JP2013107046A - 排ガス浄化用触媒構造体及びその製造法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】平板上に山状部及び谷状部からなるスペーサ部が一定間隔でガス流れ方向に線条に形成された平板状触媒エレメントを多数積層してなる触媒構造体であって、山状部及び谷状部に凹部が所定間隔で形成され、かつ該凹部に棒状のガス攪拌体が、前記スペーサ間に形成される流路の中心に位置するように配置されていることを特徴とする排ガス浄化用触媒構造体。
【選択図】 図1
Description
さらに本発明者等は触媒活性の向上のため、ガス流路内に図10や図11のように棒状あるいは網状のガス攪拌体を設置した触媒構造体を提案した(特許文献4)。
(1)平板上に山状部及び谷状部からなるスペーサ部が一定間隔でガス流れ方向に線条に形成された平板状触媒エレメントを多数積層してなる触媒構造体であって、山状部及び谷状部に凹部が所定間隔で形成され、かつ該凹部に棒状のガス攪拌体が、前記スペーサ間に形成される流路の中心に位置するように配置されていることを特徴とする排ガス浄化用触媒構造体。
(2)前記棒状ガス攪拌体に触媒成分が被覆されていることを特徴とする(1)記載の触媒構造体。
(3)平板上に山状部及び谷状部からなるスペーサ部が一定間隔でガス流れ方向に線条に形成された平板状触媒エレメントを交互に表裏を換えて積層することを特徴とする(1)または(2)に記載の触媒構造体の製造方法。
(4)前記スペーサ部に形成される凹部がガス流れ方向に対し対称に位置するように形成された触媒エレメントを交互に180度回転させて積層することを特徴とする(1)ないし(3)のいずれかに記載の触媒構造体の製造方法。
本発明の触媒構造体は、スペーサ部2の一部にプレス成型などにより所定間隔で凹部3を設け、この凹部に丸状、角状、三角状などの棒状物を置いて積層体を形成する横方向から見た場合、図3に示すようにスペーサ部2の中心を棒状物4が穿ってガス流路の中心部に位置するように構成する。
[実施例1]
酸化チタン粉末(比表面積300m2/g、石原産業社製)20kgにパラモリブデン酸アンモン((NH4)6・Mo7O24・4H2O)を2.4kg、メタバナジン酸アンモニウム(NH4VO3)を1.28kg加え、加熱ニーダを用いて水を蒸発させながら混練し、水分約36%のペーストを得た。これを3φの柱状に押し出し造粒後流動層乾燥機で乾燥し、次に大気中250℃で2時間焼成した。得られた顆粒をハンマーミルで平均粒径5μmの粒径に粉砕し第一成分とした。このときの組成はV/Mo/Ti=4/5/91(原子比)である。
上記実施例1における凹部の形成、およびガス攪拌体の設置を行わない以外は実施例1と同様にして触媒構造体を得た。
上記実施例1と比較例1との触媒構造体について、表1の条件で脱硝性能を測定した。
[比較例2]
上記実施例1における凹部の形成を行なわず、その場所に前記針金を配置する以外は実施例1と同様にして触媒構造体を得た。その結果、比較例触媒の脱硝率が90.2%であった。
2 スペーサ部
3 凹部
4 ガス攪拌体
5 ガス流線
6 対称軸
7 触媒枠
Claims (4)
- 平板上に山状部及び谷状部からなるスペーサ部が一定間隔でガス流れ方向に線条に形成された平板状触媒エレメントを多数積層してなる触媒構造体であって、山状部及び谷状部に凹部が所定間隔で形成され、かつ該凹部に棒状のガス攪拌体が、前記スペーサ間に形成される流路の中心に位置するように配置されていることを特徴とする排ガス浄化用触媒構造体。
- 前記棒状ガス攪拌体に触媒成分が被覆されていることを特徴とする請求項1記載の触媒構造体。
- 平板上に山状部及び谷状部からなるスペーサ部が一定間隔でガス流れ方向に線条に形成された平板状触媒エレメントを交互に表裏を換えて積層することを特徴とする請求項1または2に記載の触媒構造体の製造方法。
- 前記スペーサ部に形成される凹部がガス流れ方向に対し対称に位置するように形成された触媒エレメントを交互に180度回転させて積層することを特徴とする請求項1ないし3のいずれかに記載の触媒構造体の製造方法。
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