JP2013140201A - 金属酸化膜による光学薄膜の形成方法および光学素子 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】光学薄膜の形成方法は、基板10上に、金属酸化膜による薄膜12Aを形成する薄膜形成工程と、薄膜形成工程で形成された薄膜12Aを、酸素を含む雰囲気中において加熱焼成することにより、薄膜中の金属の酸化を促進して光学薄膜12Bとするための追加焼成工程とを有する。
【選択図】図1
Description
例えば、金属酸化膜の単層膜や多層膜による「反射防止膜」、あるいは「金属酸化膜による反射膜」、「フィルタ膜」、「位相差膜」、さらには、光学部品の表面を保護するための「表面保護膜」等である。表面保護膜は、光学部品の表面を保護するのみならず、光学部品に求められる光学特性を損なわないように、表面保護膜自体にもそれなりの光学特性が要求される。
例えば、アルミナ(Al2O3)、酸化シリコン(SiO2)、五酸化タンタル(Ta2O5)、五酸化ニオブ(Nb2O5)等を「薄膜で使用」する際には、薄膜の形成にスパッタリングの手法が用いられる。
具体的には、金属酸化物(アルミナや、五酸化タンタル、五酸化ニオブ等)のターゲットを用い、直接にスパッタを行なう「直接スパッタ法」と、金属(アルミニウム、タンタル、ニオブ等)のターゲットを用い、スパッタの際に酸素ガスを導入し、真空チャンバ内で反応させつつ成膜する「反応スパッタ法(上述の反応性スパッタリング)」がある。
上記各種の金属の酸化膜を形成する場合も同様である。
このように膜内の「酸素欠損」が存在すると、金属酸化膜の有するべき光学特性が「理論値通り」のものにならない。
「追加焼成工程」は、薄膜形成工程で形成された薄膜を、酸素を含む雰囲気中において加熱焼成することにより、上記薄膜中の金属の酸化を促進して光学薄膜とするための工程である。
図1に即して、光学薄膜の形成方法を説明する。
図1(a)の符号10は、基板を示す。基板10は、図1(a)において平行平板として示されているが、基板の形態はこれに限定されない。基板はまた、レンズやプリズム等の光学部品であることが出来る。また、基板の材質は、薄膜形成が可能なものであれば特に制限無く選択可能である。
追加焼成工程は、薄膜形成工程で形成された金属酸化膜を「酸素雰囲気中で加熱」することにより行なわれるが「400℃以上で行なう」のが良い。
薄膜形成工程で形成された薄膜12Aを「酸素を含む雰囲気中において加熱焼成」することにより、薄膜12A中の金属の酸化を促進する。「酸素を含む雰囲気」は「空気」であることができる。即ち「追加焼成工程は空気中で行なう」ことができる。図1(c)において、矢印群は過熱焼成の際に、薄膜12Aに供給される酸素を示している。
このようにして、追加焼成工程が完了すると、薄膜12Aは、図1(d)に示す光学薄膜12Bとなる。光学薄膜12B中では「酸素欠損」が有効に減少しているので、薄膜の光学特性を向上させることができる。
「追加焼成工程を行なう温度」は、酸素欠損を減少させる程度を定める。即ち、ある一定の温度で、追加焼成工程を行なう場合、追加焼成工程の工程時間の増大とともに、酸素欠損は次第に減少するが、工程時間がある一定の時間に達すると、酸素欠損の減少は停止し、それ以上の時間をかけても「酸素欠損の減少」は進行しない。
基板として石英ガラスの平行平板を用い、その片面に光学薄膜を形成した。
上記石英の基板上に、金属酸化膜としてアルミナ(Al2O3)の薄膜を、厚さ:1μmに形成した(薄膜形成工程)。この薄膜に対して、評価波長:300nmの光を透過させ、透過率・反射率の理論値との比較により、損失(薄膜内部)における光吸収による損失を調べたところ、略1.4%であった。
図2に示すように、雰囲気温度:450℃、追加焼成時間:30分で、損失を略0.2%まで減少させることができた。この損失:略0.2%は、実質的に理論値に等しい。
雰囲気温度:400℃でも、酸素欠損由来の損失を有効に減少させることができる。
石英の基板上に、金属酸化膜として五酸化ニオブ(Nb2O5)の薄膜を、厚み:0.6μmに形成した(薄膜形成工程)。この薄膜に対して、評価波長:355nmの光を透過させ、透過率・反射率の理論値との比較により、損失(薄膜内部)における光吸収による損失を調べたところ、略14%であった。
図3に示すように、雰囲気温度:450℃、追加焼成時間:30分で、損失を略10.25%まで減少させることができた。この損失:略10.25%は、実質的に理論値に等しい。
石英の基板上に、五酸化タンタル(Ta2O5)と二酸化シリコン(SiO2)を交互に64層積層して、厚:3m.2μの金属酸化膜を形成した(薄膜形成工程)。この薄膜に対して、評価波長:300nmの光を透過させ、透過率・反射率の理論値との比較により、損失(薄膜内部)における光吸収による損失を調べたところ、略39.75%であった。
図4に示すように、雰囲気温度:450℃、追加焼成時間:30分で、損失を略34.7%まで減少させることができた。
この損失:略34.7%は、実質的に理論値に等しい。
具体例2の場合において、評価波長を340nmとして、具体例2における各追加焼成の場合の損失を調べたところ、図5のようになった。
薄膜形成工程後の薄膜(Nb2O5)における「損失」は、略54.4%であるが、追加焼成の雰囲気温度を100℃とし、追加焼成時間を1時間としたところ、損失は略54.25%に減少した。続いて、追加焼成時間を30分とし、雰囲気温度を100℃から50℃刻みに450度まで異ならせて、実験を繰り返したところ、雰囲気温度の上昇と共に、損失が減少した。
図5に示すように、雰囲気温度:450℃、追加焼成時間:30分で、波長:340nmの光に対する損失を略49.8%まで減少させることができた。波長:340nmの光に対する損失:略49.9%は、実質的に理論値に等しい。
12A 金属酸化膜による薄膜
12B 光学薄膜
Claims (8)
- 金属酸化膜による光学薄膜を形成する方法であって、
基板上に、金属酸化膜による薄膜を形成する薄膜形成工程と、
該薄膜形成工程で形成された薄膜を、酸素を含む雰囲気中において加熱焼成することにより、上記薄膜中の金属の酸化を促進して光学薄膜とするための追加焼成工程と、を有することを特徴とする光学薄膜の形成方法。 - 請求項1記載の光学薄膜の形成方法において、
追加焼成工程が、400℃以上で行なわれることを特徴とする光学薄膜の形成方法。 - 請求項1または2記載の光学薄膜の形成方法において、
薄膜形成工程が、スパッタリングや真空蒸着等の真空成膜により、金属酸化膜による薄膜を形成する工程であることを特徴とする光学薄膜の形成方法。 - 請求項1または2記載の光学薄膜の形成方法において、
薄膜形成工程が、CVD(ケミカル・ヴェーパ・デポジット)、プラズマ蒸着法、イオンプレーティング法により、金属酸化膜による薄膜を形成する工程であることを特徴とする光学薄膜の形成方法。 - 請求項1〜4の任意の1に記載の光学薄膜の形成方法において、
薄膜形成工程により、金属酸化膜による薄膜が単層膜として形成されることを特徴とする光学薄膜の形成方法。 - 請求項1〜4の任意の1に記載の光学薄膜の形成方法において、
薄膜形成工程により、金属酸化膜による薄膜が多層膜として形成されることを特徴とする光学薄膜の形成方法。 - 請求項1〜6の任意の1に記載の光学薄膜の形成方法において、
形成される光学薄膜が、反射防止膜であることを特徴とする光学薄膜の形成方法。 - 基板上に請求項1〜7の任意の1に記載の形成方法で形成された光学薄膜を有する光学素子。
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