JP2013064168A - Film deposition apparatus - Google Patents
Film deposition apparatus Download PDFInfo
- Publication number
- JP2013064168A JP2013064168A JP2011202152A JP2011202152A JP2013064168A JP 2013064168 A JP2013064168 A JP 2013064168A JP 2011202152 A JP2011202152 A JP 2011202152A JP 2011202152 A JP2011202152 A JP 2011202152A JP 2013064168 A JP2013064168 A JP 2013064168A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- deposition
- plate
- film forming
- film
- preventing plate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Images
Abstract
Description
本発明は、有機EL膜などの成膜を行う成膜装置に係り、特に、成膜対象の基板以外の部分に成膜されることを防止するための防着板を備えた成膜装置に関する。 The present invention relates to a film forming apparatus for forming an organic EL film or the like, and more particularly to a film forming apparatus provided with a deposition preventing plate for preventing film formation on a portion other than a substrate to be formed. .
有機EL(Electro Luminescence)膜を成膜する手法としては、有機EL材料を昇華させて蒸気とし、シャドーマスクを介して、所定位置に有機EL薄膜を形成する真空蒸着法が一般的に用いられている。この真空蒸着の際、有機EL蒸気は、蒸着源(坩堝)から等方的に広がるため、目的の基板以外に、真空チャンバーの内壁にも付着する。内壁に付着した有機EL材料が何らかの原因で剥離すると、基板上への成膜に欠陥が発生する可能性もある。従い、真空チャンバーの内壁には、防着板と呼ばれる遮蔽物を設け、この防着板を清掃することでそのような欠陥などの発生を防いでいる。 As a method of forming an organic EL (Electro Luminescence) film, a vacuum deposition method is generally used in which an organic EL material is sublimated into vapor and an organic EL thin film is formed at a predetermined position via a shadow mask. Yes. During the vacuum deposition, the organic EL vapor isotropically spreads from the deposition source (the crucible), and therefore adheres to the inner wall of the vacuum chamber in addition to the target substrate. If the organic EL material adhering to the inner wall is peeled for some reason, a defect may occur in film formation on the substrate. Therefore, a shield called an adhesion preventing plate is provided on the inner wall of the vacuum chamber, and the occurrence of such a defect is prevented by cleaning the adhesion preventing plate.
例えば、特許文献1には、防着板を、蒸着源の三方を取り囲むようにして配置した蒸着装置が開示されている。
For example,
また、特許文献2には、開口部を有する防着板を真空容器内を分割するように配置し、蒸発源からの蒸発粒子をその開口部を通過して、基板に到達するようにした真空蒸着装置が開示されている。
有機ELパネルは、液晶パネルと同様に大型化が進んでおり、近い将来には、第6世代(1500mm×1850mm)のパネルの量産化が期待されている。 The organic EL panel is increasing in size like the liquid crystal panel, and in the near future, mass production of a sixth generation (1500 mm × 1850 mm) panel is expected.
このような、大型パネルに対応して成膜装置も大型することになる。それに伴い、防着板も大きく、重くなる。特に、基板を立てて蒸着する縦型成膜装置の場合、基板の大型化に伴い、蒸着槽(真空槽)の高さが高くなるため、防着板は、高い位置に設ける必要が出てくる。したがって、高所に設けられた防着板交換を迅速、かつ安全に行えるよう配慮する必要がある。 Corresponding to such a large panel, the film forming apparatus also becomes large. Along with this, the protective plate becomes larger and heavier. In particular, in the case of a vertical film forming apparatus that evaporates by standing a substrate, as the size of the substrate increases, the height of the vapor deposition tank (vacuum tank) increases. come. Therefore, it is necessary to consider so that the replacement of the protection plate provided at a high place can be performed quickly and safely.
本発明は、上記問題点を解決するためになされたもので、その目的は、有機ELなどの成膜をおこなう成膜室に設置された防着板の取付け、取外し作業の時間を短縮し、かつ交換時の安全性を確保した成膜装置を提供することにある。 The present invention has been made to solve the above problems, and its purpose is to reduce the time required for attaching and removing the protective plate installed in the film forming chamber for forming a film such as an organic EL, Another object of the present invention is to provide a film forming apparatus that ensures safety during replacement.
本発明の防着板搬送機構を備えた成膜装置の構成は、基板上に材料を成膜するための成膜室と、成膜する材料を前記基板に供給する成膜材料供給源と、少なくともその一部が、前記成膜室の筐体と前記成膜材料供給源の間に設けられ、該成膜材料供給源から供給される成膜材料が該筐体に付着するのを防止する防着板と、を備えた成膜装置において、前記防着板は、少なくとも上下方向で複数部材に分割されており、かつ、上方の防着板を下方に移動させる防着板搬送機構を備えたものである。 The structure of the film forming apparatus provided with the adhesion-preventing plate transport mechanism of the present invention includes a film forming chamber for forming a material on a substrate, a film forming material supply source for supplying the material to be formed to the substrate, At least a part of the film formation chamber is provided between the film formation chamber casing and the film formation material supply source to prevent the film formation material supplied from the film formation material supply source from adhering to the case. In the film forming apparatus including the adhesion preventing plate, the adhesion preventing plate is divided into a plurality of members at least in the vertical direction, and includes an adhesion preventing plate transport mechanism that moves the upper adhesion preventing plate downward. It is a thing.
前記基板は、その表面に膜が形成できるものであればどのようなものであっても良い。例えば、ガラス基板、半導体基板、可撓性のフィルム状材料などが代表的なものである。成膜材料供給源とは、成膜材料を蒸発させる蒸発源、スパッタリングするためのスパッタターゲットなどが代表的なものであるが、成膜材料を供給できるものであればどのようなものであっても良い。成膜室の筐体は、外部と成膜室を隔離する機能を備えることが好ましい。成膜材料供給源が蒸発源である場合は、真空チャンバーが筐体に相当する。真空チャンバーでなくとも、外部からの塵埃が基板に影響を与えないようにする機能があれば、どのようなものであっても良い。防着板は、筐体の内部表面の少なくとも一部を覆うようなものであればどのようなものであっても良い。付着した成膜物質を定期的に除去することにも耐えられるように金属板で構成することが一般的であり、錆などに強い、ステンレス板を加工して用いることが好ましい。 The substrate may be any substrate as long as a film can be formed on the surface thereof. For example, a glass substrate, a semiconductor substrate, a flexible film-like material, etc. are typical. The film forming material supply source is typically an evaporation source for evaporating the film forming material, a sputtering target for sputtering, or the like, but any film forming material can be supplied. Also good. The housing of the film formation chamber preferably has a function of separating the film formation chamber from the outside. When the film forming material supply source is an evaporation source, the vacuum chamber corresponds to the housing. Even if it is not a vacuum chamber, it may be anything as long as it has a function of preventing dust from the outside from affecting the substrate. The adhesion-preventing plate may be anything as long as it covers at least a part of the inner surface of the housing. It is common to use a metal plate so that it can withstand periodic removal of the deposited film-forming substance, and it is preferable to process and use a stainless plate that is resistant to rust and the like.
本発明によれば、有機ELなどの成膜をおこなう成膜室に設置された防着板の取付け、取外し作業の時間を短縮し、かつ交換時の安全性を確保した成膜装置を提供することができる。 According to the present invention, there is provided a film forming apparatus capable of shortening the time required for attaching and removing a protection plate installed in a film forming chamber for forming a film such as an organic EL and ensuring safety at the time of replacement. be able to.
以下、本発明に係る各実施形態を、図1ないし図9を用いて説明する。 Embodiments according to the present invention will be described below with reference to FIGS.
〔実施形態1〕
以下、本発明に係る第一の実施形態を、図1ないし図7Cを用いて説明する。
A first embodiment according to the present invention will be described below with reference to FIGS. 1 to 7C.
先ず、図1および図2を用いて本発明に係る有機ELパネルの蒸着に用いられる蒸着室について説明する。 First, the vapor deposition chamber used for vapor deposition of the organic EL panel according to the present invention will be described with reference to FIGS. 1 and 2.
図1は、有機ELパネルの蒸着に用いられる蒸着室の斜視図である。 FIG. 1 is a perspective view of a vapor deposition chamber used for vapor deposition of an organic EL panel.
図2は、有機ELパネルの蒸着に用いられる蒸着室の断面図である。 FIG. 2 is a cross-sectional view of a vapor deposition chamber used for vapor deposition of an organic EL panel.
有機ELパネルを製造するときには、真空蒸着法により発光層を蒸着する工程が必要であり、図1に示されるように蒸着室100内を真空に近い雰囲気にし、材料を加熱蒸発させて、基板上に蒸着させる。 When manufacturing an organic EL panel, a step of depositing a light emitting layer by a vacuum deposition method is necessary. As shown in FIG. Vapor deposition.
図1では、蒸着室100内の一部を透視し、中の防着板1と基板200を図示している。図2は、図1の蒸着室におけるA−A断面図である。
In FIG. 1, a part of the inside of the
前工程での処理を終えた基板200は、搬送ロボット150のアーム152の先にあるハンド154に載せられて、蒸着室100内に搬送される。そして、基板ホールダ160に載せられた後、基板ホールダ160を回転させて、直立させて、シャドウマスク204と位置あわせ(アライメント)をおこなった後に、基板200とシャドウマスク204をバネや電磁石などの手段により両者を密着固定させて保持する。シャドウマスク204は、開口を有し、基板上の必要な部分(画素となる部分)に材料を蒸着させるためにマスクする部材である。
The
蒸着室100は、真空蒸着をおこなうために、真空ポンプ130により真空になるよう、真空バルブを介して、内部の空気を排気して減圧する。
In order to perform vacuum deposition, the
そして、発光層を形成するための有機材料122が、蒸発源120のノズル124から噴射され、開口部220を通過してパネル上に蒸着される。
Then, an
このとき、基板200とシャドウマスク204の蒸発源120に向かう方向には、蒸着室100の全面に渡って、防着板1が設置されており、蒸着室100の内壁等に有機材料が付着するのを防止する。
At this time, in the direction of the
次に、図3Aないし図6を用いて本発明の第一の実施形態に係る成膜装置の防着板運搬機構と防着板の詳細について説明する。 Next, with reference to FIGS. 3A to 6, details of the deposition preventing plate transport mechanism and the deposition preventing plate of the film forming apparatus according to the first embodiment of the present invention will be described.
図3Aおよび図3Bは、本発明の第一の実施形態に係る成膜装置の防着板運搬機構と防着板とそれに関わる蒸着室の構造を示す斜視図である。 FIG. 3A and FIG. 3B are perspective views showing the structure of the deposition-preventing plate transport mechanism, the deposition-preventing plate, and the deposition chamber related thereto in the film forming apparatus according to the first embodiment of the present invention.
図4は、成膜装置の防着板運搬機構の横基体、縦基体部分の断面図である。 FIG. 4 is a cross-sectional view of the horizontal substrate and the vertical substrate of the deposition plate transport mechanism of the film forming apparatus.
図5は、防着板を配列した様子を示す正面図である。 FIG. 5 is a front view showing a state in which the adhesion preventing plates are arranged.
図6は、防着板をはめ込みフレームにはめ込むときの様子を示す図である。 FIG. 6 is a diagram showing a state where the deposition preventing plate is fitted into the fitting frame.
図1の蒸着室100を、B方向から見ると、図3Aに示されるようになる。本実施形態での防着板1は、基板200の前に縦方向に並べられるが、それより少し後方の面に左右の縦枠170と上下の横枠172が組み合わされて、長方形の形状をなしている。
When the
防着板1を蒸着源120の方向から見ると、図5に示されるようになる。防着板1は、寸法の違うタイプIとタイプIIがあり、タイプIが開口部220の上と下に、それぞれ2×3枚、タイプIIが左右に、それぞれ3×1枚配されている。
When the
防着板1には、2個所の長方形形状の穴20があけられており、後方に配置される防着板サポート180の凸部182にはめ込んで支えるようになっている。防着板サポート180は、図5に示されるように、左右に配置され、それぞれの防着板サポート180は、防着板1の配置にあわせて、計36個所の凸部182を有している。
Two
防着板1は、材質としては、ステンレス鋼(SUS、Stainless steel)製であり、蒸着物が付着しやすいように、表面にサンドブラスト加工がなされている。例えば、図5に示されているように、タイプIの防着板の寸法は、350mm×700mm程度であり、タイプIIの防着板の寸法は、460mm×380mm程度である。防着板1の一枚の重量は、5kg〜8kgである。
The
本実施形態の防着板1は、タイプI、タイプIIとも、図6に示されるように、防着板はめ込みフレーム230にはめ込んで、複数枚の取り付けと取り外しを同時におこなえるようにする。例えば、開口部の上部にある2×3の構成の防着板(タイプIが6枚)を一つのセット、開口部の下部にある2×3(タイプIが6枚)の構成の防着板を一つのセット、開口部の左にある3×1の構成の防着板の構成(タイプIIが3枚)を一つのセット、開口部の右にある3×1の防着板の構成(タイプIIが3枚)を一つのセットになるように、四つの防着板はめ込みフレームを用いる。以下、これらを区別する必要があるときには、図6(b)に示されるように、上部を防着板はめ込みフレーム230t、下部を防着板はめ込みフレーム230b、左の部分を防着板はめ込みフレーム230l、右の部分を防着板はめ込みフレーム230rと表すことにする。
As shown in FIG. 6, the
ここで、作業者wは、通常、図3Aに示されている台240の上に配置されるステップ242の上に乗って、取り付け、取外しの作業をおこなうが、開口部220の上端の高さが、地上から3m、一番上の防着板1までの高さが、地上から3.7mにも達し、防着板1の重量が重いこともあり、特に、開口部220の上部にある防着板1の取付け、取外し作業には、困難を伴う。
Here, the worker w usually rides on the
そこで、本実施形態では、図3Aに示されるように、防着板1の取付け、取外し作業時に、防着板1を運搬するための防着板運搬機構10を設けることにした。
Therefore, in this embodiment, as shown in FIG. 3A, the attachment
防着板運搬機構10は、上側の横基体3t、縦基体3v、下側の横基体3bがコの字型に組み合わされた構造になっている。そして、上側の横基体3tの先には、ブロック2txが取付けられていて、下側の横基体3bの先には、ブロック2bxが取付けられていて、上下の横枠172に設けられたガイドレール8t、8bに沿って、X軸方向に移動可能になっている。
The adhesion-
また、図4に示されるように、縦基体3vの開口部220と対向する面にも、ガイドレール8zが設けられており、ブロック2zがZ軸方向(上下方向)に移動可能になっている。上側の横基体3tと縦基体3vの接合部の上部には、定滑車12が取り付けられており、縦基体3vの開口部220と対向する面の反対側の下側には、リール5が取り付けられていて、リール5には、ハンドル14が取り付けられている。そして、ブロック2zには、ワイヤ16が取付けられている。そして、そのワイヤ16は、横部材3tの穴17を抜けて、定滑車12、リール5の順に敷設されて、作業者は、ハンドル14を回すことにより、ブロック2zをZ軸方向に移動させることができる。
As shown in FIG. 4, a guide rail 8z is also provided on the surface of the
ブロック2zには、ベース4が固定されており、ブロック2zとL字型形状を形成し、ベース4の他の一端は、開口部220の方向に突き出されている。ベース4の上面には、2本のガイドレール8yが設けられており、ブロック2yと係合して、Y軸方向に移動できるようになっている。
A
ブロック2yの開口部220の方向の一端には、左右のL字型形状の縦部材6aと、それをつなぐ横部材6bで一体に形成されたアーム6が取付けられている。そして、左右のL字型形状の先端は、上に折り曲げられたフック7を有している。
At one end in the direction of the
このような防着板運搬機構10により、防着板1を取り外すときには、以下のように動作させる。ここでは、開口部220の上部にある2×3の構成の防着板はめ込みフレーム230tにはめ込まれた6枚の防着板1を取り外すときについて説明する。
(1)初期状態(防着板運搬機構10を使用しないとき)には、ブロック2tx、2bxは、縦枠170に近い位置にある。ブロック2zは、下におろされている。ブロック2yは、開口部220と遠い方向にある。
(2)ブロック2tx、2bxを、ガイドレール8t、8bに沿って滑らすように押すことで、開口部220の中心に持って行く。
(3)ハンドル14を操作し、ブロック2zを上昇させて、アーム6の先端が開口部220に通せる位置まで持って行く。
(4)ブロック2yを、ガイドレール8yに沿って滑らすように押すことで、開口部220の方向に移動させて、アーム6の先端のフック7を開口部220に差込む。
(5)さらに、ハンドル14を操作し、ブロック2zを上昇させて、アーム6の先端のフック7を、防着板はめ込みフレーム230tの下辺に引っ掛ける。
(6)ブロック2yを、ガイドレール8yに沿って滑らすように押すことで、開口部220から遠ざかる方向に移動させる。
(7)ハンドル14を逆方向に操作し、ブロック2zを下降させて、防着板はめ込みフレーム230tを安全に扱える位置まで降ろす。
When the
(1) The blocks 2tx and 2bx are in a position close to the
(2) By pushing the blocks 2tx and 2bx so as to slide along the
(3) The
(4) By pushing the
(5) Further, the
(6) By pushing the
(7) Operate the
図3Bは、(7)に到るときの状態を示している。 FIG. 3B shows a state when reaching (7).
なお、防着板1を取付けるときには、防着板はめ込みフレーム230tにはめ込んだ防着板1を地面に近い位置から運搬を開始して、(7)から順に、ブロックの移動を逆にすればよい。
When attaching the
本実施形態の成膜装置の防着板運搬機構によれば、特に高い位置にある防着板1に対しても安全かつ迅速にX軸方向、Y軸方向、Z軸方向のそれぞれのブロックを動かすことにより、安全で迅速に運搬することができる。
According to the deposition plate transport mechanism of the film forming apparatus of this embodiment, the blocks in the X-axis direction, the Y-axis direction, and the Z-axis direction can be safely and quickly applied to the
〔実施形態2〕
以下、本発明の第二の実施形態を、図7Aないし図7Cを用いて説明する。
[Embodiment 2]
Hereinafter, a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 7A to 7C.
図7Aは、本発明の第二の実施形態に係る成膜装置の防着板運搬機構を示す斜視図である。 FIG. 7A is a perspective view showing a deposition-preventing plate transport mechanism of the film forming apparatus according to the second embodiment of the present invention.
図7Bは、図7Aに示した成膜装置の防着板運搬機構のC方向から見た正面図である。 FIG. 7B is a front view of the deposition preventing plate transport mechanism of the film forming apparatus shown in FIG.
図7Cは、図7Aに示した成膜装置の防着板運搬機構のD断面図である。 FIG. 7C is a D cross-sectional view of the adhesion-preventing plate carrying mechanism of the film forming apparatus shown in FIG. 7A.
本実施形態は、第一の実施形態の防着板運搬機構の構造を変えたものである。 In the present embodiment, the structure of the adhesion-preventing plate transport mechanism of the first embodiment is changed.
この防着板運搬機構30の形態は、縦基体33vの下方向から3分の1から、上方向まで、広くなっており、この広くなった面に2本の溝35が掘られている。
The form of the adherence
ブロック32zの一面は、二つの凸部34を有しており、縦基体33vの2本の溝35を移動させることにより、ブロック32zをZ軸方向に移動させることができる。
One surface of the
また、ブロック32zの他の一面は、二つの凸部36を有しており、ブロック32yの溝38と係合され、ブロック32yは、ブロック32zに対して、Y軸方向に移動できるようになっている。
Further, the other surface of the
また、ブロック32yの開口部220に近い一端には、アーム6が取付けられ、その左右の先端は、フック7を有しており、これにより防着板はめ込みフレーム230の下辺に引っ掛けって、移動させることは、図3Aに示した防着板運搬機構10と同様である。
Also, the
〔実施形態3〕
以下、本発明に係る第三の実施形態を、図8および図9を用いて説明する。
[Embodiment 3]
Hereinafter, a third embodiment according to the present invention will be described with reference to FIGS. 8 and 9.
第一の実施形態と第三の実施形態では、防着板1をまとめて取り外したり、取り付けたりするために、防着板はめ込みフレーム230に防着板1をはめ込んで扱ってきた。
In 1st embodiment and 3rd embodiment, in order to remove and attach the
本実施形態では、防着板の取り外しや取り付けを一枚単位でおこなう成膜装置の防着板運搬機構に関するものである。 The present embodiment relates to a deposition plate transport mechanism of a film forming apparatus that removes and attaches the deposition plate in units of one sheet.
図8は、本発明の第三の実施形態に係る成膜装置の防着板運搬機構と防着板の構造を示す斜視図である。 FIG. 8 is a perspective view showing the structure of the deposition preventing plate transport mechanism and deposition preventing plate of the film forming apparatus according to the third embodiment of the present invention.
図9は、本発明の第三の実施形態に係る防着板を説明する図である。 FIG. 9 is a view for explaining a deposition preventing plate according to the third embodiment of the present invention.
本発明の第三の実施形態に係る成膜装置の防着板運搬機構40は、第一の実施形態の防着板運搬機構10とほぼ同様の構造であるが、ブロック2yに取付けられるアーム6′の構造が異なっている。
The deposition
アーム6′は、ブロック2yの側面に取付けられており、形状は、1本のL字型形状であり、その先に、フック7′が取付けられている。アーム6′は、第一の実施形態に係る成膜装置の防着板運搬機構10のアーム6に比べて、1本のL字型形状からなることが異なっている。フック7′は、第一の実施形態に係る成膜装置の防着板運搬機構10のフック7に比べて、形状がやや小さいものになっている。
The arm 6 'is attached to the side surface of the
本実施形態の防着板1′は、図9に示されように、穴20の中間に引掛け金具21が設けられている。
As shown in FIG. 9, the
そして、本実施形態の成膜装置の防着板運搬機構40では、各々の防着板1′を運搬するときには、アーム6′の先端のフック7′を、防着板1′の引掛け金具21の穴に差し込み、取り付けと取り外しをおこなう。
In the deposition
なお、本実施形態の成膜装置の防着板運搬機構の構造としては、図3Aに説明したもののアームを変形されたもので説明したが、図7Aに示したもののアームを変形させてもよい。 Note that the structure of the deposition plate transport mechanism of the film forming apparatus of the present embodiment has been described with the arm described in FIG. 3A being modified, but the arm illustrated in FIG. 7A may be deformed. .
本実施形態では、取り付けと取り外しをおこなうときに、防着板1′一枚一枚づつおこなわなければならないという面があるが、防着板はめ込みフレームのような構造物を要せず、はめ込むための手間も軽減されるという利点がある。 In this embodiment, when attaching and detaching, the attachment plate 1 'must be done one by one, but the attachment plate does not require a structure such as a fitting frame, and is fitted. There is an advantage that the time and effort is reduced.
また、防着板1′一枚づつ取り付けと取り外しをおこなうために作業場の安全性が向上するという利点もある。 In addition, there is an advantage that the safety of the work place is improved because the attachment and detachment of the protective plate 1 'is performed one by one.
1…防着板、20…穴、21…引掛け金具、
100…蒸着室、、120…蒸発源、122…有機材料、124…ノズル、130…真空ポンプ、150…搬送ロボット、152…アーム、154…ハンド、160…基板ホールダ、170…縦枠、172…横枠、180、184…防着板サポート、182…凸部、
200…基板、204…シャドウマスク、220…開口部、230…防着板はめ込みフレーム、230t…防着板はめ込みフレーム(上部)、230b…防着板はめ込みフレーム(下部)、230l…防着板はめ込みフレーム(左)、230r…防着板はめ込みフレーム(右)、240…台、242…ステップ、
10,20,30,40…防着板運搬機構、
3t…縦基体、3v…横基体、
2tx,2bx,2y,2z…ブロック、8t,8b,8y,8z…ガイドレール、
6…アーム、7…フック、
5…リール、12…定滑車、14…ハンドル、16…ワイヤ、17…穴、
32y,32z…ブロック、33v…縦基体、34,36…凸部、35,38…溝。
DESCRIPTION OF
DESCRIPTION OF
200 ... Substrate, 204 ... Shadow mask, 220 ... Opening, 230 ... Fitting frame, 230t ... Fitting frame (upper part), 230b ... Fitting frame (lower part), 230l ... Fitting prevention board Frame (left), 230r ... Adhering plate (right), 240 ... stand, 242 ... step,
10, 20, 30, 40 ... adhesion plate transport mechanism,
3t ... Vertical substrate, 3v ... Horizontal substrate,
2tx, 2bx, 2y, 2z ... block, 8t, 8b, 8y, 8z ... guide rail,
6 ... arm, 7 ... hook,
5 ... reel, 12 ... fixed pulley, 14 ... handle, 16 ... wire, 17 ... hole,
32y, 32z ... block, 33v ... vertical base, 34, 36 ... convex, 35, 38 ... groove.
Claims (5)
前記防着板は、少なくとも上下方向で複数部材に分割されており、
かつ、上方の防着板を下方に移動させる防着板搬送機構を備えたことを特徴とする成膜装置。 A film forming chamber for forming a material on the substrate, a film forming material supply source for supplying the film forming material to the substrate, and at least a part of the film forming chamber housing and the film forming material A deposition apparatus provided between a supply source and an adhesion preventing plate that prevents the deposition material supplied from the deposition material supply source from adhering to the housing;
The deposition preventing plate is divided into a plurality of members at least in the vertical direction,
A film forming apparatus comprising an adhesion preventing plate conveying mechanism for moving the upper adhesion preventing plate downward.
前記防着板搬送機構は、前記筐体に係合する枠と、該枠に沿って移動する第一の搬送ブロックと、を備えたことを特徴とする成膜装置。 The film forming apparatus according to claim 1,
The film-forming apparatus, wherein the adhesion-plate transport mechanism includes a frame that engages with the housing, and a first transport block that moves along the frame.
前記防着板搬送機構は、前記成膜室の開口部と直交する方向に敷説されたレールと、前記レールに沿って移動する第二の搬送ブロックと、を備えたことを特徴とする成膜装置。 The film forming apparatus according to claim 1,
The deposition preventing plate transport mechanism includes a rail laid in a direction orthogonal to the opening of the film forming chamber, and a second transport block that moves along the rail. Membrane device.
前記防着板は、複数の防着板をはめ込む防着板はめ込みフレームにはめ込まれ、前記防着板搬送機構は、前記防着板はめこみフレームにはめ込まれた前記防着板を移動させることを特徴とする成膜装置。 The film forming apparatus according to claim 1,
The deposition plate is fitted into a deposition plate fitting frame into which a plurality of deposition plates are fitted, and the deposition plate transport mechanism moves the deposition plate fitted into the fitting frame. A film forming apparatus.
前記防着板搬送機構は、前記防着板の一部と係合する手段を備え、前記防着板の一部と係合させて、一枚ずつ移動させることを特徴とする成膜装置。 The film forming apparatus according to claim 1,
The deposition plate conveying mechanism includes means for engaging with a part of the deposition plate, and is moved by one piece by engaging with a portion of the deposition plate.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011202152A JP2013064168A (en) | 2011-09-15 | 2011-09-15 | Film deposition apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011202152A JP2013064168A (en) | 2011-09-15 | 2011-09-15 | Film deposition apparatus |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013064168A true JP2013064168A (en) | 2013-04-11 |
Family
ID=48187923
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011202152A Withdrawn JP2013064168A (en) | 2011-09-15 | 2011-09-15 | Film deposition apparatus |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2013064168A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2018223770A1 (en) * | 2017-06-08 | 2018-12-13 | 京东方科技集团股份有限公司 | Film forming device |
CN111511956A (en) * | 2018-06-20 | 2020-08-07 | 株式会社爱发科 | Adhesion-preventing member and vacuum processing apparatus |
-
2011
- 2011-09-15 JP JP2011202152A patent/JP2013064168A/en not_active Withdrawn
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2018223770A1 (en) * | 2017-06-08 | 2018-12-13 | 京东方科技集团股份有限公司 | Film forming device |
CN111511956A (en) * | 2018-06-20 | 2020-08-07 | 株式会社爱发科 | Adhesion-preventing member and vacuum processing apparatus |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TW201428822A (en) | Shielding element, substrate processing system using the same and method for extracting or inserting the same | |
US8431493B2 (en) | Replaceable substrate masking on carrier and method for processing a substrate | |
JP2013064168A (en) | Film deposition apparatus | |
KR101404986B1 (en) | In-line Substrates Processing System | |
TW201921760A (en) | Methods of handling a mask device, apparatus for exchanging a mask device, mask exchange chamber, and vacuum system | |
KR101958500B1 (en) | Vapor-deposition device and vapor-deposition method | |
JP4166664B2 (en) | Organic EL device manufacturing equipment | |
KR101407413B1 (en) | Cassette handling apparatus mask cassette supplying system | |
KR102148072B1 (en) | Vacuum deposition chamber with latch screen | |
JP2012197468A5 (en) | ||
JP4794471B2 (en) | Exposure apparatus and method for exchanging top plate of negative pressure chamber of exposure apparatus | |
CN101242688B (en) | A making system for straight-lined organic luminescent display | |
KR102444830B1 (en) | Methods for handling masks in a vacuum system and vacuum system | |
JP2009097063A (en) | Vacuum deposition system | |
JP7213226B2 (en) | Conveying device and deposition device | |
JP5358697B2 (en) | Deposition equipment | |
JP6490523B2 (en) | Sputtering apparatus and driving method of sputtering apparatus | |
US20090317562A1 (en) | Processing system and method for processing a substrate | |
KR102165998B1 (en) | Mask for depositing organic material and appratus for depositing organic material including the same | |
JP7191922B2 (en) | Conveying apparatus, film forming apparatus, film forming method, and electronic device manufacturing method | |
JP7212662B2 (en) | Conveying apparatus, film forming apparatus, film forming method, and electronic device manufacturing method | |
JP2012140695A (en) | Vapor deposition device | |
JP2022092405A (en) | Film deposition apparatus | |
KR100554046B1 (en) | Apparatus for holding and processing thin film utilizing the apparatus | |
EP2135970A1 (en) | Processing system and method for processing a substrate |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20141202 |