JP2013016744A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2013016744A5
JP2013016744A5 JP2011150339A JP2011150339A JP2013016744A5 JP 2013016744 A5 JP2013016744 A5 JP 2013016744A5 JP 2011150339 A JP2011150339 A JP 2011150339A JP 2011150339 A JP2011150339 A JP 2011150339A JP 2013016744 A5 JP2013016744 A5 JP 2013016744A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
blanking
unit
pattern
substrate
storage unit
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2011150339A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP2013016744A (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP2011150339A priority Critical patent/JP2013016744A/ja
Priority claimed from JP2011150339A external-priority patent/JP2013016744A/ja
Priority to US13/534,033 priority patent/US8658985B2/en
Publication of JP2013016744A publication Critical patent/JP2013016744A/ja
Publication of JP2013016744A5 publication Critical patent/JP2013016744A5/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

JP2011150339A 2011-07-06 2011-07-06 描画装置及びデバイスの製造方法 Pending JP2013016744A (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011150339A JP2013016744A (ja) 2011-07-06 2011-07-06 描画装置及びデバイスの製造方法
US13/534,033 US8658985B2 (en) 2011-07-06 2012-06-27 Drawing apparatus and method of manufacturing article

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011150339A JP2013016744A (ja) 2011-07-06 2011-07-06 描画装置及びデバイスの製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2013016744A JP2013016744A (ja) 2013-01-24
JP2013016744A5 true JP2013016744A5 (cg-RX-API-DMAC10.html) 2014-10-02

Family

ID=47438863

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2011150339A Pending JP2013016744A (ja) 2011-07-06 2011-07-06 描画装置及びデバイスの製造方法

Country Status (2)

Country Link
US (1) US8658985B2 (cg-RX-API-DMAC10.html)
JP (1) JP2013016744A (cg-RX-API-DMAC10.html)

Families Citing this family (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013008878A (ja) * 2011-06-24 2013-01-10 Canon Inc 描画装置、物品の製造方法、及び処理装置
JP6212299B2 (ja) * 2013-06-26 2017-10-11 キヤノン株式会社 ブランキング装置、描画装置、および物品の製造方法
JP6215061B2 (ja) * 2014-01-14 2017-10-18 株式会社アドバンテスト 電子ビーム露光装置
JP6484431B2 (ja) 2014-11-12 2019-03-13 株式会社アドバンテスト 荷電粒子ビーム露光装置及び荷電粒子ビーム露光方法
JP2016122676A (ja) 2014-12-24 2016-07-07 株式会社アドバンテスト 露光装置および露光方法
DE102015002702B4 (de) * 2015-03-03 2023-02-02 Carl Zeiss Microscopy Gmbh Partikelstrahlsystem
JP2016207925A (ja) 2015-04-27 2016-12-08 株式会社アドバンテスト 素子、製造方法、および露光装置
JP2016207926A (ja) 2015-04-27 2016-12-08 株式会社アドバンテスト 露光装置および露光方法
JP2017063101A (ja) 2015-09-24 2017-03-30 株式会社アドバンテスト 露光装置および露光方法
JP2017135218A (ja) 2016-01-26 2017-08-03 株式会社アドバンテスト 荷電粒子ビームレンズ装置、荷電粒子ビームカラム、および荷電粒子ビーム露光装置
JP2017139339A (ja) 2016-02-04 2017-08-10 株式会社アドバンテスト 露光装置
JP6690984B2 (ja) * 2016-04-15 2020-04-28 株式会社ニューフレアテクノロジー マルチ荷電粒子ビーム露光方法及びマルチ荷電粒子ビームのブランキング装置
JP2017204499A (ja) 2016-05-09 2017-11-16 株式会社アドバンテスト マルチカラム荷電粒子ビーム露光装置
WO2018167936A1 (ja) * 2017-03-17 2018-09-20 株式会社ニコン 露光装置及びリソグラフィ方法、並びにデバイス製造方法

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH097538A (ja) * 1995-06-26 1997-01-10 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 荷電ビーム描画装置
JP3913250B2 (ja) * 2005-01-07 2007-05-09 キヤノン株式会社 電子ビーム露光装置とその露光方法
NL2001369C2 (nl) * 2007-03-29 2010-06-14 Ims Nanofabrication Ag Werkwijze voor maskerloze deeltjesbundelbelichting.
US8258484B2 (en) * 2008-04-15 2012-09-04 Mapper Lithography Ip B.V. Beamlet blanker arrangement
JP2011517131A (ja) 2008-04-15 2011-05-26 マッパー・リソグラフィー・アイピー・ビー．ブイ． 小ビームブランカ構成体

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2013074088A5 (cg-RX-API-DMAC10.html)
JP2012178437A5 (cg-RX-API-DMAC10.html)
US9650709B2 (en) Magnetic device, vapor deposition device and vapor deposition method
TW200801790A (en) Pattern generation method and charged particle beam writing apparatus
JP2012003233A5 (cg-RX-API-DMAC10.html)
JP6860155B2 (ja) ジャイロ、角度計測方法
JP6465766B2 (ja) ナノチューブ粒子デバイス及びそれを用いた方法
JP3156757U (ja) 衝撃試験装置
JP2015518628A5 (ja) イオン注入装置、およびイオン注入装置の動作方法
JP2011527769A5 (cg-RX-API-DMAC10.html)
WO2013053466A3 (de) Verfahren zum bereitstellen einer bedienvorrichtung, insbesondere in einem fahrzeug, und bedienvorrichtung für ein fahrzeug
JP2015163119A5 (cg-RX-API-DMAC10.html)
JP2011237934A5 (ja) システム、システムの制御方法、及び、プログラム
WO2012014057A3 (fr) Systeme et procede d&#39;edition, d&#39;optimisation et de rendu de textures procedurales
CN104199573A (zh) 触摸驱动方法、触摸驱动装置及触摸显示屏
JP2010079807A5 (cg-RX-API-DMAC10.html)
IN2014KN02923A (cg-RX-API-DMAC10.html)
JP2012146731A5 (cg-RX-API-DMAC10.html)
JP2013143441A5 (ja) 荷電粒子ビーム描画方法、荷電粒子ビーム描画プログラムおよび荷電粒子ビーム描画装置
JP2010283606A5 (cg-RX-API-DMAC10.html)
CN108702229A (zh) 用于光刻设备的控制系统和方法
JP2011138503A5 (cg-RX-API-DMAC10.html)
JP2019506006A5 (cg-RX-API-DMAC10.html)
JP2014082289A5 (cg-RX-API-DMAC10.html)
JP2019217152A5 (cg-RX-API-DMAC10.html)