JP2013125205A - 積層体の製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】パターン位相差フィルムに適用することで、配向方向をより厳密に制御でき、また、帯電による外観不良を改善できる積層体を提供する。
【解決手段】本発明の製造方法は、基材１１上にパターン配向層１２を形成する工程と、このパターン配向層上に重合性液晶組成物からなる位相差層形成用層１３’を形成し、この位相差層形成用層１３’の層厚を均一にした後、重合性液晶組成物を配向パターンに沿って配列させて位相差層１３を形成する工程とを含み、位相差層１３を形成する工程では、位相差層形成用層１３’を形成した後、基材１１を除電してから、重合性液晶組成物を乾燥する。除電は、位相差層形成用層１３’を形成した後、積層体がローラ５０を通過するまでの間に行うことが好ましく、位相差層形成用層１３’の表面と基材１１に帯電した静電気を除電する導電線３７ａとの距離は２０ｍｍ以下であることが好ましい。
【選択図】図２

Description

本発明は、積層体の製造方法、より詳しくは、パターン位相差フィルムの製造方法に関する。

近年、三次元表示可能なフラットパネルディスプレイが注目を集め始めており、市販も始まっている。そして、今後のフラットパネルディスプレイにおいては三次元表示可能であることが、その性能として当然に求められることが予想され、三次元表示可能なフラットパネルディスプレイの検討が幅広い分野において進められている。

フラットパネルディスプレイにおいて三次元表示をするには、通常、視聴者に対して何らかの方式で右目用の映像と、左目用の映像とを別個に表示することが必要とされる。右目用の映像と左目用の映像とを別個に表示する方法としては、例えば、パッシブ方式というものが知られている。このようなパッシブ方式の三次元表示方式について図を参照しながら説明する。図７はパッシブ方式の三次元表示の一例を示す概略図である。図７に示すようにこの方式では、まず、フラットパネルディスプレイを構成する画素を、右目用映像表示画素と左目用映像表示画素の２種類の複数の画素にパターン状に分割し、一方のグループの画素では右目用の映像を表示させ、他方のグループの画素では左目用の映像を表示させる。また、直線偏光板と当該画素の分割パターンに対応したパターン状の位相差層が形成されたパターン位相差フィルムとを用い、右目用の映像と、左目用の映像とを互いに直交関係にある円偏光に変換する。さらに、視聴者には右目用レンズと左目用レンズとに互いに直交する円偏光レンズを採用した円偏光メガネを装着させ、右目用の映像が右目用レンズのみを通過し、かつ左目用の映像が左目用のレンズのみを通過するようにする。このようにして右目用の映像が右目のみに届き、左目用の映像が左目のみに届くようにすることによって三次元表示を可能とするものがパッシブ方式である。

このようなパッシブ方式では、上記パターン位相差フィルムと、対応する円偏光メガネとを用いることにより容易に三次元表示が可能なものにできるという利点がある。

ところで、上述したようにパッシブ方式においてはパターン位相差フィルムを用いることが必須になるところ、このようなパターン位相差フィルムについてはまだ広く研究・開発が行われておらず、標準的な技術としても確立されているものがないのが現状である。その一例として、−Ｃ（ＣＦ_３）_２−又は−ＳＯ_２−を有する化合物を含有する重合性液晶組成物を重合させることによって、光学異方性を有する重合体フィルムを形成し、この重合体フィルムを位相差板として用いることが提案されている（特許文献１参照）。

特開２００７−１６２１３号公報

しかし、位相差層の研究・開発は発展途上であり、位相差層を構成する重合性液晶組成物の組成のほか、製法を含めた種々の観点から、配向方向のより厳密な制御、帯電による外観不良の改善等、種々の特性を改良することが求められている。

本発明者は、上記課題を解決するために、鋭意研究を重ねたところ、基材に、重合性液晶組成物からなる層を形成した後、重合性液晶組成物が塗布された塗布基材を除電してから重合性液晶組成物を乾燥させるようにすることで、配向方向をより厳密に制御できること、また、帯電による外観不良を改善できることを見出し、本発明を完成するに至った。具体的には、本発明では、以下のようなものを提供する。

（１）本発明は、基材に、重合性液晶組成物からなる層を形成する工程と、前記重合性液晶組成物を重合することによって前記重合性液晶組成物からなる層を硬化する工程とを含む積層体の製造方法であって、前記重合性液晶組成物からなる層を硬化する工程において、前記重合性液晶組成物を塗布した後であって乾燥前に、前記重合性液晶組成物が塗布された塗布基材を除電する工程を備える、積層体の製造方法である。

（２）また、本発明は、前記除電が塗布面側から行われる、（１）に記載の積層体の製造方法である。

（３）また、本発明は、前記除電が、前記重合性液晶組成物を塗布した後であって、最初の搬送ローラを通過するまでの間に行われる、（１）又は（２）に記載の積層体の製造方法である。

（４）また、本発明は、前記除電が、導電性繊維を紐状又は糸状とした導電繊維線を電極支持体に直線状に張架して除電電極とし、これに交流高電圧を印加するとともに、この導電繊維線に対し、前記積層体を非接触で交差させることによって行われ、前記重合性液晶組成物からなる層の表面と前記導電繊維線との距離は２０ｍｍ以下である、（１）から（３）のいずれかに記載の積層体の製造方法である。

（５）また、本発明は、前記積層体は、パターン位相差フィルムであり、前記重合性液晶組成物からなる層を形成する工程は、基材上に配向パターンを付与してパターン配向層を形成する工程の後、このパターン配向層上に重合性液晶組成物からなる位相差層形成用層を形成することによって行われ、前記重合性液晶組成物からなる層を硬化する工程は、前記重合性液晶組成物を前記配向パターンに沿って配列させて位相差層を形成することによって行われる、（１）から（４）のいずれかに記載の積層体の製造方法である。

（６）また、本発明は、前記配向パターンを形成する際に設定した配向軸と、前記位相差層の配向軸との角度差の絶対値で定義される配向ズレ角度が２度以内である、（５）に記載の積層体の製造方法である。

本発明によれば、パターン位相差フィルムに適用することで、配向方向がより厳密に制御され、また、帯電による外観不良が改善された積層体を提供できる。

本発明に係る積層体の概略図である。 図１のパターン位相差フィルムの製造方法の一例を示す概略図である。 積層体を除電してからレベリング装置４１に移動するまでの積層体の搬送状態を示す概略図である。 パターン配向層１２に重合性液晶組成物を塗布したときの重合性液晶組成物の状態を示す概略図である。 従来技術において、基材１１／パターン配向層１２／位相差層形成用層１３’を含む積層体を搬送した後の重合性液晶組成物の状態を示す概略図である。 除電装置４０を示す概略図である。 パッシブ方式による三次元画像表示の説明に供する図である。

以下、本発明の具体的な実施形態について、詳細に説明するが、本発明は、以下の実施形態に何ら限定されるものではなく、本発明の目的の範囲内において、適宜変更を加えて実施することができる。

＜積層体＞
図１は、本実施形態の製造方法によって得られる積層体１を示す図である。この積層体１は、パターン位相差フィルムであり、以下「パターン位相差フィルム１」ともいう。なお、以下では「パターン位相差」を「位相差」と略記するが、特に断りがない限り、「位相差」は、「パターン位相差」と同義である。位相差フィルム１は、基材１１上にパターン配向層１２が形成され、このパターン配向層１２上に、重合性液晶組成物を含む位相差層１３が形成されることによって得られる。

［基材１１］
基材１１は、透明フィルム材であり、パターン配向層１２を支持する機能を有し、長尺に形成されている。

［パターン配向層１２］
パターン配向層１２は、２種類の配向パターンを交互に有する。この配向パターンは、凹凸形状を有する金型を用いて当該凹凸形状を転写する賦型ＵＶ方式よって形成されてもよいし、偏光照射により光配向性を発揮する光配向材料を用いて光照射によって配向させる光配向方式によって形成されてもよい。賦型ＵＶ方式によってパターン配向層１２を形成する場合、パターン配向層１２は、広く一般に用いられるエネルギー線硬化性樹脂（紫外線硬化樹脂等）を含有するものであれば、どのようなものであってもよい。一方、光配向方式によってパターン配向層１２を形成する場合、パターン配向層１２は、偏光照射により光配向性を発揮する光配向材料を含有する必要がある。

［位相差層１３］
図１に戻り、位相差層１３は、液晶性を示し分子内に重合性官能基を有する棒状化合物を含む。位相差層１３は、上記配向パターンに沿って形成されるため、右目用の領域に対応する第１位相差領域１３Ａと、左目用の領域に対応する第２位相差領域１３Ｂとを有する。

＜位相差フィルム１の製造方法＞
以下では、賦型ＵＶ方式によって形成する場合における位相差フィルム１の製造方法について説明するが、位相差フィルム１は、光配向方式によって形成されたものであってもよい。

図２は、賦型ＵＶ方式による位相差フィルム１の製造方法を示す。まず、（Ａ）ロール３１に巻き取った長尺フィルムから基材１１を提供し、この基材１１上にパターン配向層用組成物３２を塗工する組成物塗工処理を行う。続いて、（Ｂ）この組成物を乾燥機３３で乾燥させて溶剤除去する溶剤除去処理を行う。続いて、（Ｃ）転写用金型の表面に形成された微細な凹凸形状をパターン配向層形成用層１２’の表面に転写する賦型処理を行う。これら（Ａ）〜（Ｃ）の処理によってパターン配向層１２が形成される。

続いて、（Ｄ）位相差層形成用の重合性液晶組成物を含有する位相差層形成用塗工液の供給装置３９から位相差層形成用塗工液を塗工し、位相差層形成用層を形成する位相差層形成用塗工液塗工処理を行う。その後、（Ｅ）除電装置４０を用いて、基材１１を除電する除電処理を行う。その後、（Ｆ）レベリング装置４１を用いて、位相差層形成用層の層厚を均一にするレベリング処理を行う。その後、（Ｇ）乾燥機４２を用いて位相差層形成用塗工液の塗膜に含まれる棒状化合物を液晶相形成温度以上に加温することで、上記パターン配向層１２が有する、右目用の領域に対応する第１配向領域１２Ａと、左目用の領域に対応する第２配向領域１２Ｂとの異なる配向方向に沿って、棒状化合物を配列させる配向処理を行う。この配向処理によって位相差層形成用層は、位相差層１３となる。その後、（Ｈ）冷却機４３を用いて、基材１１／パターン配向層１２／位相差層１３からなる積層体を冷却する冷却処理を行い、（Ｉ）紫外線照射装置４４を用いて、重合性棒状化合物を重合し硬化させる硬化処理を行う。そして、（Ｊ）フィルムを巻き取りリール４５に巻き取った後、所望の大きさに切り出す切断処理を行う。上記の工程を経て位相差フィルム１が作製される。

［（Ａ）組成物塗工処理］
まず、ロール３１に巻き取った長尺フィルムから基材１１を提供し、この基材１１上にパターン配向層用組成物３２を塗工する組成物塗工処理を行う。

〔基材１１〕
基材１１は、透明フィルム材であり、パターン配向層１２を支持する機能を有し、長尺に形成されている。

基材１１は、位相差が小さいことが好ましく、面内位相差（面内レターデーション値、以下「Ｒｅ値」ともいう。）が、０ｎｍ〜１０ｎｍの範囲内であることが好ましく、０ｎｍ〜５ｎｍの範囲内であることがより好ましく、０ｎｍ〜３ｎｍの範囲内であることがさらに好ましい。Ｒｅ値が１０ｎｍを超えると、パターン配向膜を用いたフラットパネルディスプレイの表示品質が悪くなる可能性がある点で好ましくない。

ここで、Ｒｅ値とは、屈折率異方体の面内方向における複屈折性の程度を示す指標をいい、面内方向において屈折率が最も大きい遅相軸方向の屈折率をＮｘ、遅相軸方向に直交する進相軸方向の屈折率をＮｙ、屈折率異方体の面内方向に垂直な方向の厚さをｄとした場合に、
Ｒｅ［ｎｍ］＝（Ｎｘ−Ｎｙ）×ｄ［ｎｍ］
で表わされる値である。Ｒｅ値は、例えば、位相差測定装置ＫＯＢＲＡ−ＷＲ（王子計測機器社製）を用い、平行ニコル回転法により測定することができる。また、本明細書においては、特に別段の記載をしない限り、Ｒｅ値は波長５８９ｎｍにおける値を意味するものとする。

基材１１の可視光領域における透過率は、８０％以上であることが好ましく、９０％以上であることがより好ましい。ここで、透明フィルム基材の透過率は、ＪＩＳ Ｋ７３６１−１（プラスチック−透明材料の全光透過率の試験方法）により測定することができる。

基材１１は、ロール状に巻き取ることができる可撓性を有するフレキシブル材であることが好ましい。このようなフレキシブル材としては、セルロース誘導体、ノルボルネン系ポリマー、シクロオレフィン系ポリマー、ポリメチルメタクリレート、ポリビニルアルコール、ポリイミド、ポリアリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、アモルファスポリオレフィン、変性アクリル系ポリマー、ポリスチレン、エポキシ樹脂、ポリカーボネート、ポリエステル類等を例示することができる。中でも、光学的等方性に優れ、光学的特性に優れたパターン配向膜を製造できる点でセルロース誘導体を用いることが好ましい。

上記セルロース誘導体の中でも、工業的に広く用いられ、入手が容易である点で、セルロースエステルを用いることが好ましく、セルロースアシレート類を用いることがより好ましい。

上記セルロースアシレート類としては、炭素数２〜４の低級脂肪酸エステルが好ましい。低級脂肪酸エステルとしては、例えばセルロースアセテートのように、単一の低級脂肪酸エステルのみを含むものでもよく、また、例えばセルロースアセテートブチレートやセルロースアセテートプロピオネートのような複数の脂肪酸エステルを含むものであってもよい。

低級脂肪酸エステルの中でも、セルロースアセテートを特に好適に用いることができる。セルロースアセテートとしては、平均酢化度が５７．５％〜６２．５％（置換度：２．６〜３．０）のＴＡＣを用いることが最も好ましい。ここで、酢化度とは、セルロース単位質量当りの結合酢酸量を意味する。酢化度は、ＡＳＴＭ：Ｄ−８１７−９１（セルロースアセテート等の試験方法）におけるアセチル化度の測定及び計算により求めることができる。なお、ＴＡＣの酢化度は、フィルム中に含まれる可塑剤等の不純物を除去した後、上記の方法により求めることができる。

基材１１の厚さは、パターン配向膜を用いて製造される位相差フィルムの用途等に応じて、当該位相差フィルムに必要な自己支持性を付与できる範囲内であれば特に限定されないが、通常、２５μｍ〜１２５μｍの範囲内であることが好ましく、４０μｍ〜１００μｍの範囲内であることがより好ましく、６０μｍ〜８０μｍの範囲内であることがさらに好ましい。２５μｍ未満であると、位相差フィルムに必要な自己支持性を付与できない場合があり、好ましくない。１２５μｍを超えると、位相差フィルムが長尺状である場合、長尺状の位相差フィルムを裁断加工し、枚葉の位相差フィルムとする際に、加工屑が増加したり、裁断刃の磨耗が早くなってしまう場合があり、好ましくない。

基材１１は、単一の層からなる構成に限られるものではなく、複数の層が積層された構成を有してもよい。複数の層が積層された構成を有する場合は、同一組成の層が積層されてもよく、また、異なった組成を有する複数の層が積層されてもよい。

〔基材１１の提供〕
基材１１の提供にあたっては、長尺フィルムを連続的に搬送できるものであれば、特に限定されるものではなく、一般的な搬送手段を用いる方法を用いることができる。具体的には、ロール状の長尺フィルムを供給する巻き出し機及び長尺フィルムを巻き取る巻き取り機等を用いる方法、ベルトコンベア、搬送用ロール等を用いる方法を挙げることができる。また、エアの吐出と吸引とを行うことにより、長尺配向膜形成用フィルムを浮上させた状態で搬送する浮上式搬送台を用いる方法であっても良い。

また、搬送時の長尺フィルムへのテンション付与の有無については、長尺フィルムを安定的に連続搬送できる方法であれば特に限定されるものではないが、所定のテンションを加えた状態で搬送されることが好ましい。より安定的に連続搬送することができるからである。

搬送手段の色としては、長尺フィルムに紫外線が照射される部位に配置される場合には、長尺フィルムを透過した紫外線を反射しない色であることが好ましい。具体的には、黒色であることが好ましい。このような黒色とする方法としては、例えば、表面をクロム処理する方法を挙げることができる。

ロール３１の形状としては、安定的に長尺フィルムを搬送することができるものであれば特に限定されるものではないが、長尺フィルムに紫外線が照射される部位に配置される場合には、長尺フィルムの表面と、紫外線照射装置との距離を一定に保つことができるものであることが好ましく、通常、真円形状であることが好ましい。

〔パターン配向層用組成物３２〕
賦型ＵＶ方式によってパターン配向層１２を形成する場合、パターン配向層１２は、広く一般に用いられるエネルギー線硬化性樹脂（紫外線硬化樹脂等）であれば、どのようなものであってもよく、例えば、紫外線硬化型のポリオール（メタ）アクリレート類、エポキシ（メタ）アクリレート類、ウレタン（メタ）アクリレート類、ポリエステル（メタ）アクリレート類が挙げられる。

多官能モノマーとしては、例えば、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、３−メチルペンタンジオールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールビスβ−ジ（メタ）アクリロイルオキシプロピオネート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリ（２−ヒドロキシエチル）イソシアネートジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、２，３−ビス（メタ）アクリロイルオキシルエチルオキシメチル「２，２，１」ヘプタン、ポリ１，２−ブタジエンジ（メタ）アクリレート、１，２−ビス（メタ）アクリロイルオキシメチルヘキサン、ノナエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラデカンエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１０−デカンジオールジ（メタ）アクリレート、３，８−ビス（メタ）アクリロイルオキシメチルトリシクロ「５，２，１０」デカン、水素添加ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、２，２−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシジエトキシフェニル）プロパン、１，４−ビス（（メタ）アクリロイルオキシメチル）シクロヘキサン、ヒドロキシピバリン酸エステルネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡジグリシジルエーテル（メタ）アクリレート、エポキシ変性ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。

また、必要に応じて上記多官能モノマーに単官能モノマーを併用して共重合させても良い。単官能モノマーとしては、例えば、Ｎ−ビニルピロリドン、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリル酸エステル類、エチル（メタ）メタクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ノニルフェニル（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリル酸エステル等、テトラフルフリル（メタ）アクリレート。及びそのカプロラクトン変性物などの誘導体、スチレン、α−メチルスチレン、（メタ）アクリル酸等及びそれらの混合物が挙げられる。

〔パターン配向層用組成物３２の塗工〕
パターン配向層用組成物３２を塗工するにあたり、本実施形態では、グラビアコートの手法を適用してパターン配向層用組成物３２を塗工しているが、これに限るものではない。具体的には、グラビアコート法のほか、リバースコート法、ナイフコート法、ディップコート法、スプレーコート法、エアーナイフコート法、スピンコート法、ロールコート法、プリント法、浸漬引き上げ法、カーテンコート法、ダイコート法、キャスティング法、バーコート法、エクストルージョンコート法、Ｅ型塗布方法等を用いることができる。

パターン配向層形成用層１２’の厚さは、所望の平面性を達成できる範囲内であれば特に限定されるものではないが、０．５μｍ〜１０μｍの範囲内であることが好ましく、１μｍ〜５μｍの範囲内であることがより好ましく、１．５μｍ〜３μｍの範囲内であることがさらに好ましい。

［（Ｂ）溶剤除去処理］
溶剤除去処理では、乾燥機３３を用いてパターン配向層用組成物３２を乾燥させて溶剤除去する。この処理では、図示しない反転ローラにより基材１１の上下を逆転させた後、乾燥機３３に導き、ここでパターン配向層用組成物３２を溶剤除去した後、半乾きの状態で次の工程に送出する。

乾燥温度は、６０℃以上１５０℃以下であることが好ましい。６０℃未満であると溶剤除去できず、耐久性悪化の原因になる点で好ましくない。１５０℃を超えると、基材１１や薄膜が収縮する可能性があるため、好ましくない。

乾燥時間は、０．５分以上１０分未満であることが好ましい。０．５分未満であると、溶剤除去できず、耐久性悪化の原因になる点で好ましくない。１０分を超えると、ハジキや欠点が発生する可能性や、基材１１や薄膜が収縮する可能性があるため、好ましくない。

［（Ｃ）賦型処理］
続いて、転写用金型の表面に形成された微細な凹凸形状をパターン配向層形成用層１２’の表面に転写する賦型処理を行う。賦型処理において、円筒形状によるロール版３４が転写用金型であり、このロール版３４の表面に転写に供する微細な凹凸形状が形成されている。ここでこの転写用金型の微細な凹凸形状は、ラビング等の手法により原盤の表面にスジ状の模様を密に作製して形成され、このスジの延長方向が、右目用及び左目用の領域Ａ及びＢで、９０度異なる方向となるように、かつ各領域の延長方向に対して４５度傾くように形成される。なおこの各領域の延長方向に対する傾きにあっては、基材２のリタデーションが無視できない程度に大きい場合には、リタデーション値に応じて、適宜、増減される。賦型処理では、押圧ローラ３５を用いてパターン配向層形成用層１２’をロール版２０に押圧し、この状態で紫外線照射装置３６から紫外線を基材１１側から照射し、パターン配向層用組成物３２を硬化させる。また剥離ローラ３７によりロール版２０から基材１１を剥離した後、紫外線照射装置３８から紫外線をパターン配向層形成用層１２’側より照射し、未硬化のパターン配向層用組成物３２を硬化させる。

紫外線の波長は、パターン配向層用組成物３２の組成等に応じて適宜設定されるものであり、具体的には、波長が２１０ｎｍ〜３８０ｎｍ、好ましくは２３０ｎｍ〜３８０ｎｍ、さらに好ましくは２５０ｎｍ〜３８０ｎｍの照射光を用いることが好ましい。

紫外線の光源としては、低圧水銀ランプ（殺菌ランプ、蛍光ケミカルランプ、ブラックライト）、高圧放電ランプ（高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ）、ショートアーク放電ランプ（超高圧水銀ランプ、キセノンランプ、水銀キセノンランプ）等が例示できる。中でも、メタルハライドランプ、キセノンランプ、高圧水銀ランプ灯等を好ましく用いることができる。

紫外線の照射量は、パターン配向層用組成物３２を硬化できる量であれば特に限定されるものではないが、例えば、波長３１０ｎｍである場合には、５ｍＪ／ｃｍ^２〜５００ｍＪ／ｃｍ^２の範囲内であることが好ましく、７ｍＪ／ｃｍ^２〜３００ｍＪ／ｃｍ^２の範囲内であることがより好ましく、１０ｍＪ／ｃｍ^２〜１００ｍＪ／ｃｍ^２の範囲内であることがさらに好ましい。

紫外線の照射距離、すなわち、紫外線の照射を受ける長尺フィルムの搬送方向の距離としては、各露光処理で上述の照射量とすることができるものであれば特に限定されるものではなく、ライン速度等に応じて適宜設定することができる。照射距離が短い場合には、パターン精度の高いものとすることが容易となり、照射距離が長い場合には、ライン速度の速い場合でも十分に硬化できるといった利点がある。なお、照射距離を長くする方法としては、各露光処理での紫外線の照射回数を複数回としたり、搬送方向に照射面積を広くする方法を挙げることができる。

薄膜に対して紫外線を照射する際、薄膜の温度が一定となるように温度調節することが好ましい。配向領域を精度良く形成することができるからである。薄膜の温度は、１５℃〜９０℃であることが好ましく、１５℃〜６０℃であることがより好ましい。温度調節の方法としては、一般的な加熱・冷却装置等の温度調節装置を用いる方法を挙げることができる。具体的には所定の温度の空気を送風することができる送風装置を用いる方法や、上記搬送手段として、温度調節可能なものを用いる方法、より具体的には、温度調節可能な搬送用ロールやベルトコンベア等を用いる方法を挙げることができる。

パターン配向層１２の厚さは、所望のパターンを形成できる範囲内であれば特に限定されるものではないが、１００ｎｍ〜１０００ｎｍの範囲内であることが好ましい。１００ｎｍ未満であると、所望のパターンを形成できない可能性があるため、好ましくない。１０００ｎｍを超えると、密着力が低減する可能性があるため、好ましくない。

［（Ｄ）位相差層形成用塗工液塗工処理］
図２に戻り、位相差層形成用塗工液塗工処理について説明する。本実施形態では、位相差層形成用塗工液の供給装置３９から位相差層形成用塗工液を塗工している。具体的な塗工の方法としては、パターン配向層１２上に位相差層形成用塗工液からなる塗膜を安定的に形成できる方法であれば特に限定されるものではなく、（Ａ）組成物塗工処理で説明したものと同じものを例示できる。

〔位相差層形成用塗工液〕
位相差層形成用塗工液は、１種又は２種以上の重合性液晶化合物を含有する。以下、このことについて詳しく説明する。

（重合性液晶化合物）
重合性液晶化合物は、屈折率異方性を有し、賦型処理によって発現される配向パターンに沿って規則的に配列することにより、所望の位相差性を付与する機能を有する。重合性液晶化合物として、例えば、ネマチック相、スメクチック相等の液晶相を示す材料が挙げられるが、他の液晶相を示す液晶化合物と比較して規則的に配列させることが容易である点で、ネマチック相を示す液晶化合物を用いることがより好ましい。

上記ネマチック相を示す液晶化合物として、メソゲン両端にスペーサを有する材料を用いることが好ましい。メソゲン両端にスペーサを有する液晶化合物は柔軟性に優れるため、このような液晶化合物を用いることにより、パターン位相差フィルムを透明性に優れたものにすることができる。

液晶化合物は、分子内に重合性官能基を有する。重合性官能基を有することにより、液晶化合物を重合して固定することが可能になるため、配列安定性に優れ、位相差性の経時変化が生じにくくなる。また、液晶化合物は、分子内に三次元架橋可能な重合性官能基を有することがより好ましい。三次元架橋可能な重合性官能基を有することにより、配列安定性をいっそう高めることができる。なお、「三次元架橋」とは、液晶性分子を互いに三次元に重合して、網目（ネットワーク）構造の状態にすることをいう。

上記重合性官能基としては、例えば、紫外線、電子線等の電離放射線、あるいは熱の作用によって重合する重合性官能基を挙げることができる。これら重合性官能基の代表例としては、ラジカル重合性官能基、あるいはカチオン重合性官能基等が挙げられる。さらにラジカル重合性官能基の代表例としては、少なくとも１つの付加重合可能なエチレン性不飽和二重結合を持つ官能基が挙げられ、具体例としては、置換基を有するもしくは有さないビニル基、アクリレート基（アクリロイル基、メタクリロイル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基を包含する総称）等が挙げられる。また、上記カチオン重合性官能基の具体例としては、エポキシ基等が挙げられる。その他、重合性官能基としては、例えば、イソシアネート基、不飽和３重結合等が挙げられる。中でも、プロセス上の点から、エチレン性不飽和二重結合を持つ官能基が好適に用いられる。

さらにまた、液晶化合物は、末端に上記重合性官能基を有するものが特に好ましい。このような液晶化合物を用いることにより、例えば、互いに三次元に重合して、網目（ネットワーク）構造の状態にすることができるため、列安定性を備え、かつ、光学特性の発現性に優れた上記を形成できるからである。なお、本発明においては片末端に重合性官能基を有する液晶化合物を用いた場合であっても、他の分子と架橋して配列安定化することができる。

本発明に用いられる液晶化合物の具体例としては、下記式（１）〜（１６）で表される化合物を例示できる。

なお、重合性液晶化合物は、酸素原子以外の孤立電子対を有する原子を有さない孤立電子対非含有化合物のみで構成されていると、より好ましい。このようにすることで、所望の位相差性を発揮すること、また、帯電による外観不良を抑えることに寄与できる。また、孤立電子対非含有化合物は、分子中に電子吸引性基を有さないことが好ましい。具体的に、孤立電子対非含有化合物は、分子中にシアノ基又はハロゲン基を有さないことが好ましく、分子末端にシアノ基又はハロゲン基を有さないことが好ましく、フェニル基のパラ位をシアノ基又はハロゲン基で置換したｐ−置換フェニル基を分子末端に有さないことが好ましい。

重合性液晶化合物の量は、パターン配向層１２上に塗布する塗布方法に応じて、位相差層形成用塗工液の粘度を所望の値にできるものであれば特に限定されないが、上記塗工液中、５質量部〜４０質量部の範囲内であることが好ましく、１０質量部〜３０質量部の範囲内であることがより好ましい。５質量部未満であると、重合性液晶化合物が少なすぎるために、位相差層１３への入射光を適切に配向できない可能性があるため、好ましくない。３０質量部を超えると、位相差層形成用塗工液の粘度が高くなりすぎるため、作業性が劣るため、好ましくない。

重合性液晶化合物は、１種類のみを用いてもよく、２種以上を混合して用いてもよい。例えば、重合性液晶化合物として、両末端に重合性官能基を１つ以上有する液晶化合物と、片末端に重合性官能基を１つ以上有する液晶化合物とを混合して用いると、両者の配合比の調整により重合密度（架橋密度）及び光学特性を任意に調整できる点から好ましい。また、信頼性確保の観点からは、両末端に重合性官能基を１つ以上有する液晶化合物が好ましいが、液晶配向の観点からは両末端の重合性官能基が１つであることが好ましい。

（溶媒）
上記した重合性液晶化合物は、通常溶媒に溶かされている。溶媒は、重合性液晶化合物を均一に分散できるものであれば特に限定されるものではなく、例えば、ベンゼン、ヘキサン等の炭化水素系溶媒、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン（以下「ＣＨＮ」という。）等のケトン系溶媒、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン、プロピレングリコールモノエチルエーテル（ＰＧＭＥ）等のエーテル系溶媒、クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化アルキル系溶媒、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のエステル系溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等のアミド系溶媒、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド系溶媒、シクロヘキサン等のアノン系溶媒、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール（以下「ＩＰＡ」という。）等のアルコール系溶媒を例示することができるが、これらに限られるものではない。また、溶媒は、１種類であってもよいし、２種類以上の溶媒の混合溶媒であってもよい。

溶媒の量は、重合性液晶化合物１００質量部に対して６６質量部以上９００質量部以下であることが好ましい。６６質量部未満であると、重合性液晶化合物を均一に塗工溶かすことができない可能性がある点で好ましくない。９００質量部を超えると、溶媒の一部が残存し、信頼性が低下する可能性、及び均一に塗工できない可能性がある点で好ましくない。

（他の化合物）
重合性液晶組成物は、必要に応じて他の化合物を含むものであっても良い。他の化合物は、上記した重合性液晶化合物の配列秩序を害するものでなければ特に限定されるものではなく、例えば、重合開始剤、重合禁止剤、可塑剤、界面活性剤及びシランカップリング剤等を挙げることができる。

（重合開始剤）
重合開始剤として、例えば、ベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、４，４−ビス（ジメチルアミン）ベンゾフェノン、４，４−ビス（ジエチルアミン）ベンゾフェノン、α−アミノ・アセトフェノン、４，４−ジクロロベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４−メチルジフェニルケトン、ジベンジルケトン、フルオレノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルジクロロアセトフェノン、チオキサントン、２−メチルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、ジエチルチオキサントン、ベンジルジメチルケタール、ベンジルメトキシエチルアセタール、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、アントラキノン、２−ｔｅｒｔ−ブチルアントラキノン、２−アミルアントラキノン、β−クロルアントラキノン、アントロン、ベンズアントロン、ジベンズスベロン、メチレンアントロン、４−アジドベンジルアセトフェノン、２，６−ビス（ｐ−アジドベンジリデン）シクロヘキサン、２，６−ビス（ｐ−アジドベンジリデン）−４−メチルシクロヘキサノン、２−フェニル−１，２−ブタジオン−２−（ｏ−メトキシカルボニル）オキシム、１−フェニル−プロパンジオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、１，３−ジフェニル−プロパントリオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、１−フェニル−３−エトキシ−プロパントリオン−２−（ｏ−ベンゾイル）オキシム、ミヒラーケトン、２−メチル−１［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン、ナフタレンスルホニルクロライド、キノリンスルホニルクロライド、ｎ−フェニルチオアクリドン、４，４−アゾビスイソブチロニトリル、ジフェニルジスルフィド、ベンズチアゾールジスルフィド、トリフェニルホスフィン、カンファーキノン、アデカ社製Ｎ１７１７、四臭化炭素、トリブロモフェニルスルホン、過酸化ベンゾイン、エオシン、メチレンブルー等の光還元性色素とアスコルビン酸やトリエタノールアミンのような還元剤との組み合わせ等を例示できる。本実施形態では、これらの光重合開始剤を１種又は２種以上を組み合わせて用いることができる。

光重合開始剤は、液晶の配向を大きく損なわない範囲で添加することが必要であり、重合性液晶組成物１００質量部に対し、０．０１〜１５質量部であることが好ましく、０．１〜１２質量部であることがより好ましく、０．１〜１０質量部であることがさらに好ましく、０．５〜１０質量部であることがよりさらに好ましい。

また、重合開始剤のほか、重合開始助剤を併用してもよい。重合開始助剤として、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン等の３級アミン類や、２−ジメチルアミノエチル安息香酸、４−ジメチルアミド安息香酸エチル等の安息香酸誘導体を例示することができるが、これらに限られるものではない。

（重合禁止剤）
重合禁止剤は、重合性液晶組成物の保存安定性を高めるために用いられる。重合禁止剤として、例えば、ジフェニルピクリルヒドラジド、トリ−ｐ−ニトロフェニルメチル，ｐ−ベンゾキノン、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルカテコール、ピクリン酸、塩化銅、メチルハイドロキノン、メトキノン、ｔｅｒｔ−ブチルハイドロキノン等の反応の重合禁止剤を用いることができるが、保存安定性の点から、ハイドロキノン系重合禁止剤が好ましく、メチルハイドロキノンを用いるのが特に好ましい。

（界面活性剤）
界面活性剤は、重合性液晶組成物の動的表面張力を調整し、位相差層の横スジムラを抑制するために用いられる。

界面活性剤の例として、フッ素系界面活性剤が挙げられる。フッ素系界面活性剤としては、末端、主鎖及び側鎖の少なくともいずれかの部位にフルオロアルキル基あるいはフルオロアルキレン基を有する化合物が好ましく、その具体例としては、１，１，２，２−テトラフロロオクチル（１，１，２，２−テトラフルオロ−ｎ−プロピル）エーテル、１，１，２，２−テトラフルオロ−ｎ−オクチル（ｎ−ヘキシル）エーテル、オクタエチレングリコールジ（１，１，２，２−テトラフルオロ−ｎ−ブチル）エーテル、ヘキサエチレングリコール（１，１，２，２，３，３−ヘキサフルオロ−ｎ−ペンチル）エーテル、オクタプロピレングリコールジ（１，１，２，２−テトラフルオロ−ｎ−ブチル）エーテル、ヘキサプロピレングリコールジ（１，１，２，２，３，３−ヘキサフルオロ−ｎ−ペンチル）エーテル、１，１，２，２，３，３−ヘキサフルオロ−ｎ−デカン、１，１，２，２，８，８，９，９，１０，１０−デカフルオロ−ｎ−ドデカン、パーフルオロ−ｎ−ドデシルスルホン酸ナトリウムや、フルオロアルキルベンゼンスルホン酸ナトリウム、フルオロアルキルホスホン酸ナトリウム、フルオロアルキルカルボン酸ナトリウム等のアニオン系界面活性剤、フルオロアルキルポリオキシエチレンエーテル、ジグリセリンテトラキス（フルオロアルキルポリオキシエチレンエーテル）、パーフルオロアルキルポリオキシエタノール、パーフルオロアルキルアルコキシレート、フッ素系アルキルエステル等のノニオン系界面活性剤、フルオロアルキルアンモニウムヨージド等のカチオン系界面活性剤、フルオロアルキルベタイン等の両性界面活性剤を挙げることができる。このうち、位相差層を液晶表示素子に用いた場合の電圧保持率を良好に維持できるという観点から、特にノニオン系界面活性剤が好適に用いられる。

フッ素系界面活性剤の市販品としては、商品名で、例えば、ＢＭ−１０００、同−１１００（以上、ＢＭ ＣＨＥＭＩＥ社製）、メガファックＦ１４２Ｄ、同Ｆ１７２、同Ｆ１７３、同Ｆ１８３、同Ｆ１７８、同Ｆ１９１、同Ｆ４４４、同Ｆ４７１、同Ｆ４７５、同Ｆ４７６、同Ｆ４７７、同Ｆ５５３、同Ｆ５５４（以上、ＤＩＣ社製）、フロラードＦＣ−１７０Ｃ、同ＦＣ−１７１、同ＦＣ−４３０、同ＦＣ−４３１（以上、住友スリーエム社製）、サーフロンＳ−１１２、同Ｓ−１１３、同Ｓ−１３１、同Ｓ−１４１、同Ｓ−１４５、同Ｓ−３８２、同ＳＣ−１０１、同ＳＣ−１０２、同ＳＣ−１０３、同ＳＣ−１０４、同ＳＣ−１０５、同ＳＣ−１０６（以上、旭硝子社製）、エフトップＥＦ３０１、同ＥＦ３０３、同ＥＦ３５２（以上、新秋田化成社製）、フタージェントＦＴ−１００、同ＦＴ−１１０、同ＦＴ−１４０Ａ、同ＦＴ−１５０、同ＦＴ−２５０、同ＦＴ−２５１、同ＦＴＸ−２５１、同ＦＴＸ−２１８、同ＦＴ−３００、同ＦＴ−３１０、同ＦＴ−４００Ｓ（以上、ネオス社製）等を挙げることができる。

フッ素系界面活性剤は、液晶の配向を大きく損なわない範囲で添加することが好ましく、重合性液晶組成物１００質量部に対して０．０１〜５質量部となるように添加することが好ましい。０．０１質量部以上となる量を添加することにより液晶組成物に十分な塗工性を付与することができ、横スジムラの良好な防止効果が発揮される。また添加量を５質量部以下とすることによって、位相差層中の液晶に配向不良が生じることや、位相差層の電気信頼性が低下することを抑制できる。

〔位相差層形成用層の厚さ〕
位相差層１３は棒状化合物が含有されることにより、位相差性を発現するものになっているところ、当該位相差性の程度は棒状化合物の種類及び位相差層１３の厚さに依存して決定されるものである。したがって、位相差層形成用層の厚さは、所定の位相差性を達成できる範囲内とするものであれば特に限定されるものではなく、位相差フィルム１の用途等に応じて適宜決定されるものである。

［（Ｅ）除電処理］
続いて、除電装置４０を用いて、基材１１を除電する除電処理を行う。従来、基材１１、パターン配向層１２及び位相差層形成用層１３’を含む積層体は、例えば図３に示すように、複数のゴムローラ５０Ａ，５０Ｂ，５０Ｃ，・・・を用いてレベリング装置４１に搬送されている。しかし、位相差層形成用層１３’に含まれる重合性液晶組成物は誘電率異方性を有し、電圧を加えられると配向が変化する。そのため、図４に示すように、パターン配向層１２で規定された配向方向に沿って配向していた位相差層形成用層１３’中の重合性液晶組成物１４が、図３に示す基材１１と複数のゴムローラ５０Ａ，５０Ｂ，５０Ｃ，・・・との摩擦による静電気によって、図５に示すように、電界方向に沿って配向される。

本発明では、位相差層形成用層１３’の形成後、次工程に移るのに先立って基材１１を除電することから、基材１１が複数のゴムローラ５０Ａ，５０Ｂ，５０Ｃ，・・・と接触しても、基材１１と、複数のゴムローラ５０Ａ，５０Ｂ，５０Ｃ，・・・との摩擦によって静電気が発生することを抑えることができ、結果として、重合前の重合性液晶組成物１４の配向が乱れることを防止できる。

除電は、位相差層形成用層１３’を形成した後、この位相差層形成用層１３’の層厚を均一にするまでの間に行えばよいが、基材１１がゴムローラ５０Ａ，５０Ｂ，５０Ｃ，・・・に接触し始めるまでの間に行うことがより好ましい。

図６は、除電装置４０の概略図を示す。除電装置４０は、導電線３７ａと、基材１１を幅方向で挟むように設けられ、上記導電線３７ａを支持する２本の支持体３７ｂとにより構成され、２本の支持体３７ｂのうち１本は、交流高電圧ＨＶに接続されている。

導電線３７ａは、タングステンやステンレス等の金属製ワイヤーであっても、導電性繊維を紐状又は糸状とした導電繊維線であってもよいが、全体を均一に除電する能力に優れる点で導電繊維線を用いることが好ましい。導電繊維線は、従来用いられているものを用いればよいが、例えば、硫化銅を含む導電性材料をアクリル繊維に混合した混紡糸や、ステンレス繊維とポリエステル繊維との混紡糸等が知られている。また、導電繊維線の市販品として、自己放電式除電紐ベキスタット（ベカルト東網メタルファイバー社製）、ＴＳＪＯ４１００（トスコ社製）、除電のれん紐（商品名：ＳＰＳ３０５-Ｂ７１Ｓ Ｂ−１００，矢崎化工社製）、防爆型除電バー（ヒューグルエレクトロニクス社製）、除電バー（商品名：Ｎ１０−１６００−１８００，直径：２０ｍｍ，富士機工社製）等が知られている。

導電線３７ａの太さは、１ｍｍ以上１００ｍｍ以下であることが好適である。１ｍｍ未満であると、切断してしまう恐れがある点で好ましくない。１００ｍｍを超えると、取り扱いが難しくなる点で好ましくない。

除電装置４０を用いた除電は、導電線３７ａを２本の支持体３７ｂに直線状に張架した。導電線３７ａに対し、基材１１、パターン配向層１２及び位相差層形成用層１３’を含む積層体を非接触で交差させることによって行う。この際、位相差層形成用層１３’の表面と導電線３７ａとの距離は２０ｍｍ以下であることが好適であり、１０ｍｍ以下であることがより好適である。２０ｍｍを超えると、除電性能が劣り、重合性液晶組成物１４の配向に乱れが生じ得る点で好ましくない。

［（Ｆ）レベリング処理］
続いて、レベリング装置４１を用いて、位相差層形成用層の層厚を均一にするレベリング処理を行う。位相差層形成用塗工液からなる位相差層形成用層の厚さは、その後に形成される位相差層１３の面内位相差がλ／４分に相当するような範囲内となるように塗布することが好ましい。これにより、第１位相差領域１３Ａ及び第２位相差領域１３Ｂを通過する直線偏光を、互いに直交関係にある円偏光にすることができ、結果として、より精度良く三次元映像を表示できるためである。

位相差層１３の厚さを位相差層１３の面内位相差がλ／４分に相当するような範囲内の距離にする場合、具体的にどの程度の距離にするかは、棒状化合物の種類により適宜決定されることになる。一般的な棒状化合物を用いる場合、当該距離は０．５μｍ〜２μｍの範囲内となるが、これに限られるものではない。なお、λは波長５００ｎｍである。これにより、位相差層１３を通過する直線偏光を互いに直交関係にある円偏光にすることができるため、より精度良く３次元映像を表示できる。

［（Ｇ）配向処理］
続いて、位相差層形成用塗工液の塗膜に含まれる棒状化合物を、上記パターン配向層１２に含まれる第１配向領域１２Ａ及び第２配向領域１２Ｂの異なる配向方向に沿って、棒状化合物を配列させる。棒状化合物を配列させる方法としては、所望の方向に配列させることができる方法であれば特に限定されるものではなく、例えば、乾燥機４２を用いて棒状化合物を液晶相形成温度以上に加温することが挙げられる。

本処理によって形成される位相差層１３のパターンは、パターン配向層１２のパターンと同一となり、右目用の領域に対応する第１配向領域１２Ａ上には、右目用の領域に対応する第１位相差領域１３Ａが形成され、左目用の領域に対応する第２配向領域１２Ｂ上には、左目用の領域に対応する第２位相差領域１３Ｂが形成される。

位相差層１３に第１位相差領域１３Ａ及び第２位相差領域１３Ｂが形成されているか否かは、例えば、偏光板クロスニコルの中にサンプルを入れて、サンプルを回転させた場合に明線と暗線が反転することを確認することにより評価することができる。このとき、右目用の領域Ａ及び左目用の領域Ｂからなるパターンが細かい場合は偏光顕微鏡で観察するとよい。また、ＡＸＯＭＥＴＲＩＣＳ社（米国）製のＡｘｏＳｃａｎを用いて各パターン内の遅相軸の方向（角度）を測定しても良い。

位相差層１３の面内位相差は、１００ｎｍ〜１６０ｎｍの範囲内であることが好ましく、１１０ｎｍ〜１５０ｎｍの範囲内であることがより好ましく、１２０ｎｍ〜１３０ｎｍの範囲内であることがさらに好ましい。なお、位相差層１３において第１位相差領域１３Ａ及び第２位相差領域１３Ｂが示す面内位相差は、遅相軸の方向が異なる以外はほぼ同一となる。

ところで、乾燥機４２を用いて棒状化合物を液晶相形成温度以上に加温する際、棒状化合物が所望の方向に配列されるだけでなく、位相差層形成用塗工液の塗膜が乾燥される。塗膜の乾燥は、残留する溶媒量に応じて適宜調整すればよいが、上記塗膜に当てる乾燥風の風速は、３ｍ／秒以下であることが好ましく、特に０．５ｍ／秒以下であることが好ましい。

また、温度条件としては、用いた液晶の液晶→等方相転移温度にもよるが、４０℃〜１５０℃の範囲内であることが好ましく、５０℃〜１２０℃の範囲内であることがより好ましく、特に、５５℃〜１１０℃の範囲内であることがさらに好ましい。また、乾燥時間としては、０．２〜３０分の範囲内であることが好ましく、０．５分〜２０分の範囲内であることがより好ましく、特に、１分〜１０分の範囲内であることがさらに好ましい。この条件であることにより、安定的に溶媒を除去できるからである。

［（Ｈ）冷却処理］
その後、冷却機４３を用いて、基材１１／パターン配向層１２／位相差層１３からなる積層体を冷却する冷却処理を行う。冷却処理は、積層体が室温になる程度まで行えばよい。

［（Ｉ）硬化処理］
続いて、重合性棒状化合物を重合し硬化させる硬化処理を行う。重合性棒状化合物を重合させる方法としては、重合性棒状化合物が有する重合性官能基の種類に応じて任意に決定すればよいが、適量の重合開始剤を加えて、活性放射線の照射により硬化させる方法が好ましい。活性放射線としては、重合性棒状化合物を重合することが可能な放射線であれば特に限定されるものではないが、通常は装置の容易性等の観点から紫外光又は可視光を使用することが好ましく、具体的には、パターン配向層１２を形成する際に用いた紫外線と同様とすることができる。このような硬化処理を経ることにより、互いに重合して、網目（ネットワーク）構造の状態にすることができるため、列安定性を備え、かつ、光学特性の発現性に優れた位相差層１３を形成できる。

配向パターンを形成する際に設定した配向軸と、位相差層１３の配向軸との角度差の絶対値で定義される配向ズレ角度は、３度以内であることが好ましく、２度以内であることがより好ましい。３度を超えると、均一な配向を得られない可能性があるため、好ましくない。

＜フラットパネルディスプレイ＞
上記位相差フィルム１は、三次元表示用のフラットパネルディスプレイに用いることが好適であり、三次元表示用のフラットパネルディスプレイに用いることで、光配向性に優れるという格別の効果を奏する。

以下、実施例により本発明をさらに具体的に説明するが、本発明は、以下の実施例に限定されるものではない。

＜実施例及び比較例＞

＜位相差フィルムの製造＞
図２で説明した製造工程を経て実施例及び比較例に係る位相差フィルムを得た。その際、基材は、表面に防眩処理が施されたＴＡＣ基材（商品名：ＴＤ６０ＵＬ−Ｐ，厚さ：６０μｍ，富士フィルム社製）を用い、搬送速度は１２ｍ／ｍｉｎとした。

まず、ウレタンアクリレート（商品名：ＵＶ１７００Ｂ，固形分：１００％，日本合成化学社製）１００質量部と、ペンタエリスリトールトリアクリレート（商品名：ライトアクリレートＰＥ−３Ａ，固形分１００％，共栄化学社製）１００質量部と、光重合開始剤（商品名：ルシリンＴＰＯ，ＢＡＳＦ社製）８質量部とを、固形分４５％、粘度２５００ｍＰａ・ｓになるように希釈液に溶解させて、パターン配向層用組成物を得た。希釈液は、メチルエチルケトン８０質量部とメチルイソブチルケトン２０質量部との混合溶液を用いた。

その後、上記ＴＡＣ基材の裏面に、上記パターン配向層用組成物を、硬化後の膜厚が５μｍとなるようにグラビアコート法にて塗布した。そして、１００℃に調整した乾燥機内に１分間流し、溶媒を蒸発させた。これによって、厚さ５μｍの薄膜が形成された。

この薄膜に対し、押圧ローラを用いて、表面に微細な凹凸形状が形成されたロール版に押圧し、この状態で基材側から紫外線を照射した。このとき、紫外線照射装置は、「Ｈバルブ」（フュージョン社製）を用いた。また、紫外線の波長は３５０ｎｍとし、積算光量は３５０ｍＪ／ｃｍ^２とした。積算光量の測定は、紫外線光量計「ＵＶ−３５１」（オーク製作所社製）を用いて測定した。

続いて、剥離ローラを用いてロール版から基材を剥離した後、薄膜側から紫外線を再度照射した。紫外線の波長は３００ｎｍとし、積算光量は３００ｍＪ／ｃｍ^２とした。

続いて、表１に示す２種類の重合性液晶組成物を５０質量部：５０質量部で混合した混合物を、パターン配向膜のパターン配向層上にダイコート法にて塗布した。その後、実施例について、基材、パターン配向層及び位相差層形成用層を含む積層体がこの積層体を搬送する搬送ローラを通過するまでの間に、除電を行った。比較例については、除電を行わなかった。

除電は、次のようにして行った。自己放電式除電紐（商品名：ベキスタット，ベカルト東網メタルファイバー社製）を図６に示すように両側の支持体に直線状に張架した。除電紐の長さは１５００ｍｍであり、位相差層形成用層の表面と導電線との距離は、表１に示す通りであった。

除電の後、位相差層形成用層の最終的な層厚が１μｍとなるようにレベリングした。そして、６０℃に調整した第１乾燥機内に１分間、９５℃に調整した第２乾燥機内に０．５分間、１０５℃に調整した第３乾燥機内に０．５分間流し、室温近傍まで冷却した後、上記の紫外線照射装置と同型の紫外線照射装置を用いて波長２６０ｎｍの紫外線を積算光量が３００ｍＪ／ｃｍ^２となるまで照射した。上記の工程を経て、実施例及び比較例に係る位相差フィルムを得た。

＜ウェブ上の帯電の評価＞
まず、除電直後の積層体について、ウェブ上の帯電量を測定した。帯電量は、デジタル静電電位測定器ＭＯＤＥＬ ＫＳＤ−２０００（春日電機社製）を用い、添付の取扱説明書の指示に従い、帯電量を測定した。結果を表２に示す。

＜外観の評価＞
また、位相差フィルムの外観を評価した。外観の評価は、位相差フィルムの両面に偏光板（商品名：ＨＣＬ２−５６１８ＨＣＳ，サンリッツ社製）をクロスニコル配置となるように貼り合わせ、貼り合わせた部材を液晶用バックライトに設置し、部材正面の白濁の程度を暗室下にて目視で観察した。白濁がほとんどなく、配向不良が認められない場合を“○”とし、少し白濁はあるが、配向不良が認められるほどではない場合を“△”とし、白濁の程度が高く、配向不良が認められる場合を“×”とした。結果を表２に示す。

位相差層形成用層を形成した後、重合性液晶組成物が塗布された塗布基材を除電してから塗布基材を乾燥させた場合、除電しない場合に比べ、所望の配向状態であり、外観も優れるパターン位相差フィルムを提供できることが確認された（実施例１〜６）。中でも、位相差層形成用層の表面と除電紐との距離は２０ｍｍ以下であることが好適であり（実施例１〜６）、１０ｍｍ以下であることがより好適であることが確認された（実施例１、２、４、５）。これは、除電した結果、位相差フィルムの製造工程全体において、ウェブ上の帯電が低い値で推移したためと思われる。

また、酸素原子以外の孤立電子対を有する原子を有さない孤立電子対非含有化合物のみで構成されている１種又は２種以上の重合性液晶化合物を含有する重合性液晶組成物を用いたパターン位相差フィルムは、ウェブ上の帯電がより低い値で推移することが確認された（実施例４〜６）。

一方、除電工程を経ない場合、実施例に比べて外観が劣ることが確認された（比較例１）。これは、実施例に比べてウェブ上の帯電が高い結果、その後の工程においても、ウェブ上の帯電量が高く推移することが一因であると考えられる。

１ パターン位相差フィルム
１１ 基材
１２ パターン配向層
１３ 位相差層

Claims (6)

1. 基材に、重合性液晶組成物からなる層を形成する工程と、
   前記重合性液晶組成物を重合することによって前記重合性液晶組成物からなる層を硬化する工程とを含む積層体の製造方法であって、
   前記重合性液晶組成物からなる層を硬化する工程において、前記重合性液晶組成物を塗布した後であって乾燥前に、前記重合性液晶組成物が塗布された塗布基材を除電する工程を備える、積層体の製造方法。
2. 前記除電は、塗布面側から行われる請求項１に記載の積層体の製造方法。
3. 前記除電は、前記重合性液晶組成物を塗布した後であって、最初の搬送ローラを通過するまでの間に行われる、請求項１又は２に記載の積層体の製造方法。
4. 前記除電は、導電性繊維を紐状又は糸状とした導電繊維線を電極支持体に直線状に張架して除電電極とし、これに交流高電圧を印加するとともに、この導電繊維線に対し、前記積層体を非接触で交差させることによって行われ、
   前記重合性液晶組成物からなる層の表面と前記導電繊維線との距離は２０ｍｍ以下である、請求項１から３のいずれかに記載の積層体の製造方法。
5. 前記積層体は、パターン位相差フィルムであり、
   前記重合性液晶組成物からなる層を形成する工程は、基材上に配向パターンを付与してパターン配向層を形成する工程の後、このパターン配向層上に重合性液晶組成物からなる位相差層形成用層を形成することによって行われ、
   前記重合性液晶組成物からなる層を硬化する工程は、前記重合性液晶組成物を前記配向パターンに沿って配列させて位相差層を形成することによって行われる、請求項１から４のいずれかに記載の積層体の製造方法。
6. 前記配向パターンを形成する際に設定した配向軸と、前記位相差層の配向軸との角度差の絶対値で定義される配向ズレ角度が２度以内である、請求項５に記載の積層体の製造方法。

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