JP2013137842A - 磁気記録媒体及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板上にMgOとTiCとを主成分とするスパッタリングターゲットをDCスパッタリングすることにより配向制御層を形成する第一工程と、前記配向制御層上にFeとPtとを主成分とする磁性層を形成する第二工程と、を備えることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法である。また、上記製造方法により製造されたことを特徴とする磁気記録媒体である。
【選択図】図2
Description
第二工程は、スパッタリング以外にも、物理蒸着法や化学蒸着法などで行うことも可能である。また、スパッタリングの場合には、DCスパッタリングだけでなくRFスパッタリングでも行うことができる。工業化においては、大きなスループットを必要とするため、DCを使ったスパッタリング法を使うのが好適である。
また、FeとPtのそれぞれのスパッタリングターゲットを用いる場合は、それぞれのターゲットに投入する電力を制御することにより、およそ1:1の成膜速度にすることができる。
非磁性マトリックスとなるC、SiO2、Al2O3、B、ZrO、ホウ素酸化物、チタン酸化物などは、合金ターゲットの場合には上記材料を含んだものを、同時スパッタの場合にはそれぞれのターゲットを用意し同時に成膜を行う。
また、FePt合金+非磁性マトリックスとなる化合物の2つのターゲットを使った同時スパッタリングでもよい。この場合、膜のFeとPtの組成が1:1になるようなターゲット組成が必要である。また、非磁性マトリックスの体積分率は成膜速度を制御することにより行う。
エックス線回折法で測定した。具体的には、θ−2θ法にて測定した。
透過型電子顕微鏡で測定した。膜断面を観察するために、断面のTEM試料をイオンミルで作製し、断面垂直方向から電子線を入射させ、明視野像を観察した。
SQUIDで測定した。4mm角の試料をサンプルホルダーにセットし、膜面内と面直方向に磁場を印加して、磁化を測定した。
まず、膜構成が基板側から、熱酸化Si基板/NiTa(20nm)/MgOTiC(15nm)/FePt−C(6nm)である磁気記録媒体を作製した。具体的には、熱酸化Si基板にDCスパッタリング装置(エイコー社製)を用いて、DCスパッタリング法によりNiTa膜を成膜した。NiTaは合金ターゲットを用いた。成膜条件は、DC電力が20W、Arガス圧が5.5mTorr、成膜レートが0.5Å/sec、温度は室温であった。次に、同様にDCスパッタリングを行うことにより、NiTa膜上にMgOTiCターゲットを用いてMgOTiCからなる配向制御層を作製した。MgOTiCの成膜条件は、DC電力が50W、Arガス圧が4.5mTorr、成膜レートが0.438Å/sec、温度は室温であった。なお、MgOTiCターゲットは、MgOとTiCとを80:20の割合(wt換算)で混合し、ホットプレス焼結法で焼結することにより得た。
Claims (3)
- 基板上にMgOとTiCとを主成分とするスパッタリングターゲットをDCスパッタリングすることにより配向制御層を形成する第一工程と、
前記配向制御層上にFeとPtとを主成分とする磁性層を形成する第二工程と、
を備えることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 - 前記第二工程は、前記配向制御層を形成した前記基板の温度が450℃以上に加熱された状態で形成され、
磁性層は、L10構造を有するFePt微粒子がC、SiO2、Al2O3、B、ZrO、ホウ素酸化物及びチタン酸化物のうちいずれか1種類以上からなる非磁性マトリックス中に均一に分散しており、前記FePt微粒子の組成がFexPt1−xであってxの範囲が0.4<x<0.6であり、前記FePt微粒子が膜垂直方向に磁化されていることを特徴とする請求項1記載の磁気記録媒体の製造方法。 - 請求項1又は2記載の製造方法により製造されたことを特徴とする磁気記録媒体。
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