JP2013051384A - Aggregate wiring board - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an aggregate wiring board which prevents the reduction of the number of electronic components which are simultaneously manufactured from one aggregate wiring board and thereby solving problems such as the deterioration of the work efficiency and the cost increase, which stably supplies an electronic device having a structure that a semiconductor element is mounted on a flat wiring board and mounted to another circuit board in a good manner.SOLUTION: An aggregate wiring board 30 includes: multiple wiring boards 10, each of which has a mounting part 8, on which a semiconductor element 15 is mounted, at a center part on an upper surface; and a frame 20 having multiple through holes 24 of a size that encloses the mounting part 8. The aggregate wiring board 30 is formed by joining peripheral parts on the upper surfaces of the wiring boards 10 to peripheral parts of the through holes 24 of the frame 20 so that the mounting parts 8 are exposed from the through holes 24.

Description

本発明は、半導体素子が搭載される搭載部を有する複数の小型の配線基板が、搭載部を囲繞する貫通口を有するフレームに接合された集合配線基板に関するものである。   The present invention relates to a collective wiring board in which a plurality of small wiring boards having a mounting portion on which a semiconductor element is mounted are joined to a frame having a through hole surrounding the mounting portion.

従来、半導体素子を搭載するための小型の配線基板を多数同時に製造する形態として集合配線基板が用いられている。この集合配線基板は、複数の小型の配線基板を間に切断領域を設けて縦横の並びに一体的に配列形成して成る。そして、各配線基板上に例えば半田バンプを介して半導体素子を搭載した後、封止樹脂による封止を行う。この後、切断領域に沿って切断することで各配線基板に半導体素子が搭載された電子装置が同時に多数個製造される。   Conventionally, a collective wiring board has been used as a form for simultaneously manufacturing a large number of small wiring boards for mounting semiconductor elements. This collective wiring board is formed by arranging a plurality of small-sized wiring boards in an integrated manner vertically and horizontally with a cutting region therebetween. Then, after mounting a semiconductor element on each wiring board through, for example, solder bumps, sealing is performed with a sealing resin. Thereafter, a large number of electronic devices each having a semiconductor element mounted on each wiring board are manufactured by cutting along the cutting region.

このような集合配線基板は、半導体素子を搭載する前に各配線基板の電気検査や外観検査を実施しておき、不良と判断された配線基板にはマーキングを施したり、位置情報を記録したりする。こうすることで、不良と判断された配線基板に半導体素子を搭載することを回避している。   Such an assembly wiring board is subjected to electrical inspection and appearance inspection of each wiring board before mounting a semiconductor element, and the wiring board judged to be defective is marked or position information is recorded. To do. This avoids mounting a semiconductor element on the wiring board determined to be defective.

特開平10−189829号公報JP-A-10-189829

上述したように、従来の集合配線基板においては、半導体素子を搭載する前に検査を実施し、不良配線基板に半導体素子を搭載することを回避している。ところが、近年、配線基板の回路の微細化や多層化が進むにつれ加工が複雑で難易度が高くなり、集合配線基板内における配線基板の良品割合が低下する傾向にある。このため、1枚の集合配線基板から同時に製造できる電子装置の数量が減少し、作業効率低下やコスト増といった問題が生じている。   As described above, in the conventional collective wiring board, the inspection is performed before mounting the semiconductor elements to avoid mounting the semiconductor elements on the defective wiring board. However, in recent years, as the circuit of the wiring board is miniaturized and multilayered, the processing becomes complicated and the degree of difficulty becomes high, and the proportion of non-defective wiring boards in the collective wiring board tends to decrease. For this reason, the number of electronic devices that can be manufactured simultaneously from a single collective wiring board is reduced, resulting in problems such as reduced work efficiency and increased cost.

また、従来の集合配線基板においては、封止樹脂による封止を行う際に、封止樹脂を硬化させるために加熱した後、室温に戻すと封止樹脂の熱膨張係数が配線基板の熱膨張係数よりも大きいため、封止樹脂が配線基板よりも大きく熱収縮し、その結果、配線基板の上面側が凹面となるような反りが発生してしまう。このような反りが大きい場合、集合配線基板を切断して形成された個々の電子装置を、他の回路基板上に実装する際にその実装が困難となる。 Further, in the conventional collective wiring board, when sealing with the sealing resin, after heating to cure the sealing resin, and returning to room temperature, the thermal expansion coefficient of the sealing resin increases the thermal expansion of the wiring board. Since the coefficient is larger than the coefficient, the sealing resin is thermally contracted more than the wiring substrate, and as a result, warpage occurs such that the upper surface side of the wiring substrate becomes a concave surface. When such warpage is large, it becomes difficult to mount individual electronic devices formed by cutting the assembly wiring board on other circuit boards.

本発明は、これらの問題点に鑑み案出されたものであり、その解決しようとする課題は、集合配線基板内の配線基板の良品割合を上げることで、1枚の集合配線基板から同時に製造できる電子装置の数量減少を防ぎ、もって作業効率低下やコスト増といった問題を解決することができるとともに、封止樹脂による封止時の熱処理工程が原因で生じる電子装置の反りを、使用する封止樹脂を低減することで抑制し、それにより平坦な配線基板に半導体素子が搭載され、他の回路基板に良好に実装することが可能な電子装置を安定して供給することが可能な集合配線基板を提供することにある。   The present invention has been devised in view of these problems, and the problem to be solved is to simultaneously manufacture a single collective wiring board by increasing the proportion of non-defective products in the collective wiring board. This can prevent the decrease in the number of electronic devices that can be used, thereby solving problems such as a reduction in work efficiency and an increase in cost, and the use of the warpage of electronic devices caused by the heat treatment process during sealing with a sealing resin. A collective wiring board capable of stably supplying an electronic device that is suppressed by reducing the resin, whereby a semiconductor element is mounted on a flat wiring board and can be satisfactorily mounted on another circuit board Is to provide.

本発明の集合配線基板は、半導体素子が搭載される搭載部を上面中央部に有する複数の配線基板と、搭載部を囲繞する大きさの複数の貫通口を有するフレームとを備え、配線基板の上面周端部とフレームの貫通口周辺部とを、搭載部を貫通口から露出させるように接合して成ることを特徴とするものである。   A collective wiring board of the present invention includes a plurality of wiring boards having a mounting portion on which a semiconductor element is mounted at the center of the upper surface, and a frame having a plurality of through holes sized to surround the mounting portion. The upper surface peripheral edge part and the through hole peripheral part of the frame are joined so as to expose the mounting part from the through hole.

本発明の集合配線基板によれば、フレームに個別の配線基板を複数接合させて1枚の集合配線基板を形成することから、フレームに良品の配線基板のみを選んで接合させることにより配線基板の良品割合が非常に高い集合配線基板とすることができる。したがって、1枚の集合配線基板から同時に製造できる電子装置の数量減少を防ぎ、作業効率低下やコスト増といった問題を解決することができる。   According to the collective wiring board of the present invention, since a single collective wiring board is formed by joining a plurality of individual wiring boards to the frame, only the non-defective wiring board is selected and joined to the frame. A collective wiring board with a very high non-defective product ratio can be obtained. Therefore, it is possible to prevent a decrease in the number of electronic devices that can be manufactured simultaneously from one collective wiring board, and to solve problems such as a reduction in work efficiency and an increase in cost.

また、本発明の集合配線基板によれば、フレームにより剛性が高められているとともにフレームに形成された貫通口周辺部の下面に、配線基板の上面周端部を半導体素子搭載部を貫通口から露出させるように接合させることで、封止樹脂の量を最小限に抑えて配線基板の上面側が凹状に変形することを抑制できる。これにより平坦な配線基板に半導体素子が搭載され、他の回路基板に良好に実装することが可能な電子装置を安定して供給することが可能な集合配線基板を提供できる。   Further, according to the collective wiring board of the present invention, the rigidity is enhanced by the frame, and the peripheral edge of the upper surface of the wiring board is connected from the through hole to the lower surface of the peripheral part of the through hole formed in the frame. By bonding so as to be exposed, it is possible to suppress the amount of the sealing resin to a minimum and prevent the upper surface side of the wiring board from being deformed into a concave shape. As a result, it is possible to provide a collective wiring board capable of stably supplying an electronic device in which a semiconductor element is mounted on a flat wiring board and can be satisfactorily mounted on another circuit board.

図1(a)、(b)は、本発明の集合配線基板における実施形態の一例を説明するための断面図および上面図である。FIGS. 1A and 1B are a cross-sectional view and a top view for explaining an example of an embodiment of the collective wiring board of the present invention. 図2(a)、(b)は、本発明の集合配線基板における配線基板の一例を説明するための断面図および上面図である。2A and 2B are a cross-sectional view and a top view for explaining an example of the wiring board in the collective wiring board of the present invention. 図3(a)、(b)は、本発明の集合配線基板におけるフレームの一例を説明するための断面図および上面図である。3A and 3B are a cross-sectional view and a top view for explaining an example of a frame in the collective wiring board of the present invention. 図4は、本発明の集合配線基板における実施形態の一例を説明するための断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view for explaining an example of the embodiment of the collective wiring board of the present invention. 図5は、本発明の集合配線基板における実施形態の一例を説明するための断面図である。FIG. 5 is a cross-sectional view for explaining an example of the embodiment of the collective wiring board of the present invention. 図6は、本発明の集合配線基板における実施形態の一例を説明するための断面図である。FIG. 6 is a cross-sectional view for explaining an example of the embodiment of the collective wiring board of the present invention. 図7は、本発明の集合配線基板における実施形態の一例を説明するための断面図である。FIG. 7 is a cross-sectional view for explaining an example of the embodiment of the collective wiring board of the present invention. 図8は、本発明の集合配線基板における実施形態の一例を説明するための断面図である。FIG. 8 is a cross-sectional view for explaining an example of the embodiment of the collective wiring board of the present invention. 図9は、本発明の集合配線基板における実施形態の一例を説明するための断面図である。FIG. 9 is a cross-sectional view for explaining an example of the embodiment of the collective wiring board of the present invention. 図10は、本発明の集合配線基板における実施形態の一例を説明するための断面図である。FIG. 10 is a cross-sectional view for explaining an example of the embodiment of the collective wiring board of the present invention. 図11は、本発明の集合配線基板における実施形態の一例を説明するための断面図である。FIG. 11 is a cross-sectional view for explaining an example of the embodiment of the collective wiring board of the present invention. 図12は、本発明の集合配線基板における実施形態の一例を説明するための断面図である。FIG. 12 is a cross-sectional view for explaining an example of the embodiment of the collective wiring board of the present invention.

次に、本発明の集合配線基板の実施形態の一例を図1、図2、図3、図4、図5、図6、図7、図8、図9を基にして詳細に説明する。これらの図中、10は配線基板、20はフレームであり、主としてこれらにより本例の集合配線基板30が構成される。   Next, an example of the embodiment of the collective wiring board of the present invention will be described in detail with reference to FIGS. 1, 2, 3, 4, 5, 6, 6, 7, and 9. FIG. In these drawings, reference numeral 10 denotes a wiring board, and 20 denotes a frame. The assembly wiring board 30 of this example is mainly constituted by these.

本例の集合配線基板30は、図1に示すように、半導体素子15を搭載するための複数の小型の配線導体10が、これらの配線基板10を支持するためのフレーム20の下面に接合されて成る。   In the collective wiring board 30 of this example, as shown in FIG. 1, a plurality of small wiring conductors 10 for mounting the semiconductor elements 15 are bonded to the lower surface of the frame 20 for supporting these wiring boards 10. It consists of

配線基板10は図2(a),(b)に示すように、例えば絶縁板1aの上下に絶縁層1bを1層ずつ積層した絶縁基板1と、絶縁板1aと絶縁層1bとの上に形成された導体層2と、保護用のソルダーレジスト層3とを備えている。なお、配線基板10の上面中央部には半導体素子15が搭載される搭載部8が形成されている。   As shown in FIGS. 2A and 2B, the wiring substrate 10 is formed on, for example, an insulating substrate 1 in which insulating layers 1b are stacked one above the other on the insulating plate 1a, and on the insulating plate 1a and the insulating layer 1b. A formed conductor layer 2 and a protective solder resist layer 3 are provided. A mounting portion 8 on which the semiconductor element 15 is mounted is formed at the center of the upper surface of the wiring substrate 10.

絶縁基板1を構成する絶縁板1aは、ガラス繊維にエポキシ樹脂やビスマレイミドトリアジン樹脂などの熱硬化性樹脂を含浸させた電気絶縁材料からなり、上下に貫通するスルーホール4がドリル加工により複数形成されている。スルーホール4の側壁にはスルーホール導体2aが形成されており、それにより絶縁板1aの上下の導体層2間の導通をとっている。   The insulating plate 1a constituting the insulating substrate 1 is made of an electrically insulating material in which a glass fiber is impregnated with a thermosetting resin such as epoxy resin or bismaleimide triazine resin, and a plurality of through holes 4 penetrating vertically are formed by drilling. Has been. A through-hole conductor 2a is formed on the side wall of the through-hole 4, thereby establishing conduction between the upper and lower conductor layers 2 of the insulating plate 1a.

絶縁板1aの上下に積層された絶縁層1bは、エポキシ樹脂やポリイミド樹脂などの熱硬化性樹脂を含有する電気絶縁材料からなり、その上面から下面にかけて貫通するビアホール5がレーザ加工により複数形成されている。ビアホール5にはビア導体2bが充填されており、それにより絶縁層1bの上下の導体層2間の導通をとっている。   The insulating layers 1b laminated on the upper and lower sides of the insulating plate 1a are made of an electrically insulating material containing a thermosetting resin such as an epoxy resin or a polyimide resin, and a plurality of via holes 5 penetrating from the upper surface to the lower surface are formed by laser processing. ing. The via hole 5 is filled with a via conductor 2b, thereby establishing conduction between the upper and lower conductor layers 2 of the insulating layer 1b.

導体層2は銅めっき層や銅箔等の金属で形成された配線で、例えば周知のサブトラクティブ法やセミアディティブ法で形成されている。導体層2は、半導体素子15への電力の供給や信号の入出力を行なう経路としての機能を有している。   The conductor layer 2 is a wiring formed of a metal such as a copper plating layer or copper foil, and is formed by, for example, a known subtractive method or semi-additive method. The conductor layer 2 functions as a path for supplying power to the semiconductor element 15 and inputting / outputting signals.

ソルダーレジスト層3はアクリル変性エポキシ樹脂等の感光性を有する熱硬化性樹脂から成り、導体層2の一部を露出させる開口部3c,3d,3eを有している。このソルダーレジスト層3は、導体層2の電気的絶縁を良好に保つとともに導体層2を保護する機能を有している。   The solder resist layer 3 is made of a thermosetting resin having photosensitivity such as an acrylic-modified epoxy resin, and has openings 3c, 3d, and 3e for exposing a part of the conductor layer 2. The solder resist layer 3 has a function of keeping the electrical insulation of the conductor layer 2 well and protecting the conductor layer 2.

搭載部8においてソルダーレジスト層3の開口部3cから露出した導体層2の一部は、半導体素子接続パッド6を形成している。この半導体素子接続パッド6には半導体素子15の電極16が例えば半田バンプを介して接続される。また下面においてソルダーレジスト層3の開口部3dから露出した導体層2の一部は、外部接続パッド9を形成している。この外部接続パッド9は外部電気回路基板の配線導体に例えば半田ボールを介して接続される。さらに本例では、配線基板10の上面周端部においてソルダーレジスト層3の開口部3eから導体層2の一部が露出している。この開口部3eから露出した一部は、フレーム20と電気的に接続するためのフレーム接続パッド7を形成している。なお、このフレーム接続パッド7は、後述するフレーム20の導通導体22に接続される。   A part of the conductor layer 2 exposed from the opening 3 c of the solder resist layer 3 in the mounting portion 8 forms a semiconductor element connection pad 6. The electrodes 16 of the semiconductor element 15 are connected to the semiconductor element connection pads 6 via, for example, solder bumps. A part of the conductor layer 2 exposed from the opening 3d of the solder resist layer 3 on the lower surface forms an external connection pad 9. The external connection pads 9 are connected to the wiring conductors of the external electric circuit board through, for example, solder balls. Furthermore, in this example, a part of the conductor layer 2 is exposed from the opening 3 e of the solder resist layer 3 at the peripheral edge of the upper surface of the wiring substrate 10. A part exposed from the opening 3 e forms a frame connection pad 7 for electrical connection with the frame 20. The frame connection pad 7 is connected to a conductive conductor 22 of the frame 20 described later.

フレーム20は図3(a)に示すように、絶縁板21と、絶縁板21を貫通する導通導体22と、絶縁板21の上下に形成されたソルダーレジスト層23とを備えている。このフレーム20は、複数の配線基板10を所定の配列で支持する支持体として機能し、支持される配線基板10の配列に対応した位置に配線基板10の搭載部8を囲繞する大きさの貫通口24を有している。また貫通口24の周囲には、上述したフレーム接続パッド7と対応する位置に導通導体22が形成されている。   As shown in FIG. 3A, the frame 20 includes an insulating plate 21, a conductive conductor 22 that penetrates the insulating plate 21, and solder resist layers 23 formed above and below the insulating plate 21. The frame 20 functions as a support body that supports the plurality of wiring boards 10 in a predetermined arrangement, and penetrates in a size that surrounds the mounting portion 8 of the wiring board 10 at a position corresponding to the arrangement of the wiring boards 10 to be supported. It has a mouth 24. A conductive conductor 22 is formed around the through hole 24 at a position corresponding to the frame connection pad 7 described above.

絶縁板21は、ガラス繊維にエポキシ樹脂やビスマレイミドトリアジン樹脂などの熱硬化性樹脂を含浸させた電気絶縁材料からなる。貫通口24は、例えばルーター加工により形成される。また貫通口24の周囲には導通導体22を形成するためのスルーホール25がドリル加工により複数形成されている。この絶縁板21は、フレーム20の強度をもたせる芯材としての機能を有しており、本例の集合配線基板30に半導体素子15を搭載した後に封止作業を施す際に生じる反りを抑制する剛性保持のため、厚みは0.3mm以上あることが望ましい。   The insulating plate 21 is made of an electrically insulating material obtained by impregnating a glass fiber with a thermosetting resin such as an epoxy resin or a bismaleimide triazine resin. The through hole 24 is formed by router processing, for example. A plurality of through holes 25 for forming the conductive conductors 22 are formed around the through holes 24 by drilling. This insulating plate 21 has a function as a core material that gives the strength of the frame 20, and suppresses warping that occurs when the sealing operation is performed after the semiconductor element 15 is mounted on the collective wiring substrate 30 of this example. In order to maintain rigidity, the thickness is desirably 0.3 mm or more.

導通導体22は、例えば銅めっきから成り、スルーホール25の側壁にめっき法などにより銅等の金属を被着させることにより形成されている。導通導体22は配線基板10のフレーム接続パッド7と接続されることにより、フレーム20の上面に他の電子部品や放熱板等を配線基板10の導体層2に電気的に接続された状態で搭載可能とする。   The conductive conductor 22 is made of, for example, copper plating, and is formed by depositing a metal such as copper on the side wall of the through hole 25 by a plating method or the like. The conductive conductor 22 is connected to the frame connection pad 7 of the wiring board 10, so that other electronic components, a heat sink and the like are electrically connected to the conductor layer 2 of the wiring board 10 on the upper surface of the frame 20. Make it possible.

ソルダーレジスト層23は、エポキシ樹脂やポリイミド樹脂などの熱硬化性樹脂を含有する電気絶縁材料から成り、導通導体22の上端および下端を露出させる開口部23a、23bを有している。   The solder resist layer 23 is made of an electrically insulating material containing a thermosetting resin such as an epoxy resin or a polyimide resin, and has openings 23 a and 23 b that expose the upper and lower ends of the conductive conductor 22.

そして、このフレーム20の下面に複数の配線基板10が、それぞれ貫通口24内に搭載部8が露出するとともにフレーム接続パッド7と導通導体22とが電気的に接続されるようにして接合されることにより図1に示した本例の集合配線基板30が形成されている。配線基板10とフレーム20との接合はフレーム20の貫通口24の周辺部に複数形成された導通導体22と、配線基板10の上面周端部に複数形成された対応するフレーム接続パッド7とを、接合材35を介して接合することにより行なわれる。接合材35には例えば半田が用いられ、印刷法により半田バンプ(不図示)をフレーム接続パッド7上に形成しておき、対応する導通導体22を半田バンプ上に載せてフレーム20と配線基板10を重ね合わせた状態で220℃〜260℃の条件でリフロー処理することにより配線基板10とフレーム20とが接合される。   A plurality of wiring boards 10 are joined to the lower surface of the frame 20 so that the mounting portion 8 is exposed in the through-holes 24 and the frame connection pads 7 and the conductive conductors 22 are electrically connected. Thus, the collective wiring board 30 of this example shown in FIG. 1 is formed. For joining the wiring board 10 and the frame 20, a plurality of conductive conductors 22 formed at the periphery of the through-hole 24 of the frame 20 and a corresponding frame connection pad 7 formed at the peripheral edge of the upper surface of the wiring board 10 are connected. This is performed by bonding through the bonding material 35. For example, solder is used as the bonding material 35, and solder bumps (not shown) are formed on the frame connection pads 7 by a printing method, and the corresponding conductive conductors 22 are placed on the solder bumps and the frame 20 and the wiring board 10. The wiring board 10 and the frame 20 are joined by performing a reflow process under conditions of 220 ° C. to 260 ° C. in a state where the two are superposed.

また、接合材35には上述の半田の他に、異方性導電フィルムや異方性導電ペーストといった異方性導電材料を用いてもよい。これは、エポキシ系樹脂や合成ゴム系樹脂などの熱硬化性樹脂の中に、金めっき処理を施した樹脂などの導電性粒子を混合したもので、フレーム接続パッド7上に異方性導電材料を載せ、対応する導通導体22を異方性導電材料に載せてフレーム20と配線基板10を重ね合わせた状態で100〜200℃、3〜5MPaの条件で熱圧着することにより接合される。   In addition to the above-described solder, an anisotropic conductive material such as an anisotropic conductive film or an anisotropic conductive paste may be used for the bonding material 35. This is a mixture of conductive particles such as a resin subjected to gold plating in a thermosetting resin such as an epoxy resin or a synthetic rubber resin, and an anisotropic conductive material on the frame connection pad 7. And the corresponding conductive conductor 22 is placed on an anisotropic conductive material, and the frame 20 and the wiring board 10 are overlapped and bonded by thermocompression bonding under conditions of 100 to 200 ° C. and 3 to 5 MPa.

ところで、配線基板10はフレーム20に接合される前に電気検査や外観検査が行われ、良品の配線基板10のみをフレーム20に接合する。それにより、配線基板10の良品割合が非常に高い集合配線基板30とすることができる。その後、集合配線基板30には、接合された各々の配線基板10の搭載部8に半導体素子15が搭載される。半導体素子15を搭載するには、例えば半導体素子接続パッド6に半田ボールを搭載しておき、対応する半導体素子15の電極16を半田ボールに重ね合わせて約220℃〜260℃の条件でリフロー処理を行う、いわゆるフリップチップ技術で接続する。半導体素子15を搭載した後は、貫通口24内に熱硬化性樹脂から成る封止樹脂を注入し、その後、封止樹脂を熱硬化させることにより半導体素子15の封止を行う。樹脂の注入は、例えば印刷マスクを用いて樹脂を塗布する印刷法により行なわれる。このとき、本発明の集合配線基板30によれば、貫通口24の側壁が封止樹脂の流出を防ぐ役割を有するため、従来必要であった封止樹脂注入のための金型が不要となる。また、貫通口24の大きさを封止に必要な最小限の大きさにとどめておくことで、注入する封止樹脂を低減することができる。封止樹脂の熱硬化は、150〜250℃の温度で行なう。このとき集合配線基板30は、フレーム20によりその剛性が高められているので封止樹脂の熱収縮による配線基板10の変形を抑えることができる。   By the way, the electrical inspection and the appearance inspection are performed before the wiring board 10 is joined to the frame 20, and only the non-defective wiring board 10 is joined to the frame 20. Thereby, it can be set as the collective wiring board 30 in which the non-defective product ratio of the wiring board 10 is very high. Thereafter, the semiconductor element 15 is mounted on the mounting portion 8 of each bonded wiring board 10 on the collective wiring board 30. In order to mount the semiconductor element 15, for example, a solder ball is mounted on the semiconductor element connection pad 6, and the electrode 16 of the corresponding semiconductor element 15 is overlaid on the solder ball and reflow treatment is performed at a temperature of about 220 ° C. to 260 ° C. Connect by so-called flip chip technology. After mounting the semiconductor element 15, a sealing resin made of a thermosetting resin is injected into the through-hole 24, and then the semiconductor element 15 is sealed by thermosetting the sealing resin. For example, the resin is injected by a printing method in which the resin is applied using a printing mask. At this time, according to the collective wiring board 30 of the present invention, since the side wall of the through-hole 24 has a role of preventing the sealing resin from flowing out, a mold for injecting the sealing resin, which is conventionally required, becomes unnecessary. . Further, by keeping the size of the through-hole 24 to the minimum size necessary for sealing, the sealing resin to be injected can be reduced. The thermosetting of the sealing resin is performed at a temperature of 150 to 250 ° C. At this time, since the rigidity of the assembly wiring board 30 is enhanced by the frame 20, deformation of the wiring board 10 due to thermal contraction of the sealing resin can be suppressed.

封止作業完了後は、例えばフレーム20の上にさらに他の電子部品または放熱板が搭載される。フレーム20の上にさらに他の電子部品が搭載される形態は、いわゆるPoP(Package on Package)とよばれる。その実施形態の説明を図4を用いて行う。この場合、フレーム20に設けられた開口部23aから露出する導通導体22と、他の電子部品41の電極42とを半田等の導電性の接合材を介して接合させることで、他の電子部品41が配線基板10と電気的に接続された状態で搭載が可能となる。また、フレーム20の上に金属から成る放熱板が搭載される場合は、放熱板と導通導体22とを半田等の導電性の接合材を介して接合させる。放熱板は接地電位に接続されることが好ましい。   After completion of the sealing operation, for example, another electronic component or a heat sink is mounted on the frame 20. A form in which another electronic component is mounted on the frame 20 is called a so-called PoP (Package on Package). The embodiment will be described with reference to FIG. In this case, by connecting the conductive conductor 22 exposed from the opening 23a provided in the frame 20 and the electrode 42 of the other electronic component 41 via a conductive bonding material such as solder, the other electronic component is obtained. Mounting is possible in a state where 41 is electrically connected to the wiring board 10. When a heat sink made of metal is mounted on the frame 20, the heat sink and the conductive conductor 22 are bonded via a conductive bonding material such as solder. The heat sink is preferably connected to a ground potential.

集合配線基板30に半導体素子15や他の電子部品が搭載された後は、配線基板10の間の切断領域に沿って例えばダイシング装置によって切断され個別の電子装置が完成する。   After the semiconductor elements 15 and other electronic components are mounted on the collective wiring board 30, the individual electronic devices are completed by cutting, for example, with a dicing device along the cutting area between the wiring boards 10.

ここまで説明したように、集合配線基板30はフレーム20に良品の配線基板10のみを選んで接合することにより、1枚の集合配線基板30から同時に製造できる電子部品の数量減少を防ぎ、作業効率低下やコスト増といった問題を解決することができる。また、フレーム20により剛性が高められているとともに配線基板10に搭載する半導体素子15を封止する際の封止樹脂を最小限に抑えることで、封止樹脂と配線基板10との熱膨張の差による変形を抑制することができる。これにより平坦な配線基板10に半導体素子15が搭載され、他の回路基板に良好に実装することが可能な電子装置を安定して供給することが可能な集合配線基板30を提供できる。   As described so far, the collective wiring board 30 is selected and bonded only to the non-defective wiring board 10 to the frame 20 to prevent a reduction in the number of electronic components that can be manufactured simultaneously from one collective wiring board 30 and to improve work efficiency. Problems such as reduction and cost increase can be solved. Further, the rigidity of the frame 20 is increased, and the sealing resin when sealing the semiconductor element 15 mounted on the wiring board 10 is minimized, so that the thermal expansion between the sealing resin and the wiring board 10 can be reduced. Deformation due to the difference can be suppressed. As a result, it is possible to provide a collective wiring substrate 30 that can stably supply an electronic device in which the semiconductor element 15 is mounted on the flat wiring substrate 10 and can be satisfactorily mounted on another circuit substrate.

なお、本発明は上述の実施形態の一例に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲であれば種々の変更は可能である。例えば上述の実施形態の一例では、フレーム20が導通導体22を備えており、この導通導体22と電気的に接続されるようにしてフレーム20の上に他の電子部品や放熱板を搭載する例を示したが、フレーム20は、必ずしも導通導体22を備えている必要はなく、フレーム20の上に必ずしも他の電子部品や放熱板を搭載する必要もない。   In addition, this invention is not limited to an example of above-mentioned embodiment, A various change is possible if it is a range which does not deviate from the summary of this invention. For example, in the above-described embodiment, the frame 20 includes the conductive conductor 22, and another electronic component or a heat sink is mounted on the frame 20 so as to be electrically connected to the conductive conductor 22. However, the frame 20 does not necessarily include the conductive conductor 22, and it is not always necessary to mount another electronic component or a heat sink on the frame 20.

さらに、本発明の集合配線基板は、例えばコンデンサや抵抗などを内蔵した電子装置においても適用可能である。その実施形態例の説明を図5を用いて行う。この例の場合、例えば受動部品54a,54bを組み込んだ部品内蔵の配線基板56をフレーム20に接合させている。なお、受動部品54aは配線基板56の内部に埋設されている。また、受動部品54bは配線基板56の上面でフレーム20に対応する位置に搭載されている。フレーム20には受動部品54bに対応する位置に受動部品54bを収容可能な凹部が形成されている。そして配線基板56の上面端部のフレーム接続パッド55と、開口部23bから露出する導通導体22とを導電性の接合材を介してフレーム20に接合する。その後、配線基板56の上面に半導体素子53を例えば上述のフリップチップ技術で搭載する。さらにフレーム20の貫通口24内に封止樹脂を注入するとともに貫通口24を塞ぐように金属製の放熱板51を接合する。このとき、放熱板51はフレーム20の導通導体22を介して配線基板56の接地導体に電気的に接続されることが好ましい。また、半導体素子53と放熱板51との間は、例えばサーマルグリスや熱伝導性粒子を含有したエポキシ樹脂などの接続層52を介在させて熱的に接続することが好ましい。このような態様を採ることによって、受動部品を備えた反りの小さな電子装置を、高い良品割合で効率的かつ安定して提供できる。   Furthermore, the collective wiring board of the present invention can be applied to an electronic device having a built-in capacitor or resistor, for example. The embodiment will be described with reference to FIG. In the case of this example, for example, a wiring board 56 with built-in components incorporating passive components 54 a and 54 b is joined to the frame 20. The passive component 54a is embedded in the wiring board 56. The passive component 54 b is mounted on the upper surface of the wiring board 56 at a position corresponding to the frame 20. The frame 20 is formed with a recess capable of accommodating the passive component 54b at a position corresponding to the passive component 54b. Then, the frame connection pad 55 at the upper end of the wiring board 56 and the conductive conductor 22 exposed from the opening 23b are bonded to the frame 20 via a conductive bonding material. Thereafter, the semiconductor element 53 is mounted on the upper surface of the wiring substrate 56 by, for example, the above-described flip chip technique. Further, a sealing resin is injected into the through hole 24 of the frame 20 and a metal heat sink 51 is joined so as to close the through hole 24. At this time, the heat radiating plate 51 is preferably electrically connected to the ground conductor of the wiring board 56 through the conductive conductor 22 of the frame 20. In addition, it is preferable that the semiconductor element 53 and the heat dissipation plate 51 be thermally connected by interposing a connection layer 52 such as an epoxy resin containing thermal grease or heat conductive particles. By adopting such an aspect, it is possible to efficiently and stably provide an electronic device with a small warpage provided with a passive component at a high non-defective ratio.

また、先述の26段落において、配線基板10が接合されたフレーム20の貫通口24内全体に封止樹脂を充填する説明を行ったが、本発明の配線基板は、樹脂による接合部の補強が必要な部分にだけ封止樹脂を充填する電子装置においても適用可能である。その実施形態例の説明を図6を用いて行う。この例の場合、まず、配線基板61を配線基板61の上面端部のフレーム接続パッド63とフレーム20の下面側の開口部23bから露出する導通導体22とを導電性の接合材を介してフレーム20に接合する。その後、半導体素子62aおよび62bを配線基板61の上面に導電性の接合材を介して実装する。次に、熱硬化性樹脂から成る封止樹脂66を、例えばエアノズルを用いて配線基板61とフレーム20との接合部、あるいは配線基板61と半導体素子62aおよび62bとの接合部に注入する。このとき、半導体素子の周囲に封止樹脂66の流出を防ぐための囲いをソルダーレジストなどにより形成しておくと注入が容易になる。そして、150〜250℃の温度で封止樹脂66を熱硬化させることにより封止樹脂66の充填が完了する。次に、第2の配線基板64を、第2の配線基板64の下面端部の電極65とフレーム20の上面側の開口部23aから露出する貫通導体22とが接続されるようにして導電性の接合材を介してフレーム20に接合する。このように、貫通口24内に充填する封止樹脂の分量を少なくすることで、先述した配線基板と封止樹脂との熱膨張係数の違いから発生する電子装置60の反りをより抑制することが可能となる。   Further, in the above-mentioned 26th paragraph, the explanation was made that the entire inside of the through-hole 24 of the frame 20 to which the wiring board 10 is bonded is filled with the sealing resin. The present invention can also be applied to an electronic device in which only a necessary portion is filled with a sealing resin. The embodiment will be described with reference to FIG. In the case of this example, first, the wiring board 61 is formed by connecting the frame connection pad 63 at the upper end of the wiring board 61 and the conductive conductor 22 exposed from the opening 23b on the lower surface side of the frame 20 through a conductive bonding material. 20 is joined. Thereafter, the semiconductor elements 62a and 62b are mounted on the upper surface of the wiring board 61 via a conductive bonding material. Next, a sealing resin 66 made of a thermosetting resin is injected into the junction between the wiring board 61 and the frame 20 or the junction between the wiring board 61 and the semiconductor elements 62a and 62b using, for example, an air nozzle. At this time, if an enclosure for preventing the sealing resin 66 from flowing out is formed around the semiconductor element with a solder resist or the like, the injection becomes easy. The filling of the sealing resin 66 is completed by thermosetting the sealing resin 66 at a temperature of 150 to 250 ° C. Next, the second wiring board 64 is electrically conductive so that the electrode 65 at the lower end of the second wiring board 64 and the through conductor 22 exposed from the opening 23a on the upper surface side of the frame 20 are connected. It joins to the frame 20 through the joining material. In this way, by reducing the amount of the sealing resin filled in the through-hole 24, the warpage of the electronic device 60 that occurs due to the difference in the thermal expansion coefficient between the wiring board and the sealing resin described above can be further suppressed. Is possible.

また、本発明の集合配線基板は、例えば配線基板に高さの高い電子部品を実装する電子装置においても適用可能である。その実施形態例の説明を図7を用いて行う。この例の場合、まず、配線基板71を、配線基板71の上面端部のフレーム接続パッド73とフレーム20の下面側の開口部23bから露出する導通導体22とを導電性の接合材を介してフレーム20に接合する。その後、電子部品72を配線基板71の上面に導電性の接合材を介して実装する。次に、第2の配線基板74を、第2の配線基板74の下面端部の電極75とフレーム20の上面側の開口部23aから露出する貫通導体22とが接続されるようにして導電性の接合材を介してフレーム20に接合する。このとき、電子部品72に対応する位置の、第2の配線基板74には、フレーム20から突出する電子部品72を収容することができる開口部76が形成されている。開口部76はルーター装置などにより形成される。このような態様を採ることによって、電子部品72が第2の配線基板74と緩衝することを回避でき、電子装置70の厚みが増大することなく電子装置70を、高い良品割合で効率的かつ安定して提供できる。さらに、本例の電子部品72として可変抵抗部品を実装し、開口部76を利用して可変部分の操作を行うことが可能な電子装置への適用もできる。   Further, the collective wiring board of the present invention can be applied to, for example, an electronic device that mounts a high electronic component on the wiring board. The embodiment will be described with reference to FIG. In the case of this example, first, the wiring board 71 is connected to the frame connection pad 73 at the upper end portion of the wiring board 71 and the conductive conductor 22 exposed from the opening 23b on the lower surface side of the frame 20 through a conductive bonding material. Join the frame 20. Thereafter, the electronic component 72 is mounted on the upper surface of the wiring board 71 via a conductive bonding material. Next, the second wiring board 74 is electrically conductive so that the electrode 75 at the lower end of the second wiring board 74 and the through conductor 22 exposed from the opening 23a on the upper face side of the frame 20 are connected. It joins to the frame 20 through the joining material. At this time, the second wiring board 74 at a position corresponding to the electronic component 72 is formed with an opening 76 that can accommodate the electronic component 72 protruding from the frame 20. The opening 76 is formed by a router device or the like. By adopting such an aspect, the electronic component 72 can be prevented from buffering with the second wiring board 74, and the electronic device 70 can be efficiently and stably at a high non-defective product ratio without increasing the thickness of the electronic device 70. Can be provided. Furthermore, a variable resistance component can be mounted as the electronic component 72 of this example, and the present invention can be applied to an electronic device that can operate the variable portion using the opening 76.

また、本発明の集合配線基板は、例えば電子装置内側の配線基板に付着したフラックス残渣を、効率的に洗浄することが必要な電子装置においても適用可能である。その実施形態の説明を図8を用いて行う。この例の場合、まず、配線基板81を配線基板81の上面端部のフレーム接続パッド83と、フレーム20の下面側の開口部23bから露出した導通導体22とを導電性の接合材を介してフレーム20に接合する。その後、半導体素子82を配線基板81の上面に導電性の接合材を介して実装する。次に、第2の配線基板84を、第2の配線基板84の下面端部の電極85とフレーム20の上面側の開口部23aから露出する導通導体22とが接続されるようにして導電性の接合材を介して接合する。ここで、第2の配線基板84をフレーム20に接合した際に、貫通口24を完全に塞がないように、貫通口24の開口幅を第2の配線基板84の幅よりも大きく形成して開口を残しておき、フラックス残渣の洗浄液の注入および排出口として利用する。このとき、フレーム20において、配線基板81と第2の配線基板84との接合部に対応する位置には、複数の貫通孔86と複数の溝87が形成されている。そして、第2の配線基板84において、貫通孔86と溝87とに対応する位置には第2の貫通孔88が形成されている。貫通孔86はドリル装置により形成され径はφ0.08〜0.5mm程度である。溝87はルーター装置により形成され、幅は0.03〜1mm程度であり深さは0.5〜10μm程度である。第2の貫通孔88はドリル装置で形成され径はφ0.1〜1mm程度である。これらの貫通孔86および溝87および第2の貫通孔88により、フレーム20と配線基板81、あるいはフレーム20と第2の配線基板84との接合部の隙間にも十分な量の洗浄液を行渡らせることが可能となり、電子装置内側の配線基板表面に付着しているフラックス残渣を効率よく洗浄することが可能となる。   Further, the collective wiring board of the present invention can be applied to, for example, an electronic device that requires efficient cleaning of a flux residue adhering to the wiring substrate inside the electronic device. The embodiment will be described with reference to FIG. In the case of this example, first, the wiring board 81 is connected to the frame connection pad 83 at the upper end portion of the wiring board 81 and the conductive conductor 22 exposed from the opening 23b on the lower surface side of the frame 20 through a conductive bonding material. Join the frame 20. Thereafter, the semiconductor element 82 is mounted on the upper surface of the wiring substrate 81 via a conductive bonding material. Next, the second wiring board 84 is made conductive so that the electrode 85 at the lower end of the second wiring board 84 and the conductive conductor 22 exposed from the opening 23a on the upper face side of the frame 20 are connected. It joins through the joining material. Here, the opening width of the through hole 24 is formed larger than the width of the second wiring board 84 so that the through hole 24 is not completely blocked when the second wiring board 84 is joined to the frame 20. Leave the opening open and use it as an inlet and outlet for the flux residue cleaning solution. At this time, in the frame 20, a plurality of through holes 86 and a plurality of grooves 87 are formed at positions corresponding to the joints between the wiring substrate 81 and the second wiring substrate 84. In the second wiring substrate 84, second through holes 88 are formed at positions corresponding to the through holes 86 and the grooves 87. The through hole 86 is formed by a drill device and has a diameter of about 0.08 to 0.5 mm. The groove 87 is formed by a router device, and has a width of about 0.03 to 1 mm and a depth of about 0.5 to 10 μm. The second through-hole 88 is formed by a drill device and has a diameter of about φ0.1 to 1 mm. With these through holes 86, grooves 87, and second through holes 88, a sufficient amount of cleaning liquid is also distributed to the gaps at the joints between the frame 20 and the wiring board 81 or between the frame 20 and the second wiring board 84. Thus, the flux residue adhering to the surface of the wiring board inside the electronic device can be efficiently cleaned.

また、本発明の集合配線基板は、例えば配線基板の両主面上に半導体素子や電子部品を複数個実装することが必要な電子装置においても適用可能である。その実施形態の説明を図9を用いて行う。この例の場合、まず配線基板91を配線基板91の上面端部のフレーム接続パッド93と、フレーム20の下面側の開口部23bから露出した導通導体22とを導電性の接合材を介してフレーム20に接合する。その後、半導体素子92および第1の電子部品94を配線基板91上面側のフレーム20に囲繞された個所に導電性の接合材を介して実装する。次に、配線基板91の下面の電極95と、第2の電子部品96とを導電性の接合材を介して実装する。次に、フレーム20の上面側の開口部23aから露出した導通導体22を外部接続パッドとして、外部電子回路基板97と導電性の接合材を介して接続する。このように、配線基板91と外部電子回路基板97との間にフレーム20を介在させることで、配線基板91上面側のフレーム20によって囲繞された個所に空間ができ、半導体素子92や第1の電子部品94を実装することができるとともに、配線基板91の下面側にも第2の電子部品96を実装することが可能となる。これにより、配線基板の両主面上に半導体素子や電子部品を複数個実装することが可能となる。   The collective wiring board of the present invention can also be applied to, for example, an electronic device that requires a plurality of semiconductor elements and electronic components to be mounted on both main surfaces of the wiring board. The embodiment will be described with reference to FIG. In the case of this example, first, the wiring board 91 is formed by connecting the frame connection pad 93 at the upper end of the wiring board 91 and the conductive conductor 22 exposed from the opening 23b on the lower surface side of the frame 20 through the conductive bonding material. 20 is joined. Thereafter, the semiconductor element 92 and the first electronic component 94 are mounted on a portion surrounded by the frame 20 on the upper surface side of the wiring substrate 91 via a conductive bonding material. Next, the electrode 95 on the lower surface of the wiring board 91 and the second electronic component 96 are mounted via a conductive bonding material. Next, the conductive conductor 22 exposed from the opening 23a on the upper surface side of the frame 20 is connected to the external electronic circuit board 97 via a conductive bonding material as an external connection pad. In this manner, by interposing the frame 20 between the wiring board 91 and the external electronic circuit board 97, a space is created at a location surrounded by the frame 20 on the upper surface side of the wiring board 91, and the semiconductor element 92 and the first electronic circuit board 97 are formed. The electronic component 94 can be mounted, and the second electronic component 96 can be mounted on the lower surface side of the wiring board 91. Thereby, a plurality of semiconductor elements and electronic components can be mounted on both main surfaces of the wiring board.

また、本発明の集合配線基板は、例えば配線基板上に半田を介して電子部品を実装する際のリフロー処理熱による配線基板の反りの発生や、配線基板のフレームからの落下を抑制した電子装置においても適用可能である。その実施形態例の説明を図10を用いて行う。この例の場合、集合配線基板100は、配線基板101とフレーム20とが半田104および樹脂から成る接着材料105の両方を介して接合されている。このような集合配線基板100を形成するには、まず配線基板101の上面に形成されたフレーム接続パッド103の上に半田ペーストを印刷塗布する。次に、半田ペーストが塗布されたフレーム接続パッド103のさらに外周部の配線基板101上面周端部に接着材料105を塗布する。接着材料105には、例えばアクリル樹脂などの紫外線硬化性樹脂を含有するものを用いる。その後、リフロー処理をすることによりフレーム20の下面側の導通導体22とフレーム接続パッド103とを半田104を介して接合する。このとき、配線基板101上面周端部に塗布した接着材料105はフレーム20の下面と接触する。この状態で紫外線を接着材料105に照射することで接着材料105を硬化させ配線基板101とフレーム20とを接合させる。これにより、フレームと20と配線基板101とを半田および樹脂の両方で接合させることができる。次に、配線基板101の上面に電子部品102を半田を介してリフロー処理により実装する。このとき、配線基板101とフレーム20とを接合する半田104がリフロー処理時の熱により再溶融することがある。しかし、接着材料105によっても両者が接合されていることから、配線導体101とフレーム20とは接着材料105によりしっかりと固定される。したがって、半田104が溶融したとしても配線基板101が熱によって大きく反ったり、配線基板101がフレーム20から落下したりすることを抑制することが可能な電子装置を提供することができる。なお、紫外線硬化型樹脂を含有する接着材料に替わり、リフロー処理時の熱により硬化するエポキシ樹脂等の熱硬化型樹脂を含有するものを使用しても良い。この場合、例えば半田ペーストを印刷塗布した後に接着材料を配線基板101上に塗布しておき、フレーム20と配線基板101とをリフロー処理することにより、半田ペーストとともに接着材料も硬化してフレーム20と配線基板101とを半田および接着材料の両方で接合することができる。   In addition, the collective wiring board of the present invention is an electronic device in which, for example, generation of warping of the wiring board due to heat of reflow processing when electronic components are mounted on the wiring board via solder and dropping of the wiring board from the frame are suppressed. It is also applicable to. The embodiment will be described with reference to FIG. In the case of this example, in the collective wiring board 100, the wiring board 101 and the frame 20 are joined via both the solder 104 and the adhesive material 105 made of resin. In order to form such a collective wiring substrate 100, first, a solder paste is printed on the frame connection pads 103 formed on the upper surface of the wiring substrate 101. Next, the adhesive material 105 is applied to the peripheral edge of the upper surface of the wiring board 101 at the outer periphery of the frame connection pad 103 to which the solder paste is applied. As the adhesive material 105, for example, a material containing an ultraviolet curable resin such as an acrylic resin is used. Thereafter, a reflow process is performed to join the conductive conductor 22 on the lower surface side of the frame 20 and the frame connection pad 103 via the solder 104. At this time, the adhesive material 105 applied to the peripheral edge of the upper surface of the wiring substrate 101 contacts the lower surface of the frame 20. In this state, the adhesive material 105 is cured by irradiating the adhesive material 105 with ultraviolet rays, and the wiring substrate 101 and the frame 20 are bonded. As a result, the frame 20 and the wiring board 101 can be joined together by both solder and resin. Next, the electronic component 102 is mounted on the upper surface of the wiring board 101 by soldering through a reflow process. At this time, the solder 104 that joins the wiring substrate 101 and the frame 20 may be remelted by heat during the reflow process. However, since both are joined also by the adhesive material 105, the wiring conductor 101 and the frame 20 are firmly fixed by the adhesive material 105. Therefore, it is possible to provide an electronic device that can prevent the wiring substrate 101 from being greatly warped by heat or dropping the wiring substrate 101 from the frame 20 even if the solder 104 is melted. Instead of an adhesive material containing an ultraviolet curable resin, a material containing a thermosetting resin such as an epoxy resin that is cured by heat during reflow treatment may be used. In this case, for example, after the solder paste is printed and applied, the adhesive material is applied onto the wiring board 101, and the frame 20 and the wiring board 101 are subjected to reflow processing, whereby the adhesive material is cured together with the solder paste, and the frame 20 The wiring board 101 can be bonded with both solder and adhesive material.

また、本発明の集合配線基板は、例えば電子装置を電子機器等の筐体に変形や破損させることなくネジにより固定することが必要な電子装置においても適用可能である。その実施形態の説明を図11を用いて行う。この例の場合、集合配線基板110は、配線基板111とフレーム20と第2の配線基板114とから構成されている。この集合配線基板110においては、まず、配線基板111をフレーム20に接合する。両者の接合は、配線基板111の上面端部のフレーム接続パッド113とフレーム20の下面側の導通導体22とを導電性の接合材を接合することにより行なう。その後、電子部品112を配線基板111の上面に実装する。次に、第2の配線基板114をフレーム20に接合する。両者の接合は、第2の配線基板114の下面端部の電極115と、フレーム20の上面側の導通導体22とを導電性の接合材を介して接合することによって行なう。   The collective wiring board of the present invention can also be applied to an electronic device that needs to be fixed with screws without deforming or damaging the electronic device in a housing such as an electronic device. The embodiment will be described with reference to FIG. In this example, the collective wiring board 110 includes a wiring board 111, a frame 20, and a second wiring board 114. In the collective wiring board 110, first, the wiring board 111 is bonded to the frame 20. The both are joined by joining the frame connection pad 113 at the upper end of the wiring substrate 111 and the conductive conductor 22 on the lower surface side of the frame 20 with a conductive bonding material. Thereafter, the electronic component 112 is mounted on the upper surface of the wiring board 111. Next, the second wiring board 114 is bonded to the frame 20. The two are joined by joining the electrode 115 at the lower end of the second wiring substrate 114 and the conductive conductor 22 on the upper surface side of the frame 20 via a conductive joining material.

なお、この例では、フレーム20にネジ止め孔116が穿孔されている。
ネジ止め孔116は、集合配線基板110を分割して得られる電子装置を電子機器の筐体118にネジ119を介して固定する際に用いられるものである。さらに、配線基板111および第2の配線基板114には、ネジ止め孔116に対応する位置にネジ止め孔116とその周囲を露出させる開口部117aおよび117bが開口されている。これらのネジ止め孔116や開口部117aおよび117bはドリル装置等により形成される。
In this example, screw holes 116 are formed in the frame 20.
The screw holes 116 are used when an electronic device obtained by dividing the collective wiring board 110 is fixed to the casing 118 of the electronic device via the screws 119. Further, the wiring board 111 and the second wiring board 114 have screw holes 116 and openings 117 a and 117 b that expose the periphery thereof at positions corresponding to the screw holes 116. These screw holes 116 and openings 117a and 117b are formed by a drill device or the like.

他方、電子機器の筐体118には、配線基板111の開口部117a内に挿入されるとともに、フレーム20の下面におけるネジ止め孔116の周囲を支持する円筒状の支持体118aが設けられている。支持体118aは、その内部にネジ119を挿通可能な内径を有するとともに、配線基板111の下面が筐体118に接触しない状態で配置できる長さを有している。また、支持体118内の底面部分には、ネジ119と螺合可能なネジ穴118bが形成されている。そして、ネジ119を配線基板114に形成された開口部117bからネジ止め孔116に挿入して筐体118に形成されたネジ穴118bに固定する。このような形態をとることで、フレーム20のみが支持体118aに支持されて筐体118と固定され、配線基板111や第2の配線基板114はネジ119の締め付けによる負荷を受けない。これにより、本例の集合配線基板110を分割して得られる電子装置を電子機器等にネジ119により固定する際、変形や破損をすることのない電子装置を提供することができる。なお、電子部品112と配線基板111との間隙や、フレーム20と配線基板111および第2の配線基板114との間隙を封止樹脂により封止する場合、封止樹脂が、ネジ止め孔116に流入することを防止するために、例えばネジ止め孔116の周囲のソルダーレジスト層3、23に堤状の突起部3a,23aを形成したり、配線基板111の上面およびフレーム20の下面に開口部117aを囲繞する環状の電極113aを形成しておくとともに両者間を半田等の封止材料113bで接合したりしてもよい。   On the other hand, the casing 118 of the electronic device is provided with a cylindrical support 118 a that is inserted into the opening 117 a of the wiring board 111 and supports the periphery of the screw hole 116 on the lower surface of the frame 20. . The support body 118 a has an inner diameter through which the screw 119 can be inserted, and has a length that allows the lower surface of the wiring board 111 to be disposed without contacting the housing 118. Further, a screw hole 118b that can be screwed with the screw 119 is formed in the bottom surface portion in the support body 118. Then, the screw 119 is inserted into the screwing hole 116 from the opening 117 b formed in the wiring board 114 and fixed to the screw hole 118 b formed in the housing 118. By adopting such a configuration, only the frame 20 is supported by the support body 118a and fixed to the housing 118, and the wiring board 111 and the second wiring board 114 are not subjected to a load due to tightening of the screws 119. Thereby, when the electronic device obtained by dividing the collective wiring board 110 of this example is fixed to the electronic device or the like with the screw 119, it is possible to provide an electronic device that is not deformed or damaged. Note that when the gap between the electronic component 112 and the wiring board 111 or the gap between the frame 20 and the wiring board 111 and the second wiring board 114 is sealed with a sealing resin, the sealing resin is inserted into the screw holes 116. In order to prevent inflow, for example, bank-like protrusions 3a and 23a are formed on the solder resist layers 3 and 23 around the screw holes 116, or openings are formed on the upper surface of the wiring board 111 and the lower surface of the frame 20. An annular electrode 113a surrounding 117a may be formed and the two may be joined with a sealing material 113b such as solder.

また、本発明の集合配線基板は、例えばフレームと配線基板間との接合部における電気的接続状態を検査することが必要な電子装置においても適用可能である。その実施形態例の説明を図12を用いて行う。この例の場合、集合配線基板120は、配線基板121とフレーム20と第2の配線基板124とを備えている。このような集合配線基板120においては、まず、配線基板121をフレーム20に接合する。両者の接合は、配線基板121の上面端部のフレーム接続パッド123とフレーム20の下面側の導通導体22とを導電性の接合材を介して接合することにより行なう。その後、電子部品122を配線基板121の上面に実装する。次に第2の配線基板124をフレーム20の上面に接合する。両者の接合は、第2の配線基板124の下面端部の電極125とフレーム20の上面側の導通導体22とを導電性の接合材を介して接合することにより行なう。   The collective wiring board of the present invention can also be applied to an electronic device that needs to inspect the electrical connection state at the joint between the frame and the wiring board, for example. The embodiment will be described with reference to FIG. In this example, the collective wiring board 120 includes a wiring board 121, a frame 20, and a second wiring board 124. In such a collective wiring board 120, first, the wiring board 121 is bonded to the frame 20. The two are joined by joining the frame connection pad 123 at the upper end of the wiring board 121 and the conductive conductor 22 on the lower surface side of the frame 20 via a conductive bonding material. Thereafter, the electronic component 122 is mounted on the upper surface of the wiring board 121. Next, the second wiring board 124 is bonded to the upper surface of the frame 20. The two are joined by joining the electrode 125 at the lower end of the second wiring board 124 and the conductive conductor 22 on the upper surface side of the frame 20 via a conductive joining material.

なお、この例では、例えばフレーム20の上下面にはフレーム20と配線基板121および第2の配線基板124との接合部における電気的接続状態を検査するための導通テスト用パッド26a、26bが形成されている。これらの導通テスト用パッド26a、26bは貫通導体22と電気的に接続されている。また、配線基板121の上下面には導通テスト用パッド126a、126bが形成されている。これらの導通テスト用パッド126a、126bはフレーム接続パッド123と電気的に接続されている。さらに、第2の配線基板124の上下面には導通テスト用パッド127a、127bが形成されている。これらの導通テスト用パッド127a、127bは電極125と電気的に接続されている。   In this example, for example, continuity test pads 26a and 26b for inspecting the electrical connection state at the joint between the frame 20 and the wiring substrate 121 and the second wiring substrate 124 are formed on the upper and lower surfaces of the frame 20. Has been. These continuity test pads 26 a and 26 b are electrically connected to the through conductor 22. Conductive test pads 126 a and 126 b are formed on the upper and lower surfaces of the wiring board 121. These continuity test pads 126 a and 126 b are electrically connected to the frame connection pad 123. Furthermore, continuity test pads 127 a and 127 b are formed on the upper and lower surfaces of the second wiring board 124. These continuity test pads 127 a and 127 b are electrically connected to the electrode 125.

そして、これらの各導通テスト用パッドの内、集合配線基板120の内部に位置する導通テスト用パッド26a、26b、126a、127bに対しては、これらの各導通テスト用パッドに外部から接触可能なように、各導通テスト用パッドと対峙するフレーム20および配線基板121および配線基板124に開口部128が形成されている。そして、例えば第2の配線基板124とフレーム20との接合部における電気的接続状態を検査する場合は、導通テスト装置の一方のプローブを導通テスト用パッド127aに当てるとともに、もう一方のプローブを開口部128に通してその奥にある導通テスト用パッド26aに当てればよい。このように外部から接触可能な導通テスト用パッドをフレーム20および配線基板121および第2の配線基板124に形成することでフレーム20と配線基板121および第2の配線基板124との接合部における電気的接続状態を容易に検査することが可能な集合配線基板120を提供することができる。なお、導通テスト用パッドを外部から接触可能にする形態としては、導通テスト用パッドと対峙する位置に開口部を設ける形態の他に、フレームもしくは配線基板の一方の一部に、他方から外側に突出する突出部を設けるとともに当該突出部に導通テスト用パッドを形成する形態としてもよい。   Of these continuity test pads, the continuity test pads 26a, 26b, 126a, 127b located inside the assembly wiring board 120 can be externally contacted. As described above, the opening 128 is formed in the frame 20, the wiring board 121, and the wiring board 124 that face each continuity test pad. For example, when inspecting the electrical connection state at the joint between the second wiring board 124 and the frame 20, one probe of the continuity test device is applied to the continuity test pad 127 a and the other probe is opened. What is necessary is just to pass to the pad 26a for a continuity test in the back through the part 128. FIG. In this way, the continuity test pads that can be contacted from the outside are formed on the frame 20, the wiring board 121, and the second wiring board 124, so that the electrical connection at the junction between the frame 20, the wiring board 121, and the second wiring board 124 is performed. Thus, it is possible to provide a collective wiring board 120 capable of easily inspecting a general connection state. The continuity test pad can be contacted from the outside, in addition to a configuration in which an opening is provided at a position facing the continuity test pad, on one part of the frame or the wiring board, and from the other to the outside. It is good also as a form which provides the protrusion part which protrudes and forms the pad for a continuity test in the said protrusion part.

2 導体層
7 フレーム接続パッド
8 搭載部
10 配線基板
15 半導体素子
20 フレーム
22 導通導体
24 貫通口
30 集合配線基板
2 Conductor layer 7 Frame connection pad 8 Mounting part 10 Wiring board 15 Semiconductor element 20 Frame 22 Conductive conductor 24 Through-hole 30 Collective wiring board

Claims (10)

半導体素子が搭載される搭載部を上面中央部に有する複数の配線基板と、前記搭載部を囲繞する大きさの複数の貫通口を有するフレームとを備え、前記配線基板の上面周端部と前記フレームの前記貫通口周辺部とを、前記搭載部を前記貫通口から露出させるように接合して成ることを特徴とする集合配線基板。   A plurality of wiring boards having a mounting portion on which a semiconductor element is mounted at a central portion on the upper surface; and a frame having a plurality of through holes of a size surrounding the mounting portion; A collective wiring board, wherein the peripheral portion of the through-hole of the frame is joined so that the mounting portion is exposed from the through-hole. 前記フレームの前記貫通口周辺部に、前記フレームの両主面を貫通する導通導体が複数形成されているとともに、前記配線基板の上面周端部に、前記配線基板に形成された導体層の一部からなるフレーム接続パッドが複数形成されており、対応する前記導通導体と前記フレーム接続パッドとが電気的に接続されることを特徴とする請求項1記載の集合配線基板。   A plurality of conductive conductors penetrating both main surfaces of the frame are formed in the periphery of the through-hole of the frame, and a conductor layer formed on the wiring substrate is formed on the peripheral edge of the upper surface of the wiring substrate. 2. The collective wiring board according to claim 1, wherein a plurality of frame connection pads are formed, and the corresponding conductive conductors and the frame connection pads are electrically connected. 前記配線基板の搭載部に半導体素子が搭載されていることを特徴とする請求項1または2記載の集合配線基板。   3. The collective wiring board according to claim 1, wherein a semiconductor element is mounted on the mounting portion of the wiring board. 前記配線基板と前記フレームとの接合部の間隙、もしくは前記配線基板と該配線基板に搭載される前記半導体素子との接合部の間隙のいずれか、もしくは両方に樹脂を充填することを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の集合配線基板。   Resin is filled in either or both of the gap between the wiring board and the frame, the gap between the wiring board and the semiconductor element mounted on the wiring board, or both. The collective wiring board according to claim 1. 前記貫通口内の前記配線基板上面に前記フレームの上面より突出する高さの電子部品が実装されているとともに、前記フレームの上面に、前記電子部品に対応する位置に前記電子部品の前記フレームから突出する部位を収容可能な開口部または凹部を有する第2の配線基板が接合されていることを特徴とする請求項1乃至4のいずれかに記載の集合配線基板。   An electronic component having a height protruding from the upper surface of the frame is mounted on the upper surface of the wiring board in the through hole, and protrudes from the frame of the electronic component at a position corresponding to the electronic component on the upper surface of the frame. 5. The collective wiring board according to claim 1, wherein a second wiring board having an opening or a recess capable of accommodating a portion to be bonded is joined. 6. 前記フレームの前記配線基板との接合部に対応する位置に、複数の貫通孔と溝との少なくとも一方が形成されているとともに、前記フレームの上面に、前記貫通孔と前記溝とに対応する位置に第2の貫通孔を有する第2の配線基板が、前記貫通口を完全に塞がない状態で接合されていることを特徴とする請求項1乃至5のいずれかに記載の集合配線基板。   At least one of a plurality of through holes and grooves is formed at a position corresponding to the joint portion of the frame with the wiring board, and a position corresponding to the through hole and the groove is formed on the upper surface of the frame. 6. The collective wiring board according to claim 1, wherein a second wiring board having a second through hole is bonded to the second wiring board without completely closing the through hole. 前記フレームの前記配線基板との接合面と反対側の面に、外部電気回路基板が接続される外部接続パッドを有することを特徴とする請求項1乃至4のいずれかに記載の集合配線基板。   5. The collective wiring board according to claim 1, further comprising an external connection pad to which an external electric circuit board is connected on a surface of the frame opposite to a joint surface with the wiring board. 前記フレームと前記配線基板とが半田および樹脂の両方により接合されていることを特徴とする請求項1乃至7のいずれかに記載の集合配線基板。   8. The collective wiring board according to claim 1, wherein the frame and the wiring board are joined together by both solder and resin. 前記フレームに前記配線基板から露出するネジ止め孔が穿孔されていることを特徴とする請求項1乃至8のいずれかに記載の集合配線基板。   9. The collective wiring board according to claim 1, wherein screw holes that are exposed from the wiring board are formed in the frame. 前記フレームおよび前記配線基板の両主面に外部から接触可能な導通テスト用パッドが形成されていることを特徴とする請求項1乃至9のいずれかに記載の集合配線基板。   10. The collective wiring board according to claim 1, wherein continuity test pads that can be contacted from outside are formed on both main surfaces of the frame and the wiring board.
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