JP2013041967A - Division device - Google Patents

Division device Download PDF

Info

Publication number
JP2013041967A
JP2013041967A JP2011177610A JP2011177610A JP2013041967A JP 2013041967 A JP2013041967 A JP 2013041967A JP 2011177610 A JP2011177610 A JP 2011177610A JP 2011177610 A JP2011177610 A JP 2011177610A JP 2013041967 A JP2013041967 A JP 2013041967A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
workpiece
division
unit
dividing
ionized air
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2011177610A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yasukichi Yuhira
泰吉 湯平
Ken Togashi
謙 富樫
Kinen Cho
金艶 趙
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Disco Corp
Original Assignee
Disco Abrasive Systems Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Disco Abrasive Systems Ltd filed Critical Disco Abrasive Systems Ltd
Priority to JP2011177610A priority Critical patent/JP2013041967A/en
Publication of JP2013041967A publication Critical patent/JP2013041967A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Dicing (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To inhibit division dust occurring when a workpiece is divided from adhering to a chip, such as a device chip, after the division.SOLUTION: Humidity control means 80 controls an atmosphere of a division chamber 15 in a housing 11 in which a workpiece 1 is housed so that sufficient moisture exists therein during division operation. Further, ionization air having an antistatic effect is supplied to the workpiece 10 from ionization air supply means 60. The structure prevents electrostatic charge on surfaces of an expand sheet 6 and the workpiece 10 and makes division dust less likely to adhere to a device chip 3a after division.

Description

本発明は、分割起点が形成された被加工物がエキスパンドシートに貼着された形態の被加工物ユニットにおいてエキスパンドシートを拡張することで被加工物を分割起点から分割する分割装置に関する。   The present invention relates to a dividing apparatus that divides a workpiece from a division starting point by expanding the expanded sheet in a workpiece unit in which the workpiece on which the division starting point is formed is attached to an expanded sheet.

シリコン等の半導体基板の表面に、格子状に設定される分割予定ラインによって多数の領域が区画され、それら領域にICやLSI等からなるデバイスが形成された半導体ウェーハは、裏面研削により所定厚さに薄化された後、分割予定ラインに沿って個々のデバイスに分割される。そして分割されたデバイスチップは、携帯電話やパソコン等の電気機器に広く利用されている。   A semiconductor wafer in which a large number of areas are defined on the surface of a semiconductor substrate such as silicon by division lines set in a lattice pattern, and a device made of IC, LSI, or the like is formed in these areas. Then, it is divided into individual devices along the planned dividing line. The divided device chips are widely used in electric devices such as mobile phones and personal computers.

この種のウェーハ等の被加工物を分割するには、回転する切削ブレードを分割予定ラインに沿って切り込ませて切削するダイサーと呼ばれる切削装置が広く採用されている。また、近年では、透過性を有する波長(例えば1064nm)のレーザビームを被加工物の内部に集光点を合わせた状態で分割予定ラインに沿って照射することにより、被加工物の内部に分割予定ラインに沿った改質層を形成して分割予定ラインの強度を低下させ、次いで、被加工物の裏面に貼着したエキスパンドシートを拡張することにより分割予定ラインに外力を与え、改質層を分割起点として被加工物を分割するといった技術が知られている(特許文献1)。   In order to divide a workpiece such as this kind of wafer, a cutting device called a dicer that cuts a cutting blade by cutting along a line to be divided is widely used. In recent years, a laser beam having a wavelength of transparency (for example, 1064 nm) is irradiated along the planned dividing line with the condensing point being aligned inside the workpiece, thereby dividing the workpiece into the workpiece. A modified layer is formed along the planned line to reduce the strength of the planned divided line, and then the expanded sheet adhered to the back surface of the workpiece is extended to give an external force to the planned divided line, thereby improving the modified layer. A technique is known in which a workpiece is divided using a division starting point (Patent Document 1).

特開2007−123658号公報JP 2007-123658 A

ところが、上記のように分割予定ラインに外力を与えて改質層等の分割起点から被加工物を分割すると、分割されたデバイスチップの側面には分割屑が発生する。その分割屑がデバイスチップの表面に付着すると、デバイス品質を低下させる上、後工程のボンディングやパッケージングに支障をきたすという問題が生じる。特に、デバイスチップに分割した後に洗浄することができない特性を有するMEMS(Micro Electro Mechanical Systems )デバイス等では、分割屑の付着は大きな問題となる。   However, when an external force is applied to the planned dividing line as described above to divide the workpiece from the dividing starting point of the modified layer or the like, dividing waste is generated on the side surface of the divided device chip. If the divided waste adheres to the surface of the device chip, the quality of the device is deteriorated, and problems such as hindering bonding and packaging in a later process occur. Particularly, in the case of a MEMS (Micro Electro Mechanical Systems) device having characteristics that cannot be cleaned after being divided into device chips, adhesion of the divided waste becomes a big problem.

本発明は上記事情に鑑みてなされたものであり、その主な技術的課題は、被加工物を分割起点から分割する分割装置において、被加工物を分割した際に生じる分割屑が分割後のデバイスチップ等のチップに付着することを防いで品質の低下を抑え、後工程に支障をきたすおそれを低減することができる分割装置を提供することにある。   The present invention has been made in view of the above circumstances, and the main technical problem thereof is that in a dividing apparatus that divides a workpiece from the division starting point, the division waste generated when dividing the workpiece is divided. An object of the present invention is to provide a dividing apparatus that can prevent adhesion to a chip, such as a device chip, to suppress deterioration in quality, and reduce the risk of hindering subsequent processes.

本発明の分割装置は、分割起点が形成された被加工物がエキスパンドシートに貼着された形態の被加工物ユニットの該エキスパンドシートを拡張することで被加工物を該分割起点に沿って分割する分割装置であって、被加工物ユニットの被加工物の外周縁から所定距離隔てた位置の前記エキスパンドシートを固定保持する保持手段と、該保持手段と被加工物の外周縁との間で前記エキスパンドシートを押圧して拡張し、前記分割起点に沿って被加工物を分割する押圧手段と、前記保持手段で前記エキスパンドシートが固定保持されるとともに前記押圧手段で被加工物の外周縁と該保持手段との間の該エキスパンドシートが押圧される被加工物ユニットの被加工物に対向して配設され、被加工物にイオン化エアーを供給するイオン化エアー供給口を有したイオン化エアー供給手段と、少なくとも前記保持手段と前記押圧手段と前記イオン化エアー供給口とを囲繞して分割室を画成するハウジングと、前記分割室内の湿度を制御する湿度制御手段とを備えることを特徴とする。   The dividing device according to the present invention divides a workpiece along the division starting point by expanding the expanded sheet of the workpiece unit in which the workpiece on which the dividing starting point is formed is attached to the expanded sheet. A splitting device for holding the expanded sheet at a predetermined distance from the outer peripheral edge of the workpiece of the workpiece unit, and between the holding means and the outer peripheral edge of the workpiece A pressing unit that presses and expands the expanded sheet and divides the workpiece along the division starting point, and the expanding sheet is fixed and held by the holding unit, and the outer peripheral edge of the workpiece by the pressing unit Ionized air supply that is disposed opposite to the workpiece of the workpiece unit to which the expanded sheet is pressed between the holding means and supplies ionized air to the workpiece. An ionized air supply means, a housing that surrounds at least the holding means, the pressing means, and the ionized air supply port to define a divided chamber, and a humidity control means that controls the humidity in the divided chamber. It is characterized by providing.

本発明の分割装置によれば、保持手段に固定保持されたエキスパンドシートが押圧手段で押圧されて拡張されることにより、エキスパンドシートに貼着されている被加工物が分割起点に沿って分割される。分割動作時においては、被加工物が収容されるハウジング内の分割室を湿度制御手段によって十分な水分が存在する雰囲気とし、かつ、イオン化エアー供給手段から被加工物に帯電防止効果を有するイオン化エアーを供給する。分割室を十分な水分が存在する雰囲気とすることによってエキスパンドシートや被加工物表面の吸着水分量が増し、電気伝導性が向上して帯電を防止することができる。また、被加工物表面にイオン化エアーを供給することによって帯電を防止することができる。このため、被加工物を分割した際に生じる分割屑が分割後のチップに付着する不具合が低減され、結果として品質の低下が抑えられるとともに、後工程に支障をきたすおそれが低減する。   According to the dividing device of the present invention, the expanded sheet fixedly held by the holding means is pressed and expanded by the pressing means, so that the workpiece adhered to the expanded sheet is divided along the dividing starting point. The During the division operation, the division chamber in the housing in which the workpiece is accommodated has an atmosphere in which sufficient moisture exists by the humidity control means, and the ionized air has an antistatic effect on the workpiece from the ionized air supply means. Supply. By setting the divided chamber to an atmosphere in which sufficient moisture exists, the amount of adsorbed moisture on the expanded sheet and the surface of the workpiece increases, and electrical conductivity is improved to prevent charging. Further, charging can be prevented by supplying ionized air to the surface of the workpiece. For this reason, the malfunction that the division | segmentation waste produced when dividing a workpiece adheres to the chip | tip after a division | segmentation is reduced, As a result, the fall of quality is suppressed and the possibility of causing a trouble in a post process reduces.

本発明では、前記保持手段と前記押圧手段とを支持する支持台と、前記保持手段で被加工物ユニットの前記エキスパンドシートが固定保持された際に被加工物ユニットの被加工物が上向きになる載置位置と被加工物ユニットの被加工物が下向きになる分割位置とに前記支持台を反転させる反転手段とを備える形態を含む。この形態によれば、支持台を反転させた状態で被加工物を分割することにより分割屑が自然落下して分割後のチップに付着しにくくすることができ、分割屑の付着を効果的に低減することができる。   In the present invention, when the expanding sheet of the workpiece unit is fixed and held by the holding means that supports the holding means and the pressing means, the workpiece of the workpiece unit faces upward. And a reversing means for reversing the support table at the placement position and the division position where the work piece of the work piece unit faces downward. According to this aspect, by dividing the work piece in a state where the support base is inverted, the divided waste can naturally fall and be difficult to adhere to the chip after division, and the attachment of the divided waste can be effectively performed. Can be reduced.

なお、本発明における被加工物は、例えば、シリコンからなるMEMSウェーハ、半導体ウェーハや化合物半導体ウェーハ、サファイアやシリコンカーバイド(SiC)からなる光デバイスウェーハを言い、さらにはデバイスが形成されていない各種ウェーハや基板も含む。また、本発明で言う分割起点とは、分割予定ラインに沿って被加工物に形成される強度低下領域であり、上記のように被加工物に対して透過性を有する波長のレーザビームを照射することで形成される改質層の他に、被加工物に対し切削ブレードによって形成した切削溝や、被加工物に対し吸収性を有する波長のレーザビームを照射して形成したレーザグルーブ等が挙げられる。   The workpiece in the present invention refers to, for example, a MEMS wafer made of silicon, a semiconductor wafer or a compound semiconductor wafer, an optical device wafer made of sapphire or silicon carbide (SiC), and various wafers on which no device is formed. And substrate. In addition, the division starting point referred to in the present invention is a region of reduced strength formed on the workpiece along the planned division line, and is irradiated with a laser beam having a wavelength that is transparent to the workpiece as described above. In addition to the modified layer formed by cutting, there are a cutting groove formed by a cutting blade on the workpiece, a laser groove formed by irradiating a laser beam having a wavelength that absorbs the workpiece, and the like. Can be mentioned.

本発明によれば、被加工物を分割した際に生じる分割屑が分割後のデバイスチップ等のチップに付着することが防がれて品質低下が抑えられ、後工程に支障をきたすおそれを低減することができる分割装置が提供されるといった効果を奏する。   According to the present invention, divided scrap generated when a workpiece is divided is prevented from adhering to chips such as device chips after the division, so that deterioration in quality is suppressed and the possibility of hindering subsequent processes is reduced. There is an effect that a dividing device capable of performing the above is provided.

本発明の一実施形態に係る被加工物ユニットを示す斜視図である。It is a perspective view which shows the workpiece unit which concerns on one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態に係る分割装置を示す側断面図である。It is a sectional side view showing the dividing device concerning one embodiment of the present invention. 同分割装置の主要部である分割機構の斜視図である。It is a perspective view of the division mechanism which is the principal part of the division device. 同分割装置で被加工物ユニットがセットされた状態を示す側断面図である。It is a sectional side view which shows the state by which the workpiece unit was set by the same dividing device. 同分割装置で被加工物を分割した状態を示す側断面図である。It is a sectional side view which shows the state which divided | segmented the to-be-processed object with the same dividing device.

以下、図面を参照して本発明の一実施形態を説明する。
図1は、一実施形態に係る被加工物ユニット7を示している。この被加工物ユニット7は、環状のフレーム5にエキスパンドシート6が貼着され、エキスパンドシート6に、表面に多数のデバイス3が形成された円板状の被加工物1が貼着されたものである。被加工物1には格子状の分割予定ライン2が設定され、分割予定ライン2で区画された多数の矩形状領域の表面には、ICやLSI等からなるデバイス3が形成されている。被加工物1としては、例えば基板がシリコンからなるMEMSウェーハ等が挙げられる。被加工物1の周縁には、結晶方位を示すオリエンテーションフラット4が形成されている。
Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.
FIG. 1 shows a workpiece unit 7 according to an embodiment. This workpiece unit 7 has an expanded sheet 6 attached to an annular frame 5, and a disk-like workpiece 1 having a large number of devices 3 formed on the surface of the expanded sheet 6. It is. A grid-like division planned line 2 is set on the workpiece 1, and a device 3 made of IC, LSI, or the like is formed on the surface of many rectangular areas partitioned by the division planned line 2. Examples of the workpiece 1 include a MEMS wafer whose substrate is made of silicon. An orientation flat 4 showing a crystal orientation is formed on the periphery of the workpiece 1.

被加工物1には、予め分割予定ライン2に沿って分割起点が形成されている。分割起点は、上述の如く分割予定ライン2に沿って被加工物1に形成される強度低下領域であり、被加工物1に対して透過性を有する波長のレーザビームを照射することで形成される改質層や、被加工物1に対し切削ブレードによって形成した切削溝、あるいは被加工物1に対し吸収性を有する波長のレーザビームを照射して形成したレーザグルーブ等が挙げられる。   A division starting point is formed in advance on the workpiece 1 along the division line 2. The division starting point is a reduced intensity region formed on the workpiece 1 along the planned division line 2 as described above, and is formed by irradiating the workpiece 1 with a laser beam having a wavelength having transparency. Or a laser groove formed by irradiating the workpiece 1 with a laser beam having an absorptive wavelength, or the like.

フレーム5は、ステンレス板等の剛性を有する金属板からなるものであり、エキスパンドシート6は、ポリ塩化ビニルやポリオレフィン等の伸縮性を有する合成樹脂シート等からなる基材の片面に樹脂製の粘着層が形成されたものである。エキスパンドシート6は、粘着層を介してフレーム5の片面に貼着されている。そしてエキスパンドシート6の粘着層に、被加工物1が裏面側を合わせてフレーム5と同心状に貼着され、被加工物ユニット7が構成される。このように被加工物ユニット7が構成されることにより、被加工物1はフレーム5およびエキスパンドシート6を介してハンドリングされる。   The frame 5 is made of a rigid metal plate such as a stainless steel plate, and the expanded sheet 6 is a resin adhesive on one side of a base material made of a synthetic resin sheet having elasticity such as polyvinyl chloride or polyolefin. A layer is formed. The expanded sheet 6 is stuck to one side of the frame 5 via an adhesive layer. Then, the workpiece 1 is adhered to the adhesive layer of the expanded sheet 6 so that the back side is aligned and concentrically with the frame 5, thereby forming the workpiece unit 7. By configuring the workpiece unit 7 in this way, the workpiece 1 is handled via the frame 5 and the expanded sheet 6.

図2は、一実施形態の分割装置10の断面を示しており、符号11は、床部12、四方の側壁部13および上方の開口を開閉自在に閉塞する蓋部14とからなる直方体状のハウジングである。ハウジング11内には、蓋部14を閉めることにより外部から封止される分割室15が画成される。その分割室15内には、被加工物ユニット7を保持して被加工物1を分割する分割機構20が配設されている。   FIG. 2 shows a cross section of the dividing device 10 according to an embodiment. Reference numeral 11 denotes a rectangular parallelepiped shape including a floor portion 12, four side wall portions 13 and a lid portion 14 that closes an upper opening so as to be freely opened and closed. It is a housing. In the housing 11, a divided chamber 15 is defined which is sealed from the outside by closing the lid portion 14. In the dividing chamber 15, a dividing mechanism 20 that holds the workpiece unit 7 and divides the workpiece 1 is disposed.

分割機構20は、図3に示すように、矩形状の支持台21と、支持台21上の中心に固定された円筒状の載置ドラム31と、載置ドラム31の周囲に設けられた保持手段40とを備えている。載置ドラム31の上面は、被加工物1がエキスパンドシート6を介して載置される水平な載置面32とされる。   As shown in FIG. 3, the dividing mechanism 20 includes a rectangular support base 21, a cylindrical mounting drum 31 fixed to the center of the support base 21, and a holding provided around the mounting drum 31. Means 40. The upper surface of the mounting drum 31 is a horizontal mounting surface 32 on which the workpiece 1 is mounted via the expanded sheet 6.

保持手段40は、載置ドラム31の周囲に同心状に配設され、被加工物ユニット7のフレーム5が載置される環状の保持テーブル41と、保持テーブル41の外周部に設けられ、フレーム5を上から押さえて保持する複数の可動クランプ45とから構成されている。保持テーブル41上には、被加工物ユニット7のフレーム5が載置され、保持テーブル41の外周部には、フレーム5を上から押さえて保持する複数の可動クランプ45が取り付けられている。保持テーブル41上に載置されたフレーム5を可動クランプ45で保持することにより、被加工物ユニット7の被加工物1の外周縁から所定距離隔てた位置のエキスパンドシート6が固定保持される。   The holding means 40 is disposed concentrically around the mounting drum 31, and is provided on an annular holding table 41 on which the frame 5 of the workpiece unit 7 is mounted, and on the outer periphery of the holding table 41. It comprises a plurality of movable clamps 45 that hold and hold 5 from above. A frame 5 of the workpiece unit 7 is placed on the holding table 41, and a plurality of movable clamps 45 that hold the frame 5 from above are attached to the outer periphery of the holding table 41. By holding the frame 5 placed on the holding table 41 with the movable clamp 45, the expanded sheet 6 at a position separated from the outer peripheral edge of the workpiece 1 of the workpiece unit 7 by a predetermined distance is fixedly held.

保持テーブル41は、支持台21上に設けられた複数のエアーシリンダ35によって昇降可能に支持されている。エアーシリンダ35は、支持台21上に固定されたシリンダ本体36からピストンロッド37が上下方向に伸縮するように設けられたもので、ピストンロッド37の上端に保持テーブル41が固定されている。   The holding table 41 is supported by a plurality of air cylinders 35 provided on the support base 21 so as to be movable up and down. The air cylinder 35 is provided such that a piston rod 37 extends and contracts in a vertical direction from a cylinder body 36 fixed on the support base 21, and a holding table 41 is fixed to the upper end of the piston rod 37.

保持テーブル41はピストンロッド37が伸長して上面の保持面42が載置ドラム31の載置面32と面一となる載置高さと、ピストンロッド37が縮小して保持面42が載置ドラム31の載置面32よりも支持台21側に近付く拡張位置の2位置に位置付けられる。ピストンロッド37が縮小すると、保持手段40と被加工物1の外周縁との間でエキスパンドシート6が押圧されて拡張するようになっている。本実施形態では、載置ドラム31とエアーシリンダ35とにより、押圧手段30が構成されている。   The holding table 41 has a mounting height at which the piston rod 37 extends so that the upper holding surface 42 is flush with the mounting surface 32 of the mounting drum 31, and the piston rod 37 contracts and the holding surface 42 becomes the mounting drum. 31 is positioned at two extended positions closer to the support base 21 side than the mounting surface 32. When the piston rod 37 is contracted, the expand sheet 6 is pressed and expanded between the holding means 40 and the outer peripheral edge of the workpiece 1. In the present embodiment, the pressing drum 30 is configured by the mounting drum 31 and the air cylinder 35.

分割機構20の支持台21は、水平な回転軸22を介してハウジング11の対向する側壁部13に回転可能に支持されており、分割機構20は、全体が反転手段50により回転軸22を中心として回転駆動される。反転手段50は、ハウジング11内の床部12上に配設され、回転軸22と平行な駆動軸に駆動プーリ51が設けられたモータ52と、回転軸22の一端部に設けられた従動プーリ53と、各プーリ51,53に巻回された伝達ベルト54とから構成されている。反転手段50によると、モータ52の動力が伝達ベルト54を介して回転軸22に伝わり、分割機構20が回転軸22を中心として回転させられる。   The support base 21 of the dividing mechanism 20 is rotatably supported on the opposing side wall 13 of the housing 11 via a horizontal rotating shaft 22, and the dividing mechanism 20 is entirely centered on the rotating shaft 22 by the reversing means 50. As a rotational drive. The reversing means 50 is disposed on the floor 12 in the housing 11, and has a motor 52 provided with a driving pulley 51 on a driving shaft parallel to the rotating shaft 22, and a driven pulley provided at one end of the rotating shaft 22. 53 and a transmission belt 54 wound around the pulleys 51 and 53. According to the reversing means 50, the power of the motor 52 is transmitted to the rotating shaft 22 via the transmission belt 54, and the dividing mechanism 20 is rotated about the rotating shaft 22.

被加工物ユニット7は、分割機構20に対し、被加工物1がエキスパンドシート6を介して載置ドラム31の載置面32に同心状に載置されて表面が露出し、フレーム5が保持テーブル41上に載置され可動クランプ45で保持される。このように被加工物ユニット7が分割機構20に保持された状態で、本実施形態では、反転手段50により分割機構20を回転させることで、被加工物ユニット7の被加工物1が上向きになる載置位置と、載置位置から180°反転して被加工物1が下向きになる分割位置とに位置付けられる。   In the workpiece unit 7, the workpiece 1 is placed concentrically on the placement surface 32 of the placement drum 31 via the expand sheet 6 with respect to the dividing mechanism 20, the surface is exposed, and the frame 5 is held. It is placed on the table 41 and held by the movable clamp 45. In this embodiment, with the workpiece unit 7 held by the dividing mechanism 20 in this manner, the workpiece 1 of the workpiece unit 7 is directed upward by rotating the dividing mechanism 20 by the reversing means 50. And the divided position where the workpiece 1 is turned downward by reversing 180 ° from the placement position.

ハウジング11内の床部12の中央であって、分割位置に位置付けられて下向きとなる被加工物1に対向する箇所には、円板状のイオン化エアー供給手段60が配設されている。このイオン化エアー供給手段60の外周部には、被加工物1に向けてイオン化エアーを供給するイオン化エアー供給口61が形成されている。イオン化エアー供給口61はイオン化エアー供給手段60の外周部から内周側に斜めに立ち上がった環状に形成されており、イオン化エアーは上方に向かう円錐状の気流となって被加工物1に接触するようになっている。   A disk-like ionized air supply means 60 is disposed at a position facing the workpiece 1 positioned at the division position and facing downward in the center of the floor portion 12 in the housing 11. An ionized air supply port 61 for supplying ionized air toward the workpiece 1 is formed on the outer peripheral portion of the ionized air supply means 60. The ionized air supply port 61 is formed in an annular shape obliquely rising from the outer peripheral portion of the ionized air supply means 60 to the inner peripheral side, and the ionized air comes into contact with the workpiece 1 as a conical airflow directed upward. It is like that.

イオン化エアー供給手段60内には、ハウジング11の外部に設置されるイオン化エアー生成ユニット70からイオン化エアーが供給管71を介して供給され、そのイオン化エアーはイオン化エアー供給口61から噴出するようになっている。また、イオン化エアー供給手段60上には、分割屑回収トレイ19が着脱可能にセットされる。   In the ionized air supply means 60, ionized air is supplied from an ionized air generating unit 70 installed outside the housing 11 via a supply pipe 71, and the ionized air is ejected from an ionized air supply port 61. ing. Moreover, the division | segmentation waste collection | recovery tray 19 is set on the ionized air supply means 60 so that attachment or detachment is possible.

また、ハウジング11内の、床部12上には加湿器81が設置され、側壁部13には湿度計82がそれぞれ設置されている。湿度計82での湿度計測値はハウジング11の外部に設けられた湿度制御手段80に供給され、湿度制御手段80は、その湿度計測値に基づいて加湿器81を作動させて分割室15内を適宜な湿度に保つフィードバック制御を行う。   Further, a humidifier 81 is installed on the floor 12 in the housing 11, and a hygrometer 82 is installed on the side wall 13. The humidity measurement value in the hygrometer 82 is supplied to humidity control means 80 provided outside the housing 11, and the humidity control means 80 operates the humidifier 81 based on the humidity measurement value to move inside the divided chamber 15. Perform feedback control to maintain appropriate humidity.

以上が本実施形態の分割装置10の構成であり、この分割装置10では、押圧手段30および保持手段40を有する分割機構20と、分割機構20を反転させる反転手段50およびイオン化エアー供給口61を有するイオン化エアー供給手段60は、分割室15を画成するハウジング11で囲繞されている。次に、分割装置10による被加工物1の分割動作を説明する。   The above is the configuration of the dividing apparatus 10 of the present embodiment. In this dividing apparatus 10, the dividing mechanism 20 having the pressing means 30 and the holding means 40, the reversing means 50 for inverting the dividing mechanism 20, and the ionized air supply port 61 are provided. The ionized air supply means 60 that is included is surrounded by a housing 11 that defines the dividing chamber 15. Next, the dividing operation of the workpiece 1 by the dividing device 10 will be described.

はじめに、図2に示すように分割機構20を載置ドラム31が上側となる載置位置に位置付け、上方に向く載置面32をほぼ水平にする。また、エアーシリンダ35のピストンロッド37を伸長させて保持テーブル41を保持面42が載置ドラム31の載置面32と面一となる載置高さに設定する。そして、蓋部14を開けて被加工物ユニット7の被加工物1をエキスパンドシート6を介して載置ドラム31の載置面32に載置して表面を露出させるとともに、保持テーブル41の保持面42に載置したフレーム5を可動クランプ45で上から押さえて保持する。次いで蓋部14を閉じ、図4に示すセット状態とする。   First, as shown in FIG. 2, the dividing mechanism 20 is positioned at the mounting position where the mounting drum 31 is on the upper side, and the mounting surface 32 facing upward is made almost horizontal. Further, the piston rod 37 of the air cylinder 35 is extended so that the holding table 41 is set to a mounting height at which the holding surface 42 is flush with the mounting surface 32 of the mounting drum 31. Then, the lid 14 is opened, the workpiece 1 of the workpiece unit 7 is placed on the placement surface 32 of the placement drum 31 via the expand sheet 6 to expose the surface, and the holding table 41 is held. The frame 5 placed on the surface 42 is pressed and held by the movable clamp 45 from above. Next, the lid portion 14 is closed to obtain the set state shown in FIG.

次に、加湿器81を作動させ、湿度制御手段80により、分割室15内を十分な水分が存在する湿度(例えば、絶対湿度で9.5/m以上)に保たれる雰囲気に制御する。分割室15内の湿度が安定して制御されたら、反転手段50を作動させて図5に示すように分割機構20を180°反転させ、下向きとなった被加工物1をイオン化エアー供給手段60および分割屑回収トレイ19の上方に対向させる。そして、イオン化エアー供給手段60のイオン化エアー供給口61からイオン化エアーを噴出させ、被加工物1の表面にイオン化エアーを供給する。この状態から、エアーシリンダ35のピストンロッド37を縮小させて保持テーブル41を支持台21側に近付け、拡張位置に位置付ける。 Next, the humidifier 81 is actuated, and the humidity control means 80 controls the atmosphere in the division chamber 15 to be maintained at a sufficient humidity (for example, 9.5 / m 3 or more in absolute humidity). . When the humidity in the dividing chamber 15 is stably controlled, the reversing means 50 is operated to invert the dividing mechanism 20 by 180 ° as shown in FIG. 5, and the workpiece 1 turned downward is ionized air supply means 60. And it is made to oppose above the division | segmentation waste collection | recovery tray 19. FIG. Then, ionized air is ejected from the ionized air supply port 61 of the ionized air supply means 60 to supply the ionized air to the surface of the workpiece 1. From this state, the piston rod 37 of the air cylinder 35 is contracted to bring the holding table 41 closer to the support 21 and is positioned at the extended position.

これによりエキスパンドシート6は放射方向に拡張され、図5に示すように載置ドラム31上の被加工物1は分割起点が形成されている分割予定ライン2に沿って割断され、多数のデバイスチップ3aに分割される。被加工物1が多数のデバイスチップ3aに分割されたら、分割機構20を再び載置位置に反転させ、デバイスチップ3aをエキスパンドシート6から剥離するピックアップ工程に移る。   As a result, the expand sheet 6 is expanded in the radial direction, and the workpiece 1 on the mounting drum 31 is cleaved along the division line 2 where the division start points are formed as shown in FIG. It is divided into 3a. When the workpiece 1 is divided into a large number of device chips 3 a, the dividing mechanism 20 is reversed again to the mounting position, and the process proceeds to a pick-up process in which the device chip 3 a is peeled from the expanded sheet 6.

さて、本実施形態の分割装置10によれば、分割機構20を反転させて被加工物1を下向きにし、エアーシリンダ35のピストンロッド37を縮小してエキスパンドシート6を拡張することで被加工物1は多数のデバイスチップ3aに分割される。その分割動作時においては、被加工物1が収容される分割室15内を湿度制御手段80によって十分な水分が存在する雰囲気(上記のように、例えば絶対湿度で9.5/m以上の湿度)に保たれるように制御しており、これに加え、イオン化エアー供給手段60から被加工物1の表面にイオン化エアーを供給している。 Now, according to the dividing apparatus 10 of this embodiment, the workpiece 1 is turned downward by reversing the dividing mechanism 20, the piston rod 37 of the air cylinder 35 is reduced, and the expanded sheet 6 is expanded, thereby the workpiece. 1 is divided into a number of device chips 3a. During the dividing operation, an atmosphere in which sufficient moisture exists in the dividing chamber 15 in which the workpiece 1 is accommodated by the humidity control means 80 (as described above, for example, an absolute humidity of 9.5 / m 3 or more). In addition to this, ionized air is supplied from the ionized air supply means 60 to the surface of the workpiece 1.

分割室15を十分な水分が存在する雰囲気とすることによってエキスパンドシート6や被加工物1の表面の吸着水分量が増し、電気伝導性が向上して帯電を防止することができる。また、被加工物1の表面に帯電防止効果を有するイオン化エアーを供給することによって帯電を防止することができる。このため、被加工物1を分割した際に生じる分割屑が分割後のデバイスチップ3aに付着する不具合が低減される。その結果、デバイス品質の低下が抑えられるとともに、後工程に支障をきたすおそれが低減する。   By setting the divided chamber 15 to an atmosphere in which sufficient moisture exists, the amount of adsorbed moisture on the surfaces of the expanded sheet 6 and the workpiece 1 is increased, so that electrical conductivity is improved and charging can be prevented. Further, charging can be prevented by supplying ionized air having an antistatic effect to the surface of the workpiece 1. For this reason, the malfunction that the division | segmentation waste produced when dividing the to-be-processed object 1 adheres to the device chip 3a after a division | segmentation is reduced. As a result, the deterioration of device quality is suppressed, and the risk of hindering subsequent processes is reduced.

また、被加工物1を下向きにした状態で分割するため、図5に示すように分割屑(矢印Cで示す)が自然落下して分割後のデバイスチップ3aに付着しにくくなり、分割屑の付着を効果的に低減することができる。落下した分割屑は分割屑回収トレイ19内に収容されるため、分割室15内が汚れることがなく、分割屑を容易に廃棄することができる。   Further, since the workpiece 1 is divided in a downward state, as shown in FIG. 5, the divided waste (indicated by the arrow C) naturally falls and hardly adheres to the divided device chip 3 a, Adhesion can be effectively reduced. Since the fallen divided waste is stored in the divided waste collection tray 19, the inside of the divided chamber 15 is not contaminated, and the divided waste can be easily discarded.

なお、上記実施形態の保持手段40は、保持テーブル41上のフレーム5を可動クランプ45で押さえて保持する形態であるが、保持手段40はこの形態に限られず、エキスパンドシート6を上下から挟み込んで保持するなど、様々な形態を適用することができる。また、載置ドラム31は載置面32を有しているが、載置面32を有さず上方に開口する円筒体であってもよい。さらに、載置ドラム31が固定でエアーシリンダ35を伸縮させてエキスパンドシート6を拡張させる構成とは逆に、エアーシリンダ35側は伸縮せず、載置ドラム31を昇降可能とし、載置ドラム31が上昇時にエキスパンドシート6が拡張するように構成してもよい。   The holding means 40 of the above embodiment is configured to hold and hold the frame 5 on the holding table 41 with the movable clamp 45, but the holding means 40 is not limited to this form, and the expanded sheet 6 is sandwiched from above and below. Various forms such as holding can be applied. Moreover, although the mounting drum 31 has the mounting surface 32, it may be a cylindrical body that does not have the mounting surface 32 and opens upward. Further, contrary to the configuration in which the mounting drum 31 is fixed and the air cylinder 35 is expanded and contracted to expand the expanded seat 6, the air cylinder 35 side is not expanded and contracted, and the mounting drum 31 can be moved up and down. The expandable sheet 6 may be configured to expand when the is lifted.

1…被加工物、3…デバイス、3a…デバイスチップ、6…エキスパンドシート、7…被加工物ユニット、10…分割装置、11…ハウジング、15…分割室、21…支持台、30…押圧手段、40…保持手段、50…反転手段、60…イオン化エアー供給手段、
61…イオン化エアー供給口、80…湿度制御手段。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Workpiece, 3 ... Device, 3a ... Device chip, 6 ... Expand sheet, 7 ... Workpiece unit, 10 ... Dividing device, 11 ... Housing, 15 ... Divided chamber, 21 ... Support base, 30 ... Pressing means 40 ... holding means, 50 ... reversing means, 60 ... ionized air supply means,
61 ... ionized air supply port, 80 ... humidity control means.

Claims (2)

分割起点が形成された被加工物がエキスパンドシートに貼着された形態の被加工物ユニットの該エキスパンドシートを拡張することで被加工物を該分割起点に沿って分割する分割装置であって、
被加工物ユニットの被加工物の外周縁から所定距離隔てた位置の前記エキスパンドシートを固定保持する保持手段と、
該保持手段と被加工物の外周縁との間で前記エキスパンドシートを押圧して拡張し、前記分割起点に沿って被加工物を分割する押圧手段と、
前記保持手段で前記エキスパンドシートが固定保持されるとともに前記押圧手段で被加工物の外周縁と該保持手段との間の該エキスパンドシートが押圧される被加工物ユニットの被加工物に対向して配設され、被加工物にイオン化エアーを供給するイオン化エアー供給口を有したイオン化エアー供給手段と、
少なくとも前記保持手段と前記押圧手段と前記イオン化エアー供給口とを囲繞して分割室を画成するハウジングと、
前記分割室内の湿度を制御する湿度制御手段と、
を備えることを特徴とする分割装置。
A dividing apparatus that divides a workpiece along the division starting point by expanding the expanded sheet of the workpiece unit in a form in which the workpiece on which the dividing starting point is formed is attached to the expanded sheet,
Holding means for fixing and holding the expanded sheet at a predetermined distance from the outer peripheral edge of the workpiece of the workpiece unit;
A pressing unit that presses and expands the expanded sheet between the holding unit and the outer peripheral edge of the workpiece, and divides the workpiece along the division starting point;
The expanding sheet is fixedly held by the holding means and opposed to the workpiece of the workpiece unit in which the expanding sheet is pressed between the outer peripheral edge of the workpiece and the holding means by the pressing means. An ionized air supply means disposed and having an ionized air supply port for supplying ionized air to the workpiece;
A housing that surrounds at least the holding means, the pressing means, and the ionized air supply port to define a divided chamber;
Humidity control means for controlling the humidity in the divided chamber;
A dividing apparatus comprising:
前記保持手段と前記押圧手段とを支持する支持台と、
前記保持手段で被加工物ユニットの前記エキスパンドシートが固定保持された際に被加工物ユニットの被加工物が上向きになる載置位置と被加工物ユニットの被加工物が下向きになる分割位置とに前記支持台を反転させる反転手段と、
を備えることを特徴とする請求項1に記載の分割装置。
A support for supporting the holding means and the pressing means;
A position where the workpiece of the workpiece unit faces upward when the expand sheet of the workpiece unit is fixedly held by the holding means, and a division position where the workpiece of the workpiece unit faces downward Reversing means for reversing the support base;
The dividing apparatus according to claim 1, further comprising:
JP2011177610A 2011-08-15 2011-08-15 Division device Pending JP2013041967A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011177610A JP2013041967A (en) 2011-08-15 2011-08-15 Division device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011177610A JP2013041967A (en) 2011-08-15 2011-08-15 Division device

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2013041967A true JP2013041967A (en) 2013-02-28

Family

ID=47890101

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2011177610A Pending JP2013041967A (en) 2011-08-15 2011-08-15 Division device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2013041967A (en)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2018181921A (en) * 2017-04-05 2018-11-15 株式会社ディスコ Division device
JP2018190836A (en) * 2017-05-08 2018-11-29 株式会社ディスコ Division method
CN109599352A (en) * 2017-10-02 2019-04-09 株式会社迪思科 With expanding unit and with extended method
JP2021132081A (en) * 2020-02-18 2021-09-09 株式会社ディスコ Expand device
JP7544557B2 (en) 2020-10-13 2024-09-03 株式会社ディスコ Division device and division method

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6477111A (en) * 1987-09-18 1989-03-23 Fujikura Ltd Removal of static electricity of wafer
JP2007067278A (en) * 2005-09-01 2007-03-15 Tokyo Seimitsu Co Ltd Expanding method and expanding apparatus
JP2007305687A (en) * 2006-05-09 2007-11-22 Disco Abrasive Syst Ltd Dicing method and dicing device of wafer

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6477111A (en) * 1987-09-18 1989-03-23 Fujikura Ltd Removal of static electricity of wafer
JP2007067278A (en) * 2005-09-01 2007-03-15 Tokyo Seimitsu Co Ltd Expanding method and expanding apparatus
JP2007305687A (en) * 2006-05-09 2007-11-22 Disco Abrasive Syst Ltd Dicing method and dicing device of wafer

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2018181921A (en) * 2017-04-05 2018-11-15 株式会社ディスコ Division device
JP2018190836A (en) * 2017-05-08 2018-11-29 株式会社ディスコ Division method
CN109599352A (en) * 2017-10-02 2019-04-09 株式会社迪思科 With expanding unit and with extended method
KR20190039000A (en) * 2017-10-02 2019-04-10 가부시기가이샤 디스코 Tape expansion apparatus and tape expansion method
JP2019067945A (en) * 2017-10-02 2019-04-25 株式会社ディスコ Tape expansion device and tape expansion method
JP7030469B2 (en) 2017-10-02 2022-03-07 株式会社ディスコ Tape expansion device and tape expansion method
KR102597940B1 (en) * 2017-10-02 2023-11-02 가부시기가이샤 디스코 Tape expansion apparatus and tape expansion method
CN109599352B (en) * 2017-10-02 2024-03-19 株式会社迪思科 Band expanding device and band expanding method
JP2021132081A (en) * 2020-02-18 2021-09-09 株式会社ディスコ Expand device
JP7437963B2 (en) 2020-02-18 2024-02-26 株式会社ディスコ Expanding device
JP7544557B2 (en) 2020-10-13 2024-09-03 株式会社ディスコ Division device and division method

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US10879122B2 (en) Wafer processing method
TWI820132B (en) Wafer processing methods
JP7049941B2 (en) Wafer processing method
US20070128834A1 (en) Wafer dividing method
CN101529577A (en) Fixed jig, chip pickup method and chip pickup apparatus
JP2013041967A (en) Division device
TWI704609B (en) Wafer processing method
JP2010155298A (en) Method and apparatus for coating with resin
TWI825095B (en) Wafer processing methods
JP2010153692A (en) Workpiece dividing method and tape expanding device
TW201742131A (en) Wafer processing method
TWI816969B (en) Carrier board removal method
JP2016035965A (en) Plate-like member dividing device and plate-like member dividing method
JP2017103406A (en) Wafer processing method
TW202032701A (en) Chuck table capable of properly holding a wafer having a recess and hardly causing the damage due to the laser beam irradiation
JP2011109007A (en) Mounter and mounting method
JP2013115291A (en) Apparatus for peeling led chip or ld chip from adhesive sheet and transporting led chip or ld chip
KR102379433B1 (en) Method of cutting workpiece
CN110429062B (en) Wafer processing method
CN110880454B (en) Wafer processing method
JP2010017786A (en) Holding jig
TWI810361B (en) Wafer processing method
JP2018190836A (en) Division method
JP2010272639A (en) Grinding device
JP6633447B2 (en) Wafer processing method

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20140714

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20150710

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20150714

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20160315