JP2013049045A - 縦軸型曝気装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】インペラの位置合わせを容易に且つ正確に行うことができる縦軸型曝気装置を提供する。
【解決手段】 水処理設備の反応槽に用いられ、縦軸13の下部にインペラ12を有し、インペラ12の回転により循環水路の被処理水を曝気し攪拌流を形成する縦軸型曝気装置において、縦軸13に、気液界面Sに一致することによりインペラ12を最適な曝気位置とすることが可能なマーキング20を設け、これにより、据付後の水張時(運転前)に、単にマーキング20が気液界面Sの位置となるように位置合わせをすればよく、インペラ12の位置合わせを容易に且つ正確に行うことができる。
【選択図】図4
【解決手段】 水処理設備の反応槽に用いられ、縦軸13の下部にインペラ12を有し、インペラ12の回転により循環水路の被処理水を曝気し攪拌流を形成する縦軸型曝気装置において、縦軸13に、気液界面Sに一致することによりインペラ12を最適な曝気位置とすることが可能なマーキング20を設け、これにより、据付後の水張時(運転前)に、単にマーキング20が気液界面Sの位置となるように位置合わせをすればよく、インペラ12の位置合わせを容易に且つ正確に行うことができる。
【選択図】図4
Description
本発明は、縦軸型曝気装置に関する。
下水等の被処理水の処理方法として、循環水路が形成されたオキシデーションディッチ槽を使用する方法が知られている。このオキシデーションディッチ槽における曝気攪拌機として、縦軸型曝気装置が採用されている(例えば、特許文献1参照)。縦軸型曝気装置は、上下方向に延在する縦軸と、この縦軸の下端に取り付けられるインペラと、縦軸を回転駆動するインペラ回転用電動機とを備える。そして、縦軸型曝気装置は、インペラの回転により攪拌流を形成すると共に、被処理水の気液界面上にインペラの一部を出した標準位置でインペラを回転させる表面曝気と、被処理水にインペラを水没させた状態でインペラを回転させる無酸素攪拌とを行うことにより、被処理水の硝化、脱窒を行うことを可能としている。
ところで、上記のようなオキシデーションディッチ槽にあっては、目盛板が設けられ、この目盛板により被処理水の気液界面の位置を調節している。一方、縦軸型曝気装置にあっては、被処理水に対して位置合わせをするための明確な基準が特に無く、設計通りの据付を行えば、インペラの被処理水に対する位置は標準位置にあるとされている。しかしながら、実際の据付においては、製品の誤差や、基礎の誤差や、架台等の据付誤差等の種々の誤差により、インペラが標準位置からずれてしまう場合がある。
本発明は、このような実情に鑑みてなされたものであり、インペラの位置合わせを容易に且つ正確に行うことができる縦軸型曝気装置を提供することを課題とする。
上記課題を解決するため、本発明に係る縦軸型曝気装置は、水処理設備の反応槽に用いられ、縦軸の下部にインペラを有し、インペラの回転により反応槽の被処理水を曝気し攪拌流を形成する縦軸型曝気装置において、縦軸に、被処理水の気液界面に一致することによりインペラを最適な曝気位置とすることが可能なマーキングが設けられる。
本発明に係る縦軸型曝気装置にあっては、気液界面に一致することによりインペラを最適な曝気位置にすることが可能なマーキングを備える。よって、据付後の水張時(運転前)に、単にマーキングが気液界面の位置となるように位置合わせをすればよいため、インペラの位置合わせを容易に且つ正確に行うことができる。
ここで、反応槽は循環水路を備えるオキシデーションディッチであり、縦軸型曝気装置がオキシデーションディッチに用いられてもよい。
ここで、循環水路を覆うスラブに開口され縦軸が挿通する開口部を覆うように設けられると共に、縦軸を駆動する駆動部を搭載する架台を備え、架台に、マーキングを上から視認可能な点検口が設けられることが好ましい。この場合、被処理水の気液界面とマーキングとの位置関係を点検口から視認することが可能となるため、循環水路を覆うスラブが設けられる場合においても、容易に位置合わせを行うことができる。
また、縦軸を昇降する昇降装置を備えることが好ましい。この場合、据付後においても、容易に位置合わせを行うことができる。
本発明によれば、インペラの位置合わせを容易に且つ正確に行うことができる。
以下、本発明による縦軸型曝気装置の好適な実施形態について図1〜図4を参照しながら説明する。なお、各図において、同一の要素には同一の符号を付し、重複する説明は省略する。
先ず、本発明に係る縦軸型曝気装置を備えるオキシデーションディッチ(反応槽)1について、図1を参照しながら説明する。図1は、本実施形態に係る縦軸型曝気装置10を備えたオキシデーションディッチ1を示す概略構成図である。
オキシデーションディッチ1は、下水等の被処理水を収容するオキシデーションディッチ槽2と、槽2の被処理水を曝気し攪拌流を形成する縦軸型曝気装置10と、を具備している。
オキシデーションディッチ槽2は、平面視馬蹄形状を呈し、槽2内に無端状の循環水路4を形成すべく当該槽2内を仕切る仕切壁3を有する。また、オキシデーションディッチ槽2の周囲壁には、被処理水の気液界面Sの位置を調節するための目盛板5が設けられる(図4参照)。なお、オキシデーションディッチ槽2には、被処理水を流入する流入部、及び処理水を流出する流出部がそれぞれ設けられ、目盛板5を参照しながら流量を調整することで液面位置を調整できるようになっている。
仕切壁3は、オキシデーションディッチ槽2の周囲壁に沿い平面視U字状に形成される。縦軸型曝気装置10は、オキシデーションディッチ槽2の仕切壁3の一端(図示左上端)付近と、オキシデーションディッチ槽2の仕切壁3の他端(図示左下端)とに、それぞれ1台ずつ設置されている。なお、オキシデーションディッチ槽2の縦軸型曝気装置10を除く部分は、オキシデーションディッチ槽2の天井壁を成すスラブ6(図2参照)により上から覆われている。
縦軸型曝気装置10は、図2に示すように、回転羽根であるインペラ12と、このインペラ12を下端に有し鉛直方向に延びる縦軸13と、この縦軸13を駆動しインペラ12を当該縦軸13の軸線回りに回転する電動機及びインペラ12を昇降させる昇降装置を備える駆動部14と、駆動部14を搭載する架台16とを備える。縦軸型曝気装置10は、駆動部14が架台16に載置されて一体のユニットとされている。そして、インペラ12(縦軸13)は、例えば特開平11−290885号公報や特開2010−203351号公報等に記載の昇降装置により昇降可能とされる。
架台16は、循環水路4を覆うスラブ6に開口される開口部9を覆うように設けられ、縦軸13は、この開口部9を挿通し、当該開口部9から下方に延びている。この架台16には、インペラ12や気液界面(液面)Sを上から視認可能な点検口17が設けられる。そして、インペラ12は、その一部が気液界面Sよりも上方に位置し、この位置が、好気処理を最適に行うためのインペラ12の標準位置とされている。
そして、本実施形態のオキシデーションディッチ1は、所定時間インペラ12を標準位置に位置させ、曝気攪拌することによって、槽全体を好気領域とし、その後、所定時間インペラ12を昇降装置により水没させて無酸素攪拌することにって、槽全体を無酸素領域とし、これらを繰り返す。
特に、本実施形態にあっては、縦軸13にマーキング20が設けられている。
このマーキング20は、図3に示すように、縦軸13におけるインペラ12の付け根部分の上方近傍に設けられ、より具体的には、インペラ12の縦軸13に対する付け根部分よりも上方、且つインペラ12の最上端よりも下方の位置に設けられる。この位置にマーキング20が設けられることにより、マーキング20を気液界面Sに合わせれば、インペラ12は、好気処理を行うための最適な曝気位置である標準位置に位置する。
なお、縦軸13にマーキング20を施す手段としては、例えば黒色のエナメル塗装を採用することができる。また、塗装のほか、縦軸13に、テープを貼り付けたり、金具を設けたりして、これらをマーキング20として用いてもよい。
そして、図4に示すように、気液界面Sの位置を目盛板5を用いて調節し、インペラ12を被処理水に浸漬し昇降装置により上下位置を調節しながらマーキング20の位置を気液界面Sに一致させることにより、インペラ12を標準位置に位置させることができる。
このように、本実施形態の縦軸型曝気装置10にあっては、据付後の水張時(運転前)に、単にマーキング20が気液界面Sの位置となるように位置合わせをすればよいだけであるため、インペラ12の位置合わせを容易に且つ正確に行うことができる。
また、縦軸型曝気装置10は、架台16に気液界面S及びマーキング20を視認可能な点検口17を備えるため、被処理水の気液界面Sとマーキング20との位置関係を点検口17から視認でき、循環水路4を覆うスラブ6が設けられていても、容易にインペラ12の位置合わせを行うことができる。
さらに、インペラ12は、昇降可能とされるため、据付後においても、容易に位置合わせを行うことができる。
以上、本発明をその実施形態に基づき具体的に説明したが本発明は上記実施形態に限定されるものではない。例えば、上記実施形態では、マーキング20を、インペラ12が最適な曝気位置に位置するように設けているが、気液界面Sと一致させることにより、インペラ12を完全に水没させた最適な無酸素攪拌位置とすることができる無酸素攪拌用のマーキングを更に設けてもよい。
また、上記実施形態にあっては、特に好適であるとして、インペラ12を昇降させる昇降装置が設けられる例について説明したが、昇降装置はなくてもよい。すなわち、据付後の水張時(運転前)に、昇降装置がない場合でも、架台16を例えばジャッキ等により上下動させたり、架台16の下部に別途板部材等を挟み込む等してインペラ12の位置を変更することにより、マーキング20の位置を気液界面Sの位置に合わせることができる。この場合の無酸素攪拌は、インペラ12を曝気位置に維持した状態でゆっくり低速で回転させ酸素を巻き込まないように攪拌すればよい。
また、例えば図1に示すオキシデーションディッチ1において、2つ設けられる縦軸型曝気装置10のうち一方を上流側、他方を下流側とし、上流側のインペラ12が上記のように無酸素攪拌を行うことにより、上流側のインペラ12から下流側のインペラ12までの領域を無酸素領域とし、下流側のインペラ12が曝気攪拌を行うことにより、下流側のインペラ12から上流側のインペラ12までの領域を好気領域としてもよく、要は、無酸素領域と好気領域を循環水路内に有するオキシデーションディッチに対しても適用できる。
また、上記では、オキシデーションディッチ槽2の循環水路4が馬蹄形である例について説明したが、循環水路の形状は無終端状に形成されたものであれば特に限定されず、馬蹄形の他に、例えば長円形とすることもでき、また、縦軸型曝気装置10の個数も限定されるものではない。
さらに、本実施形態では、特に好ましいとして、縦軸型曝気装置10を反応槽であるオキシデーションディッチ1に適用しているが、水処理設備の反応槽に対して適用できる。
1…オキシデーションディッチ、4…循環水路、6…スラブ、9…開口部、10…縦軸型曝気装置、12…インペラ、13…縦軸、14…駆動部、16…架台、17…点検口、20…マーキング、S…気液界面。
Claims (4)
- 水処理設備の反応槽に用いられ、縦軸の下部にインペラを有し、前記インペラの回転により前記反応槽の被処理水を曝気し攪拌流を形成する縦軸型曝気装置において、
前記縦軸に、前記被処理水の気液界面に一致することにより前記インペラを最適な曝気位置とすることが可能なマーキングが設けられることを特徴とする縦軸型曝気装置。 - 前記反応槽は循環水路を備えるオキシデーションディッチであり、前記オキシデーションディッチに用いられることを特徴とする請求項1に記載の縦軸型曝気装置。
- 前記循環水路を覆うスラブに開口され前記縦軸が挿通する開口部を覆うように設けられると共に、前記縦軸を駆動する駆動部を搭載する架台を備え、
前記架台に、前記マーキングを上から視認可能な点検口が設けられることを特徴とする請求項1又は2に記載の縦軸型曝気装置。 - 前記縦軸を昇降する昇降装置を備えることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載の縦軸型曝気装置。
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