JP2013029496A5

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Info

Publication number: JP2013029496A5
Application number: JP2012134226A
Authority: JP
Filing date: 2012-06-13
Publication date: 2015-07-16

Description

好ましくは、リレーイメージングシステム３は、対物レンズ１を介してテレセントリックである。限定ではない例に基づいて上述した本発明は、添付の特許請求の範囲によって包含される全ての実施形態まで及ぶ。
（付記１）
３次元シーンの被写体要素の奥行きを評価する装置であって、
−光学系であって、それ自体が、複数の画素を有する光センサおよび前記光センサの前記画素上に前記シーンの被写体要素を結像できるレンズを備える光学系と、
−前記被写体要素からきて前記画素に分解された光センサの前記画素のうちの１つによって取り込まれた光の流れの最大値に着目することによって焦点を調整できる前記シーンの前記被写体要素のいずれか１つに前記光学系の前記焦点を調整する手段と、
−前記シーンの前記被写体要素に対する前記焦点の前記調整から前記被写体要素の前記奥行きを推定するのに適した手段と、
を備えた装置において、
−前記光学系は、１）前記レンズの像のほぼ面内に配置され、前記被写体要素の像を、マイクロレンズの系を介して前記画素に分解された光センサの上へ中継できるテレセントリックリレーイメージングシステム、および２）前記リレーイメージングシステムの入力に取り付けられた、やはり画素に分解された光空間変調器をさらに備え、
各マイクロレンズの光軸は、ビットマップ方式の前記光センサの異なる画素の中心を通過し、前記光空間変調器の異なる画素の中心を通過し、
各マイクロレンズは、前記リレーイメージングシステムおよび前記レンズと組み合わせて、前記シーンの被写体要素を、前記マイクロレンズの前記光軸上に位置する前記光空間変調器の前記画素を通じて、前記マイクロレンズの前記光軸上に位置するビットマップ方式の前記光センサの前記画素上へ結像することができる、前記装置。
（付記２）
前記画素のそれぞれが、通過状態に連続的に移行する一方、前記変調器の全ての他の画素が、遮断状態にあるように、前記光空間変調器の画素を制御する手段をさらに備えた、付記１に記載の奥行き評価装置。
（付記３）
前記光空間変調器の前記画素が、複数の隣り合った画素のグループに分布されている場合、奥行き評価装置は、グループごとに各画素が通過状態に連続的に移行するように、グループごとに一画素が常に通過状態にある一方、同じグループの全ての他の画素が遮断状態にあるように、前記光空間変調器の前記画素を制御する手段をさらに備えた、付記１に記載の奥行き評価装置。
（付記４）
前記グループのそれぞれは、同じ個数の画素を含む、付記３に記載の奥行き評価装置。
（付記５）
グループごとに、前記画素は、同じように幾何学的に並べられ、前記光空間変調器の前記画素を制御する手段は、グループごとに、各画素が、同じ幾何学的秩序で前記通過状態に連続的に移行するように構成される、付記４に記載の奥行き評価装置。
（付記６）
各グループは、３×３個の画素を含む、付記４または５に記載の奥行き評価装置。

Claims

３次元シーンの被写体要素の奥行きを評価する装置であって、
−光学系であって、それ自体が、複数の画素を有する画素化光センサおよび前記画素化光センサの前記画素上に前記シーンの被写体要素を結像できるレンズを備える光学系と、
−前記被写体要素からきて前記画素化光センサの前記画素のうちの１つによって取り込まれた光の流れの最大値に着目することによって焦点を調整できる、前記シーンの前記被写体要素のいずれか１つに前記光学系の前記焦点を調整する手段と、
−前記シーンの前記被写体要素に対する前記焦点の前記調整から前記被写体要素の前記奥行きを推定するのに適した手段と、
を備えた装置において、
−前記光学系は、１）前記レンズの像のほぼ面内に配置され、前記被写体要素の像を、マイクロレンズの系を介して前記画素化光センサ上へ中継できるテレセントリックリレーイメージングシステム、および２）前記テレセントリックリレーイメージングシステムの入力端子に取り付けられた、やはり画素化された光空間変調器をさらに備え、
各マイクロレンズの光軸は、前記画素化光センサの特定の画素の中心を通過し、前記光空間変調器の特定の画素の中心を通過し、
各マイクロレンズは、前記テレセントリックリレーイメージングシステムおよび前記レンズと組み合わせて、前記シーンの被写体要素を、前記マイクロレンズの前記光軸上に位置する前記光空間変調器の前記画素を通じて、前記マイクロレンズの前記光軸上に位置する前記画素化光センサの前記画素上へ結像することができる、前記装置。
前記画素のそれぞれが通過状態に連続的に移行する一方、前記光空間変調器の全ての他の画素が遮断状態にあるように、前記光空間変調器の前記画素を制御する手段をさらに備えた、請求項１に記載の奥行き評価装置。
前記光空間変調器の前記画素が、複数の隣り合った画素のグループに区分されており、前記奥行き評価装置は、グループごとに各画素が通過状態に連続的に移行するように、グループごとに一画素が常に通過状態にある一方、同じグループの全ての他の画素が遮断状態にあるように、前記光空間変調器の前記画素を制御する手段をさらに備えた、請求項１に記載の奥行き評価装置。
前記グループのそれぞれは、同じ個数の画素を含む、請求項３に記載の奥行き評価装置。
グループごとに、前記画素は、同じように幾何学的に並べられ、前記光空間変調器の前記画素を制御する手段は、グループごとに、各画素が同じ幾何学的秩序で前記通過状態に連続的に移行するように適合される、請求項４に記載の奥行き評価装置。
各グループは、３×３個の画素を含む、請求項４または５に記載の奥行き評価装置。