JP2013120135A - 自動分析装置 - Google Patents

Abstract

【課題】空気恒温方式を用いた場合に、反応容器外壁の結露や、反応容器外壁への塵や埃の付着に伴う測定精度の低下を防止することを目的とする。
【解決手段】実施形態の自動分析装置は、試料及び試薬を反応容器に分注して、その混合液を測定する。この自動分析装置は、搬送手段と、恒温槽と、清浄機構と、測光部と、を備える。搬送手段は、反応容器を所定の経路に沿って搬送する。恒温槽は、所定の経路に沿って設けられ、反応容器が収容され、内部の気体を所定の温度に保つ。清浄機構は、反応容器の側面に清浄気体を噴出するための噴出口を恒温槽の側壁面に有する。測光部は、噴出口から反応容器の側面に清浄気体を噴出した後または噴出中に当該側面に向けて光を照射し、その反応容器内の混合液を透過した光を検出する。
【選択図】図３Ａ

Description

本発明の実施形態は、血液や尿などのサンプル（被検試料）に試薬を混合した混合液の性質に基づいてサンプルを分析する自動分析装置の技術に関する。

自動分析装置は生化学検査項目や免疫検査項目等を対象とし、被検体から採取された被検試料と各検査項目の試薬との混合液の反応によって生ずる色調や濁りの変化を、分光光度計や比濁計等の測光部で光学的に測定する。これにより、自動分析装置は、被検試料中の様々な検査項目成分の濃度や酵素の活性等で表される分析データを生成する。

自動分析装置では、混合液の反応を一定の温度で行わせる必要があるため、反応容器は、内部が恒温に保たれた恒温槽内に配置されている。恒温槽の内部を恒温に保つための方式には、気体を媒介とする空気恒温方式がある。この方式では、温度調節された気体の循環による熱伝達によって、恒温槽内の温度を一定に保つ。

また、混合液の光学的測定の方法としては、例えば直接測光方式が用いられる。直接測光方式では、被検試料及び試薬が分注された反応容器に光を照射し、反応容器内の混合液を透過した光を検出して測定する。このような直接測光方式では、恒温槽の外側から光を照射して、恒温槽内を透過した光を検出する。

一方で、空気恒温方式を用いた場合、反応容器内の被検試料に冷却された試薬を吐出した場合、反応容器の温度が低下し、反応容器の外壁に結露が生じる場合がある。反応容器の外壁に結露が生じた場合、外壁に付着した水滴によって測定に用いる光が反射、屈折、及び拡散し、測定精度（例えば、吸光度測定の精度）が低下する場合がある。また、恒温槽内に塵や埃が混入する可能性があり、この塵や埃によって測定精度が低下する場合がある。

特開２００８−２６７８３０号公報

この発明の実施形態は、空気恒温方式を用いた場合に、反応容器外壁の結露や、反応容器外壁への塵や埃の付着に伴う測定精度の低下を防止することを目的とする。

上記目的を達成するために、この実施形態の第１の態様は、試料及び試薬を反応容器に分注して、その混合液を測定する自動分析装置である。この自動分析装置は、搬送手段と、恒温槽と、清浄機構と、測光部と、を備える。搬送手段は、反応容器を所定の経路に沿って搬送する。恒温槽は、所定の経路に沿って設けられ、反応容器が収容され、内部の気体を所定の温度に保つ。清浄機構は、反応容器の側面に清浄気体を噴出するための噴出口を恒温槽の壁面に有する。測光部は、噴出口から反応容器の側面に清浄気体を噴出した後または噴出中に当該側面に向けて光を照射し、その反応容器内の混合液を透過した光を検出する。

本実施形態に係る自動分析装置の斜視図である。 本実施形態に係る清浄機構の構成を説明するための図である。 第１の実施形態に係る清浄機構の構成を説明するための図である。 第１の実施形態に係る清浄機構の設置位置を説明するための図である。 第２の実施形態に係る清浄機構の構成を説明するための図である。 第２の実施形態に係る清浄機構の設置方法一例である。 第２の実施形態に係る清浄機構の設置方法一例である。 第３の実施形態に係る清浄機構の構成を説明するための図である。 第４の実施形態に係る清浄機構の構成の一例である。 第５の実施形態に係る清浄機構の構成を説明するための図である。 恒温槽内を陽圧状態に保つための一態様を示した図である。

（第１の実施形態）
第１の実施形態に係る自動分析装置について図１を参照しながら説明する。本実施形態に係る自動分析装置は、サンプル部２と、試薬部３と、反応部１とを含んで構成される。

サンプル部２は、試料容器２１と、サンプラ２２と、サンプルプローブ２３とを含む。

試料容器２１は、キャリブレータ、精度管理用試料、あるいは被検試料などの試料を収容する。試料容器２１は、サンプラ２２により保持される。

サンプルプローブ２３は、サンプラ２２に保持された試料容器２１内の各試料を吸引して反応容器１１内へ吐出する分注を行う。反応容器１１については後述する。サンプルプローブ２３は、アームにより回動及び上下移動可能に保持されている。また、図示しないが、試料の分注が終了する度にサンプルプローブ２３を洗浄水で洗浄する洗浄槽が備えられている。

試薬部３は、試薬容器３１と、試薬庫３２Ａ及び３２Ｂと、試薬プローブ３３Ａ及び３３Ｂとを含む。

試薬容器３１は、試料に対して選択的に反応する試薬を収容する。

試薬庫３２Ａ及び３２Ｂは、それぞれ複数の試薬容器３１を収納する。試薬庫３２Ａ及び３２Ｂはそれぞれ、上面を開口したほぼ円柱状の容器である。試薬庫３２Ａ及び３２Ｂはそれぞれ、複数の試薬容器３１を円周状に配列した状態で収容できる。試薬庫３２Ａ及び３２Ｂは、図示されていない回転機構によってそれぞれ回転される。

試薬プローブ３３Ａは、試薬庫３２Ａに配置された試薬容器３１内の第１試薬を吸引し、試料が分注された反応容器１１内に吐出。同様に、試薬プローブ３３Ｂは、試薬庫３２Ｂに配置された試薬容器３１内の第２の試薬を吸引し、試料が分注された反応容器１１内に吐出する。試薬プローブ３３Ａ及び３３Ｂは、それぞれアームにより回動及び上下移動可能に保持されている。

反応部１は、反応容器１１と、恒温槽１２と、反応ディスク１３と、撹拌ユニット１４と、測光部１５と、清浄機構１６と、洗浄ユニット１７とを含む。

反応容器１１は、試料と試薬との混合液を収容する。

反応ディスク１３は、円周状に配列された複数の反応容器１１を、その円周に沿って回転可能に保持する。反応ディスク１３が回転することにより反応容器１１は、反応ディスク１３が回転する円周方向の所定の経路に沿って搬送される。

恒温槽１２は、円周状に配列された複数の反応容器１１が搬送される経路に沿った環状の形状を有している。恒温槽１２は、反応容器１１が搬送される経路に沿って、対向する側壁面と、底面とによって囲まれる内部空間を形成している。この恒温槽１２内の具体的な構成については、清浄機構１６の具体的な説明とあわせて後述する。恒温槽１２の内部に設けられた内部空間は、各反応容器１１の少なくとも一部、即ち、被検試料や試薬の混合液が分注された部分を包含している。恒温槽１２は、内部空間の温度を制御するために、ヒーターやサーモスタット等の温度を調整する装置を有する。また、恒温槽１２内の内部空間に保持された気体は、循環による熱伝達によって、反応容器１１内の温度が一定に保たれるように制御される。なお恒温槽１２は、反応ディスク１３の回転移動とは独立して固定されており、反応ディスク１３の回転移動を受けて反応容器１１が恒温槽１２内を搬送される。

撹拌ユニット１４は、撹拌子と、撹拌子を回動及び上下移動可能に保持するアームとを含む。撹拌子は、反応容器１１内の試料、第１試薬、及び第２試薬の混合液を撹拌する。

測光部１５は、恒温槽１２内で反応容器１１内の混合液に光を照射して光学的に測定を行う（以降では、「測光」と呼ぶ場合がある）。具体的には測光部１５は、反応容器１１の側面に設けられた照射領域１１１に光を照射する。そして、測光部１５は、反応容器１１内の標準試料や被検試料を含む混合液を透過した光を受光部で受ける。測光部１５は、受光部で受けた光の波長や強度を示すデータを分析部（図示しない）に出力する。分析部は、このデータに基づき、例えば吸光度データで表される標準データや被検データを生成する。なお、以降では、反応容器１１の外周側の側面に設けられた照射領域を「照射領域１１１Ａ」と呼ぶ場合がある。また、反応容器１１の内周側の側面に設けられた照射領域を「照射領域１１１Ｂ」と呼ぶ場合がある。

洗浄ユニット１７は、測光部１５での測光が終了した反応容器１１内に例えば酸性洗剤やアルカリ性洗剤等の洗浄液で洗浄後に水洗いして反応容器１１内を洗浄する。洗剤や洗浄水は排液ノズルで吸引排出し、洗浄後には反応管１１内を乾燥させる。

ここで図２を参照する。図２は、反応部１を上部から見た場合の、反応部１の各構成の位置関係を模式的に示した図である。なお、図２に示すように、Ｘ軸は、反応容器１１の搬送方向、即ち、円周方向を示している。また、Ｙ軸は、Ｘ軸に直交する方向、即ち、反応容器１１の搬送経路を形成する円周の中心から外に向かう方向を示している。

図２に示すように、測光部１５に対して、反応容器１１の搬送方向の上流近傍を少なくとも含む領域Ｓには、清浄機構１６が設けられている。清浄機構１６の詳細な構成については後述する。

制御部１０は、本実施形態に係る自動分析装置の各構成の動作を制御する制御部である。制御部１０は、恒温槽１２に含まれる各構成（例えばサーモスタット等）の動作を制御することで、恒温槽１２内の温度を所定の温度に保つ。また、制御部１０は、清浄機構１６の動作を制御する。このときの制御部１０の詳細な動作については、清浄機構１６の構成とあわせて説明する。

次に図３Ａ及び図３Ｂを参照しながら、本実施形態に係る清浄機構１６の詳細な構成について説明する。図３Ａは、図２の領域Ｓにおける清浄機構１６が設けられた部分を円周方向に直交する面Ｌで切断した場合の、恒温槽１２及び反応容器１１の断面図を示している。なお、Ｚ軸は、Ｘ軸及びＹ軸の双方に直交する方向、即ち、自動分析装置の上下方向を示している。また図３Ｂは、反応部１を上部から見た場合の、清浄機構１６の設置位置を説明するための図である。

前述したとおり、恒温槽１２は、環状に形成されている。また、図３Ａに示すように、恒温槽１２は、その内部にお互いに対向する側壁面、即ち、環の外周側に位置する外周側壁面１２１、及び環の内周側に位置する内周側壁面１２２と、底面１２３とで形成された内部空間を有している。反応容器１１は、内部空間内を反応ディスク１３により搬送される。また、内部空間内には、サーモスタット等の温度を調整する装置（図示しない）により恒温に保たれた気体が供給される。この槽内を恒温に保たれた気体が循環することで、この気体による熱伝達により反応容器１１内の温度が一定に保たれる。

本実施形態に係る清浄機構１６は、図３Ａに示すように、噴出管１６１と、排出管１６２と、ポンプ１６５と、フィルタ１６６と、ヒーター１６７とを含んで構成される。

噴出管１６１は、外周側壁面１２１及び内周側壁面１２２のいずれか一方を貫通し、その端部は恒温槽１２内に向けて開口している。この開口が噴出口１６３に相当する。これにより、噴出管１６１は、恒温槽１２の外部と内部とをつなぐ流路を形成している。清浄機構１６は、恒温槽１２内を搬送される反応容器１１の側面に、この流路から気体を噴出することで、反応容器１１の側面における測光部１５が光を照射する部分に生じた結露や、付着した塵や埃を排除する。そのため、反応容器１１の照射領域１１１Ａに向けて気体が噴出されるように、噴出口１６３の位置や噴出管１６１の向きが調整されて設置されている。なお、以降では、噴出管１６１は、外周側壁面１２１側に設けられているものとして説明する。

また、内周側壁面１２２には、噴出口１６３と対向する位置を貫通するように排出管１６２が設けられている。排出管１６２は、その端部は恒温槽１２内に向けて開口している。この開口が排出口１６４に相当する。これにより、排出管１６２は、恒温槽１２の内部と外部とをつなぐ流路を形成している。

噴出管１６１の、噴出口１６３とは逆側の口は、ポンプ１６５の排出口に接続されている。ポンプ１６５は、外気を取り込み、この取り込んだ外気を噴出管１６１内に排出する。これにより、ポンプ１６５から取り込まれた外気が、噴出口１６３から噴出される。

また、噴出管１６１には、ポンプ１６５と噴出口１６３との間に、フィルタ１６６と、ヒーター１６７とが、ポンプ１６５から噴出口１６３に向けてこの順序で設けられている。

ポンプ１６５から取り込まれた外気は、フィルタ１６６を通過する。このとき外気に混入した塵や埃がフィルタ１６６で取り除かれ、空気のみがフィルタを通過する。
フェルタは除湿機能を兼ね備えてもよい。空気を除湿することで、反応容器１１側面の結露対策に一層の効果が期待できる。このフィルタ１６６を通過した空気を「清浄気体」と呼ぶ。

フィルタ１６６を通過した清浄気体はヒーター１６７により恒温槽１２内の温度に加熱される。ヒーター１６７は、制御部１０により動作が制御されている。具体的には、まず制御部１０は、恒温槽１２内の温度を、例えば恒温槽１２内に設けられた温度センサ（図示しない）等により検知する。制御部１０は、検知された温度に基づきヒーター１６７の加熱温度を設定する。ヒーター１６７は、制御部１０から設定された加熱温度に基づき清浄気体を加熱する。これにより、清浄気体は、恒温槽１２内の温度に加熱される。ヒーター１６７で加熱された清浄気体は、噴出口１６３から反応容器１１の照射領域１１１Ａに向けて噴出される。なお、制御部１０は、恒温槽１２のサーモスタットと、ヒーター１６７との動作をあわせて制御するように動作させることも可能である。この場合には、制御部１０は、恒温槽１２のサーモスタットと、ヒーター１６７との双方の動作を、共通の加熱温度に基づき制御する。この場合には、制御部１０は、必ずしも、温度センサにより検知された恒温槽１２内の温度に基づきヒーター１６７の動作を制御する必要は無い。

また排出口１６４には排出管１６２の一方の口が接合されている。これにより、排出管１６２は、恒温槽１２の内部と外部とをつなぐ流路を形成している。噴出口１６３から恒温槽１２内に噴出された清浄気体は、この排出口１６４及び排出管１６２により形成された流路を介して、恒温槽１２の外部に排出される。

なお、図３Ａに示すように排出管１６２にフィルタ１６８を設けることも可能である。フィルタ１６８を設けることで、噴出口１６３から噴出された清浄気体により除去された塵や埃を、自動分析装置の外部に排出せずに回収することが可能となる。また、排出管１６２にポンプを設けて、恒温槽１２内の気体を吸引するように動作させることも可能である。

上記のように、噴出口１６３が外周側壁面１２１に設けられるように清浄機構１６を構成することで、反応容器１１の照射領域１１１Ａに生じた結露や、付着した塵や埃を排除することが可能となる。

上記と同様にして、噴出管１６１Ｂが内周側壁面１２２に設けられた清浄機構１６Ｂを、図３Ｂに示すように設ける。図３Ｂの１６Ａは、噴出管１６１を外周側壁面１２１に設けた清浄機構１６を示している。また１６Ｂは、噴出管１６１を内周側壁面１２２に設けた清浄機構１６を示している。清浄機構１６Ｂを設けることで、反応容器１１の照射領域１１１Ｂ（図３Ａ参照）に生じた結露や、付着した塵や埃を排除する。以降では、清浄機構１６Ａは、噴出管１６１を外周側壁面１２１に設けた場合を示し、清浄機構１６Ｂは、噴出管１６１を内周側壁面１２２に設けた場合を示しているものとする。また、清浄機構１６の各構成を示す番号に「Ａ」を付した場合（例えば、「噴出口１６３Ａ」）、清浄機構１６Ａの構成を示しているものとする。また、同様にして、清浄機構１６の各構成を示す番号に「Ｂ」を付した場合（例えば、「噴出口１６３Ｂ」）、清浄機構１６Ｂの構成を示しているものとする。

なお、清浄機構１６Ａ及び１６Ｂは、それぞれが１つ以上設けられていればよく、例えば、清浄機構１６Ａ及び１６Ｂを複数設けることも可能である。また、清浄機構１６Ａ及び１６Ｂを複数設ける場合、複数の清浄機構１６Ａ及び１６Ｂ間で、ポンプ１６５やヒーター１６７を共用する構成とすることも可能である。また、噴出口１６３及び排出口１６４は、清浄機構１６ごとに少なくとも１つ以上ずつ設けられていればよく、噴出口１６３の数と排出口１６４の数は等しくなくてもよい。

また清浄機構１６Ａ及び１６Ｂは、測光部１５による測光が行われる前または測光中に照射領域１１１Ａ及び１１１Ｂに生じた結露や、付着した塵や埃を排除できれば、その動作タイミングは限定されない。清浄機構１６Ａ及び１６Ｂは、例えば、自動分析装置による被検試料の測定中に動作させてもよいし、測定を開始する前のスタートアップ動作時に動作させてもよい。

以上、本実施形態に係る自動分析装置は、測光部１５による測光を行う前または測光中に、噴出口１６３から反応容器１１の照射領域に向けて清浄気体を噴出することで、照射領域に生じた結露や、付着した塵や埃を排除する。これにより、本実施形態に係る自動分析装置は、結露や塵及び埃による測光部１５からの光の反射、屈折、及び拡散の発生を防止し、測定精度を向上させることが可能となる。

（第２の実施形態）
第１の実施形態に係る自動分析装置では、１つの清浄機構１６を構成する噴出管１６１が、外周側壁面１２１及び内周側壁面１２２のいずれか一方を貫通するように設けられ、排出管１６２が他方の側壁面を貫通するように設けられている。それに対し、第２の実施形態に係る自動分析装置では、１つの清浄機構１６を構成する噴出管１６１及び排出管１６２を、同じ側壁面を貫通するように設けている。以降では、本実施形態に係る自動分析装置について、図４を参照しながら、第１の実施形態と異なる部分に着目して説明する。図４は、本実施形態における恒温槽１２及び反応容器１１の断面図を示している。

図４に示すように、本実施形態に係る噴出管１６１Ａ及び排出管１６２Ａは、外周側壁面１２１を貫通するように設けられている。また、噴出管１６１Ｂ及び排出管１６２Ｂは、内周側壁面１２２を貫通するように設けられている。

ここで図５Ａを参照する。図５Ａは、清浄機構１６Ａの設置方法、即ち、噴出管１６１Ａ、排出管１６２Ａ、噴出口１６３Ａ、及び排出口１６４Ａの位置関係を示している。なお、図５Ａの軸Ｙ１は、照射領域１１１ＡからＹ軸方向に延びた軸を示している。

図５Ａに示すように、噴出管１６１Ａは、その流路が軸Ｙ１に対してＺ軸方向に角度θ１だけ傾くようにして設けられている。これにより、噴出口１６１Ａから照射領域１１１Ａに向けて清浄気体が噴出される。また、排出管１６２Ａは、その流路が軸Ｙ１に対してＺ軸方向に角度θ２だけ傾くようにして設けられている。このとき、噴出口１６３Ａから噴出され、照射領域１１１Ａで反射した清浄気体が排出口１６４Ａに導かれるように、排出管１６２Ａを設ける位置と、角度θ１及びθ２とを調整する。

なお、噴出管１６１Ａ及び排出管１６２Ａは、図５Ｂに示すように設けてもよい。即ち、噴出管１６１Ａは、その流路が軸Ｙ１に対してＸ軸方向に角度θ３だけ傾くようにして設けられている。これにより、噴出口１６１Ａから照射領域１１１Ａに向けて清浄気体が噴出される。また、排出管１６２Ａは、その流路が軸Ｙ１に対してＸ軸方向に角度θ４だけ傾くようにして設けられている。このとき、噴出口１６３Ａから噴出され、照射領域１１１Ａで反射した清浄気体が排出口１６４Ａに導かれるように、排出管１６２Ａを設ける位置と、角度θ３及びθ４とを調整する。このように、噴出口１６３Ａから噴出された清浄気体が、照射領域１１１Ａで反射し、排出口１６４Ａに導かれるように、噴出管１６１Ａ及び排出管１６２Ａを設けられていれば、その設置位置や設置方向は限定されない。

なお、噴出管１６１Ｂ及び排出管１６２Ｂの設置位置及び設置方向についても同様である。即ち、噴出口１６３Ｂから噴出された清浄気体が、照射領域１１１Ｂで反射し、排出口１６４Ｂに導かれるように、噴出管１６１Ｂ及び排出管１６２Ｂを設ける。

以上、本実施形態に係る自動分析装置は、噴出口１６３から噴出された清浄気体が、照射領域１１１で反射し、排出口１６４に導かれるように、噴出管１６１及び排出管１６２を同一側壁面上に設けている。このような構成とすることで、搬送方向に複数並べられた反応容器１１により、反応容器１１を基準として外周側壁面１２１側と内周側壁面１２２側との間の空気の流れが阻害される場合においても、噴出口１６３と排出口１６４との間の流路を確保することが可能となる。

（第３の実施形態）
第１及び第２の実施形態に係る自動分析装置では、噴出管１６１及び排出管１６２は、恒温槽１２の側壁面に設けられている。それに対して、第３の実施形態に係る自動分析装置では、排出管１６２を、恒温槽１２の底面を貫通するように設けている。以降では、本実施形態に係る自動分析装置について、図６を参照しながら、第２の実施形態と異なる部分に着目して説明する。図６は、本実施形態における恒温槽１２及び反応容器１１の断面図を示している。

図６に示すように、本実施形態に係る排出管１６２Ａ及び１６２Ｂは、恒温槽１２の底面１２３を貫通するように設けられている。このとき、噴出口１６３Ａから噴出され照射領域１１１Ａで反射した清浄気体が、排出口１６４Ａに導かれるように、排出管１６２Ａを設置する位置を調整する。これは、排出管１６２Ｂについても同様である。即ち、噴出口１６３Ｂから噴出され照射領域１１１Ｂで反射した清浄気体が、排出口１６４Ｂに導かれるように、排出管１６２Ａを設置する位置を調整する。

以上、本実施形態に係る自動分析装置は、排出管１６２Ａ及び１６２Ｂは、恒温槽１２の底面１２３を貫通するように設けられている。このような構成とすることで、清浄気体により吹き散らされ底面１２３に蓄積した塵及び埃を、排出管１６２Ａ及び１６２Ｂから吸引することが可能となる。

（第４の実施形態）
第４の実施形態に係る自動分析装置について、第２の実施形態とは異なる部分に着目し説明する。

本実施形態に係る自動分析装置は、噴出口１６３から噴出される気体の量が、排出口１６４から吸入される気体の量より多くなるように調整することで、恒温槽１２内を陽圧の状態に維持する。このように動作させるための具体的な一例を以下に示す。

例えば、恒温槽１２から排出される気体の量を少なくするために、排出口１６４の口径を、噴出口１６３の口径より小さくする。また、噴出口１６３から恒温槽１２内に噴出される気体の量が多くなるようにポンプ１６５のパワーを調整する。これにより、恒温槽１２内に噴出される気体の量が、恒温槽１２から排出される気体の量を上回り、陽圧状態、即ち、恒温槽１２内の気圧が恒温槽外の気圧より高い状態に維持される。

なお、排出管１６２にポンプを設け、恒温槽１２内の気体を吸入している場合、このポンプのパワーを、噴出管１６１側に設けられたポンプ１６５のパワーより小さくすることで、恒温槽１２内を陽圧状態に維持することも可能である。

このように、恒温槽１２内が陽圧状態に維持されることで、例えば、反応ディスク１３と恒温槽１２の開口との間の隙間から、恒温槽１２の内部への塵や埃の混入を防止することが可能となる。

なお、図７に示すように、排出管１６２Ａ及び１６２Ｂを設けない構成としてもよい。この場合には、噴出口１６３Ａ及び１６３Ｂから噴出された気体が、反応ディスク１３と恒温槽１２の開口との間の隙間から排出される。このとき、この隙間から排出される気体の量より、噴出口１６３Ａ及び１６３Ｂから噴出された気体の量が多くなるように調整することで、恒温槽１２の内部が陽圧状態に維持される。また、図７に示すように、噴出口１６３Ａ及び１６３Ｂが、Ｚ軸の上方向側に向くように噴出管１６１Ａ及び１６１Ｂを配置してもよい。このように、噴出管１６１Ａ及び１６１Ｂを配置することで、噴出口１６３Ａ及び１６３Ｂから噴出された気体が、反応ディスク１３と恒温槽１２の開口との間の隙間に向けて流れるように流路が形成される。

以上、本実施形態に係る自動分析装置に依れば、恒温槽１２内を陽圧状態に維持することで、恒温槽１２の内部への塵や埃の混入を防止することが可能となる。

（第５の実施形態）
第１〜第３の実施形態に係る自動分析装置では、ポンプ１６５により外気を取り込み、取り込まれた外気を噴出口１６３から噴出している。それに対して、第５の実施形態に係る自動分析装置は、ポンプ１６５により排出口１６４から恒温槽１２内の気体を取り込み、取り込まれた気体を噴出口１６３から噴出する。以降では、本実施形態に係る自動分析装置について、図８を参照しながら、第２の実施形態と異なる部分に着目して説明する。図８は、本実施形態における恒温槽１２及び反応容器１１の断面図を示しており、清浄機構１６Ａの構成を示している。

図８に示すように、本実施形態に係る噴出管１６１Ａ及び排出管１６２Ａは、外周側壁面１２１を貫通するように設けられている。

噴出管１６１Ａの、噴出口１６３Ａとは逆側の口は、ポンプ１６５の排出口に接続されている。また排出管１６２Ａの、排出口１６４Ａと逆側の口は、ポンプ１６５の吸入口に接続されている。これにより、ポンプ１６５Ａは、排出口１６４Ａから排出管１６２Ａを介して、恒温槽１２内の気体を吸入する。また、ポンプ１６５Ａは、この吸入された気体を噴出管１６１内に排出する。これにより、ポンプ１６５により吸入された恒温槽１２内の気体が、噴出口１６３から噴出される。

また、排出管１６２Ａには、排出口１６４Ａとポンプ１６５Ａとの間に、フィルタ１６８Ａと、気圧センサ１６９Ａとが、排出口１６４Ａからポンプ１６５Ａに向けてこの順序で設けられている。

ポンプ１６５Ａの吸入により排出口１６４Ａから吸入された恒温槽１２内の気体は、フィルタ１６８Ａを通過する。このとき気体内に混入した塵や埃がフィルタ１６８Ａで取り除かれ、気体のみがフィルタを通過する。このフィルタ１６８Ａを通過した気体が「清浄気体」に相当する。

気圧センサ１６９Ａは、排出管１６２Ａ内のフィルタ１６８Ａとポンプ１６５Ａとの間の空間の気圧を測定する。フィルタ１６８Ａが、塵や埃等により目詰まりを起こすと、ポンプ１６５Ａによるこの空間からの気体の吸入量が、排出口１６４Ａからこの空間に流入する気体の量を上回り、この空間の気圧が低下する。気圧センサ１６９Ａは、この気圧の低下を検知する。即ち、気圧センサ１６９Ａは、測定された気圧が所定の閾値以下となった場合に、これを検知する。このように、気圧センサ１６９Ａは、この空間の気圧が所定の閾値未満となることを検知することで、フィルタ１６８Ａに目詰まりが発生したことを検知する。これにより、例えば、気圧センサ１６９Ａは、気圧の低下を制御部１０に通知し、この通知を受けて制御部１０は、ポンプ１６５Ａによる気体の吸入を停止することが可能となる。また、制御部１０は、気圧センサ１６９Ａからの通知を受けて、例えば表示部（図示しない）にメッセージを表示することで、操作者に、フィルタ１６８Ａに目詰まりが発生したことを通知することが可能となる。なお、気圧の変化を検知することでフィルタ１６８Ａに目詰まりが発生したことを検知可能であれば、気圧センサ１６９Ａの位置は限定されない。例えば、排出口１６４Ａとフィルタ１６８Ａとの間に気圧センサ１６９Ａを設けてもよい。この場合には、フィルタ１６８Ａの目詰まりにより恒温槽１２内の気圧が上昇したことを気圧センサ１６９Ａが検知する。

清浄機構１６Ｂについても同様である。即ち、噴出管１６１Ｂ及び排出管１６２Ｂは、内周側壁面１２２を貫通するように設けられている。また、噴出管１６１Ｂ、排出管１６２Ｂ、ポンプ１６５Ｂ、フィルタ１６８Ｂ、及び気圧センサ１６９Ｂの位置関係は、噴出管１６１Ａ、排出管１６２Ａ、ポンプ１６５Ａ、フィルタ１６８Ａ、及び気圧センサ１６９Ａの位置関係と同様である。

なお、第３の実施形態のように、排出管１６２Ａ及び１６２Ｂを、恒温槽１２の底面１２３を貫通するように設けてもよい。また、第４の実施形態のように、噴出口１６３から噴出される気体の量が、排出口１６４から吸入される気体の量より多くなるように調整することで、恒温槽１２内を陽圧の状態に維持するようにしてもよい。

また、本実施形態や第４の実施形態では、恒温槽１２内を陽圧の状態に維持することが可能であれば、そのための構成は限定されない。例えば、図９は、恒温槽１２内を陽圧状態に維持するための一態様を示した図である。図９の例では、ラビリンス構造１３１を設けた反応ディスク１３Ａを用いている。図９に示すように、本実施形態に係る自動分析装置は、ラビリンス構造１３１を設けることで、反応ディスク１３Ａと恒温槽１２との間を液体により封じることで、恒温槽１２の内部と外部とを分けて、恒温槽１２内を陽圧の状態に維持している。なお、本実施形態に限らず、第４の実施形態のように、恒温槽１２内を陽圧の状態に維持する場合には、同様に、ラビリンス構造１３１を設けた反応ディスク１３Ａを適用してもよい。

以上、本実施形態に係る自動分析装置は、ポンプ１６５により排出口１６４から恒温槽１２内の気体を取り込み、取り込まれた気体を噴出口１６３から噴出する。これにより、第１〜第３の実施形態のような外気を取り込む構成のように、この外気を恒温槽１２内の温度に保つためのヒーター１６７を設ける必要が無くなる。また、フィルタ１６８により、取り込んだ気体から塵や埃を取り除くため、噴出管１６１側に別途フィルタ１６６を設ける必要が無くなる。

本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載されたその均等の範囲に含まれる。

１ 反応部
１０ 制御部
１１ 反応容器
１１１、１１１Ａ、１１１Ｂ 照射領域
１２ 恒温槽
１２１ 外周側壁面
１２２ 内周側壁面
１２３ 底面
１３、１３Ａ 反応ディスク
１４ 撹拌ユニット
１５ 測光部
１６、１６Ａ、１６Ｂ 清浄機構
１６１、１６１Ａ、１６１Ｂ 噴出管
１６２、１６２Ａ、１６２Ｂ 排出管
１６３、１６３Ａ、１６３Ｂ 噴出口
１６４、１６４Ａ、１６４Ｂ 排出口
１６５、１６５Ａ、１６５Ｂ ポンプ
１６６、１６６Ａ、１６６Ｂ フィルタ
１６７、１６７Ａ、１６７Ｂ ヒーター
１６８、１６８Ａ、１６８Ｂ フィルタ
１６９Ａ 気圧センサ
１６Ｂ 清浄機構
１７ 洗浄ユニット
２ サンプル部
２１ 試料容器
２２ サンプラ
２３ サンプルプローブ
３ 試薬部
３１ 試薬容器
３２Ａ、３２Ｂ 試薬庫
３３Ａ、３３Ｂ 試薬プローブ

Claims (9)

1. 試料及び試薬を反応容器に分注して、その混合液を測定する自動分析装置であって、
   前記反応容器を所定の経路に沿って搬送する搬送手段と、
   前記所定の経路に沿って設けられ、前記反応容器が収容され、内部の気体を前記所定の温度に保つ恒温槽と、
   前記反応容器の側面に清浄気体を噴出するための噴出口を前記恒温槽の壁面に有する清浄機構と、
   前記噴出口から前記反応容器の前記側面に前記清浄気体を噴出した後または噴出中に当該側面に向けて光を照射し、その反応容器内の前記混合液を透過した光を検出する測光部と、
   を備えたことを特徴とする自動分析装置。
2. 前記清浄機構は、前記噴出口から噴出された前記清浄気体を含む前記内部の気体を排出する排出口を備えたことを特徴とする請求項１に記載の自動分析装置。
3. 前記噴出口は、前記恒温槽の側壁面に設けられ、
   前記排出口は、前記噴出口と対向する前記恒温槽の側壁面に設けられたことを特徴とする請求項２に記載の自動分析装置。
4. 前記噴出口は、前記恒温槽の側壁面に設けられ、
   前記排出口は、前記噴出口が設けられた前記側壁面に設けられたことを特徴とする請求項２に記載の自動分析装置。
5. 前記噴出口は、前記反応容器の側面に所定の角度で前記清浄気体を噴出する位置に配置され、
   前記排出口は、前記噴出口から噴出され、前記反応容器の側面で反射した前記清浄気体を含む前記内部の気体を排出する位置に配置されたことを特徴とする請求項４に記載の自動分析装置。
6. 前記清浄機構は、前記排出口を、前記恒温槽の底面に設けたことを特徴とする請求項２に記載の自動分析装置。
7. 前記清浄機構は、
   外気を取り込み、当該外気を前記噴出口から噴出させるポンプと、
   前記噴出口と前記ポンプとの間に介在し、前記ポンプから取り込まれた当該外気を前記所定の温度に保つヒーターと、
   を備えたことを特徴とする請求項１乃至６のいずれかに記載の自動分析装置。
8. 前記清浄機構は、
   前記排出口を介して前記恒温槽内から気体を取り込み、取り込まれた当該気体を前記噴出口から噴出させるポンプと、
   前記排出口と前記ポンプとの間に介在し、前記排出口から取り込まれた当該気体から異物を取り除くフィルタと、
   前記フィルタと前記ポンプとの間に介在し、前記フィルタと前記ポンプと間の空間の気圧が所定の閾値以下となった場合に、これを検知する気圧センサと、
   を備えたことを特徴とする請求項２に記載の自動分析装置。
9. 前記噴出口から噴出された前記清浄気体によって、前記恒温槽内を陽圧の状態に維持する構成を有することを特徴とする請求項１乃至請求項８のいずれかに記載の自動分析装置。

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