JP2013041946A5 - - Google Patents

Description

本発明の１つの側面は、真空下において複数の荷電粒子線で基板に描画を行う描画装置であって、前記基板を保持して走査方向に移動する基板ステージと、前記基板に対向するべき電極板を含み、該電極板を介して前記複数の荷電粒子線を前記基板に投影する静電レンズと、を備え、前記電極板は、前記複数の荷電粒子線をそれぞれ通過させる複数の第１の開口と、前記複数の第１の開口とは別の、前記複数の荷電粒子線のうちの荷電粒子線を通過させない複数の第２の開口とが形成され、前記複数の第２の開口は、前記走査方向において前記複数の第１の開口に隣接し、前記複数の第２の開口の合計面積は、前記複数の第１の開口の合計面積より小さくない、ことを特徴とする。

Claims (5)

1. 真空下において複数の荷電粒子線で基板に描画を行う描画装置であって、
   前記基板を保持して走査方向に移動する基板ステージと、
   前記基板に対向するべき電極板を含み、該電極板を介して前記複数の荷電粒子線を前記基板に投影する静電レンズと、を備え、
   前記電極板は、前記複数の荷電粒子線をそれぞれ通過させる複数の第１の開口と、前記複数の第１の開口とは別の、前記複数の荷電粒子線のうちの荷電粒子線を通過させない複数の第２の開口とが形成され、前記複数の第２の開口は、前記走査方向において前記複数の第１の開口に隣接し、前記複数の第２の開口の合計面積は、前記複数の第１の開口の合計面積より小さくない、ことを特徴とする描画装置。
2. 真空下において複数の荷電粒子線で基板に描画を行う描画装置であって、
   電極板を含み、該電極板を介して前記複数の荷電粒子線を前記基板に投影する静電レンズを備え、
   前記電極板は、前記複数の荷電粒子線をそれぞれ通過させる複数の第１の開口と、前記複数の第１の開口とは別の、前記複数の荷電粒子線のうちの荷電粒子線を通過させない複数の第２の開口とが形成され、前記複数の第２の開口の合計面積は、前記複数の第１の開口の合計面積より小さくなく、
   前記静電レンズは、複数枚の前記電極板と、該複数枚の電極板を貫通する複数の筒状部材とを有し、前記複数の筒状部材は、絶縁材料で構成され、前記複数の第２の開口は、前記複数の筒状部材の内側面によって、それぞれ画定されている、ことを特徴とする描画装置。
3. 真空下において複数の荷電粒子線で基板に描画を行う描画装置であって、
   前記基板を保持して走査方向に移動する基板ステージと、
   電極板を含み、該電極板を介して前記複数の荷電粒子線を前記基板に投影する静電レンズと、を備え、
   前記電極板は、前記複数の荷電粒子線をそれぞれ通過させる複数の第１の開口と、前記複数の第１の開口とは別の、前記複数の荷電粒子線のうちの荷電粒子線を通過させない複数の第２の開口とが形成され、前記複数の第２の開口の合計面積は、前記複数の第１の開口の合計面積より小さくなく、
   前記走査方向において前記複数の第１の開口に隣接する前記複数の第２の開口の面積密度は、前記走査方向に直交する方向において前記複数の第１の開口に隣接する前記複数の第２の開口の面積密度より大きい、ことを特徴とする描画装置。
4. 前記複数の第２の開口それぞれの面積は、前記複数の第１の開口それぞれの面積より大きい、ことを特徴とする請求項１乃至請求項３のうちいずれか１項に記載の描画装置。
5. 請求項１乃至請求項４のうちいずれか１項に記載の描画装置を用いて基板に描画を行う工程と、
   前記工程で描画を行われた前記基板を現像する工程と、
   を含むことを特徴とする物品の製造方法。