JP2013038193A - イオン注入によるシリコン薄膜への等電子中心の導入方法とシリコン発光デバイス - Google Patents
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Abstract
【解決手段】SOI基板上のシリコン薄膜に等電子中心を導入する方法であって、室温において、不純物原子イオンを高電圧で加速させシリコン薄膜に照射し、ラピッドサーマルアニール法によって窒素雰囲気中において不純物原子イオンを照射したシリコン薄膜をアニールし、ラピッドサーマルアニール法によって窒素雰囲気中においてシリコン薄膜を急冷することを特徴とする。
【選択図】図1
Description
心を導入する方法であって、室温において、不純物原子イオンを高電圧で加速させ前記シリコン薄膜に照射し、ラピッドサーマルアニール法によって窒素雰囲気中において不純物原子イオンを照射したシリコン薄膜をアニールし、ラピッドサーマルアニール法によって窒素雰囲気中においてシリコン薄膜を急冷することを特徴とする。
(実施例1)
図1に、SOI基板上のシリコン薄膜に不純物原子をドープし、この不純物原子に由来する等電子中心を導入する方法を示す。図1(A)、(B)、(C)は等電子中心を導入する過程を、(D)、(E)、(F)は(C)の等電子中心を導入したシリコン薄膜上にフォトニック結晶共振器を作製する過程を示している。実施例1では図1(A)、(B)、(C)の過程を説明する。図1(D)、(E)、(F)の過程は実施例3で説明する。
実施例1に示した、SOI基板上のシリコン薄膜に等電子中心を導入する方法において、イオン注入前に図2に示すように、パタニングされたレジスト膜をウェハ上面に作製すると、シリコン薄膜へのイオン注入領域を制御することが出来る。
(実施例3)
銅等電子中心を導入したシリコン薄膜を用いた応用例として、フォトニック結晶共振器を作製できる。図1(D)、(E)、(F)および図2(E)、(F)、(G)、(H)にその過程を示す。図1(D)、(E)、(F)と図2(E)、(F)、(G)、(H)とは同様の過程を示しており、図1(D)は図2(E)、図1(E)は図2(F)、図1(F)は図2の(G)、(H)に相当する。
2 シリコン酸化膜
3 シリコン基板
4 イオン注入されたシリコン薄膜
5 アニール後のイオン注入されたシリコン薄膜
6 レジスト
7 レジスト開口部
8 レジスト円形開口アレイ
9 シリコン円形空気孔アレイ
10 共振器領域
Claims (6)
- SOI基板上のシリコン薄膜に等電子中心を導入する方法であって、
室温において、不純物原子イオンを高電圧で加速させ前記シリコン薄膜に照射するステップと、
ラピッドサーマルアニール法によって窒素雰囲気中において前記不純物原子イオンを照射した前記シリコン薄膜をアニールするステップと、
前記ラピッドサーマルアニール法によって窒素雰囲気中において前記シリコン薄膜を急冷するステップと
を備えることを特徴とする方法。 - 前記照射するステップの前に、前記シリコン薄膜上に電子線用レジストを塗布し、電子線描画装置によって電子線を前記電子線用レジスト上に照射し、前記電子線を前記シリコン薄膜上で任意の形状に走査し、前記電子線用レジストを現像して前記任意の形状に前記電子線用レジストを除去するステップをさらに備え、前記任意の形状と同じ形状に、前記シリコン薄膜に等電子中心を導入することを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 前記不純物原子イオンは、銅原子イオンであることを特徴とする請求項1または2に記載の方法。
- SOI基板上の、等電子中心を導入したシリコン薄膜上にフォトニック結晶共振器が作製されたシリコン発光デバイスであって、
前記等電子中心を導入したシリコン薄膜は、室温において不純物原子イオンを高電圧で加速させ前記シリコン薄膜に照射し、ラピッドサーマルアニール法によって窒素雰囲気中において前記不純物原子イオンを照射した前記シリコン薄膜をアニールし、前記ラピッドサーマルアニール法によって窒素雰囲気中において前記シリコン薄膜を急冷することによって作製され、
前記等電子中心を導入したシリコン薄膜は、前記等電子中心を導入したシリコン薄膜の表面に対して垂直方向に空けられた、等間隔に配置された複数の空気穴を有し、前記空気穴は前記等電子中心を導入したシリコン薄膜を貫通し、前記等電子中心を導入したシリコン薄膜の前記空気穴が存在する領域の下層は空気層であり、前記空気穴が存在する領域は共振器領域を有し、前記共振器領域には空気穴は存在せず、前記共振器領域は長方形の形状を有し、前記長方形の長軸は前記等電子中心によって発せられる光の波長の長さを有することを特徴とするシリコン発光デバイス。 - 前記空気穴は三角格子状に空けられたことを特徴とする請求項4に記載のシリコン発光デバイス。
- 前記共振器領域は、前記三角格子の直線上の空気穴が存在しないことによって形成される形状であることを特徴とする請求項5に記載のシリコン発光デバイス。
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