.

特開平11−326409号公報JP 11-326409 A

ところで、上述したような従来の容量検出回路では、寄生容量が発生した場合に、サンプルアンドホールド回路に出力される電圧も変化し、検出精度が低下してしまうという課題がある。
図20及び図21は、図19の容量検出回路において寄生容量が発生した場合にオペアンプOPに流れる電流を説明する図である。ここで、キャパシターCx1の入力側及び出力側において、それぞれ対地(GND)間で寄生容量Ca,Cbが発生したとする。
従来の容量検出回路では、第1のタイミングでスイッチS1がON状態に切り替わり、スイッチS2がOFF状態に切り替わると、図20に示すように、キャパシターCx1に電流Isが流れる。この時、キャパシターCx1の出力端側に発生する寄生容量CbはGNDに接続されているため電流は流れないが、キャパシターCx1の入力端側に発生する寄生容量Caには電流Ipが流れる。
次に、第2のタイミングでスイッチS1がOFF状態に切り替えられ、スイッチS2がON状態に切り替えられると、図21に示すように、キャパシターCx1に蓄えられた電荷が電流IsとしてオペアンプOPの反転入力端子に流れる。この時、寄生容量Caに蓄えられた電荷も電流IpとしてオペアンプOPに流れる。したがって、フィードバックキャパシターCfには、Is+Ipの電流が流れることになり、オペアンプOPの出力電圧は、電流Ipの分だけ増加してしまい、上述のように、正確なキャパシターCx1の容量検出ができなくなる。
By the way, in the conventional capacitance detection circuit as described above, when parasitic capacitance occurs, the voltage output to the sample and hold circuit also changes, and there is a problem that the detection accuracy decreases.
20 and 21 are diagrams for explaining the current flowing through the operational amplifier OP when parasitic capacitance is generated in the capacitance detection circuit of FIG. Here, it is assumed that parasitic capacitances Ca and Cb are generated between the ground (GND) on the input side and the output side of the capacitor Cx1, respectively.
In the conventional capacitance detection circuit, when the switch S1 is switched to the ON state and the switch S2 is switched to the OFF state at the first timing, the current Is flows through the capacitor Cx1, as shown in FIG. At this time, since the parasitic capacitance Cb generated on the output end side of the capacitor Cx1 is connected to the GND, no current flows, but the current Ip flows in the parasitic capacitance Ca generated on the input end side of the capacitor Cx1.
Next, when the switch S1 is switched to the OFF state at the second timing and the switch S2 is switched to the ON state, as shown in FIG. 21, the charge stored in the capacitor Cx1 is used as the current Is as the inverting input of the operational amplifier OP. Flows to the terminal. At this time, the charge stored in the parasitic capacitance Ca also flows to the operational amplifier OP as a current Ip. Therefore, a current of Is + Ip flows through the feedback capacitor Cf, and the output voltage of the operational amplifier OP increases by the amount of the current Ip. As described above, it is impossible to accurately detect the capacitance of the capacitor Cx1.

本発明は、寄生容量の影響を低減でき、高精度にキャパシターの容量を検出可能な容量検出回路、光学モジュール、及び電子機器を提供することを目的とする。   It is an object of the present invention to provide a capacitance detection circuit, an optical module, and an electronic device that can reduce the influence of parasitic capacitance and can detect the capacitance of a capacitor with high accuracy.

本発明の容量検出回路は、容量の検出対象である検出対象キャパシターと、前記検出対象キャパシターの入力端子に正弦波信号を出力する正弦波生成回路と、反転入力端子、非反転入力端子、及び出力端子を有し、前記反転入力端子に前記検出対象キャパシターの出力端子が接続され、前記非反転入力端子がグランドに接続されるオペアンプと、前記オペアンプの前記出力端子及び前記反転入力端子間に接続され、インピーダンス素子が設けられる帰還回路と、前記正弦波生成回路から出力される前記正弦波信号に同期したタイミング信号を生成するタイミング信号生成回路と、前記オペアンプの前記出力端子に接続され、前記タイミング信号に基づいたタイミングで前記オペアンプからの出力信号を取得するサンプルアンドホールド回路と、ことを特徴とする。   A capacitance detection circuit of the present invention includes a detection target capacitor that is a detection target of a capacitance, a sine wave generation circuit that outputs a sine wave signal to an input terminal of the detection target capacitor, an inverting input terminal, a non-inverting input terminal, and an output An operational amplifier in which an output terminal of the detection target capacitor is connected to the inverting input terminal, and the non-inverting input terminal is connected to the ground, and is connected between the output terminal and the inverting input terminal of the operational amplifier. A feedback circuit provided with an impedance element; a timing signal generation circuit that generates a timing signal synchronized with the sine wave signal output from the sine wave generation circuit; and the timing signal connected to the output terminal of the operational amplifier. A sample-and-hold circuit that acquires an output signal from the operational amplifier at a timing based on It is characterized in.

本発明によれば、検出対象キャパシターの出力端がオペアンプの反転入力端子に接続されており、オペアンプの非反転入力端子はグランド(GND)に接続されている。したがって、正弦波生成回路から出力された正弦波信号が検出対象キャパシターに入力されると、オペアンプの出力は、検出対象キャパシターのインピーダンスと、帰還回路のインピーダンス素子のインピーダンスとの比に応じた電圧となる。
一方、オペアンプから出力される出力信号は、正弦波信号に対して位相が反転する。したがって、正弦波信号においてピーク電圧が出力されるタイミングから、正弦波信号の半周期だけずらしたタイミングで出力信号を検出することで、出力信号のピーク電圧を検出することが可能となる。つまり、タイミング信号生成回路により、正弦波信号に同期したタイミング信号を生成することで、サンプルアンドホールド回路は、このタイミング信号に基づいて、出力信号のピーク電圧を検出(取得)することが可能となる。
そして、インピーダンス素子のインピーダンスは固定値となるため、サンプルアンドホールド回路により取得される出力信号の信号値、及び正弦波信号の信号値に基づいて、検出対象キャパシターのインピーダンス、及び静電容量を算出することができる。
According to the present invention, the output terminal of the detection target capacitor is connected to the inverting input terminal of the operational amplifier, and the non-inverting input terminal of the operational amplifier is connected to the ground (GND). Therefore, when the sine wave signal output from the sine wave generation circuit is input to the detection target capacitor, the output of the operational amplifier has a voltage corresponding to the ratio between the impedance of the detection target capacitor and the impedance of the impedance element of the feedback circuit. Become.
On the other hand, the phase of the output signal output from the operational amplifier is inverted with respect to the sine wave signal. Therefore, it is possible to detect the peak voltage of the output signal by detecting the output signal at a timing shifted by a half cycle of the sine wave signal from the timing at which the peak voltage is output in the sine wave signal. In other words, by generating a timing signal synchronized with the sine wave signal by the timing signal generation circuit, the sample and hold circuit can detect (acquire) the peak voltage of the output signal based on this timing signal. Become.
Since the impedance of the impedance element is a fixed value, the impedance and capacitance of the detection target capacitor are calculated based on the signal value of the output signal acquired by the sample and hold circuit and the signal value of the sine wave signal. can do.

ここで、検出対象キャパシターの入力端子及び出力端子に、それぞれ、対地(GND)間に寄生容量がある場合について説明する。本発明では、検出対象キャパシターの入力端子側に対地間に寄生容量がある場合、正弦波生成回路から出力される正弦波信号の電圧により、寄生容量に電流が流れるが、この電流はGNDに流れるため、オペアンプに電流は流れない。
また、オペアンプの非反転入力端子は、GNDに接続されているので、オペアンプのイマジナリーショートの作用により、反転入力端子の電位もGNDレベル(基準電位)となる。したがって、検出対象キャパシターの出力端子側に対地間に寄生容量がある場合でも、寄生容量の両端側の電位がGNDレベルであり、電流が流れない。
以上により、本発明では、寄生容量の影響を低減させることができ、検出対象キャパシターの容量検出を精度よく実施することができる。
Here, a case where there is a parasitic capacitance between the input terminal and the output terminal of the detection target capacitor between the ground (GND) will be described. In the present invention, when there is a parasitic capacitance between the input terminal side of the capacitor to be detected and the ground, a current flows in the parasitic capacitance due to the voltage of the sine wave signal output from the sine wave generation circuit, but this current flows in the GND. Therefore, no current flows through the operational amplifier.
Further, since the non-inverting input terminal of the operational amplifier is connected to GND, the potential of the inverting input terminal is also set to the GND level (reference potential) due to an imaginary short of the operational amplifier. Therefore, even when there is a parasitic capacitance between the output terminal side of the detection target capacitor and the ground, the potential on both ends of the parasitic capacitance is at the GND level, and no current flows.
As described above, according to the present invention, it is possible to reduce the influence of the parasitic capacitance, and to accurately detect the capacitance of the detection target capacitor.

また、図19に示すような従来の容量検出回路では、4つのスイッチを設けている。このため、これらのスイッチを制御するための信号が、他の信号に影響を与えないようにクロストークの管理を行う必要があり、回路基板の設計が困難になる。これに対して、本発明では、容量検出を実施するためにスイッチが不要で、基板構成を簡略化でき、クロストークを防止できる。   Further, in the conventional capacitance detection circuit as shown in FIG. 19, four switches are provided. For this reason, it is necessary to manage crosstalk so that signals for controlling these switches do not affect other signals, which makes circuit board design difficult. On the other hand, in the present invention, no switch is required to perform capacitance detection, the substrate configuration can be simplified, and crosstalk can be prevented.

本発明の容量検出回路において、前記タイミング信号生成回路は、前記正弦波信号に同期した第一タイミング信号を出力する第一ワンショット回路と、前記第一タイミング信号に基づいて、前記出力信号のピーク電圧が出力されるタイミングに同期した第二タイミング信号を出力する第二ワンショット回路と、を備え、前記サンプルアンドホールド回路は、前記第二タイミング信号が出力されたタイミングで出力信号を取得することが好ましい。   In the capacitance detection circuit of the present invention, the timing signal generation circuit includes a first one-shot circuit that outputs a first timing signal synchronized with the sine wave signal, and a peak of the output signal based on the first timing signal. A second one-shot circuit that outputs a second timing signal synchronized with a timing at which the voltage is output, and the sample and hold circuit acquires an output signal at a timing at which the second timing signal is output. Is preferred.

本発明では、タイミング信号生成回路は、第一ワンショット回路により、正弦波信号に同期した第一タイミング信号を生成し、第二ワンショット回路により、この第一タイミング信号に基づいて、出力信号のピーク電圧が出力されるタイミングに合わせた第二タイミング信号を出力する。
このように、2つのワンショット回路を設けることにより、正弦波生成回路から出力される正弦波信号と、オペアンプから出力される出力信号とにおいて位相差が存在する場合であっても、最適な出力信号の取得タイミングを設定することができる。
In the present invention, the timing signal generation circuit generates a first timing signal synchronized with the sine wave signal by the first one-shot circuit, and the second one-shot circuit generates an output signal based on the first timing signal. A second timing signal that matches the timing at which the peak voltage is output is output.
In this way, by providing two one-shot circuits, even if there is a phase difference between the sine wave signal output from the sine wave generation circuit and the output signal output from the operational amplifier, the optimum output Signal acquisition timing can be set.

本発明の容量検出回路において、前記正弦波生成回路は、正弦波信号を矩形波に変換した矩形入力信号を前記タイミング信号生成回路に出力し、前記第一ワンショット回路は、前記矩形入力信号に基づいて、前記出力信号が立ち上がるタイミングに同期して立ち上がる前記第一タイミング信号を生成し、前記第二ワンショット回路は、前記第一タイミング信号の立下りタイミングに同期して立ち上がる第二タイミング信号を生成し、前記第一タイミング信号及び前記第二タイミング信号の出力時間は、前記正弦波信号の1/4周期より小さく、前記第一タイミング信号の出力時間及び前記第二タイミング信号の出力時間の和は、前記正弦波信号の1/4周期よりも大きいことが好ましい。
なお、本発明における出力時間とは、矩形波(方形波)状のタイミング信号がハイレベルに維持される時間を指す。
In the capacitance detection circuit of the present invention, the sine wave generation circuit outputs a rectangular input signal obtained by converting a sine wave signal into a rectangular wave to the timing signal generation circuit, and the first one-shot circuit converts the rectangular input signal into the rectangular input signal. And generating the first timing signal that rises in synchronization with the rise timing of the output signal, and the second one-shot circuit generates a second timing signal that rises in synchronization with the fall timing of the first timing signal. The output time of the first timing signal and the second timing signal is less than a quarter cycle of the sine wave signal, and the sum of the output time of the first timing signal and the output time of the second timing signal Is preferably greater than a quarter period of the sine wave signal.
The output time in the present invention refers to the time during which a rectangular wave (square wave) timing signal is maintained at a high level.

本発明では、正弦波生成回路は、正弦波信号から矩形波(方形波)状の矩形入力信号を生成し、タイミング信号生成回路に対して出力する。例えば、正弦波生成回路から出力される正弦波信号を、シュミットトリガーのインバーターを用いて矩形入力信号を生成する場合、所定電圧を閾値として正弦波信号をハイレベル又はローレベルに設定する矩形入力信号を生成する。この時、インバーターでは、入力レベルを反転したレベルの信号が出力される。したがって、インバーターは、入力される正弦波信号が閾値以下に低下したタイミングで立ち上がる矩形入力信号を出力する。このため、閾値を正弦波信号のピーク電圧及びボトム電圧の中間値に設定することで、矩形入力信号の立ち上がりタイミングを、オペアンプから出力される出力信号の立ち上がりタイミングに合わせることが可能となる。
第一ワンショット回路は、矩形入力信号が入力されると、矩形入力信号の立ち上がりタイミング又は立下りタイミングに基づいて、矩形波の第一タイミング信号を出力する。上記のように、オペアンプからの出力される出力信号の立ち上がりタイミングと、矩形入力信号の立ち上がりタイミングとが一致する場合では、矩形入力信号の立ち上がりタイミングで第一タイミング信号を出力する。
また、第二ワンショット回路は、この第一タイミング信号の立下りタイミングをトリガーとして立ち上がる第二タイミング信号を出力する。
In the present invention, the sine wave generation circuit generates a rectangular input signal having a rectangular wave (square wave) shape from the sine wave signal and outputs the rectangular input signal to the timing signal generation circuit. For example, when a rectangular input signal is generated from a sine wave signal output from a sine wave generation circuit using a Schmitt trigger inverter, a rectangular input signal that sets the sine wave signal to a high level or a low level with a predetermined voltage as a threshold value Is generated. At this time, the inverter outputs a signal having a level inverted from the input level. Therefore, the inverter outputs a rectangular input signal that rises when the input sine wave signal falls below the threshold. Therefore, by setting the threshold value to an intermediate value between the peak voltage and the bottom voltage of the sine wave signal, the rising timing of the rectangular input signal can be matched with the rising timing of the output signal output from the operational amplifier.
When a rectangular input signal is input, the first one-shot circuit outputs a rectangular wave first timing signal based on the rising timing or falling timing of the rectangular input signal. As described above, when the rising timing of the output signal output from the operational amplifier matches the rising timing of the rectangular input signal, the first timing signal is output at the rising timing of the rectangular input signal.
The second one-shot circuit outputs a second timing signal that rises with the falling timing of the first timing signal as a trigger.

ここで、本発明では、第一タイミング信号の出力期間、すなわち、第一タイミング信号が出力される時間は、正弦波信号の1/4周期未満であり、第一タイミング信号が出力される時間と、第二タイミング信号が出力される時間との和は正弦波信号の1/4以上となるように、各タイミング信号の出力時間が設定されている。このように、各タイミング信号の時間を設定すると、第二タイミング信号の出力時間内において、オペアンプからピーク電圧の出力信号が出力されることとなる。したがって、サンプルアンドホールド回路は、第二タイミング信号の出力時間内の出力信号を検出することで、適切な出力信号の信号値を取得することができる。   Here, in the present invention, the output period of the first timing signal, that is, the time for which the first timing signal is output is less than a quarter cycle of the sine wave signal, and the time for which the first timing signal is output. The output time of each timing signal is set so that the sum of the time with which the second timing signal is output is ¼ or more of the sine wave signal. Thus, when the time of each timing signal is set, the output signal of the peak voltage is output from the operational amplifier within the output time of the second timing signal. Therefore, the sample and hold circuit can acquire an appropriate signal value of the output signal by detecting the output signal within the output time of the second timing signal.

本発明の容量検出回路において、前記第二タイミング信号の出力時間は、前記出力信号の電圧がピーク電圧の99%以上である時間に設定されることが好ましい。
本発明では、第二タイミング信号の出力時間は、出力信号の電圧がピーク電圧の99%以上である時間に設定されているため、検出した信号値の誤差を1%未満に抑えることができ、検出精度を向上させることができる。
In the capacitance detection circuit of the present invention, it is preferable that the output time of the second timing signal is set to a time when the voltage of the output signal is 99% or more of the peak voltage.
In the present invention, since the output time of the second timing signal is set to a time when the voltage of the output signal is 99% or more of the peak voltage, the error of the detected signal value can be suppressed to less than 1%, Detection accuracy can be improved.

本発明の容量検出回路において、前記正弦波生成回路は、水晶振動子を用いた発振回路であることが好ましい。
水晶振動子を用いた発振回路は、精度の高い信号値で、かつ、精度の高い周波数の正弦波信号を出力することができる。したがって、オペアンプから安定した周波数や信号値の出力信号を出力することができ、容量検出精度を向上させることができる。
In the capacitance detection circuit of the present invention, it is preferable that the sine wave generation circuit is an oscillation circuit using a crystal resonator.
An oscillation circuit using a crystal resonator can output a sine wave signal having a highly accurate signal value and a highly accurate frequency. Therefore, an output signal having a stable frequency and signal value can be output from the operational amplifier, and the capacitance detection accuracy can be improved.

本発明の容量検出回路において、前記インピーダンス素子は、抵抗であることが好ましい。
本発明では、インピーダンス素子として抵抗のみにより構成される素子を用いるため、容量検出回路のコストを低減させることができる。
In the capacitance detection circuit of the present invention, it is preferable that the impedance element is a resistor.
In the present invention, since an element composed only of a resistor is used as the impedance element, the cost of the capacitance detection circuit can be reduced.

本発明の容量検出回路において、前記インピーダンス素子は、抵抗及びキャパシターを直接に接続した素子であることが好ましい。
本発明では、インピーダンス素子として、抵抗とキャパシターとを組み合わせた素子により構成される。このような構成では、抵抗のみによりインピーダンス素子を構成する場合に比べて、インピーダンス素子におけるインピーダンス調整を容易に実施できる。これにより、検出対象キャパシターの容量検出精度を向上させることができる。
In the capacitance detection circuit of the present invention, it is preferable that the impedance element is an element in which a resistor and a capacitor are directly connected.
In the present invention, the impedance element is constituted by an element combining a resistor and a capacitor. In such a configuration, the impedance adjustment in the impedance element can be easily performed as compared with the case where the impedance element is configured by only the resistor. Thereby, the capacitance detection accuracy of the detection target capacitor can be improved.

本発明の光学モジュールは、第一基板と、前記第一基板に対向して配置される第二基板と、前記第一基板に設けられる導電性の第一反射膜と、前記第二基板に設けられ、反射膜間ギャップを介して前記第一反射膜に対向して設けられる導電性の第二反射膜と、前記反射膜間ギャップのギャップ量を変更するギャップ変更部と、前記反射膜間ギャップの前記ギャップ量を検出する容量検出回路と、を備え、前記容量検出回路による前記ギャップ量の検出において前記容量検出回路に発生する寄生容量が除去されることを特徴とする。   The optical module of the present invention includes a first substrate, a second substrate disposed to face the first substrate, a conductive first reflective film provided on the first substrate, and a second substrate. A conductive second reflection film provided opposite to the first reflection film via the gap between the reflection films, a gap changing unit for changing a gap amount of the gap between the reflection films, and the gap between the reflection films And a capacitance detection circuit for detecting the gap amount, wherein parasitic capacitance generated in the capacitance detection circuit in the detection of the gap amount by the capacitance detection circuit is removed.

本発明では、光学モジュールにおける反射膜間ギャップのギャップ量を容量検出回路で検出する際に、容量検出回路に発生する寄生容量が除去されている。このため、ギャップ量を精度よく検出でき、所望の波長の光を精度よく取り出すことができる。   In the present invention, when the gap amount of the gap between the reflection films in the optical module is detected by the capacitance detection circuit, the parasitic capacitance generated in the capacitance detection circuit is removed. Therefore, the gap amount can be detected with high accuracy, and light with a desired wavelength can be extracted with high accuracy.

本発明の光学モジュールは、第一基板と、前記第一基板に対向して配置される第二基板と、前記第一基板に設けられる導電性の第一反射膜と、前記第二基板に設けられ、反射膜間ギャップを介して前記第一反射膜に対向して設けられる導電性の第二反射膜と、前記反射膜間ギャップのギャップ量を変更するギャップ変更部と、前記第一反射膜に正弦波信号を出力する正弦波生成回路と、反転入力端子、非反転入力端子、及び出力端子を有し、前記反転入力端子に前記検出対象キャパシターの出力端子が接続され、前記非反転入力端子がグランドに接続されるオペアンプと、前記オペアンプの前記出力端子及び前記反転入力端子間に接続され、インピーダンス素子が設けられる帰還回路と、前記正弦波生成回路から出力される前記正弦波信号に同期したタイミング信号を生成するタイミング信号生成回路と、前記オペアンプの前記出力端子に接続され、前記タイミング信号に基づいたタイミングで前記オペアンプからの出力信号を取得するサンプルアンドホールド回路と、具備したことを特徴とする。   The optical module of the present invention includes a first substrate, a second substrate disposed to face the first substrate, a conductive first reflective film provided on the first substrate, and a second substrate. A conductive second reflective film provided opposite to the first reflective film via a gap between the reflective films, a gap changing unit for changing a gap amount of the gap between the reflective films, and the first reflective film A sine wave generation circuit that outputs a sine wave signal, an inverting input terminal, a non-inverting input terminal, and an output terminal, the output terminal of the capacitor to be detected is connected to the inverting input terminal, and the non-inverting input terminal An operational amplifier connected to ground, a feedback circuit connected between the output terminal and the inverting input terminal of the operational amplifier and provided with an impedance element, and the sine wave signal output from the sine wave generation circuit A timing signal generation circuit that generates a predetermined timing signal, and a sample and hold circuit that is connected to the output terminal of the operational amplifier and acquires an output signal from the operational amplifier at a timing based on the timing signal. Features.

本発明では、第一反射膜及び第二反射膜により、波長可変干渉フィルター(ファブリーペロー干渉計)を構成することができ、ギャップ変更部により反射膜間ギャップのギャップ量を変更することで、入射光から所望の波長の光を取り出すことができる。この際、本発明では、第一反射膜及び第二反射膜を検出対象キャパシターとして、上記発明と同様に、第一反射膜及び第二反射膜間の静電容量を精度よく検出することができ、検出された静電容量に基づいて、反射膜間ギャップのギャップ量を正確に測定することができる。したがって、本発明の光学モジュールでは、測定した反射膜間ギャップのギャップ量に基づいて、ギャップ変更部を駆動させることで、所望の波長の光を精度よく取り出すことができる。   In the present invention, a wavelength tunable interference filter (Fabry-Perot interferometer) can be configured by the first reflective film and the second reflective film, and the incident amount is changed by changing the gap amount between the reflective films by the gap changing unit. Light having a desired wavelength can be extracted from the light. At this time, in the present invention, the first reflective film and the second reflective film are used as the detection target capacitors, and the capacitance between the first reflective film and the second reflective film can be detected with high accuracy in the same manner as the above-described invention. Based on the detected capacitance, the gap amount of the gap between the reflective films can be accurately measured. Therefore, in the optical module of the present invention, it is possible to accurately extract light having a desired wavelength by driving the gap changing unit based on the measured gap amount of the gap between the reflective films.

本発明の光学モジュールは、第一基板と、前記第一基板に対向して配置される第二基板と、前記第一基板に設けられる第一反射膜と、前記第二基板に設けられ、反射膜間ギャップを介して前記第一反射膜に対向して設けられる第二反射膜と、前記反射膜間ギャップのギャップ量を変更するギャップ変更部と、前記第一基板に設けられる第一測定電極と、前記第二基板に設けられ、所定のギャップを介して前記第一測定電極に対向して設けられる第二測定電極と、前記第一測定電極に正弦波信号を出力する正弦波生成回路と、反転入力端子、非反転入力端子、及び出力端子を有し、前記反転入力端子に前記検出対象キャパシターの出力端子が接続され、前記非反転入力端子がグランドに接続されるオペアンプと、前記オペアンプの前記出力端子及び前記反転入力端子間に接続され、インピーダンス素子が設けられる帰還回路と、前記正弦波生成回路から出力される前記正弦波信号に同期したタイミング信号を生成するタイミング信号生成回路と、前記オペアンプの前記出力端子に接続され、前記タイミング信号に基づいたタイミングで前記オペアンプからの出力信号を取得するサンプルアンドホールド回路と、を具備したことを特徴とする。   The optical module of the present invention includes a first substrate, a second substrate disposed to face the first substrate, a first reflective film provided on the first substrate, and a reflective substrate provided on the second substrate. A second reflective film provided opposite to the first reflective film via an inter-film gap; a gap changing portion for changing a gap amount of the inter-reflective film gap; and a first measurement electrode provided on the first substrate A second measurement electrode provided on the second substrate and facing the first measurement electrode via a predetermined gap; and a sine wave generation circuit that outputs a sine wave signal to the first measurement electrode; An operational amplifier having an inverting input terminal, a non-inverting input terminal, and an output terminal, the inverting input terminal being connected to the output terminal of the detection target capacitor, and the non-inverting input terminal being connected to the ground, The output terminal And a feedback circuit connected between the inverting input terminals and provided with an impedance element, a timing signal generation circuit that generates a timing signal synchronized with the sine wave signal output from the sine wave generation circuit, and the operational amplifier A sample-and-hold circuit connected to an output terminal and acquiring an output signal from the operational amplifier at a timing based on the timing signal.

本発明では、上記発明と同様に、第一反射膜及び第二反射膜により、波長可変干渉フィルターを構成することができ、ギャップ変更部により反射膜間ギャップのギャップ量を変更することで、入射光から所望の波長の光を取り出すことができる。また、第一反射膜及び第二反射膜として、例えば誘電体多層膜を用いる場合等、各反射膜が導電性を有さない場合であっても、第一測定電極及び第二測定電極の静電容量を検出することで、反射膜間ギャップのギャップ量を測定することができる。   In the present invention, a wavelength tunable interference filter can be configured by the first reflecting film and the second reflecting film as in the above-described invention, and the incident amount is changed by changing the gap amount of the gap between the reflecting films by the gap changing unit. Light having a desired wavelength can be extracted from the light. In addition, even when each of the reflective films does not have conductivity, such as when a dielectric multilayer film is used as the first reflective film and the second reflective film, the static of the first measurement electrode and the second measurement electrode. By detecting the capacitance, the gap amount of the gap between the reflective films can be measured.

本発明の電子機器は、第一基板と、前記第一基板に対向して配置される第二基板と、前記第一基板に設けられる第一反射膜と、前記第二基板に設けられ、反射膜間ギャップを介して前記第一反射膜に対向して設けられる第二反射膜と、前記反射膜間ギャップのギャップ量を変更するギャップ変更部と、前記第一反射膜に正弦波信号を出力する正弦波生成回路と、反転入力端子、非反転入力端子、及び出力端子を有し、前記反転入力端子に前記検出対象キャパシターの出力端子が接続され、前記非反転入力端子がグランドに接続されるオペアンプと、前記オペアンプの前記出力端子及び前記反転入力端子間に接続され、インピーダンス素子が設けられる帰還回路と、前記正弦波生成回路から出力される前記正弦波信号に同期したタイミング信号を生成するタイミング信号生成回路と、前記オペアンプの前記出力端子に接続され、前記タイミング信号に基づいたタイミングで前記オペアンプからの出力信号を取得するサンプルアンドホールド回路と、を具備したことを特徴とする。   The electronic device according to the present invention includes a first substrate, a second substrate disposed to face the first substrate, a first reflective film provided on the first substrate, and a reflective substrate provided on the second substrate. A second reflection film provided opposite to the first reflection film via an interfilm gap, a gap changing unit for changing a gap amount of the gap between the reflection films, and outputting a sine wave signal to the first reflection film A sine wave generation circuit, an inverting input terminal, a non-inverting input terminal, and an output terminal. The output terminal of the detection target capacitor is connected to the inverting input terminal, and the non-inverting input terminal is connected to the ground. An operational amplifier, a feedback circuit connected between the output terminal and the inverting input terminal of the operational amplifier and provided with an impedance element, and a timing signal synchronized with the sine wave signal output from the sine wave generation circuit A timing signal generating circuit for generating, coupled to said output terminal of said operational amplifier, characterized in that anda sample and hold circuit for obtaining an output signal from the operational amplifier at a timing based on said timing signal.

このような電子機器としては、例えば、第一反射膜及び第二反射膜により所望の波長の光を取り出し、取り出した光の光量を測定する分光測定装置や、分光された画像光を撮像する分光カメラ、分光された光に基づいて測定対象の成分分析を実施する成分分析装置などを例示することができる。
本発明では、第一反射膜及び第二反射膜間の静電容量を精度よく検出することができ、検出された容量に基づいて、反射膜間ギャップのギャップ量を設定することで、所望の波長の光を精度よく取り出すことができる。したがって、取り出された高精度な光に基づいて、分光測定処理や分光画像の撮像処理、成分分析処理等の各種処理を正確に実施することができ、電子機器における性能向上を図ることができる。
As such an electronic device, for example, a spectrophotometer that takes out light of a desired wavelength by the first reflective film and the second reflective film and measures the amount of the extracted light, or a spectroscope that captures the dispersed image light. Examples thereof include a camera and a component analyzer that performs component analysis of a measurement target based on the dispersed light.
In the present invention, the capacitance between the first reflective film and the second reflective film can be detected with high accuracy, and a desired gap amount is set by setting the gap amount between the reflective films based on the detected capacitance. Wavelength light can be extracted with high accuracy. Therefore, various processes such as a spectroscopic measurement process, a spectral image imaging process, and a component analysis process can be accurately performed based on the extracted high-accuracy light, and the performance of the electronic apparatus can be improved.

本発明の電子機器は、第一基板と、前記第一基板に対向して配置される第二基板と、前記第一基板に設けられる第一反射膜と、前記第二基板に設けられ、反射膜間ギャップを介して前記第一反射膜に対向して設けられる第二反射膜と、前記反射膜間ギャップのギャップ量を変更するギャップ変更部と、前記第一基板に設けられる第一測定電極と、前記第二基板に設けられ、所定のギャップを介して前記第一測定電極に対向して設けられる第二測定電極と、前記第一測定電極に正弦波信号を出力する正弦波生成回路と、反転入力端子、非反転入力端子、及び出力端子を有し、前記反転入力端子に前記検出対象キャパシターの出力端子が接続され、前記非反転入力端子がグランドに接続されるオペアンプと、前記オペアンプの前記出力端子及び前記反転入力端子間に接続され、インピーダンス素子が設けられる帰還回路と、前記正弦波生成回路から出力される前記正弦波信号に同期したタイミング信号を生成するタイミング信号生成回路と、前記オペアンプの前記出力端子に接続され、前記タイミング信号に基づいたタイミングで前記オペアンプからの出力信号を取得するサンプルアンドホールド回路と、を具備したことを特徴とする。   The electronic device according to the present invention includes a first substrate, a second substrate disposed to face the first substrate, a first reflective film provided on the first substrate, and a reflective substrate provided on the second substrate. A second reflective film provided opposite to the first reflective film via an inter-film gap; a gap changing portion for changing a gap amount of the inter-reflective film gap; and a first measurement electrode provided on the first substrate A second measurement electrode provided on the second substrate and facing the first measurement electrode via a predetermined gap; and a sine wave generation circuit that outputs a sine wave signal to the first measurement electrode; An operational amplifier having an inverting input terminal, a non-inverting input terminal, and an output terminal, the inverting input terminal being connected to the output terminal of the detection target capacitor, and the non-inverting input terminal being connected to the ground, The output terminal and front A feedback circuit connected between the inverting input terminals and provided with an impedance element, a timing signal generation circuit that generates a timing signal synchronized with the sine wave signal output from the sine wave generation circuit, and the output terminal of the operational amplifier And a sample and hold circuit that acquires an output signal from the operational amplifier at a timing based on the timing signal.

本発明は、上記発明と同様、分光測定装置、分光カメラ、成分分析装置などに適用することができる。また、第一測定電極及び第二測定電極の静電容量を精度よく検出することができるため、検出された容量に基づいて、反射膜間ギャップのギャップ量を設定することができ、所望の波長の光を精度よく取り出すことができる。したがって、取り出された高精度な光に基づいて、分光測定処理や分光画像の撮像処理、成分分析処理等の各種処理を正確に実施することができ、電子機器における性能向上を図ることができる。   The present invention can be applied to a spectroscopic measurement device, a spectroscopic camera, a component analysis device, and the like, similarly to the above-described invention. Moreover, since the capacitance of the first measurement electrode and the second measurement electrode can be detected with high accuracy, the gap amount of the gap between the reflection films can be set based on the detected capacitance, and the desired wavelength Can be extracted with high accuracy. Therefore, various processes such as a spectroscopic measurement process, a spectral image imaging process, and a component analysis process can be accurately performed based on the extracted high-accuracy light, and the performance of the electronic apparatus can be improved.

第一実施形態の容量検出回路の回路構成を示す図。The figure which shows the circuit structure of the capacity | capacitance detection circuit of 1st embodiment. 正弦波生成回路の回路構成を示す図。The figure which shows the circuit structure of a sine wave generation circuit. 正弦波生成回路から出力される正弦波信号、オペアンプから出力される出力信号、タイミング信号生成回路から出力される第二タイミング信号、及びサンプルアンドホールド回路により取得される検出信号の波形を示す図。The figure which shows the waveform of the detection signal acquired by the sine wave signal output from a sine wave generation circuit, the output signal output from an operational amplifier, the 2nd timing signal output from a timing signal generation circuit, and a sample and hold circuit. タイミング信号生成回路の構成を示す図。The figure which shows the structure of a timing signal generation circuit. 出力信号、矩形入力信号、第一タイミング信号、第二タイミング信号のタイミングチャート。The timing chart of an output signal, a rectangular input signal, a 1st timing signal, and a 2nd timing signal. サンプルアンドホールド回路の回路構成の一例を示す図。The figure which shows an example of the circuit structure of a sample and hold circuit. 容量検出回路に寄生容量が発生した場合の電流の流れを示す図。The figure which shows the flow of an electric current when parasitic capacitance generate | occur | produces in a capacity | capacitance detection circuit. 第二実施形態の分光測定装置の概略構成を示すブロック図。The block diagram which shows schematic structure of the spectrometer of 2nd embodiment. 光学モジュールの概略構成を示す回路図。The circuit diagram which shows schematic structure of an optical module. 波長可変干渉フィルターの概略構成を示す平面図。The top view which shows schematic structure of a wavelength variable interference filter. 図10のA−A´線を断面した断面図。Sectional drawing which cut the AA 'line of FIG. 他の実施形態における波長可変干渉フィルターの平面図。The top view of the wavelength variable interference filter in other embodiment. 正弦波生成回路の他の例であるRC発振を用いたウィーンブリッジ発振回路を示す図。The figure which shows the Wien bridge oscillation circuit using RC oscillation which is another example of the sine wave generation circuit. 正弦波生成回路の他の例であるマイコンとローパスフィルターとを用いた回路を示す図。The figure which shows the circuit using the microcomputer and low-pass filter which are the other examples of a sine wave generation circuit. 光学モジュールを備えた電子機器であるガス検出装置の一例を示す概略図。Schematic which shows an example of the gas detection apparatus which is an electronic device provided with the optical module. 図15のガス検出装置の制御系の構成を示すブロック図。The block diagram which shows the structure of the control system of the gas detection apparatus of FIG. 光学モジュールを備えた電子機器である食物分析装置の概略構成を示す図。The figure which shows schematic structure of the food analyzer which is an electronic device provided with the optical module. 光学モジュールを備えた電子機器である分光カメラの概略構成を示す模式図。The schematic diagram which shows schematic structure of the spectroscopic camera which is an electronic device provided with the optical module. 従来の容量検出回路の例を示す図。The figure which shows the example of the conventional capacitance detection circuit. 従来の容量検出回路において寄生容量の影響を説明するための図。The figure for demonstrating the influence of a parasitic capacitance in the conventional capacity | capacitance detection circuit. 従来の容量検出回路において寄生容量の影響を説明するための図。The figure for demonstrating the influence of a parasitic capacitance in the conventional capacity | capacitance detection circuit.

[第一実施形態]
以下、本発明の第一実施形態に係る容量検出回路について、図面に基づいて説明する。
図1は、第一実施形態の容量検出回路の回路構成を示す図である。
[First embodiment]
Hereinafter, a capacitance detection circuit according to a first embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.
FIG. 1 is a diagram illustrating a circuit configuration of the capacitance detection circuit according to the first embodiment.

[容量検出回路の全体構成]
容量検出回路10は、図1に示すように、検出対象キャパシターCxの入力端子に対して、入力信号V(正弦波信号)を出力する正弦波生成回路11と、検出対象キャパシターCxの出力端子に接続されるオペアンプ12と、オペアンプ12の出力端子及び反転入力端子の間に設けられる帰還回路13と、オペアンプ12の出力端子に接続されるサンプルアンドホールド回路14と、正弦波生成回路11及びサンプルアンドホールド回路14に接続されるタイミング信号生成回路15と、測定処理部16と、を備えている。
この容量検出回路10は、検出対象キャパシターCxの静電容量を検出するための回路であり、測定処理部16は、サンプルアンドホールド回路14から出力された信号値に基づいて、検出対象キャパシターCxの静電容量を測定する。なお、測定処理部16による静電容量の測定については後述する。
[Overall configuration of capacitance detection circuit]
As shown in FIG. 1, the capacitance detection circuit 10 includes a sine wave generation circuit 11 that outputs an input signal V I (sine wave signal) to an input terminal of the detection target capacitor Cx, and an output terminal of the detection target capacitor Cx. The operational amplifier 12 connected to the output terminal, the feedback circuit 13 provided between the output terminal and the inverting input terminal of the operational amplifier 12, the sample and hold circuit 14 connected to the output terminal of the operational amplifier 12, the sine wave generation circuit 11 and the sample A timing signal generation circuit 15 connected to the hold circuit 14 and a measurement processing unit 16 are provided.
The capacitance detection circuit 10 is a circuit for detecting the capacitance of the detection target capacitor Cx, and the measurement processing unit 16 determines the detection target capacitor Cx based on the signal value output from the sample and hold circuit 14. Measure the capacitance. The measurement of capacitance by the measurement processing unit 16 will be described later.

[正弦波生成回路の構成]
図2は、正弦波生成回路11の回路構成を示す図である。
本実施形態では、正弦波生成回路11として、図2に示すように、水晶振動体の圧電効果を用いて所定の入力信号Vを出力する水晶発振回路を用いる。
具体的には、正弦波生成回路11は、インバーター11Aと、インバーター11Aの入出力間に接続される水晶振動子11Bとを備える。このような正弦波生成回路11では、インバーター11Aの入力端子側の第一出力端11Cから、正弦波の入力信号Vが出力され、インバーター11Aの出力端子側の第二出力端11Dから、矩形波(方形波)の入力信号(矩形入力信号VIR)が出力される。第一出力端11Cから出力された入力信号V(正弦波)は、検出対象キャパシターCxに入力され、第二出力端11Dから出力された矩形入力信号VIRは、タイミング信号生成回路15に入力される。
[Configuration of sine wave generation circuit]
FIG. 2 is a diagram illustrating a circuit configuration of the sine wave generation circuit 11.
In the present embodiment, as a sine wave generating circuit 11, as shown in FIG. 2, using a crystal oscillator circuit for outputting a predetermined input signal V I using a piezoelectric effect of the crystal body.
Specifically, the sine wave generation circuit 11 includes an inverter 11A and a crystal resonator 11B connected between the input and output of the inverter 11A. In such sine wave generating circuit 11, a first output terminal 11C of the input terminal side of the inverter 11A, the output is the input signal V I sinusoidal, from the second output end 11D of the output terminal side of the inverter 11A, rectangular A wave (square wave) input signal (rectangular input signal V IR ) is output. The input signal V I (sine wave) output from the first output terminal 11C is input to the detection target capacitor Cx, and the rectangular input signal V IR output from the second output terminal 11D is input to the timing signal generation circuit 15. Is done.

また、インバーター11Aは、入力信号Vを所定に閾値に基づいて、ハイレベル及びローレベルに振り分ける、所謂シュミットトリガー型インバーターが用いられる。この閾値としては、入力信号V(正弦波)のピーク電圧VImax及びボトム電圧VIminの中間値VIC((VImax+VImin)/2)を用いる。また、インバーターに入力信号Vを通すと、レベル値が反転して出力される。したがって、本実施形態では、入力信号Vがボトム電圧VImin〜中間値VIcである場合、矩形入力信号VIRがハイレベルとなり、入力信号Vが中間値VIc〜ピーク電圧VImaxである場合に、ローレベルとなる。言い換えれば、矩形入力信号VIRは、正弦波状の入力信号Vがピーク電圧VImaxからボトム電圧VIminに変化する際、中間値VIcにおいて、ローレベルからハイレベルに立ち上がる。そして、T/4周期経過後(Tは、入力信号Vの周期)、入力信号Vがボトム電圧VIminからピーク電圧VImaxに変化する際、中間値VIcにおいて、ハイレベルからローレベルに立ち上がる。 Also, the inverter 11A on the basis of the threshold value of the input signal V I to predetermined sorts to a high level and a low level, so-called Schmitt trigger type inverter is used. As this threshold value, an intermediate value V IC ((V Imax + V Imin ) / 2) of the peak voltage V Imax and the bottom voltage V Imin of the input signal V I (sine wave) is used. Further, when passing the input signal V I to the inverter, the level value is inverted and outputted. Therefore, in this embodiment, when the input signal V I is from the bottom voltage V Imin to the intermediate value V Ic , the rectangular input signal V IR is at the high level, and the input signal V I is at the intermediate value V Ic to the peak voltage V Imax . In some cases, it is low. In other words, the rectangular input signal V IR rises from a low level to a high level at the intermediate value V Ic when the sinusoidal input signal V I changes from the peak voltage V Imax to the bottom voltage V Imin . After T / 4 period elapses (T is the period of the input signal V I), when the input signal V I is changed from the bottom voltage V Imin to a peak voltage V Imax, the intermediate value V Ic, low level from the high level Stand up to.

[オペアンプ及び帰還回路の構成]
オペアンプ12は、図1に示すように、反転入力端子が検出対象キャパシターCxの出力端子が接続され、非反転入力端子がGNDに接続される。オペアンプ12の出力端子には、サンプルアンドホールド回路14が接続されるとともに、反転入力端子との間に帰還回路13が設けられる。
[Configuration of operational amplifier and feedback circuit]
As shown in FIG. 1, the operational amplifier 12 has an inverting input terminal connected to the output terminal of the detection target capacitor Cx, and a non-inverting input terminal connected to GND. A sample and hold circuit 14 is connected to the output terminal of the operational amplifier 12 and a feedback circuit 13 is provided between the inverting input terminal.

帰還回路13は、図1に示すように、インピーダンス素子13Aを備える。このインピーダンス素子13Aは、抵抗及び静電容量が既知であるキャパシターを接続した素子を用いる。このように、抵抗及びキャパシターを用いたインピーダンス素子13Aでは、インピーダンスを所望の値に精度よく設定することができる。
なお、インピーダンス素子13Aとしては、抵抗のみにより構成されるものであってもよい。このような抵抗のみで構成されるインピーダンス素子13Aを用いる場合、帰還回路13の回路構成を簡略化でき、コストの低減を図ることができる。
As shown in FIG. 1, the feedback circuit 13 includes an impedance element 13A. As the impedance element 13A, an element to which a capacitor having a known resistance and capacitance is connected is used. Thus, in the impedance element 13A using a resistor and a capacitor, the impedance can be set to a desired value with high accuracy.
The impedance element 13A may be constituted only by a resistor. When the impedance element 13A configured only by such a resistor is used, the circuit configuration of the feedback circuit 13 can be simplified and the cost can be reduced.

ここで、検出対象キャパシターCxのインピーダンスをZとし、インピーダンス素子13AのインピーダンスをZ(固定値)とすると、オペアンプ12に入力される入力信号V及び、オペアンプ12から出力される出力信号V(電圧)は、下記式(1)の関係を満たす。 Here, assuming that the impedance of the detection target capacitor Cx is Z f and the impedance of the impedance element 13A is Z i (fixed value), the input signal V I input to the operational amplifier 12 and the output signal V output from the operational amplifier 12 O (voltage) satisfies the relationship of the following formula (1).

[数1]
=−Z/Z・V …(1)
[Equation 1]
V O = −Z f / Z i · V I (1)

図3は、正弦波生成回路11から出力される入力信号V、オペアンプ12から出力される出力信号V、タイミング信号生成回路15から出力される後述する第二タイミング信号Vh1、及びサンプルアンドホールド回路14により取得される検出信号の波形を示す図である。
図3及び(1)式に示されるように、オペアンプ12は、入力信号Vの位相を反転させて、出力信号Vを出力する。また、オペアンプ12の出力信号Vは、(1)式に示すように、インピーダンス素子13AのインピーダンスZ及び検出対象キャパシターCxのインピーダンスZの比に応じて変化する。
3 shows an input signal V I output from the sine wave generation circuit 11, an output signal V O output from the operational amplifier 12, a second timing signal V h1 described later output from the timing signal generation circuit 15, and a sample and FIG. 4 is a diagram illustrating a waveform of a detection signal acquired by a hold circuit 14.
As shown in FIGS. 3 and (1), the operational amplifier 12 inverts the phase of the input signal V I and outputs an output signal V O. Further, the output signal V O of the operational amplifier 12 changes according to the ratio of the impedance Z i of the impedance element 13A and the impedance Z f of the detection target capacitor Cx, as shown in the equation (1).

[タイミング信号生成回路の構成]
図4は、タイミング信号生成回路15の構成を示す図である。また、図5は、各信号のタイミングチャートである。
図4に示すように、タイミング信号生成回路15は、第一ワンショット回路15A及び第二ワンショット回路15Bを備える。
[Configuration of timing signal generation circuit]
FIG. 4 is a diagram illustrating a configuration of the timing signal generation circuit 15. FIG. 5 is a timing chart of each signal.
As shown in FIG. 4, the timing signal generation circuit 15 includes a first one-shot circuit 15A and a second one-shot circuit 15B.

第一ワンショット回路15Aは、正弦波生成回路11から入力された矩形入力信号VIRに基づいて、第一タイミング信号Vh0を出力する。
上述したように、矩形入力信号VIRは、入力信号Vがピーク電圧VImaxからボトム電圧VIminに変化する際、中間値VIcにおいて、ローレベルからハイレベルに立ち上がる。ここで、オペアンプ12から出力される出力信号Vは、入力信号Vに対して位相は反転する。したがって、図5に示すように、矩形入力信号VIRは、オペアンプ12の出力信号Vがボトム電圧VOminからピーク電圧VOmaxに変化する際、中間値VOC((VOmax+VOmin)/2)において、ローレベルからハイレベルに立ち上がることになる。
そして、第一ワンショット回路15Aは、矩形入力信号VIRの立ち上がりタイミングと同タイミングで立ち上がる第一タイミング信号Vhoを生成する。すなわち、第一タイミング信号Vhoは、出力信号Vの立ち上がりタイミングに同期して、ローレベルからハイレベルに立ち上がる。また、第一ワンショット回路15Aは、第一タイミング信号Vhoの立ち上がりタイミングから所定の時間T1だけ、ハイレベルを維持した後、第一タイミング信号Vhoをローレベルに下げる。
The first one-shot circuit 15A on the basis of the rectangular input signal V IR input from the sine-wave generating circuit 11, and outputs a first timing signal V h0.
As described above, the rectangular input signal V IR rises from the low level to the high level at the intermediate value V Ic when the input signal V I changes from the peak voltage V Imax to the bottom voltage V Imin . Here, the phase of the output signal V O output from the operational amplifier 12 is inverted with respect to the input signal V I. Therefore, as shown in FIG. 5, the rectangular input signal V IR is obtained when the output signal V O of the operational amplifier 12 changes from the bottom voltage V Omin to the peak voltage V Omax , when the intermediate value V OC ((V Omax + V Omin ) / In 2), the signal rises from the low level to the high level.
The first one-shot circuit 15A generates a first timing signal V ho rising at the rising timing and the timing of the rectangular input signal V IR. That is, the first timing signal V ho rises from the low level to the high level in synchronization with the rising timing of the output signal V O. The first one-shot circuit 15A, from the rising timing of the first timing signal V ho predetermined time T1, and maintained a high level, lowers the first timing signal V ho to a low level.

第二ワンショット回路15Bは、図5に示すように、第一ワンショット回路15Aから出力された第一タイミング信号Vhoの立下りタイミングで、ローレベルからハイレベルに立ち上がる第二タイミング信号Vh1を生成する。また、第二ワンショット回路15Bは、第二タイミング信号Vh1の立ち上がりタイミングから所定の時間T2だけハイレベルを維持した後、第二タイミング信号Vh1をローレベルに下げる。 As shown in FIG. 5, the second one-shot circuit 15B has a second timing signal V h1 that rises from a low level to a high level at the falling timing of the first timing signal V ho output from the first one-shot circuit 15A. Is generated. The second one-shot circuit 15B, after maintaining a high level from rising timing a predetermined time T2 of the second timing signal V h1, lowering the second timing signal V h1 to a low level.

ここで、第一ワンショット回路15A及び第二ワンショット回路15Bは、第一タイミング信号Vh0がハイレベルに設定される時間T1(本発明で述べる第一タイミング信号Vh0の出力時間)及び第二タイミング信号Vh1がハイレベルに設定される時間T2(本発明で述べる第二タイミング信号Vh1の出力時間)を以下の式(2)〜(4)を満たす値に設定する。 Here, the first one-shot circuit 15A and a second one-shot circuit 15B is (output time of the first timing signal V h0 described in the present invention) first timing signal V h0 time T1 is set to the high level and the The time T2 (the output time of the second timing signal Vh1 described in the present invention) at which the second timing signal Vh1 is set to the high level is set to a value satisfying the following equations (2) to (4).

[数1]
T1<T/4 …(2)
T2<T/4 …(3)
T1+T2>T/4 …(4)
[Equation 1]
T1 <T / 4 (2)
T2 <T / 4 (3)
T1 + T2> T / 4 (4)

上記式(2)〜(4)において、Tは、入力信号Vの周期である。上記条件を満たすように各時間T1,T2が設定されていれば、第二タイミング信号Vh1がハイレベルに設定される時間内において、オペアンプ12から出力される出力信号Vにピーク電圧が現れる。したがって、サンプルアンドホールド回路14は、第二タイミング信号Vh1がハイレベルに設定される時間(第二タイミング信号Vh1の出力時間)において、出力信号Vを取得することで、ピーク電圧との誤差が小さい信号値を取得することが可能となる。
また、第二タイミング信号Vh1がハイレベルに維持される時間T2としては、オペアンプ12からの出力信号Vがピーク電圧VOmaxの99%以上となる時間に設定されることが好ましい。
In the above formula (2) ~ (4), T is the period of the input signal V I. If the times T1 and T2 are set so as to satisfy the above conditions, a peak voltage appears in the output signal V O output from the operational amplifier 12 within the time when the second timing signal V h1 is set to the high level. . Therefore, the sample and hold circuit 14 obtains the output signal V O during the time when the second timing signal V h1 is set to the high level (the output time of the second timing signal V h1 ), thereby It is possible to acquire a signal value with a small error.
As the time T2 to the second timing signal V h1 is maintained at a high level, it is preferable that the output signal V O from the operational amplifier 12 is set to a time equal to or greater than 99% of the peak voltage V Omax.

[サンプルアンドホールド回路の構成]
図6は、サンプルアンドホールド回路14の回路構成の一例を示す図である。
サンプルアンドホールド回路14は、図6に示すように、オペアンプ12に接続されるスイッチSと、スイッチSに接続されるオペアンプ14Aと、スイッチS及びオペアンプ14Aの間に接続されるホールド用キャパシター14Bとを備える。また、オペアンプ14Aの非反転入力端子には、スイッチSの出力端子が接続され、オペアンプ14Aの出力端子及びオペアンプ14Aの反転入力端子間には、帰還回路が形成される。
スイッチSは、タイミング信号生成回路15から出力される第二タイミング信号Vh1に基づいて、接続状態が切り替えられる。つまり、スイッチSは、タイミング信号生成回路15からの第二タイミング信号Vh1がハイレベルである場合、ON状態に切り替わり、オペアンプ12及びオペアンプ14Aを接続する。また、第二タイミング信号Vh1がローレベルである場合、OFF状態に切り替わり、オペアンプ12及びオペアンプ14Aを切断する。
[Configuration of sample and hold circuit]
FIG. 6 is a diagram illustrating an example of the circuit configuration of the sample and hold circuit 14.
As shown in FIG. 6, the sample and hold circuit 14 includes a switch S connected to the operational amplifier 12, an operational amplifier 14A connected to the switch S, and a hold capacitor 14B connected between the switch S and the operational amplifier 14A. Is provided. The output terminal of the switch S is connected to the non-inverting input terminal of the operational amplifier 14A, and a feedback circuit is formed between the output terminal of the operational amplifier 14A and the inverting input terminal of the operational amplifier 14A.
The connection state of the switch S is switched based on the second timing signal V h1 output from the timing signal generation circuit 15. That is, when the second timing signal V h1 from the timing signal generation circuit 15 is at a high level, the switch S switches to the ON state and connects the operational amplifier 12 and the operational amplifier 14A. On the other hand, when the second timing signal V h1 is at a low level, the operational amplifier 12 and the operational amplifier 14A are disconnected by switching to the OFF state.

このようなサンプルアンドホールド回路14では、スイッチSがON状態になると、オペアンプ12から出力された出力信号Vがホールド用キャパシター14Bに印加される。したがって、スイッチSがOFF状態になっても、ホールド用キャパシター14Bは出力信号Vの電圧を保持し、オペアンプ14Aは直流出力Vを行う。したがって、サンプルアンドホールド回路14により検出(取得)される検出信号V(=VOmax)は、図3に示すように、一定の直流信号となる。
すなわち、サンプルアンドホールド回路14は、第二タイミング信号Vh1としてハイレベル信号値が出力される出力時間において、出力信号V(VOmax)をホールドし、検出信号Vとして出力する。
なお、本実施形態では、オペアンプ14Aは、ゲイン1のバッファとして用いられるが、出力を増幅させて電圧範囲が所望の範囲となるように設定されていてもよい。
In such a sample and hold circuit 14, when the switch S is turned on, the output signal V O output from the operational amplifier 12 is applied to the hold capacitor 14B. Therefore, even if the switch S is turned OFF, hold capacitor 14B holds the voltage of the output signal V O, the operational amplifier 14A performs a DC output V S. Therefore, the detection signal V S (= V Omax ) detected (acquired) by the sample and hold circuit 14 is a constant DC signal as shown in FIG.
That is, the sample and hold circuit 14 holds the output signal V O (V Omax ) and outputs it as the detection signal V S during the output time when the high level signal value is output as the second timing signal V h1 .
In the present embodiment, the operational amplifier 14A is used as a buffer with a gain of 1. However, the output range may be set so that the voltage range becomes a desired range by amplifying the output.

[寄生容量の影響]
次に、上述したような容量検出回路10において、検出対象キャパシターCxの入出力端側に、それぞれ、対地(GND)間に寄生容量Ca,Cbが発生した場合の影響について説明する。
図7は、容量検出回路10に寄生容量が発生した場合の電流の流れを示す図である。
図7に示すように、検出対象キャパシターCxには、入力信号Vの入力に伴い、電流Iが流れ、オペアンプ12に入力される。一方、検出対象キャパシターCxの入力端子側に寄生容量Caが発生した場合、この寄生容量Caに電流Iが流れるが、電流IはGNDに流れるため、オペアンプ12には流れない。
また、オペアンプ12の非反転入力端子はGNDに接続されている。したがって、オペアンプ12のイマジナリーショートの作用により、オペアンプ12の反転入力端子の電位は、基準電位(GNDレベル)となる。したがって、検出対象キャパシターCxの出力端側に対地間との間に寄生容量Cbが発生したとしても、寄生容量Cbの入出力端は同電位となり、電流が流れない。
以上に示すように、本実施形態の容量検出回路10では、検出対象キャパシターCxの入出力端側に、それぞれ、対地間との間に寄生容量Ca,Cbが発生した場合でも、検出対象キャパシターCxに流れる電流Iと、インピーダンス素子13Aに流れる電流Iとは等しく(I=I)、上述した(1)式が維持され、寄生容量の影響を受けることがない。
[Influence of parasitic capacitance]
Next, in the capacitance detection circuit 10 as described above, the influence when parasitic capacitances Ca and Cb are generated between the ground (GND) on the input / output end side of the detection target capacitor Cx will be described.
FIG. 7 is a diagram illustrating a current flow when parasitic capacitance is generated in the capacitance detection circuit 10.
As shown in FIG. 7, the detected capacitor Cx, with the input of the input signal V I, current I S flows, is input to the operational amplifier 12. On the other hand, when the parasitic capacitance Ca is generated on the input terminal side of the detection target capacitor Cx, the current Ip flows through the parasitic capacitance Ca, but does not flow through the operational amplifier 12 because the current Ip flows through GND.
The non-inverting input terminal of the operational amplifier 12 is connected to GND. Therefore, the potential of the inverting input terminal of the operational amplifier 12 becomes the reference potential (GND level) due to the imaginary short of the operational amplifier 12. Therefore, even if the parasitic capacitance Cb occurs between the output end of the detection target capacitor Cx and the ground, the input / output ends of the parasitic capacitance Cb have the same potential and no current flows.
As described above, in the capacitance detection circuit 10 of the present embodiment, even when the parasitic capacitances Ca and Cb are generated between the input and output terminals of the detection target capacitor Cx and the ground, the detection target capacitor Cx. and current I S flowing through, equal to the current I f flowing through the impedance element 13A (I S = I F), the aforementioned equation (1) is maintained, there is no influence of the parasitic capacitance.

[測定処理部の動作]
測定処理部16は、サンプルアンドホールド回路14により取得された検出信号V(出力信号Vのピーク電圧VOMAX)が入力されると、上述した(1)式に基づいて、検出対象キャパシターCxのインピーダンスZを算出し、さらに、検出対象キャパシターCxの静電容量Cを算出する。
[Measurement Processing Unit Operation]
When the detection signal V S (the peak voltage V OMAX of the output signal V O ) acquired by the sample and hold circuit 14 is input to the measurement processing unit 16, the detection target capacitor Cx is based on the above-described equation (1). calculating the impedance Z i, further calculates the electrostatic capacitance C of the detected capacitor Cx.

[本実施形態の作用効果]
上述したように、本実施形態の容量検出回路10は、検出対象キャパシターCxの入力端子に入力信号Vを出力する正弦波生成回路11と、検出対象キャパシターCxの出力端子が反転入力端子に接続され、非反転入力端子がGNDに接続されるオペアンプ12と、オペアンプ12の出力端子及び反転入力端子を接続し、インピーダンス素子13Aを備える帰還回路13と、オペアンプ12から出力される出力信号Vを検出するサンプルアンドホールド回路14と、を備えている。また、容量検出回路10は、正弦波生成回路11の入力信号Vに同期する第二タイミング信号Vh1を出力するタイミング信号生成回路15を備え、サンプルアンドホールド回路14は、第二タイミング信号Vh1としてハイレベルの信号値が出力される時間において入力された出力信号Vを取得する。
[Operational effects of this embodiment]
As described above, the capacitance detection circuit 10 of this embodiment includes a sine wave generating circuit 11 outputs the input signal V I to the input terminal of the detection target capacitor Cx, to the output terminal of the detection target capacitor Cx is an inverting input terminal The operational amplifier 12 whose non-inverting input terminal is connected to GND, the output terminal of the operational amplifier 12 and the inverting input terminal are connected, the feedback circuit 13 including the impedance element 13A, and the output signal V O output from the operational amplifier 12 And a sample and hold circuit 14 for detection. The capacitance detection circuit 10 includes a timing signal generation circuit 15 that outputs a second timing signal V h1 that is synchronized with the input signal V I of the sine wave generation circuit 11, and the sample and hold circuit 14 includes a second timing signal V h. the signal value of the high level to obtain an output signal V O which is input at the time is output as h1.

このような構成の容量検出回路10では、検出対象キャパシターCxの入力端子側に、対地間で寄生容量Caが発生した場合でも、寄生容量Caを流れた電流IはGNDに流すことができる。また、検出対象キャパシターCxの出力端子側に、対地間で寄生容量Cbが発生した場合でも、オペアンプ12のイマジナリーショートの作用により寄生容量Cbに電流が流れない。したがって、オペアンプ12に流れる電流は、検出対象キャパシターCxからの電流Iとなり、インピーダンス素子13Aを流れる電流Iは、電流Iと同じになる。このため、サンプルアンドホールド回路14により検出される検出信号Vには、寄生容量に基づいた誤差成分の信号値が含まれず、検出信号Vに基づいて、検出対象キャパシターCxの正確な静電容量を測定することができる。 In the capacitance detection circuit 10 having such a configuration, even when the parasitic capacitance Ca is generated between the ground on the input terminal side of the detection target capacitor Cx, the current Ip flowing through the parasitic capacitance Ca can be supplied to the GND. Even when a parasitic capacitance Cb is generated between the output terminal of the detection target capacitor Cx and the ground, no current flows through the parasitic capacitance Cb due to an imaginary short of the operational amplifier 12. Accordingly, the current flowing through the operational amplifier 12, the current I f flowing current I S next to the detected capacitor Cx, the impedance element 13A is the same as current I s. Therefore, the detection signal V S detected by the sample and hold circuit 14 does not include the signal value of the error component based on the parasitic capacitance, and the accurate electrostatic capacitance of the detection target capacitor Cx is determined based on the detection signal V S. Capacitance can be measured.

また、容量検出回路10に設けられるスイッチは、サンプルアンドホールド回路14に設けられるスイッチSのみであり、スイッチSを制御するための制御信号を少なくできる。したがって、回路設計を行うに当たり、制御信号によるクロストーク等の影響が少なくできるので、回路基板の構成を簡略化できる。   Further, the switch provided in the capacitance detection circuit 10 is only the switch S provided in the sample-and-hold circuit 14, and the control signal for controlling the switch S can be reduced. Therefore, in designing the circuit, the influence of the crosstalk caused by the control signal can be reduced, so that the configuration of the circuit board can be simplified.

本実施形態では、タイミング信号生成回路15は、第一ワンショット回路15A及び第二ワンショット回路15Bを備える。そして、第一ワンショット回路15Aは、入力信号Vに同期した第一タイミング信号Vh0を出力し、第二ワンショット回路15Bは、第一タイミング信号Vh0に基づいて、オペアンプ12からピーク電圧VOmaxが出力されるタイミングに同期した第二タイミング信号Vh1を出力する。
これにより、オペアンプ12により出力される出力信号Vが、正弦波生成回路11から出力される入力信号Vに対して半周期分位相がずれる場合であっても、ピーク電圧VOmaxの出力タイミングに対応した最適なタイミングで第二タイミング信号Vh1を出力することができ、サンプルアンドホールド回路14において精度よく検出信号Vを取得することができる。
In the present embodiment, the timing signal generation circuit 15 includes a first one-shot circuit 15A and a second one-shot circuit 15B. The first one-shot circuit 15A outputs a first timing signal V h0 synchronized with the input signal V I, the second one-shot circuit 15B, based on the first timing signal V h0, the peak voltage from the operational amplifier 12 A second timing signal V h1 synchronized with the timing at which V Omax is output is output.
Thus, even when the output signal V O output from the operational amplifier 12 is out of phase with the input signal V I output from the sine wave generation circuit 11 by a half cycle, the output timing of the peak voltage V Omax The second timing signal V h1 can be output at the optimum timing corresponding to the above, and the detection signal V S can be obtained with high accuracy in the sample and hold circuit 14.

また、正弦波生成回路11は、インバーター11Aにより、正弦波の入力信号Vから矩形入力信号VIRを生成してタイミング信号生成回路15に出力する。そして、第一ワンショット回路15Aは、この矩形入力信号VIRの立ち上がりタイミングと同期して立ち上がる第一タイミング信号Vh0を生成し、第二ワンショット回路15Bは、第一タイミング信号Vh0の立下りタイミングに同期して立ち上がる第二タイミング信号Vh1を生成する。また、第一ワンショット回路15A及び第二ワンショット回路15Bは、式(2)〜(4)に示すように、各タイミング信号Vh0,Vh1としてハイレベル信号が出力される出力時間T1,T2を、それぞれ、入力信号Vの周期Tの1/4未満に設定する。また、第一ワンショット回路15A及び第二ワンショット回路15Bは、これらの出力時間の和(T1+T2)が、入力信号Vの周期の1/4より大きくなるよう、各時間T1,T2を設定する。
このようなタイミング信号を生成することで、出力信号Vとしてピーク電圧VOmaxが出力される時間に、第二タイミング信号Vh1がハイレベルとなる時間T2を重ねることができる。したがって、サンプルアンドホールド回路14は、第二タイミング信号Vh1に基づいて出力信号VOを取得することで、ピーク電圧VOmaxを精度よく取得することができる。
また、この第二タイミング信号Vh1がハイレベルに設定される時間は、出力信号Vの電圧がピーク電圧VOmaxの99%以上である時間に設定されているので、検出信号Vの検出誤差を1%未満に抑えることができ、検出精度をより向上させることができる。
Moreover, sine-wave generating circuit 11, the inverter 11A, and outputs the timing signal generating circuit 15 generates a rectangular input signal V IR from the input signal V I of the sine wave. The first one-shot circuit 15A generates a first timing signal V h0 which rises synchronously with the rise timing of the rectangular input signal V IR, the second one-shot circuit 15B is standing in the first timing signal V h0 A second timing signal Vh1 that rises in synchronization with the downlink timing is generated. Further, the first one-shot circuit 15A and the second one-shot circuit 15B, as shown in the equations (2) to (4), output time T1, when high-level signals are output as the respective timing signals V h0 and V h1 the T2, respectively, is set to less than 1/4 of the period T of the input signal V I. The first one-shot circuit 15A and a second one-shot circuit 15B, the sum of these output time (T1 + T2) is to be larger than 1/4 of the period of the input signal V I, set each time T1, T2 To do.
Such timing signal by generating a time to peak voltage V Omax is output as an output signal V O, the second timing signal V h1 can be overlapped time T2 to the high level. Therefore, the sample and hold circuit 14 can acquire the peak voltage V Omax with high accuracy by acquiring the output signal VO based on the second timing signal V h1 .
Further, the time when the second timing signal V h1 is set to the high level is set to a time when the voltage of the output signal V O is 99% or more of the peak voltage V Omax , so that the detection signal V S is detected. The error can be suppressed to less than 1%, and the detection accuracy can be further improved.

本実施形態では、正弦波生成回路11として、水晶振動子11Bを用いた水晶発振回路が用いられる。
このような水晶発振回路は、精度の高い周波数で所望の信号値の入力信号Vを出力することができる。したがって、オペアンプ12から出力される出力信号Vも安定した信号特性となり、容量検出精度を向上させることができる。
In the present embodiment, as the sine wave generation circuit 11, a crystal oscillation circuit using a crystal resonator 11B is used.
Such a crystal oscillation circuit can output the input signal V I having a desired signal value at a highly accurate frequency. Therefore, the output signal V O output from the operational amplifier 12 also has stable signal characteristics, and the capacitance detection accuracy can be improved.

[第二実施形態]
次に、本発明の第二実施形態について、図面に基づいて説明する。
図8は、第二実施形態の電子機器である分光測定装置の概略構成を示すブロック図である。
図9は、第二実施形態の光学モジュールの概略構成を示す回路図である。
[Second Embodiment]
Next, a second embodiment of the present invention will be described based on the drawings.
FIG. 8 is a block diagram illustrating a schematic configuration of a spectroscopic measurement apparatus that is an electronic apparatus according to the second embodiment.
FIG. 9 is a circuit diagram showing a schematic configuration of the optical module of the second embodiment.

図8に示すように、第二実施形態の分光測定装置20は、測定対象Xで反射された測定対象光における各波長の光強度を分析し、分光スペクトルを測定する装置である。
この分光測定装置20は、図8に示すように、波長可変干渉フィルター5と、ディテクター21(検出部)と、I−V変換器22と、アンプ23と、A/D変換器24と、電圧制御回路25と、容量検出回路10と、制御回路部30と、を備えている。
As shown in FIG. 8, the spectroscopic measurement device 20 of the second embodiment is a device that analyzes the light intensity of each wavelength in the measurement target light reflected by the measurement target X and measures the spectral spectrum.
As shown in FIG. 8, the spectroscopic measurement apparatus 20 includes a wavelength variable interference filter 5, a detector 21 (detection unit), an IV converter 22, an amplifier 23, an A / D converter 24, and a voltage. A control circuit 25, a capacitance detection circuit 10, and a control circuit unit 30 are provided.

ディテクター21は、波長可変干渉フィルター5を透過した光を受光し、受光した光の光強度に応じた検出信号(電流)を出力する。
I−V変換器22は、ディテクター21から入力された検出信号を電圧値に変換し、アンプ23に出力する。
アンプ23は、I−V変換器22から入力された検出信号に応じた電圧(検出電圧)を増幅する。
A/D変換器24は、アンプ23から入力された検出電圧(アナログ信号)をデジタル信号に変換し、制御回路部30に出力する。
電圧制御回路25は、制御回路部30の制御に基づいて、波長可変干渉フィルター5の後述する静電アクチュエーター56に対して駆動電圧を印加する。
The detector 21 receives the light transmitted through the variable wavelength interference filter 5 and outputs a detection signal (current) corresponding to the light intensity of the received light.
The IV converter 22 converts the detection signal input from the detector 21 into a voltage value and outputs the voltage value to the amplifier 23.
The amplifier 23 amplifies a voltage (detection voltage) corresponding to the detection signal input from the IV converter 22.
The A / D converter 24 converts the detection voltage (analog signal) input from the amplifier 23 into a digital signal and outputs the digital signal to the control circuit unit 30.
The voltage control circuit 25 applies a drive voltage to an electrostatic actuator 56 described later of the wavelength variable interference filter 5 based on the control of the control circuit unit 30.

[波長可変干渉フィルターの構成]
ここで、分光測定装置20に組み込まれる波長可変干渉フィルター5について、以下説明する。図10は、波長可変干渉フィルターの概略構成を示す平面図である。図11は、図10のA−A´線を断面した断面図である。
波長可変干渉フィルター5は、図10及び図11に示すように、本発明の第一基板である固定基板51および本発明の第二基板である可動基板52を備えている。これらの固定基板51及び可動基板52は、それぞれ例えば、ソーダガラス、結晶性ガラス、石英ガラス、鉛ガラス、カリウムガラス、ホウケイ酸ガラス、無アルカリガラスなどの各種ガラスや、水晶などにより形成されている。そして、これらの固定基板51及び可動基板52は、固定基板51の第一接合部513及び可動基板の第二接合部523が、例えばシロキサンを主成分とするプラズマ重合膜などにより構成された接合膜53により接合されることで、一体に構成されている。
[Configuration of wavelength tunable interference filter]
Here, the wavelength variable interference filter 5 incorporated in the spectrometer 20 will be described below. FIG. 10 is a plan view showing a schematic configuration of the variable wavelength interference filter. 11 is a cross-sectional view taken along line AA ′ of FIG.
As shown in FIGS. 10 and 11, the variable wavelength interference filter 5 includes a fixed substrate 51 that is the first substrate of the present invention and a movable substrate 52 that is the second substrate of the present invention. The fixed substrate 51 and the movable substrate 52 are each formed of, for example, various types of glass such as soda glass, crystalline glass, quartz glass, lead glass, potassium glass, borosilicate glass, and non-alkali glass, or crystal. . The fixed substrate 51 and the movable substrate 52 include a bonding film in which the first bonding portion 513 of the fixed substrate 51 and the second bonding portion 523 of the movable substrate are formed of, for example, a plasma polymerization film mainly containing siloxane. By being joined by 53, it is comprised integrally.

固定基板51には、本発明の第一反射膜を構成する固定反射膜54が設けられ、可動基板52には、本発明の第二反射膜を構成する可動反射膜55が設けられている。これらの固定反射膜54および可動反射膜55は、反射膜間ギャップG1を介して対向配置されている。そして、波長可変干渉フィルター5には、この反射膜間ギャップG1のギャップ量を調整(変更)するのに用いられる静電アクチュエーター56が設けられている。この静電アクチュエーター56は、本発明におけるギャップ変更部に相当する。この静電アクチュエーター56は、固定基板51に設けられた固定電極561と、可動基板52に設けられた可動電極562とにより構成されている。これらの固定電極561,可動電極562は、電極間ギャップを介して対向する。ここで、これらの電極561,562は、それぞれ固定基板51及び可動基板52の基板表面に直接設けられる構成であってもよく、他の膜部材を介して設けられる構成であってもよい。ここで、電極間ギャップのギャップ量は、反射膜間ギャップG1のギャップ量より大きい。
また、波長可変干渉フィルター5を固定基板51(可動基板52)の基板厚み方向から見た図10に示すような平面視において、固定基板51及び可動基板52の平面中心点Oは、固定反射膜54及び可動反射膜55の中心点と一致し、かつ後述する可動部521の中心点と一致する。
なお、以降の説明に当たり、固定基板51または可動基板52の基板厚み方向から見た平面視、つまり、固定基板51、接合膜53、及び可動基板52の積層方向から波長可変干渉フィルター5を見た平面視を、フィルター平面視と称する。
The fixed substrate 51 is provided with a fixed reflective film 54 constituting the first reflective film of the present invention, and the movable substrate 52 is provided with a movable reflective film 55 constituting the second reflective film of the present invention. The fixed reflection film 54 and the movable reflection film 55 are disposed to face each other via the inter-reflection film gap G1. The wavelength variable interference filter 5 is provided with an electrostatic actuator 56 that is used to adjust (change) the gap amount of the inter-reflection film gap G1. The electrostatic actuator 56 corresponds to a gap changing unit in the present invention. The electrostatic actuator 56 includes a fixed electrode 561 provided on the fixed substrate 51 and a movable electrode 562 provided on the movable substrate 52. These fixed electrode 561 and movable electrode 562 are opposed to each other through an interelectrode gap. Here, the electrodes 561 and 562 may be provided directly on the substrate surfaces of the fixed substrate 51 and the movable substrate 52, respectively, or may be provided via other film members. Here, the gap amount of the interelectrode gap is larger than the gap amount of the inter-reflection film gap G1.
Further, in the plan view as shown in FIG. 10 in which the wavelength variable interference filter 5 is viewed from the thickness direction of the fixed substrate 51 (movable substrate 52), the plane center point O of the fixed substrate 51 and the movable substrate 52 is the fixed reflection film. 54 and the center point of the movable reflective film 55 and the center point of the movable part 521 described later.
In the following description, the wavelength tunable interference filter 5 was seen from a plan view seen from the thickness direction of the fixed substrate 51 or the movable substrate 52, that is, from the stacking direction of the fixed substrate 51, the bonding film 53, and the movable substrate 52. The plan view is referred to as a filter plan view.

(固定基板の構成)
固定基板51には、エッチングにより電極配置溝511および反射膜設置部512が形成されている。この固定基板51は、可動基板52に対して厚み寸法が大きく形成されており、固定電極561および可動電極562間に電圧を印加した際の静電引力や、固定電極561の内部応力による固定基板51の撓みはない。
また、固定基板51の頂点C2,C4には、切欠部514が形成されており、波長可変干渉フィルター5を固定基板51側から見た際に、後述する可動電極パッド564Pや第二測定用引出電極566が露出する。
(Configuration of fixed substrate)
In the fixed substrate 51, an electrode arrangement groove 511 and a reflection film installation part 512 are formed by etching. The fixed substrate 51 is formed to have a thickness larger than that of the movable substrate 52, and the fixed substrate is caused by electrostatic attraction when a voltage is applied between the fixed electrode 561 and the movable electrode 562 or internal stress of the fixed electrode 561. There is no 51 deflection.
Further, notches 514 are formed at the apexes C2 and C4 of the fixed substrate 51. When the wavelength variable interference filter 5 is viewed from the fixed substrate 51 side, a movable electrode pad 564P and a second measurement lead to be described later are used. The electrode 566 is exposed.

電極配置溝511は、フィルター平面視で、固定基板51の平面中心点Oを中心とした環状に形成されている。反射膜設置部512は、前記平面視において、電極配置溝511の中心部から可動基板52側に突出して形成されている。この電極配置溝511の溝底面は、固定電極561が配置される電極設置面511Aとなる。また、反射膜設置部512の突出先端面は、反射膜設置面512Aとなる。
また、固定基板51には、電極配置溝511から、固定基板51の外周縁の各頂点C1,C2,C3,C4に向かって延出する電極引出溝511Bが設けられている。
The electrode arrangement groove 511 is formed in an annular shape centering on the plane center point O of the fixed substrate 51 in the filter plan view. The reflection film installation part 512 is formed so as to protrude from the center part of the electrode arrangement groove 511 toward the movable substrate 52 in the plan view. The groove bottom surface of the electrode arrangement groove 511 is an electrode installation surface 511A on which the fixed electrode 561 is arranged. In addition, the protruding front end surface of the reflection film installation portion 512 is a reflection film installation surface 512A.
In addition, the fixed substrate 51 is provided with electrode extraction grooves 511B extending from the electrode arrangement grooves 511 toward the vertices C1, C2, C3, and C4 of the outer peripheral edge of the fixed substrate 51.

電極配置溝511の電極設置面511Aには、固定電極561が設けられている。より具体的には、固定電極561は、電極設置面511Aのうち、後述する可動部521の可動電極562に対向する領域に設けられている。この固定電極561は、頂点C3に対向する位置が開口するC字状に形成される。また、固定電極561上に、固定電極561及び可動電極562の間の絶縁性を確保するための絶縁膜が積層される構成としてもよい。
そして、固定基板51には、固定電極561の外周縁から、頂点C1方向に延出する固定引出電極563が設けられている。この固定引出電極563の延出先端部(固定基板51の頂点C1に位置する部分)は、電圧制御回路25に接続される固定電極パッド563Pを構成する。
なお、本実施形態では、電極設置面511Aに1つの固定電極561が設けられる構成を示すが、例えば、平面中心点Oを中心とした同心円となる2つの電極が設けられる構成(二重電極構成)などとしてもよい。
A fixed electrode 561 is provided on the electrode installation surface 511 </ b> A of the electrode arrangement groove 511. More specifically, the fixed electrode 561 is provided in a region of the electrode installation surface 511 </ b> A that faces a movable electrode 562 of the movable portion 521 described later. The fixed electrode 561 is formed in a C shape having an opening at a position facing the vertex C3. In addition, an insulating film for ensuring insulation between the fixed electrode 561 and the movable electrode 562 may be stacked over the fixed electrode 561.
The fixed substrate 51 is provided with a fixed extraction electrode 563 extending from the outer peripheral edge of the fixed electrode 561 in the direction of the vertex C1. The extended leading end portion of the fixed extraction electrode 563 (the portion located at the vertex C1 of the fixed substrate 51) constitutes a fixed electrode pad 563P connected to the voltage control circuit 25.
In the present embodiment, a configuration in which one fixed electrode 561 is provided on the electrode installation surface 511A is shown. For example, a configuration in which two concentric circles centered on the plane center point O are provided (double electrode configuration). ) Etc.

反射膜設置部512は、上述したように、電極配置溝511と同軸上で、電極配置溝511よりも小さい径寸法となる略円柱状に形成され、反射膜設置部512の可動基板52に対向する反射膜設置面512Aを備えている。
この反射膜設置部512には、図11に示すように、導電性の固定反射膜54が設置されている。この固定反射膜54としては、例えばAg等の金属膜や、Ag合金等の合金膜を用いることができる。
As described above, the reflection film installation portion 512 is formed in a substantially cylindrical shape that is coaxial with the electrode arrangement groove 511 and has a smaller diameter than the electrode arrangement groove 511, and faces the movable substrate 52 of the reflection film installation portion 512. The reflective film installation surface 512A is provided.
As shown in FIG. 11, a conductive fixed reflection film 54 is installed in the reflection film installation portion 512. As the fixed reflective film 54, for example, a metal film such as Ag or an alloy film such as an Ag alloy can be used.

そして、固定基板51には、固定反射膜54の外周縁に接続され、頂点C3の方向に延出する第一測定用引出電極565が設けられている。この第一測定用引出電極565は、固定電極561のC字開口部分、電極引出溝511Bを通り、固定基板51の頂点C3まで延出する。また、この第一測定用引出電極565の延出先端部(固定基板51の頂点C3に位置する部分)は、容量検出回路10の正弦波生成回路11に接続される。   The fixed substrate 51 is provided with a first measurement lead electrode 565 that is connected to the outer peripheral edge of the fixed reflective film 54 and extends in the direction of the vertex C3. The first measurement lead electrode 565 passes through the C-shaped opening of the fixed electrode 561 and the electrode lead groove 511 </ b> B and extends to the vertex C <b> 3 of the fixed substrate 51. In addition, the extended leading end portion of the first measurement lead electrode 565 (the portion located at the vertex C3 of the fixed substrate 51) is connected to the sine wave generation circuit 11 of the capacitance detection circuit 10.

また、固定基板51の光入射面(固定反射膜54が設けられない面)には、固定反射膜54に対応する位置に反射防止膜を形成してもよい。この反射防止膜は、低屈折率膜および高屈折率膜を交互に積層することで形成することができ、固定基板51の表面での可視光の反射率を低下させ、透過率を増大させる。   Further, an antireflection film may be formed at a position corresponding to the fixed reflection film 54 on the light incident surface of the fixed substrate 51 (the surface on which the fixed reflection film 54 is not provided). This antireflection film can be formed by alternately laminating low refractive index films and high refractive index films, and reduces the reflectance of visible light on the surface of the fixed substrate 51 and increases the transmittance.

そして、固定基板51の可動基板52に対向する面のうち、エッチングにより、電極配置溝511、反射膜設置部512、及び電極引出溝511Bが形成されない面は、第一接合部513を構成する。   Of the surface of the fixed substrate 51 that faces the movable substrate 52, the surface on which the electrode placement groove 511, the reflective film installation portion 512, and the electrode extraction groove 511B are not formed by etching constitutes the first joint portion 513.

(可動基板の構成)
可動基板52は、図10に示すようなフィルター平面視において、平面中心点Oを中心とした円形状の可動部521と、可動部521と同軸であり可動部521を保持する保持部522と、保持部522の外側に設けられた基板外周部525と、を備えている。
また、可動基板52には、図10に示すように、頂点C1、C3に対応して、切欠部524が形成されており、波長可変干渉フィルター5を可動基板52側から見た際に、固定電極パッド563P及び第一測定用引出電極565が露出する。
(Configuration of movable substrate)
The movable substrate 52 includes a circular movable portion 521 centered on the plane center point O in the filter plan view as shown in FIG. 10, a holding portion 522 that is coaxial with the movable portion 521 and holds the movable portion 521, A substrate outer peripheral portion 525 provided outside the holding portion 522.
Further, as shown in FIG. 10, the movable substrate 52 has a notch 524 corresponding to the vertices C1 and C3, and is fixed when the wavelength variable interference filter 5 is viewed from the movable substrate 52 side. The electrode pad 563P and the first measurement lead electrode 565 are exposed.

可動部521は、保持部522よりも厚み寸法が大きく形成され、例えば、本実施形態では、可動基板52の厚み寸法と同一寸法に形成されている。この可動部521は、フィルター平面視において、少なくとも反射膜設置面512Aの外周縁の径寸法よりも大きい径寸法に形成されている。そして、この可動部521には、可動電極562及び可動反射膜55が設けられている。
なお、固定基板51と同様に、可動部521の固定基板51とは反対側の面には、反射防止膜が形成されていてもよい。このような反射防止膜は、低屈折率膜および高屈折率膜を交互に積層することで形成することができ、可動基板52の表面での可視光の反射率を低下させ、透過率を増大させることができる。
The movable part 521 is formed to have a thickness dimension larger than that of the holding part 522. For example, in this embodiment, the movable part 521 is formed to have the same dimension as the thickness dimension of the movable substrate 52. The movable portion 521 is formed to have a diameter larger than at least the diameter of the outer peripheral edge of the reflection film installation surface 512A in the filter plan view. The movable part 521 is provided with a movable electrode 562 and a movable reflective film 55.
Similar to the fixed substrate 51, an antireflection film may be formed on the surface of the movable portion 521 opposite to the fixed substrate 51. Such an antireflection film can be formed by alternately laminating a low refractive index film and a high refractive index film, reducing the reflectance of visible light on the surface of the movable substrate 52 and increasing the transmittance. Can be made.

可動電極562は、電極間ギャップを介して固定電極561に対向して設けられる。この可動電極562は、頂点C4に対向する位置が開口するC字状に形成される。また、可動基板52には、可動電極562の外周縁から可動基板52の頂点C2に向かって延出する可動引出電極564が設けられている。この可動引出電極564の延出先端部(可動基板52の頂点C2に位置する部分)は、電圧制御回路25に接続される可動電極パッド564Pを構成する。   The movable electrode 562 is provided to face the fixed electrode 561 with an interelectrode gap interposed therebetween. The movable electrode 562 is formed in a C shape having an opening at a position facing the vertex C4. The movable substrate 52 is provided with a movable extraction electrode 564 extending from the outer peripheral edge of the movable electrode 562 toward the vertex C2 of the movable substrate 52. The extended leading end portion of the movable extraction electrode 564 (the portion located at the vertex C2 of the movable substrate 52) constitutes a movable electrode pad 564P connected to the voltage control circuit 25.

可動反射膜55は、可動部521の可動面521Aの中心部に、固定反射膜54と反射膜間ギャップG1を介して対向して設けられる。この可動反射膜55としては、上述した固定反射膜54と同一の構成の反射膜が用いられる。
なお、本実施形態では、上述したように、電極間ギャップのギャップ量が反射膜間ギャップG1のギャップ量よりも大きい例を示すがこれに限定されない。例えば、測定対象光として赤外線や遠赤外線を用いる場合等、測定対象光の波長域によっては、反射膜間ギャップG1のギャップ量が、電極間ギャップのギャップ量よりも大きくなる構成としてもよい。
The movable reflective film 55 is provided at the center of the movable surface 521A of the movable part 521 so as to face the fixed reflective film 54 with the gap G1 between the reflective films. As the movable reflective film 55, a reflective film having the same configuration as that of the fixed reflective film 54 described above is used.
In the present embodiment, as described above, an example in which the gap amount of the interelectrode gap is larger than the gap amount of the inter-reflection film gap G1 is shown, but the present invention is not limited to this. For example, when using infrared rays or far infrared rays as the measurement target light, the gap amount of the gap G1 between the reflection films may be larger than the gap amount of the gap between the electrodes depending on the wavelength range of the measurement target light.

そして、可動基板52には、可動反射膜55の外周縁に接続され、頂点C4の方向に延出する第二測定用引出電極566が設けられている。この第二測定用引出電極566は、可動電極562のC字開口部分を通り、可動部521の頂点C4まで延出する。また、この第二測定用引出電極566の延出先端部(可動基板52の頂点C4に位置する部分)は、容量検出回路10におけるオペアンプ12の反転入力端子に接続される。   The movable substrate 52 is provided with a second measurement lead electrode 566 connected to the outer peripheral edge of the movable reflective film 55 and extending in the direction of the vertex C4. The second measurement lead electrode 566 passes through the C-shaped opening of the movable electrode 562 and extends to the vertex C4 of the movable portion 521. In addition, the extended leading end portion (the portion located at the vertex C4 of the movable substrate 52) of the second measurement lead electrode 566 is connected to the inverting input terminal of the operational amplifier 12 in the capacitance detection circuit 10.

保持部522は、可動部521の周囲を囲うダイヤフラムであり、可動部521よりも厚み寸法が小さく形成されている。このような保持部522は、可動部521よりも撓みやすく、僅かな静電引力により、可動部521を固定基板51側に変位させることが可能となる。この際、可動部521が保持部522よりも厚み寸法が大きく、剛性が大きくなるため、保持部522が静電引力により固定基板51側に引っ張られた場合でも、可動部521の形状変化が起こらない。したがって、可動部521に設けられた可動反射膜55の撓みも生じず、固定反射膜54及び可動反射膜55を常に平行状態に維持することが可能となる。
なお、本実施形態では、ダイヤフラム状の保持部522を例示するが、これに限定されず、例えば、平面中心点Oを中心として、等角度間隔で配置された梁状の保持部が設けられる構成などとしてもよい。
The holding part 522 is a diaphragm that surrounds the periphery of the movable part 521, and has a thickness dimension smaller than that of the movable part 521. Such a holding part 522 is easier to bend than the movable part 521, and the movable part 521 can be displaced toward the fixed substrate 51 by a slight electrostatic attraction. At this time, since the movable portion 521 has a thickness dimension larger than that of the holding portion 522 and becomes rigid, even when the holding portion 522 is pulled toward the fixed substrate 51 by electrostatic attraction, the shape of the movable portion 521 changes. Absent. Therefore, the movable reflective film 55 provided on the movable portion 521 is not bent, and the fixed reflective film 54 and the movable reflective film 55 can be always maintained in a parallel state.
In this embodiment, the diaphragm-like holding part 522 is illustrated, but the present invention is not limited to this. For example, a configuration in which beam-like holding parts arranged at equiangular intervals around the plane center point O are provided. And so on.

基板外周部525は、上述したように、フィルター平面視において保持部522の外側に設けられている。この基板外周部525の固定基板51に対向する面は、第一接合部513に対向する第二接合部523を備えている。   As described above, the substrate outer peripheral portion 525 is provided outside the holding portion 522 in the filter plan view. The surface of the substrate outer peripheral portion 525 that faces the fixed substrate 51 includes a second joint portion 523 that faces the first joint portion 513.

[波長可変干渉フィルターの駆動]
以上のような波長可変干渉フィルター5では、固定電極パッド563P及び可動電極パッド564Pがそれぞれ電圧制御回路25に接続されている。したがって、電圧制御回路25により、固定電極561及び可動電極562間に電圧が印加されることで、静電引力により可動部521が固定基板51側に変位する。これにより、反射膜間ギャップG1のギャップ量を所定量に変更することが可能となる。
[Driving wavelength variable interference filter]
In the wavelength variable interference filter 5 as described above, the fixed electrode pad 563P and the movable electrode pad 564P are connected to the voltage control circuit 25, respectively. Therefore, when the voltage is applied between the fixed electrode 561 and the movable electrode 562 by the voltage control circuit 25, the movable portion 521 is displaced toward the fixed substrate 51 by electrostatic attraction. Thereby, it is possible to change the gap amount of the gap G1 between the reflection films to a predetermined amount.

ここで、本実施形態では、図9に示すように、固定反射膜54が第一測定用引出電極565を介して容量検出回路10の正弦波生成回路11に接続され、可動反射膜55が第二測定用引出電極566を介して容量検出回路10のオペアンプ12に接続される。したがって、固定反射膜54及び可動反射膜55を、上記第一実施形態のCxと見なすことができ、固定反射膜54及び可動反射膜55の静電容量に対応した検出信号Vをサンプルアンドホールド回路14から出力することができる。
これにより、制御回路部30は、この検出信号Vに基づいて、固定反射膜54及び可動反射膜55における静電容量を精度よく算出することができ、反射膜間ギャップG1の正確なギャップ量を算出することができる。
Here, in this embodiment, as shown in FIG. 9, the fixed reflective film 54 is connected to the sine wave generating circuit 11 of the capacitance detection circuit 10 via the first measurement extraction electrode 565, and the movable reflective film 55 is the first. The second measurement lead electrode 566 is connected to the operational amplifier 12 of the capacitance detection circuit 10. Therefore, the fixed reflective film 54 and the movable reflective film 55 can be regarded as Cx of the first embodiment, and the detection signal V S corresponding to the electrostatic capacitances of the fixed reflective film 54 and the movable reflective film 55 is sampled and held. It can be output from the circuit 14.
Thus, the control circuit unit 30, based on the detection signal V S, the electrostatic capacitance of the fixed reflection film 54 and the movable reflective layer 55 can be accurately calculated, precise gap distance of the gap G1 between the reflective films Can be calculated.

[制御回路部の構成]
図8に戻り、分光測定装置20の制御回路部30について、説明する。
制御回路部30は、本発明の測定制御部に相当し、例えばCPUやメモリー等が組み合わされることで構成され、分光測定装置20の全体動作を制御する。この制御回路部30は、図8に示すように、ギャップ測定部31と、フィルター駆動部32と、光測定部33と、を備えている。また、制御回路部30は、各種データを記憶する記憶部34を備える。この記憶部34には、波長可変干渉フィルター5の静電アクチュエーター56に印加する駆動電圧に対する、波長可変干渉フィルター5を透過する光の波長の関係を示すV−λデータが記憶される。また、記憶部34は、容量検出回路10により取得された検出信号Vに対する反射膜間ギャップG1のギャップ量の関係を示すV−Gデータが記憶される。なお、V−Gデータとして、更に、反射膜間ギャップG1のギャップ量に対して、波長可変干渉フィルター5を透過する光の波長が記憶されていてもよい。
[Configuration of control circuit section]
Returning to FIG. 8, the control circuit unit 30 of the spectrometer 20 will be described.
The control circuit unit 30 corresponds to the measurement control unit of the present invention, and is configured by combining, for example, a CPU and a memory, and controls the overall operation of the spectroscopic measurement apparatus 20. As shown in FIG. 8, the control circuit unit 30 includes a gap measuring unit 31, a filter driving unit 32, and a light measuring unit 33. In addition, the control circuit unit 30 includes a storage unit 34 that stores various data. The storage unit 34 stores V-λ data indicating the relationship of the wavelength of light transmitted through the wavelength variable interference filter 5 with respect to the drive voltage applied to the electrostatic actuator 56 of the wavelength variable interference filter 5. In addition, the storage unit 34 stores V S -G data indicating the relationship of the gap amount of the inter-reflective film gap G 1 with respect to the detection signal V S acquired by the capacitance detection circuit 10. As the V S -G data, the wavelength of light transmitted through the wavelength variable interference filter 5 may be stored with respect to the gap amount of the inter-reflection film gap G1.

ギャップ測定部31は、容量検出回路10のサンプルアンドホールド回路14から検出信号Vが入力されると、記憶部34に記憶されるV−Gデータに基づいて、反射膜間ギャップG1のギャップ量を測定する。
なお、本実施形態では、ギャップ測定部31は、記憶部34に予め記憶されたV−Gデータに基づいて反射膜間ギャップG1のギャップ量を測定する例を示すが、例えば、上記第一実施形態の測定処理部16のように、(1)式及び検出信号Vから、固定反射膜54及び可動反射膜55により構成されるキャパシターのインピーダンス及び静電容量を算出し、静電容量から反射膜間ギャップG1のギャップ量を算出してもよい。
When the detection signal V S is input from the sample and hold circuit 14 of the capacitance detection circuit 10, the gap measurement unit 31 receives the gap between the reflection films G 1 based on the V S -G data stored in the storage unit 34. Measure the amount.
In the present embodiment, the gap measuring unit 31 shows an example in which the gap amount of the inter-reflective film gap G1 is measured based on the V S -G data stored in advance in the storage unit 34. As in the measurement processing unit 16 of the embodiment, the impedance and capacitance of the capacitor constituted by the fixed reflective film 54 and the movable reflective film 55 are calculated from the equation (1) and the detection signal V S , and are calculated from the capacitance. You may calculate the gap amount of the gap G1 between reflection films.

フィルター駆動部32は、波長可変干渉フィルター5により取り出す光の波長を設定するための駆動電圧を設定し、電圧制御回路25を制御して、駆動電圧を波長可変干渉フィルター5の静電アクチュエーター56に印加する。
ここで、フィルター駆動部32は、記憶部34に記憶されたV−λデータから、測定対象である目的波長に対応した駆動電圧を読み出し、読み出した駆動電圧を静電アクチュエーター56に印加する。
また、フィルター駆動部32は、ギャップ測定部31により反射膜間ギャップG1のギャップ量が測定されると、設定した電圧に対する反射膜間ギャップG1のギャップ量と、測定により得られた反射膜間ギャップG1のギャップ量との差分値を算出する。そして、フィルター駆動部32は、算出した差分値が所定の閾値以上である場合は、ギャップ測定部31により測定された反射膜間ギャップG1のギャップ量に基づいて、所望の波長の光が透過される状態となるよう、静電アクチュエーター56に印加する電圧を補正する。
The filter drive unit 32 sets a drive voltage for setting the wavelength of light extracted by the wavelength variable interference filter 5, controls the voltage control circuit 25, and sends the drive voltage to the electrostatic actuator 56 of the wavelength variable interference filter 5. Apply.
Here, the filter drive unit 32 reads the drive voltage corresponding to the target wavelength to be measured from the V-λ data stored in the storage unit 34, and applies the read drive voltage to the electrostatic actuator 56.
Further, when the gap measuring unit 31 measures the gap amount of the inter-reflective film gap G1, the filter driving unit 32 determines the gap amount of the inter-reflective film gap G1 with respect to the set voltage and the inter-reflective film gap obtained by the measurement. A difference value from the gap amount of G1 is calculated. When the calculated difference value is equal to or greater than the predetermined threshold, the filter driving unit 32 transmits light having a desired wavelength based on the gap amount of the inter-reflection film gap G1 measured by the gap measuring unit 31. The voltage to be applied to the electrostatic actuator 56 is corrected so as to be in the state.

光測定部33は、ディテクター21から受光された光の光量を測定し、測定結果を記憶部34に記憶する。また、光測定部33は、記憶部34に記憶された測定結果に基づいて、測定対象光のスペクトル特性を測定する。   The light measurement unit 33 measures the amount of light received from the detector 21 and stores the measurement result in the storage unit 34. The light measurement unit 33 measures the spectral characteristics of the measurement target light based on the measurement result stored in the storage unit 34.

[第二実施形態の作用効果]
本実施形態の分光測定装置20は、波長可変干渉フィルター5の固定反射膜54が容量検出回路10の正弦波生成回路11に接続され、可動反射膜55が容量検出回路10のオペアンプ12に接続される。したがって、上述した発明と同様に、容量検出回路10により、固定反射膜54及び可動反射膜55を検出対象キャパシターとして、静電容量に対応した正確な検出信号Vを制御回路部30に出力することができる。
したがって、ギャップ測定部31は、反射膜間ギャップG1のギャップ量を精度よく測定することができ、測定されたギャップ量に基づいて、静電アクチュエーター56に印加する電圧を補正することで、測定対象光から所望波長の光を精度よく取り出すことができる。
[Operational effects of the second embodiment]
In the spectroscopic measurement apparatus 20 of this embodiment, the fixed reflection film 54 of the wavelength variable interference filter 5 is connected to the sine wave generation circuit 11 of the capacitance detection circuit 10, and the movable reflection film 55 is connected to the operational amplifier 12 of the capacitance detection circuit 10. The Therefore, similarly to the above-described invention, the capacitance detection circuit 10 outputs the accurate detection signal V S corresponding to the capacitance to the control circuit unit 30 with the fixed reflection film 54 and the movable reflection film 55 as the detection target capacitors. be able to.
Therefore, the gap measuring unit 31 can accurately measure the gap amount of the inter-reflection film gap G1, and corrects the voltage applied to the electrostatic actuator 56 based on the measured gap amount, thereby measuring the object to be measured. Light having a desired wavelength can be extracted from light with high accuracy.

〔他の実施形態〕
なお、本発明は前述の実施形態に限定されるものではなく、本発明の目的を達成できる範囲での変形、改良等は本発明に含まれるものである。
例えば、上記第二実施形態では、導電性の固定反射膜54及び可動反射膜55を検出対象キャパシターCxとして、反射膜間ギャップG1のギャップ量を測定したが、これに限定されない。
例えば、固定反射膜54及び可動反射膜55として、例えば高屈折層をTiO、低屈折層をSiOとした誘電体多層膜を用いる構成とする場合では、図12に示すように、別途静電容量測定用の電極を備える構成としてもよい。
図12は、他の実施形態における波長可変干渉フィルターの平面図である。
図12に示すように、固定基板51は、反射膜設置部512上で、固定反射膜54の外周側に、例えば円環状の第一測定電極567が設けられる。この第一測定電極567は、頂点C3に向かって延出する第一測定用引出電極567Pを備え、第一測定用引出電極567Pの延出先端部が容量検出回路10の正弦波生成回路11に接続される。
また、可動基板52は、可動反射膜55及び可動電極562の間に、第一測定電極567に対向する第二測定電極568を備える。この第二測定電極568は、頂点C4に向かって延出する第二測定用引出電極568Pを備え、第二測定用引出電極568Pの延出先端部が容量検出回路10のオペアンプ12に接続される。
このような構成であっても、上記第二実施形態と同様に、第一測定電極567及び第二測定電極568を検出対象キャパシターCxとして、静電容量に応じた正確な検出信号Vを検出することができ、反射膜間ギャップG1の正確なギャップ量を測定することができる。
[Other Embodiments]
It should be noted that the present invention is not limited to the above-described embodiments, and modifications, improvements, and the like within the scope that can achieve the object of the present invention are included in the present invention.
For example, in the second embodiment, the conductive fixed reflection film 54 and the movable reflection film 55 are used as the detection target capacitor Cx, and the gap amount of the gap G1 between the reflection films is measured. However, the present invention is not limited to this.
For example, in the case of using a dielectric multilayer film in which, for example, the high refractive layer is TiO 2 and the low refractive layer is SiO 2 as the fixed reflective film 54 and the movable reflective film 55, as shown in FIG. It is good also as a structure provided with the electrode for an electric capacity measurement.
FIG. 12 is a plan view of a wavelength tunable interference filter according to another embodiment.
As shown in FIG. 12, the fixed substrate 51 is provided with, for example, an annular first measurement electrode 567 on the outer peripheral side of the fixed reflection film 54 on the reflection film installation portion 512. The first measurement electrode 567 includes a first measurement extraction electrode 567P extending toward the apex C3, and the extension tip of the first measurement extraction electrode 567P is connected to the sine wave generation circuit 11 of the capacitance detection circuit 10. Connected.
In addition, the movable substrate 52 includes a second measurement electrode 568 facing the first measurement electrode 567 between the movable reflective film 55 and the movable electrode 562. The second measurement electrode 568 includes a second measurement lead electrode 568P extending toward the vertex C4, and the extension tip of the second measurement lead electrode 568P is connected to the operational amplifier 12 of the capacitance detection circuit 10. .
Even in such a configuration, as in the second embodiment, the first measurement electrode 567 and the second measurement electrode 568 are used as the detection target capacitor Cx, and an accurate detection signal V S corresponding to the capacitance is detected. Therefore, the accurate gap amount of the gap G1 between the reflection films can be measured.

また、上記第二実施形態において、第一測定用引出電極565が正弦波生成回路11に接続され、第二測定用引出電極566がオペアンプ12に接続される例を示したが、これに限定されない。例えば、第一測定用引出電極565がオペアンプ12に接続され、第二測定用引出電極566が正弦波生成回路11に接続される構成としてもよい。図12に示す波長可変干渉フィルター5も同様であり、第一測定用引出電極567Pが正弦波生成回路11に接続され、第二測定用引出電極568Pがオペアンプ12に接続されていてもよい。   In the second embodiment, the example in which the first measurement extraction electrode 565 is connected to the sine wave generation circuit 11 and the second measurement extraction electrode 566 is connected to the operational amplifier 12 is shown, but the present invention is not limited to this. . For example, the first measurement extraction electrode 565 may be connected to the operational amplifier 12 and the second measurement extraction electrode 566 may be connected to the sine wave generation circuit 11. The wavelength variable interference filter 5 shown in FIG. 12 is the same, and the first measurement extraction electrode 567P may be connected to the sine wave generation circuit 11, and the second measurement extraction electrode 568P may be connected to the operational amplifier 12.

上記実施形態において、正弦波発生回路11として水晶発振回路を例示したがこれに限定されない。例えば水晶振動子11Bの代わりに、セラミック振動子を用いたセラミック発振回路を用いてもよい。
また、図13及び図14に示すような他の発振回路を用いてもよい。
図13に示す例は、RC発振を用いたウィーンブリッジ発振回路である。また、図14に示す例は、マイコン等により所望の周期とデューティー比の矩形波(矩形入力信号VIR)を生成し、ローパスフィルターによって高調波成分をカットすることで正弦波の入力信号Vを生成する例である。
In the above embodiment, the crystal oscillation circuit is illustrated as the sine wave generation circuit 11, but the present invention is not limited to this. For example, a ceramic oscillation circuit using a ceramic resonator may be used instead of the crystal resonator 11B.
Further, other oscillation circuits as shown in FIGS. 13 and 14 may be used.
The example shown in FIG. 13 is a Wien bridge oscillation circuit using RC oscillation. Further, in the example shown in FIG. 14, a rectangular wave (rectangular input signal V IR ) having a desired cycle and duty ratio is generated by a microcomputer or the like, and a harmonic component is cut by a low-pass filter, whereby a sine wave input signal V I Is an example of generating.

また、上記実施形態では、正弦波発生回路11としてインバーター11Aを有する水晶発振回路を用いることで、入力信号Vの立下りタイミングで、ローレベルからハイレベルに立ち上がる矩形入力信号VIRが出力される例を示したが、これに限定されない。例えば、生成された入力信号Vを、A/D変換回路等により矩形入力信号VIRに変換する場合では、入力信号Vの立ち上がりタイミングでローレベルからハイレベルに立ち上がる矩形入力信号VIRが形成される。
この場合、第一ワンショット回路15Aは、矩形入力信号VIRの立下りタイミングに同期して、ローレベルからハイレベルに立ち上がる第一タイミング信号Vh0を生成すればよい。
In the above embodiment, by using a crystal oscillator circuit having an inverter 11A as a sine wave generating circuit 11, at the fall timing of the input signal V I, a rectangular input signal V IR rising from a low level to a high level is output However, the present invention is not limited to this. For example, the generated input signal V I, in the case of converting to a rectangular input signal V IR by the A / D conversion circuit and the like, a rectangular input signal V IR rising from a low level to a high level at the rising edge of the input signal V I It is formed.
In this case, the first one-shot circuit 15A in synchronization with the falling edge of the rectangular input signal V IR, may generate a first timing signal V h0 which rises from the low level to the high level.

上記実施形態では、タイミング信号生成回路15が、第一ワンショット回路15A及び第二ワンショット回路15Bにより構成される例を示したが、これに限定されない。例えば、3つ以上のワンショット回路により出力信号Vを取得するためのタイミング信号を生成してもよい。 In the above-described embodiment, the example in which the timing signal generation circuit 15 includes the first one-shot circuit 15A and the second one-shot circuit 15B has been described, but the present invention is not limited to this. For example, a timing signal for acquiring the output signal V 0 may be generated by three or more one-shot circuits.

第二実施形態において、波長可変干渉フィルター5のギャップ量変更部として、電圧印加により反射膜間ギャップG1のギャップ量を変動させる静電アクチュエーター56を例示したが、これに限定されない。
例えば、固定電極561の代わりに、第一誘電コイルを配置し、可動電極562の代わりに第二誘電コイルまたは永久磁石を配置した誘電アクチュエーターを用いる構成としてもよい。
更に、静電アクチュエーター56の代わりに圧電アクチュエーターを用いる構成としてもよい。この場合、例えば保持部522に下部電極層、圧電膜、及び上部電極層を積層配置させ、下部電極層及び上部電極層の間に印加する電圧を入力値として可変させることで、圧電膜を伸縮させて保持部522を撓ませることができる。
In the second embodiment, the electrostatic actuator 56 that varies the gap amount of the inter-reflective film gap G1 by applying a voltage is exemplified as the gap amount changing unit of the wavelength tunable interference filter 5. However, the present invention is not limited to this.
For example, instead of the fixed electrode 561, a first dielectric coil may be arranged, and a dielectric actuator in which a second dielectric coil or a permanent magnet is arranged instead of the movable electrode 562 may be used.
Further, a piezoelectric actuator may be used instead of the electrostatic actuator 56. In this case, for example, the lower electrode layer, the piezoelectric film, and the upper electrode layer are stacked on the holding unit 522, and the voltage applied between the lower electrode layer and the upper electrode layer is varied as an input value, thereby expanding and contracting the piezoelectric film. Thus, the holding portion 522 can be bent.

また、本発明の電子機器として、第二実施形態において分光測定装置20を例示したが、その他、様々な分野により本発明の光学モジュール、電子機器を用いることができる。
例えば、特定物質の存在を検出するための光ベースのシステムとして用いることができる。このようなシステムとしては、例えば、本発明の波長可変干渉フィルターを用いた分光計測方式を採用して特定ガスを高感度検出する車載用ガス漏れ検出器や、呼気検査用の光音響希ガス検出器等のガス検出装置を例示できる。
このようなガス検出装置の一例を以下に図面に基づいて説明する。
Moreover, although the spectroscopic measurement apparatus 20 was illustrated in 2nd embodiment as an electronic device of this invention, the optical module and electronic device of this invention can be used by various field | areas.
For example, it can be used as a light-based system for detecting the presence of a specific substance. As such a system, for example, an in-vehicle gas leak detector that detects a specific gas with high sensitivity by adopting a spectroscopic measurement method using the variable wavelength interference filter of the present invention, or a photoacoustic rare gas detection for a breath test. A gas detection device such as a vessel can be exemplified.
An example of such a gas detection device will be described below with reference to the drawings.

図15は、光学モジュールを備えたガス検出装置の一例を示す概略図である。
図16は、図15のガス検出装置の制御系の構成を示すブロック図である。
このガス検出装置100は、図15に示すように、センサーチップ110と、吸引口120A、吸引流路120B、排出流路120C、及び排出口120Dを備えた流路120と、本体部130と、を備えて構成されている。
本体部130は、流路120を着脱可能な開口を有するセンサー部カバー131、排出手段133、筐体134、光学部135、フィルター136、波長可変干渉フィルター5、及び受光素子137等を含む検出装置と、検出された信号を処理し、検出部を制御する制御部138、電力を供給する電力供給部139等から構成されている。なお、波長可変干渉フィルター5としては、図12に示すようなフィルターを用いてもよい。また、光学部135は、光を射出する光源135Aと、光源135Aから入射された光をセンサーチップ110側に反射し、センサーチップ側から入射された光を受光素子137側に透過するビームスプリッター135Bと、レンズ135C,135D,135Eと、により構成されている。
また、図16に示すように、ガス検出装置100の表面には、操作パネル140、表示部141、外部とのインターフェイスのための接続部142、電力供給部139が設けられている。電力供給部139が二次電池の場合には、充電のための接続部143を備えてもよい。
更に、ガス検出装置100の制御部138は、図16に示すように、CPU等により構成された信号処理部144、光源135Aを制御するための光源ドライバー回路145、波長可変干渉フィルター5を制御するための電圧制御部146、受光素子137からの信号を受信する受光回路147、センサーチップ110のコードを読み取り、センサーチップ110の有無を検出するセンサーチップ検出器148からの信号を受信するセンサーチップ検出回路149、及び排出手段133を制御する排出ドライバー回路150、波長可変干渉フィルター5の固定反射膜54及び可動反射膜55(図12に示す波長可変干渉フィルター5を用いる場合は、第一測定電極567及び第二測定電極568)の静電容量を検出する容量検出回路10などを備えている。
FIG. 15 is a schematic diagram illustrating an example of a gas detection device including an optical module.
FIG. 16 is a block diagram showing a configuration of a control system of the gas detection device of FIG.
As illustrated in FIG. 15, the gas detection device 100 includes a sensor chip 110, a flow path 120 including a suction port 120A, a suction flow path 120B, a discharge flow path 120C, and a discharge port 120D, a main body 130, It is configured with.
The main body unit 130 includes a sensor unit cover 131 having an opening through which the flow channel 120 can be attached, a discharge unit 133, a housing 134, an optical unit 135, a filter 136, a wavelength variable interference filter 5, a light receiving element 137, and the like. And a control unit 138 that processes the detected signal and controls the detection unit, a power supply unit 139 that supplies power, and the like. Note that a filter as shown in FIG. 12 may be used as the variable wavelength interference filter 5. The optical unit 135 emits light, and a beam splitter 135B that reflects light incident from the light source 135A toward the sensor chip 110 and transmits light incident from the sensor chip toward the light receiving element 137. And lenses 135C, 135D, and 135E.
As shown in FIG. 16, an operation panel 140, a display unit 141, a connection unit 142 for interfacing with the outside, and a power supply unit 139 are provided on the surface of the gas detection device 100. When the power supply unit 139 is a secondary battery, a connection unit 143 for charging may be provided.
Further, as shown in FIG. 16, the control unit 138 of the gas detection apparatus 100 controls a signal processing unit 144 configured by a CPU or the like, a light source driver circuit 145 for controlling the light source 135A, and the variable wavelength interference filter 5. Voltage control unit 146, a light receiving circuit 147 that receives a signal from the light receiving element 137, a sensor chip detection that reads a code of the sensor chip 110 and receives a signal from a sensor chip detector 148 that detects the presence or absence of the sensor chip 110 The circuit 149, the discharge driver circuit 150 for controlling the discharge means 133, the fixed reflection film 54 and the movable reflection film 55 of the wavelength variable interference filter 5 (if the wavelength variable interference filter 5 shown in FIG. 12 is used, the first measurement electrode 567 And the capacitance detection circuit 10 for detecting the capacitance of the second measurement electrode 568), etc. It is provided.

次に、上記のようなガス検出装置100の動作について、以下に説明する。
本体部130の上部のセンサー部カバー131の内部には、センサーチップ検出器148が設けられており、このセンサーチップ検出器148でセンサーチップ110の有無が検出される。信号処理部144は、センサーチップ検出器148からの検出信号を検出すると、センサーチップ110が装着された状態であると判断し、表示部141へ検出動作を実施可能な旨を表示させる表示信号を出す。
Next, operation | movement of the above gas detection apparatuses 100 is demonstrated below.
A sensor chip detector 148 is provided inside the sensor unit cover 131 at the upper part of the main body unit 130, and the sensor chip detector 148 detects the presence or absence of the sensor chip 110. When the signal processing unit 144 detects the detection signal from the sensor chip detector 148, the signal processing unit 144 determines that the sensor chip 110 is attached, and displays a display signal for displaying on the display unit 141 that the detection operation can be performed. put out.

そして、例えば利用者により操作パネル140が操作され、操作パネル140から検出処理を開始する旨の指示信号が信号処理部144へ出力されると、まず、信号処理部144は、光源ドライバー回路145に光源作動の信号を出力して光源135Aを作動させる。光源135Aが駆動されると、光源135Aから単一波長で直線偏光の安定したレーザー光が射出される。また、光源135Aには、温度センサーや光量センサーが内蔵されており、その情報が信号処理部144へ出力される。そして、信号処理部144は、光源135Aから入力された温度や光量に基づいて、光源135Aが安定動作していると判断すると、排出ドライバー回路150を制御して排出手段133を作動させる。これにより、検出すべき標的物質(ガス分子)を含んだ気体試料が、吸引口120Aから、吸引流路120B、センサーチップ110内、排出流路120C、排出口120Dへと誘導される。なお、吸引口120Aには、除塵フィルター120A1が設けられ、比較的大きい粉塵や一部の水蒸気などが除去される。   For example, when the operation panel 140 is operated by the user and an instruction signal to start the detection process is output from the operation panel 140 to the signal processing unit 144, the signal processing unit 144 first sends the signal processing unit 144 to the light source driver circuit 145. A light source activation signal is output to activate the light source 135A. When the light source 135A is driven, laser light having a single wavelength and stable linear polarization is emitted from the light source 135A. The light source 135A includes a temperature sensor and a light amount sensor, and the information is output to the signal processing unit 144. When the signal processing unit 144 determines that the light source 135A is stably operating based on the temperature and light quantity input from the light source 135A, the signal processing unit 144 controls the discharge driver circuit 150 to operate the discharge unit 133. Thereby, the gas sample containing the target substance (gas molecule) to be detected is guided from the suction port 120A to the suction channel 120B, the sensor chip 110, the discharge channel 120C, and the discharge port 120D. The suction port 120A is provided with a dust removal filter 120A1 to remove relatively large dust, some water vapor, and the like.

また、センサーチップ110は、金属ナノ構造体が複数組み込まれ、局在表面プラズモン共鳴を利用したセンサーである。このようなセンサーチップ110では、レーザー光により金属ナノ構造体間で増強電場が形成され、この増強電場内にガス分子が入り込むと、分子振動の情報を含んだラマン散乱光、及びレイリー散乱光が発生する。
これらのレイリー散乱光やラマン散乱光は、光学部135を通ってフィルター136に入射し、フィルター136によりレイリー散乱光が分離され、ラマン散乱光が波長可変干渉フィルター5に入射する。そして、信号処理部144は、電圧制御部146を制御し、波長可変干渉フィルター5に印加する電圧を調整し、検出対象となるガス分子に対応したラマン散乱光を波長可変干渉フィルター5で分光させる。この時、信号処理部144は、容量検出回路10で検出された検出信号Vに基づいて、反射膜間ギャップG1のギャップ量を測定し、電圧制御部146は、静電アクチュエーター56に印加する電圧を適正な値に補正する。そして、分光した光が受光素子137で受光されると、受光量に応じた受光信号が受光回路147を介して信号処理部144に出力される。
信号処理部144は、上記のようにして得られた検出対象となるガス分子に対応したラマン散乱光のスペクトルデータと、ROMに格納されているデータとを比較し、目的のガス分子か否かを判定し、物質の特定をする。また、信号処理部144は、表示部141にその結果情報を表示させたり、接続部142から外部へ出力したりする。
The sensor chip 110 is a sensor that incorporates a plurality of metal nanostructures and uses localized surface plasmon resonance. In such a sensor chip 110, an enhanced electric field is formed between the metal nanostructures by the laser light, and when gas molecules enter the enhanced electric field, Raman scattered light and Rayleigh scattered light including information on molecular vibrations are generated. Occur.
These Rayleigh scattered light and Raman scattered light enter the filter 136 through the optical unit 135, and the Rayleigh scattered light is separated by the filter 136, and the Raman scattered light enters the wavelength variable interference filter 5. Then, the signal processing unit 144 controls the voltage control unit 146 to adjust the voltage applied to the wavelength variable interference filter 5, and causes the wavelength variable interference filter 5 to split the Raman scattered light corresponding to the gas molecule to be detected. . At this time, the signal processing unit 144 measures the gap amount of the gap G1 between the reflection films based on the detection signal V S detected by the capacitance detection circuit 10, and the voltage control unit 146 applies it to the electrostatic actuator 56. Correct the voltage to an appropriate value. When the dispersed light is received by the light receiving element 137, a light reception signal corresponding to the amount of received light is output to the signal processing unit 144 via the light receiving circuit 147.
The signal processing unit 144 compares the spectrum data of the Raman scattered light corresponding to the gas molecule to be detected obtained as described above and the data stored in the ROM, and determines whether or not the target gas molecule is the target gas molecule. To determine the substance. Further, the signal processing unit 144 displays the result information on the display unit 141 or outputs the result information from the connection unit 142 to the outside.

なお、上記図15及び図16において、ラマン散乱光を波長可変干渉フィルター5により分光して分光されたラマン散乱光からガス検出を行うガス検出装置100を例示したが、ガス検出装置として、ガス固有の吸光度を検出することでガス種別を特定するガス検出装置として用いてもよい。この場合、センサー内部にガスを流入させ、入射光のうちガスにて吸収された光を検出するガスセンサーを本発明の光学モジュールとして用いる。そして、このようなガスセンサーによりセンサー内に流入されたガスを分析、判別するガス検出装置を本発明の電子機器とする。このような構成でも、波長可変干渉フィルターを用いてガスの成分を検出することができる。   15 and 16 exemplify the gas detection device 100 that performs gas detection from the Raman scattered light obtained by spectrally dividing the Raman scattered light by the wavelength variable interference filter 5. You may use as a gas detection apparatus which specifies gas classification by detecting the light absorbency of. In this case, a gas sensor that allows gas to flow into the sensor and detects light absorbed by the gas in the incident light is used as the optical module of the present invention. A gas detection device that analyzes and discriminates the gas flowing into the sensor by such a gas sensor is an electronic apparatus of the present invention. Even in such a configuration, it is possible to detect a gas component using the wavelength variable interference filter.

また、特定物質の存在を検出するためのシステムとして、上記のようなガスの検出に限られず、近赤外線分光による糖類の非侵襲的測定装置や、食物や生体、鉱物等の情報の非侵襲的測定装置等の、物質成分分析装置を例示できる。
以下に、上記物質成分分析装置の一例として、食物分析装置を説明する。
In addition, the system for detecting the presence of a specific substance is not limited to the detection of the gas as described above, but a non-invasive measuring device for saccharides by near-infrared spectroscopy, and non-invasive information on food, living body, minerals, etc. A substance component analyzer such as a measuring device can be exemplified.
Hereinafter, a food analyzer will be described as an example of the substance component analyzer.

図17は、波長可変干渉フィルター5が組み込まれた光学モジュールを利用した電子機器の一例である食物分析装置の概略構成を示す図である。
この食物分析装置200は、図17に示すように、検出器210(光学モジュール)と、制御部220と、表示部230と、を備えている。検出器210は、光を射出する光源211と、測定対象物からの光が導入される撮像レンズ212と、撮像レンズ212から導入された光を分光する波長可変干渉フィルター5と、分光された光を検出する撮像部213(検出部)と、容量検出回路10と、を備えている。なお、波長可変干渉フィルター5としては、図12に示すようなフィルターを用いてもよい。
また、制御部220は、光源211の点灯・消灯制御、点灯時の明るさ制御を実施する光源制御部221と、波長可変干渉フィルター5を制御する電圧制御部222と、撮像部213を制御し、撮像部213で撮像された分光画像を取得する検出制御部223と、信号処理部224と、記憶部225と、を備えている。
FIG. 17 is a diagram illustrating a schematic configuration of a food analysis apparatus which is an example of an electronic apparatus using an optical module in which the variable wavelength interference filter 5 is incorporated.
As shown in FIG. 17, the food analysis apparatus 200 includes a detector 210 (optical module), a control unit 220, and a display unit 230. The detector 210 includes a light source 211 that emits light, an imaging lens 212 into which light from the measurement target is introduced, a wavelength variable interference filter 5 that splits the light introduced from the imaging lens 212, and the dispersed light. An image pickup unit 213 (detection unit) for detecting the capacitance, and a capacitance detection circuit 10. Note that a filter as shown in FIG. 12 may be used as the variable wavelength interference filter 5.
In addition, the control unit 220 controls the light source control unit 221 that controls the turning on / off of the light source 211 and the brightness control at the time of lighting, the voltage control unit 222 that controls the wavelength variable interference filter 5, and the imaging unit 213. , A detection control unit 223 that acquires a spectral image captured by the imaging unit 213, a signal processing unit 224, and a storage unit 225.

この食物分析装置200は、システムを駆動させると、光源制御部221により光源211が制御されて、光源211から測定対象物に光が照射される。そして、測定対象物で反射された光は、撮像レンズ212を通って波長可変干渉フィルター5に入射する。波長可変干渉フィルター5は電圧制御部222の制御により所望の波長を分光可能な電圧が印加されており、分光された光が、例えばCCDカメラ等により構成される撮像部213で撮像される。この時、信号処理部224は、容量検出回路10で検出された検出信号Vに基づいて、反射膜間ギャップG1のギャップ量を測定し、電圧制御部146は、静電アクチュエーター56に印加する電圧を適正な値に補正する。また、撮像された光は分光画像として、記憶部225に蓄積される。また、信号処理部224は、電圧制御部222を制御して波長可変干渉フィルター5に印加する電圧値を変化させ、各波長に対する分光画像を取得する。 In the food analyzer 200, when the system is driven, the light source 211 is controlled by the light source control unit 221, and light is irradiated from the light source 211 to the measurement object. Then, the light reflected by the measurement object enters the wavelength variable interference filter 5 through the imaging lens 212. The variable wavelength interference filter 5 is applied with a voltage capable of dispersing a desired wavelength under the control of the voltage control unit 222, and the dispersed light is imaged by an imaging unit 213 configured by, for example, a CCD camera or the like. At this time, the signal processing unit 224 measures the gap amount of the inter-reflective film gap G1 based on the detection signal V S detected by the capacitance detection circuit 10, and the voltage control unit 146 applies it to the electrostatic actuator 56. Correct the voltage to an appropriate value. The captured light is accumulated in the storage unit 225 as a spectral image. In addition, the signal processing unit 224 controls the voltage control unit 222 to change the voltage value applied to the wavelength tunable interference filter 5, and acquires a spectral image for each wavelength.

そして、信号処理部224は、記憶部225に蓄積された各画像における各画素のデータを演算処理し、各画素におけるスペクトルを求める。また、記憶部225には、例えばスペクトルに対する食物の成分に関する情報が記憶されており、信号処理部224は、求めたスペクトルのデータを、記憶部225に記憶された食物に関する情報を基に分析し、検出対象に含まれる食物成分、及びその含有量を求める。また、得られた食物成分及び含有量から、食物カロリーや鮮度等をも算出することができる。更に、画像内のスペクトル分布を分析することで、検査対象の食物の中で鮮度が低下している部分の抽出等をも実施することができ、更には、食物内に含まれる異物等の検出をも実施することができる。
そして、信号処理部224は、上述のようにして得られた検査対象の食物の成分や含有量、カロリーや鮮度等の情報を表示部230に表示させる処理をする。
Then, the signal processing unit 224 performs arithmetic processing on the data of each pixel in each image accumulated in the storage unit 225, and obtains a spectrum at each pixel. In addition, the storage unit 225 stores, for example, information related to food components with respect to the spectrum, and the signal processing unit 224 analyzes the obtained spectrum data based on the information related to food stored in the storage unit 225. The food component contained in the detection target and its content are obtained. Moreover, a food calorie, a freshness, etc. are computable from the obtained food component and content. Furthermore, by analyzing the spectral distribution in the image, it is possible to extract a portion of the food to be inspected that has reduced freshness, and to detect foreign substances contained in the food. Can also be implemented.
Then, the signal processing unit 224 performs processing for causing the display unit 230 to display information such as the components and contents of the food to be examined, the calories, and the freshness obtained as described above.

また、図17において、食物分析装置200の例を示すが、略同様の構成により、上述したようなその他の情報の非侵襲的測定装置としても利用することができる。例えば、血液等の体液成分の測定、分析等、生体成分を分析する生体分析装置として用いることができる。このような生体分析装置としては、例えば血液等の体液成分を測定する装置として、エチルアルコールを検知する装置とすれば、運転者の飲酒状態を検出する酒気帯び運転防止装置として用いることができる。また、このような生体分析装置を備えた電子内視鏡システムとしても用いることができる。
更には、鉱物の成分分析を実施する鉱物分析装置としても用いることができる。
Moreover, although the example of the food analysis apparatus 200 is shown in FIG. 17, it can utilize also as a noninvasive measurement apparatus of the other information as mentioned above by the substantially similar structure. For example, it can be used as a biological analyzer for analyzing biological components such as measurement and analysis of body fluid components such as blood. As such a bioanalytical device, for example, a device that detects ethyl alcohol as a device that measures a body fluid component such as blood, it can be used as a drunk driving prevention device that detects the drunk state of the driver. Further, it can also be used as an electronic endoscope system provided with such a biological analyzer.
Furthermore, it can also be used as a mineral analyzer for performing component analysis of minerals.

更には、本発明の光学モジュール、電子機器としては、以下のような装置に適用することができる。
例えば、各波長の光の強度を経時的に変化させることで、各波長の光でデータを伝送させることも可能であり、この場合、光学モジュールに設けられた波長可変干渉フィルターにより特定波長の光を分光し、受光部で受光させることで、特定波長の光により伝送されるデータを抽出することができ、このようなデータ抽出用光学モジュールを備えた電子機器により、各波長の光のデータを処理することで、光通信を実施することもできる。この時、容量検出回路により反射膜間ギャップのギャップ量を測定し、所望の波長の光が透過されるように補正することで、データ通信エラー等の発生を抑制することができる。
Furthermore, the optical module and electronic apparatus of the present invention can be applied to the following apparatuses.
For example, it is possible to transmit data using light of each wavelength by changing the intensity of light of each wavelength over time. In this case, light of a specific wavelength is transmitted by a wavelength variable interference filter provided in the optical module. The data transmitted by the light of the specific wavelength can be extracted by separating the light and receiving the light at the light receiving unit, and the electronic data having such a data extraction optical module can be used to extract the light data of each wavelength. By processing, optical communication can be performed. At this time, by measuring the gap amount of the gap between the reflection films by the capacitance detection circuit and correcting the gap so that light having a desired wavelength is transmitted, the occurrence of a data communication error or the like can be suppressed.

また、電子機器としては、本発明の波長可変干渉フィルターにより光を分光することで、分光画像を撮像する分光カメラ、分光分析機などにも適用できる。このような分光カメラの一例として、波長可変干渉フィルターを内蔵した赤外線カメラが挙げられる。
図18は、分光カメラの概略構成を示す模式図である。分光カメラ300は、図18に示すように、カメラ本体310と、撮像レンズユニット320と、撮像部330(検出部)とを備えている。
カメラ本体310は、利用者により把持、操作される部分である。
撮像レンズユニット320は、カメラ本体310に設けられ、入射した画像光を撮像部330に導光する。また、この撮像レンズユニット320は、図18に示すように、対物レンズ321、結像レンズ322、及びこれらのレンズ間に設けられた波長可変干渉フィルター5を備えて構成され、図示略の容量検出回路により反射膜間ギャップG1のギャップ量を測定可能に構成されている。なお、波長可変干渉フィルター5としては、図12に示すようなフィルターを用いてもよい。
撮像部330は、受光素子により構成され、撮像レンズユニット320により導光された画像光を撮像する。
このような分光カメラ300では、波長可変干渉フィルター5により撮像対象となる波長の光を透過させることで、所望波長の光の分光画像を撮像することができる。
Further, the electronic apparatus can be applied to a spectroscopic camera, a spectroscopic analyzer, or the like that captures a spectroscopic image by dispersing light with the variable wavelength interference filter of the present invention. An example of such a spectroscopic camera is an infrared camera incorporating a wavelength variable interference filter.
FIG. 18 is a schematic diagram showing a schematic configuration of the spectroscopic camera. As shown in FIG. 18, the spectroscopic camera 300 includes a camera body 310, an imaging lens unit 320, and an imaging unit 330 (detection unit).
The camera body 310 is a part that is gripped and operated by a user.
The imaging lens unit 320 is provided in the camera body 310 and guides incident image light to the imaging unit 330. As shown in FIG. 18, the imaging lens unit 320 includes an objective lens 321, an imaging lens 322, and a wavelength variable interference filter 5 provided between these lenses. The circuit is configured such that the gap amount of the gap G1 between the reflection films can be measured. Note that a filter as shown in FIG. 12 may be used as the variable wavelength interference filter 5.
The imaging unit 330 includes a light receiving element, and images the image light guided by the imaging lens unit 320.
In such a spectroscopic camera 300, a spectral image of light having a desired wavelength can be captured by transmitting light having a wavelength to be imaged by the variable wavelength interference filter 5.

更には、本発明の光学モジュールをバンドパスフィルターとして用いてもよく、例えば、発光素子が射出する所定波長域の光のうち、所定の波長を中心とした狭帯域の光のみを波長可変干渉フィルターで分光して透過させる光学式レーザー装置としても用いることができる。
また、本発明の光学モジュールを生体認証装置として用いてもよく、例えば、近赤外領域や可視領域の光を用いた、血管や指紋、網膜、虹彩などの認証装置にも適用できる。
Furthermore, the optical module of the present invention may be used as a bandpass filter. For example, among the light in a predetermined wavelength range emitted from the light emitting element, only the light in a narrow band centered on the predetermined wavelength is used as the variable wavelength interference filter. It can also be used as an optical laser device for spectrally transmitting through.
Further, the optical module of the present invention may be used as a biometric authentication device. For example, the optical module can be applied to authentication devices such as blood vessels, fingerprints, retinas, and irises using light in the near infrared region and visible region.

更には、光学モジュール及び電子機器を、濃度検出装置として用いることができる。この場合、波長可変干渉フィルターにより、物質から射出された赤外エネルギー(赤外光)を分光して分析し、サンプル中の被検体濃度を測定する。   Furthermore, an optical module and an electronic device can be used as a concentration detection device. In this case, the infrared energy (infrared light) emitted from the substance is spectrally analyzed by the variable wavelength interference filter, and the analyte concentration in the sample is measured.

上記に示すように、本発明の光学モジュール、及び電子機器は、入射光から所定の光を分光するいかなる装置にも適用することができる。そして、本発明の光学モジュールは、上述のように、1デバイスで複数の波長を分光させることができるため、複数の波長のスペクトルの測定、複数の成分に対する検出を精度よく実施することができる。したがって、複数デバイスにより所望の波長を取り出す従来の装置に比べて、光学モジュールや電子機器の小型化を促進でき、例えば、携帯用や車載用の光学デバイスとして好適に用いることができる。   As described above, the optical module and the electronic apparatus of the present invention can be applied to any device that separates predetermined light from incident light. And since the optical module of this invention can disperse | distribute a some wavelength with one device as mentioned above, the measurement of the spectrum of a some wavelength and the detection with respect to a some component can be implemented accurately. Therefore, compared with the conventional apparatus which takes out a desired wavelength with a plurality of devices, it is possible to promote downsizing of the optical module and the electronic apparatus, and for example, it can be suitably used as a portable or in-vehicle optical device.

その他、本発明の実施の際の具体的な構造は、本発明の目的を達成できる範囲で他の構造等に適宜変更できる。   In addition, the specific structure for carrying out the present invention can be appropriately changed to other structures and the like within a range in which the object of the present invention can be achieved.

5…波長可変干渉フィルター、10…容量検出回路、11…正弦波生成回路、11A…インバーター、11B…水晶振動子、12…オペアンプ、13…帰還回路、13A…インピーダンス素子、14…サンプルアンドホールド回路、15…タイミング信号生成回路、15A…第一ワンショット回路、15B…第二ワンショット回路、20…分光測定装置(電子機器)、21…ディテクター、25…電圧制御回路、30…制御回路部、31…ギャップ測定部、32…フィルター駆動部、51…固定基板(第一基板)、52…可動基板(第二基板)、54…固定反射膜(第一反射膜)、55…可動反射膜(第二反射膜)、56…静電アクチュエーター(ギャップ変更部)、100…ガス検出装置(電子機器)、200…食物分析装置(電子機器)、300…分光カメラ(電子機器)、565…第一測定用引出電極、566…第二測定用引出電極、567…第一測定電極、568…第二測定用電極、Cx…検出対象キャパシター。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 5 ... Variable wavelength interference filter, 10 ... Capacitance detection circuit, 11 ... Sine wave generation circuit, 11A ... Inverter, 11B ... Crystal oscillator, 12 ... Operational amplifier, 13 ... Feedback circuit, 13A ... Impedance element, 14 ... Sample and hold circuit 15 ... Timing signal generation circuit, 15A ... First one-shot circuit, 15B ... Second one-shot circuit, 20 ... Spectrometer (electronic device), 21 ... Detector, 25 ... Voltage control circuit, 30 ... Control circuit section, DESCRIPTION OF SYMBOLS 31 ... Gap measurement part, 32 ... Filter drive part, 51 ... Fixed board | substrate (1st board | substrate), 52 ... Movable board | substrate (2nd board | substrate), 54 ... Fixed reflective film (1st reflective film), 55 ... Movable reflective film ( (Second reflective film), 56 ... electrostatic actuator (gap changing unit), 100 ... gas detection device (electronic device), 200 ... food analysis device (electronic device) 300 ... spectroscopic camera (electronic apparatus), 565 ... first measurement lead electrode, 566 ... second measurement lead electrode, 567 ... first measurement electrode, 568 ... second measuring electrode, Cx ... detected capacitor.

Claims (12)

容量の検出対象である検出対象キャパシターと、
前記検出対象キャパシターの入力端子に正弦波信号を出力する正弦波生成回路と、
反転入力端子、非反転入力端子、及び出力端子を有し、前記反転入力端子に前記検出対象キャパシターの出力端子が接続され、前記非反転入力端子がグランドに接続されるオペアンプと、
前記オペアンプの前記出力端子及び前記反転入力端子間に接続され、インピーダンス素子が設けられる帰還回路と、
前記正弦波生成回路から出力される前記正弦波信号に同期したタイミング信号を生成するタイミング信号生成回路と、
前記オペアンプの前記出力端子に接続され、前記タイミング信号に基づいたタイミングで前記オペアンプからの出力信号を取得するサンプルアンドホールド回路と、
を具備したことを特徴とする容量検出回路。
A detection target capacitor that is a detection target of the capacitance; and
A sine wave generating circuit that outputs a sine wave signal to an input terminal of the capacitor to be detected;
An operational amplifier having an inverting input terminal, a non-inverting input terminal, and an output terminal, wherein the output terminal of the capacitor to be detected is connected to the inverting input terminal, and the non-inverting input terminal is connected to the ground;
A feedback circuit connected between the output terminal and the inverting input terminal of the operational amplifier and provided with an impedance element;
A timing signal generation circuit that generates a timing signal synchronized with the sine wave signal output from the sine wave generation circuit;
A sample-and-hold circuit that is connected to the output terminal of the operational amplifier and acquires an output signal from the operational amplifier at a timing based on the timing signal;
A capacitance detection circuit comprising:
請求項1に記載の容量検出回路において、
前記タイミング信号生成回路は、前記正弦波信号に同期した第一タイミング信号を出力する第一ワンショット回路と、
前記第一タイミング信号に基づいて、前記出力信号のピーク電圧が出力されるタイミングに同期した第二タイミング信号を出力する第二ワンショット回路と、
を備え、
前記サンプルアンドホールド回路は、前記第二タイミング信号が出力されたタイミングで出力信号を取得する
ことを特徴とする容量検出回路。
The capacitance detection circuit according to claim 1,
The timing signal generation circuit, a first one-shot circuit that outputs a first timing signal synchronized with the sine wave signal,
A second one-shot circuit that outputs a second timing signal synchronized with a timing at which a peak voltage of the output signal is output based on the first timing signal;
With
The capacitance detection circuit, wherein the sample-and-hold circuit acquires an output signal at a timing when the second timing signal is output.
請求項2に記載の容量検出回路において、
前記正弦波生成回路は、正弦波信号を矩形波に変換した矩形入力信号を前記タイミング信号生成回路に出力し、
前記第一ワンショット回路は、前記矩形入力信号に基づいて、前記出力信号が立ち上がるタイミングに同期して立ち上がる前記第一タイミング信号を生成し、
前記第二ワンショット回路は、前記第一タイミング信号の立下りタイミングに同期して立ち上がる第二タイミング信号を生成し、
前記第一タイミング信号及び前記第二タイミング信号の出力時間は、前記正弦波信号の1/4周期より小さく、
前記第一タイミング信号の出力時間及び前記第二タイミング信号の出力時間の和は、前記正弦波信号の1/4周期よりも大きい
ことを特徴とする容量検出回路。
The capacitance detection circuit according to claim 2,
The sine wave generation circuit outputs a rectangular input signal obtained by converting a sine wave signal into a rectangular wave to the timing signal generation circuit,
The first one-shot circuit generates the first timing signal that rises in synchronization with the timing when the output signal rises based on the rectangular input signal,
The second one-shot circuit generates a second timing signal that rises in synchronization with a falling timing of the first timing signal,
The output time of the first timing signal and the second timing signal is smaller than a quarter period of the sine wave signal,
The sum of the output time of said 1st timing signal and the output time of said 2nd timing signal is larger than the 1/4 period of the said sine wave signal. The capacity | capacitance detection circuit characterized by the above-mentioned.
請求項3に記載の容量検出回路において、
前記第二タイミング信号の出力時間は、前記出力信号の電圧がピーク電圧の99%以上である時間に設定される
ことを特徴とする容量検出回路。
The capacitance detection circuit according to claim 3,
An output time of the second timing signal is set to a time when the voltage of the output signal is 99% or more of the peak voltage.
請求項1から請求項4のいずれかに記載の容量検出回路において、
前記正弦波生成回路は、水晶振動子を用いた発振回路である
ことを特徴とする容量検出回路。
In the capacity detection circuit according to any one of claims 1 to 4,
The sine wave generation circuit is an oscillation circuit using a crystal resonator.
請求項1から請求項5のいずれかに記載の容量検出回路において、
前記インピーダンス素子は、抵抗である
ことを特徴とする容量検出回路。
In the capacity detection circuit according to any one of claims 1 to 5,
The impedance detection element is a resistor.
請求項1から請求項5のいずれかに記載の容量検出回路において、
前記インピーダンス素子は、抵抗及びキャパシターを直接に接続した素子である
ことを特徴とする容量検出回路。
In the capacity detection circuit according to any one of claims 1 to 5,
The impedance detection element is an element in which a resistor and a capacitor are directly connected.
第一基板と、
前記第一基板に対向して配置される第二基板と、
前記第一基板に設けられる導電性の第一反射膜と、
前記第二基板に設けられ、反射膜間ギャップを介して前記第一反射膜に対向して設けられる導電性の第二反射膜と、
前記反射膜間ギャップのギャップ量を変更するギャップ変更部と、
前記反射膜間ギャップの前記ギャップ量を検出する容量検出回路と、を備え、
前記容量検出回路による前記ギャップ量の検出において前記容量検出回路に発生する寄生容量が除去される
ことを特徴とする光学モジュール。
A first substrate;
A second substrate disposed opposite the first substrate;
A conductive first reflective film provided on the first substrate;
A conductive second reflective film provided on the second substrate and provided facing the first reflective film via a gap between the reflective films;
A gap changing unit for changing a gap amount of the gap between the reflective films;
A capacitance detection circuit that detects the gap amount of the gap between the reflection films,
An optical module, wherein parasitic capacitance generated in the capacitance detection circuit in the detection of the gap amount by the capacitance detection circuit is removed.
第一基板と、
前記第一基板に対向して配置される第二基板と、
前記第一基板に設けられる導電性の第一反射膜と、
前記第二基板に設けられ、反射膜間ギャップを介して前記第一反射膜に対向して設けられる導電性の第二反射膜と、
前記反射膜間ギャップのギャップ量を変更するギャップ変更部と、
前記第一反射膜に正弦波信号を出力する正弦波生成回路と、
反転入力端子、非反転入力端子、及び出力端子を有し、前記反転入力端子に前記検出対象キャパシターの出力端子が接続され、前記非反転入力端子がグランドに接続されるオペアンプと、
前記オペアンプの前記出力端子及び前記反転入力端子間に接続され、インピーダンス素子が設けられる帰還回路と、
前記正弦波生成回路から出力される前記正弦波信号に同期したタイミング信号を生成するタイミング信号生成回路と、
前記オペアンプの前記出力端子に接続され、前記タイミング信号に基づいたタイミングで前記オペアンプからの出力信号を取得するサンプルアンドホールド回路と、
を具備したことを特徴とする光学モジュール。
A first substrate;
A second substrate disposed opposite the first substrate;
A conductive first reflective film provided on the first substrate;
A conductive second reflective film provided on the second substrate and provided facing the first reflective film via a gap between the reflective films;
A gap changing unit for changing a gap amount of the gap between the reflective films;
A sine wave generation circuit that outputs a sine wave signal to the first reflective film;
An operational amplifier having an inverting input terminal, a non-inverting input terminal, and an output terminal, wherein the output terminal of the capacitor to be detected is connected to the inverting input terminal, and the non-inverting input terminal is connected to the ground;
A feedback circuit connected between the output terminal and the inverting input terminal of the operational amplifier and provided with an impedance element;
A timing signal generation circuit that generates a timing signal synchronized with the sine wave signal output from the sine wave generation circuit;
A sample-and-hold circuit that is connected to the output terminal of the operational amplifier and acquires an output signal from the operational amplifier at a timing based on the timing signal;
An optical module comprising:
第一基板と、
前記第一基板に対向して配置される第二基板と、
前記第一基板に設けられる第一反射膜と、
前記第二基板に設けられ、反射膜間ギャップを介して前記第一反射膜に対向して設けられる第二反射膜と、
前記反射膜間ギャップのギャップ量を変更するギャップ変更部と、
前記第一基板に設けられる第一測定電極と、
前記第二基板に設けられ、所定のギャップを介して前記第一測定電極に対向して設けられる第二測定電極と、
前記第一測定電極に正弦波信号を出力する正弦波生成回路と、
反転入力端子、非反転入力端子、及び出力端子を有し、前記反転入力端子に前記検出対象キャパシターの出力端子が接続され、前記非反転入力端子がグランドに接続されるオペアンプと、
前記オペアンプの前記出力端子及び前記反転入力端子間に接続され、インピーダンス素子が設けられる帰還回路と、
前記正弦波生成回路から出力される前記正弦波信号に同期したタイミング信号を生成するタイミング信号生成回路と、
前記オペアンプの前記出力端子に接続され、前記タイミング信号に基づいたタイミングで前記オペアンプからの出力信号を取得するサンプルアンドホールド回路と、
を具備したことを特徴とする光学モジュール。
A first substrate;
A second substrate disposed opposite the first substrate;
A first reflective film provided on the first substrate;
A second reflective film provided on the second substrate and provided facing the first reflective film via a gap between the reflective films;
A gap changing unit for changing a gap amount of the gap between the reflective films;
A first measurement electrode provided on the first substrate;
A second measurement electrode provided on the second substrate and provided facing the first measurement electrode via a predetermined gap;
A sine wave generation circuit that outputs a sine wave signal to the first measurement electrode;
An operational amplifier having an inverting input terminal, a non-inverting input terminal, and an output terminal, wherein the output terminal of the capacitor to be detected is connected to the inverting input terminal, and the non-inverting input terminal is connected to the ground;
A feedback circuit connected between the output terminal and the inverting input terminal of the operational amplifier and provided with an impedance element;
A timing signal generation circuit that generates a timing signal synchronized with the sine wave signal output from the sine wave generation circuit;
A sample-and-hold circuit that is connected to the output terminal of the operational amplifier and acquires an output signal from the operational amplifier at a timing based on the timing signal;
An optical module comprising:
第一基板と、
前記第一基板に対向して配置される第二基板と、
前記第一基板に設けられる第一反射膜と、
前記第二基板に設けられ、反射膜間ギャップを介して前記第一反射膜に対向して設けられる第二反射膜と、
前記反射膜間ギャップのギャップ量を変更するギャップ変更部と、
前記第一反射膜に正弦波信号を出力する正弦波生成回路と、
反転入力端子、非反転入力端子、及び出力端子を有し、前記反転入力端子に前記検出対象キャパシターの出力端子が接続され、前記非反転入力端子がグランドに接続されるオペアンプと、
前記オペアンプの前記出力端子及び前記反転入力端子間に接続され、インピーダンス素子が設けられる帰還回路と、
前記正弦波生成回路から出力される前記正弦波信号に同期したタイミング信号を生成するタイミング信号生成回路と、
前記オペアンプの前記出力端子に接続され、前記タイミング信号に基づいたタイミングで前記オペアンプからの出力信号を取得するサンプルアンドホールド回路と、
を具備したことを特徴とする電子機器。
A first substrate;
A second substrate disposed opposite the first substrate;
A first reflective film provided on the first substrate;
A second reflective film provided on the second substrate and provided facing the first reflective film via a gap between the reflective films;
A gap changing unit for changing a gap amount of the gap between the reflective films;
A sine wave generation circuit that outputs a sine wave signal to the first reflective film;
An operational amplifier having an inverting input terminal, a non-inverting input terminal, and an output terminal, wherein the output terminal of the capacitor to be detected is connected to the inverting input terminal, and the non-inverting input terminal is connected to the ground;
A feedback circuit connected between the output terminal and the inverting input terminal of the operational amplifier and provided with an impedance element;
A timing signal generation circuit that generates a timing signal synchronized with the sine wave signal output from the sine wave generation circuit;
A sample-and-hold circuit that is connected to the output terminal of the operational amplifier and acquires an output signal from the operational amplifier at a timing based on the timing signal;
An electronic apparatus comprising:
第一基板と、
前記第一基板に対向して配置される第二基板と、
前記第一基板に設けられる第一反射膜と、
前記第二基板に設けられ、反射膜間ギャップを介して前記第一反射膜に対向して設けられる第二反射膜と、
前記反射膜間ギャップのギャップ量を変更するギャップ変更部と、
前記第一基板に設けられる第一測定電極と、
前記第二基板に設けられ、所定のギャップを介して前記第一測定電極に対向して設けられる第二測定電極と、
前記第一測定電極に正弦波信号を出力する正弦波生成回路と、
反転入力端子、非反転入力端子、及び出力端子を有し、前記反転入力端子に前記検出対象キャパシターの出力端子が接続され、前記非反転入力端子がグランドに接続されるオペアンプと、
前記オペアンプの前記出力端子及び前記反転入力端子間に接続され、インピーダンス素子が設けられる帰還回路と、
前記正弦波生成回路から出力される前記正弦波信号に同期したタイミング信号を生成するタイミング信号生成回路と、
前記オペアンプの前記出力端子に接続され、前記タイミング信号に基づいたタイミングで前記オペアンプからの出力信号を取得するサンプルアンドホールド回路と、
を具備したことを特徴とする電子機器。
A first substrate;
A second substrate disposed opposite the first substrate;
A first reflective film provided on the first substrate;
A second reflective film provided on the second substrate and provided facing the first reflective film via a gap between the reflective films;
A gap changing unit for changing a gap amount of the gap between the reflective films;
A first measurement electrode provided on the first substrate;
A second measurement electrode provided on the second substrate and provided facing the first measurement electrode via a predetermined gap;
A sine wave generation circuit that outputs a sine wave signal to the first measurement electrode;
An operational amplifier having an inverting input terminal, a non-inverting input terminal, and an output terminal, wherein the output terminal of the capacitor to be detected is connected to the inverting input terminal, and the non-inverting input terminal is connected to the ground;
A feedback circuit connected between the output terminal and the inverting input terminal of the operational amplifier and provided with an impedance element;
A timing signal generation circuit that generates a timing signal synchronized with the sine wave signal output from the sine wave generation circuit;
A sample-and-hold circuit that is connected to the output terminal of the operational amplifier and acquires an output signal from the operational amplifier at a timing based on the timing signal;
An electronic apparatus comprising:
JP2012024888A 2012-02-08 2012-02-08 Capacitance detection circuit, optical module, and electronic device Active JP6051534B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2012024888A JP6051534B2 (en) 2012-02-08 2012-02-08 Capacitance detection circuit, optical module, and electronic device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2012024888A JP6051534B2 (en) 2012-02-08 2012-02-08 Capacitance detection circuit, optical module, and electronic device

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2013160707A true JP2013160707A (en) 2013-08-19
JP6051534B2 JP6051534B2 (en) 2016-12-27

Family

ID=49173050

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2012024888A Active JP6051534B2 (en) 2012-02-08 2012-02-08 Capacitance detection circuit, optical module, and electronic device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP6051534B2 (en)

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102013215427A1 (en) 2012-08-06 2014-02-06 Denso Corporation diode
CN105716714A (en) * 2014-12-22 2016-06-29 精工爱普生株式会社 Color measurement apparatus and printing apparatus
JP2017116333A (en) * 2015-12-22 2017-06-29 パナソニックIpマネジメント株式会社 Sensor
CN108375710A (en) * 2018-01-05 2018-08-07 昂纳信息技术(深圳)有限公司 A kind of detecting system of optical module
JP2019045230A (en) * 2017-08-31 2019-03-22 セイコーエプソン株式会社 Optical module, electronic apparatus, and method for controlling optical module
CN112166318A (en) * 2018-03-30 2021-01-01 株式会社普欧威盖特 Electric circuit for electrochemical measurement and measuring device
CN115902356A (en) * 2023-03-08 2023-04-04 华中科技大学 Non-invasive measurement method for high-frequency component of receiving voltage of electric locomotive

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5717868A (en) * 1980-07-04 1982-01-29 Syst Design Kk Lcr measuring device
JPH0194312A (en) * 1987-10-06 1989-04-13 Sharp Corp Variable interference device
JPH07229941A (en) * 1994-02-17 1995-08-29 Sunx Ltd Electrostatic capacity measuring circuit and lead tester for electronic parts utilizing it
JP2002277758A (en) * 2001-03-19 2002-09-25 Hochiki Corp Variable wavelength filter controller and variable wavelength filter

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5717868A (en) * 1980-07-04 1982-01-29 Syst Design Kk Lcr measuring device
JPH0194312A (en) * 1987-10-06 1989-04-13 Sharp Corp Variable interference device
JPH07229941A (en) * 1994-02-17 1995-08-29 Sunx Ltd Electrostatic capacity measuring circuit and lead tester for electronic parts utilizing it
JP2002277758A (en) * 2001-03-19 2002-09-25 Hochiki Corp Variable wavelength filter controller and variable wavelength filter

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102013215427A1 (en) 2012-08-06 2014-02-06 Denso Corporation diode
CN105716714A (en) * 2014-12-22 2016-06-29 精工爱普生株式会社 Color measurement apparatus and printing apparatus
JP2016118468A (en) * 2014-12-22 2016-06-30 セイコーエプソン株式会社 Colorimetry device and printer
US10674042B2 (en) 2014-12-22 2020-06-02 Seiko Epson Corporation Wavelength variable interference filter and driving method of the wavelength variable interference filter
JP2017116333A (en) * 2015-12-22 2017-06-29 パナソニックIpマネジメント株式会社 Sensor
JP2019045230A (en) * 2017-08-31 2019-03-22 セイコーエプソン株式会社 Optical module, electronic apparatus, and method for controlling optical module
CN108375710A (en) * 2018-01-05 2018-08-07 昂纳信息技术(深圳)有限公司 A kind of detecting system of optical module
CN112166318A (en) * 2018-03-30 2021-01-01 株式会社普欧威盖特 Electric circuit for electrochemical measurement and measuring device
CN112166318B (en) * 2018-03-30 2023-06-23 株式会社普欧威盖特 Electrical circuit for electrochemical measurement and measurement device
CN115902356A (en) * 2023-03-08 2023-04-04 华中科技大学 Non-invasive measurement method for high-frequency component of receiving voltage of electric locomotive

Also Published As

Publication number Publication date
JP6051534B2 (en) 2016-12-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6051534B2 (en) Capacitance detection circuit, optical module, and electronic device
JP6019863B2 (en) Wavelength variable interference filter, optical filter device, optical module, electronic apparatus, and method of manufacturing wavelength variable interference filter
JP6015090B2 (en) Wavelength variable interference filter, optical filter device, optical module, and electronic apparatus
US9389350B2 (en) Optical module, electronic device, food analyzer, spectroscopic camera, driving method of wavelength variable interference filter
JP6136356B2 (en) measuring device
CN105045292B (en) Actuator device, electronic apparatus, and control method
JP6107186B2 (en) Optical module, electronic device, and spectroscopic camera
JP6543884B2 (en) Actuator control device, optical module, electronic device, and actuator control method
JP6182918B2 (en) Interference filter, optical filter device, optical module, and electronic apparatus
JP6098197B2 (en) Optical filter device, optical module, and electronic apparatus
JP2012168438A (en) Wavelength variable interference filter, optical module, and optical analysis device
JP5888080B2 (en) Wavelength variable interference filter, optical filter device, optical module, electronic apparatus, and wavelength variable interference filter driving method
JP2015141209A (en) Actuator control device, optical module, and electronic apparatus
JP5983020B2 (en) Wavelength variable interference filter, optical filter device, optical module, and electronic apparatus
JP6115519B2 (en) MEMS driving device, electronic device, and MEMS driving method
JP6194673B2 (en) Optical module and electronic device
JP5879893B2 (en) Optical filter device, optical module and electronic equipment
JP2013113900A (en) Wavelength variable interference filter, optical filter device, optical module, and electronic equipment
JP6064468B2 (en) Optical module and electronic device
JP2014074754A (en) Wavelength variable interference filter, optical filter device, optical module, and electronic equipment
JP2012220912A (en) Interference filter, optical module and electronic apparatus
JP6566061B2 (en) Driving method of tunable interference filter
JP2015225148A (en) Optical module, electronic device, and method of controlling variable wavelength interference filter
JP2019133076A (en) Wavelength variable interference filter and electronic apparatus
JP2013178392A (en) Wavelength variable interference filter, optical filter device, optical module, and electronic apparatus

Legal Events

Date Code Title Description
RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20150107

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20150202

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20151224

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20160209

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20160401

RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20160609

RD03 Notification of appointment of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423

Effective date: 20160617

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20160802

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20160927

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20161101

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20161114

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6051534

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150