JP2013016633A - Wiring board manufacturing method - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a wiring board manufacturing method which solves a problem of the past such that though wiring is successfully thinned, it is necessary to arrange a liquid body containing a liquid repellent material having liquid repellency on a part where an ink including a conductive material as a functional fluid is not necessary to be formed and dry or harden the liquid body because there is a process of forming a liquid repellent part, and it is necessary to perform, when including drying and hardening of the ink containing the conductive material, drying and hardening twice other than hardening of a resin material of a slope part.SOLUTION: A wiring board manufacturing method in which a conductive pattern is formed on a base material by an inkjet method, comprises: a ground formation step of forming a ground layer of insulation containing unhardened hardening resin on the base material; a drawing step of forming a conductive pattern in the ground layer by injecting a pattern drawing ink containing conductive particles into the ground layer by an inkjet method; and a hardening step of hardening the ground layer.

Description

本発明は、導電パターンをインクジェット法によって形成する配線基板の製造方法に関する。   The present invention relates to a method for manufacturing a wiring board in which a conductive pattern is formed by an inkjet method.

導電性材料を含むインクをインクジェット法によって基材に印刷して配線を形成する技術が知られている。この技術では、導電性材料を含むインクが基材に吐出された場合に基材との濡れ性により濡れ広がるため、配線を細線化するには限度があった。特に配線抵抗を小さくするために配線の厚みが必要な場合には配線を太くせざるをえないことがあった。この濡れ拡がりを防ぐため、撥液部を形成する技術が知られている。これは、図3に示されるように、屈曲した複数の面又は湾曲した面をまたいでパターン形成材料を含む機能液を塗布し3次元構造を備えたパターンを形成するパターン形成方法であって、屈曲した複数の面又は湾曲した面を含む面にインクジェット法を用いて機能液20に対して撥液性を示す撥液材料を含む液状体を配置し、撥液部16を形成する工程と、撥液部16が形成されていない親液部に機能液20を配置する工程と、を備えている。   A technique for forming a wiring by printing an ink containing a conductive material on a substrate by an inkjet method is known. In this technique, when ink containing a conductive material is ejected onto a base material, it spreads due to wettability with the base material. In particular, when the thickness of the wiring is necessary to reduce the wiring resistance, the wiring has to be thickened. In order to prevent this wetting and spreading, a technique for forming a liquid repellent portion is known. This is a pattern forming method for forming a pattern having a three-dimensional structure by applying a functional liquid containing a pattern forming material across a plurality of bent surfaces or curved surfaces as shown in FIG. Disposing a liquid material containing a liquid repellent material exhibiting liquid repellency with respect to the functional liquid 20 on a surface including a plurality of bent surfaces or a curved surface using an inkjet method, and forming the liquid repellent portion 16; And a step of disposing the functional liquid 20 in the lyophilic part where the liquid repellent part 16 is not formed.

尚、機能液20は導電性材料を含むインクであり、半導体チップ123の電極と基板12の電極を結ぶ配線材料となっている。半導体チップ123の側面には、樹脂材料からなるスロープ部127が形成されている。このスロープ部127は、基板12の上面から半導体チップ123の上面に至るスロープを形成しており、半導体チップ123の上面(面13a)、基板12の上面(面13c)は、スロープ部127に形成された面(面13b)と連続した面で繋がっており、機能液20は、面13a、面13b、面13c上に形成されている。 The functional liquid 20 is ink containing a conductive material, and is a wiring material that connects the electrode of the semiconductor chip 123 and the electrode of the substrate 12. On the side surface of the semiconductor chip 123, a slope portion 127 made of a resin material is formed. The slope portion 127 forms a slope from the upper surface of the substrate 12 to the upper surface of the semiconductor chip 123, and the upper surface (surface 13 a) of the semiconductor chip 123 and the upper surface (surface 13 c) of the substrate 12 are formed in the slope portion 127. The functional liquid 20 is formed on the surface 13a, the surface 13b, and the surface 13c.

特開2009−076529号公報JP 2009-0776529 A

従来の配線基板の製造方法は、撥液部16を形成する工程があるため、配線の細線化が可能であったが、機能液20である導電性材料を含むインクを形成したくない部分に撥液性を示す撥液材料を含む液状体を配置し、乾燥または硬化させることが必要であり、導電性材料を含むインクの乾燥または硬化を含めると、スロープ部127の樹脂材料の硬化以外に、乾燥または硬化が二度必要となり、生産性に劣るという課題があった。   In the conventional method of manufacturing a wiring board, since there is a step of forming the liquid repellent portion 16, the wiring can be thinned. However, the ink containing the conductive material as the functional liquid 20 is not desired to be formed. It is necessary to dispose a liquid material containing a liquid repellent material exhibiting liquid repellency, and to dry or harden it. Including drying or hardening of ink containing a conductive material, in addition to hardening of the resin material of the slope portion 127 , Drying or curing was required twice, and there was a problem of poor productivity.

本発明の配線基板の製造方法は、基材に導電パターンをインクジェット法によって形成する配線基板の製造方法において、前記基材に未硬化の硬化性樹脂を含む絶縁性の下地層を形成する下地形成工程と、導電粒子を含むパターン描画インクをインクジェット法にて前記下地層に打ち込んで前記下地層内部に導電パターンを形成する描画工程と、前記下地層を硬化する硬化工程とを有することを特徴とする。このことによって、未硬化の硬化性樹脂を含む絶縁性の下地層に、導電粒子を含むパターン描画インクが打ち込まれるため、パターン描画インクの拡がりを抑えられ、幅が狭い配線を一度の硬化で実現できる。 The method for manufacturing a wiring board according to the present invention is a method for manufacturing a wiring board in which a conductive pattern is formed on a base material by an ink jet method, and a base formation for forming an insulating base layer containing an uncured curable resin on the base material And a step of forming a conductive pattern in the base layer by driving a pattern drawing ink containing conductive particles into the base layer by an inkjet method, and a curing step of curing the base layer. To do. As a result, pattern drawing ink containing conductive particles is injected into an insulating base layer containing an uncured curable resin, so that the spread of the pattern drawing ink can be suppressed and narrow wiring can be realized by one-time curing. it can.

また、本発明の配線基板の製造方法は、前記硬化工程の後に、前記パターン描画インクを焼成する焼成工程を有することを特徴とする。このことにより、配線の低抵抗化ができる。 In addition, the method for manufacturing a wiring board of the present invention includes a baking step of baking the pattern drawing ink after the curing step. As a result, the resistance of the wiring can be reduced.

また、本発明の配線基板の製造方法は、前記パターン描画インクが前記下地層に溶解しないことを特徴とする。このことにより、配線のより細線化ができる。 In addition, the method for manufacturing a wiring board according to the present invention is characterized in that the pattern drawing ink does not dissolve in the base layer. As a result, the wiring can be made thinner.

また、本発明の配線基板の製造方法は、前記基材が段差を有しており、前記下地層が前記段差を軽減する平坦化層を兼ねていることを特徴とする。このことにより、段差にも配線形成ができる。 In the method for manufacturing a wiring board according to the present invention, the base material has a step, and the base layer also serves as a planarizing layer for reducing the step. As a result, wiring can also be formed at the step.

本発明の配線基板の製造方法は、未硬化の硬化性樹脂を含む絶縁性の下地層に、導電粒子を含むパターン描画インクが打ち込まれるため、パターン描画インクの濡れ広がりを抑えられ、幅が狭い配線を一度の硬化で実現できる。   In the method for manufacturing a wiring board according to the present invention, pattern drawing ink containing conductive particles is driven into an insulating base layer containing an uncured curable resin, so that wetting and spreading of the pattern drawing ink can be suppressed and the width is narrow. Wiring can be realized with a single cure.

第1の実施形態の配線基板の製造方法を説明する図である。It is a figure explaining the manufacturing method of the wiring board of a 1st embodiment. 第1の実施形態の配線基板の製造方法によって形成された配線基板を説明する図である。It is a figure explaining the wiring board formed by the manufacturing method of the wiring board of 1st Embodiment. 第1の実施形態の配線基板の製造方法によって形成された導電パターンの断面図である。It is sectional drawing of the conductive pattern formed by the manufacturing method of the wiring board of 1st Embodiment. 第2の実施形態の配線基板の製造方法を説明する図である。It is a figure explaining the manufacturing method of the wiring board of 2nd Embodiment. 従来の配線基板の製造方法を説明する図であるIt is a figure explaining the manufacturing method of the conventional wiring board.

次に、本発明の実施形態の例について図を参照しながら詳細に説明をする。   Next, an example of an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

[第1実施形態]
図1は、本発明の第1の実施形態の配線基板の製造方法を説明する図であり、図2は、第1の実施形態の配線基板の製造方法によって形成された配線基板を説明する図である。
[First Embodiment]
FIG. 1 is a diagram illustrating a method for manufacturing a wiring board according to a first embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a diagram illustrating a wiring board formed by the method for manufacturing a wiring board according to the first embodiment. It is.

図1は、第1の実施形態の配線基板の製造方法を説明する図である。図1(a)は、準備工程を示す。基材2は、絶縁性のガラスや絶縁性の樹脂である。 FIG. 1 is a diagram for explaining a method of manufacturing a wiring board according to the first embodiment. FIG. 1A shows a preparation process. The base material 2 is insulating glass or insulating resin.

次に、図1(b)は、下地形成工程を示す。図1(b)に示されるように、基材2片面に、未硬化の硬化性樹脂を含む絶縁性の下地層7を所望の領域に形成する。下地層7の材質は、約10〜40μm程度の厚さのUV硬化性のアクリル樹脂である。下地層7は、インクジェット法もしくは、ディスペンサ等を用いて形成することができる。 Next, FIG.1 (b) shows a base | substrate formation process. As shown in FIG. 1B, an insulating base layer 7 containing an uncured curable resin is formed in a desired region on one side of the substrate 2. The material of the underlayer 7 is a UV curable acrylic resin having a thickness of about 10 to 40 μm. The underlayer 7 can be formed using an ink jet method or a dispenser.

次に、図1(c)は、描画工程を示す。図1(c)に示されるように、導電粒子を含むパターン描画インクをインクジェット法にて、未硬化の下地層7に打ち込んで導電パターン6を形成する。パターン描画インクの液滴を適切な密度で連続して打ち込むことにより、下地層7に打ち込まれたパターン描画インクの液滴同士が接続されて導電パターン6が描かれる。未硬化の下地層7に打ち込まれることにより、図3(b)に示すように、パターン描画インクは下地層7の内部にめり込むように形成することができる。このように下地層7の内部に導電パターン6を形成することにより、下地層7に阻害されて導電パターン6が濡れ広がることが抑えられるため配線の厚みを保ったまま幅を狭く形成することが可能となる。パターン描画インクが未硬化の下地層7に溶解しないように材料を選定するとさらによい。下地層7とパターン描画インクとが互いに溶解しない材料とするとパターン描画インクの液滴同士が接続されやすく、液滴間に下地層7が残って導電パターン6の導電性を下げてしまうことがなくなる。パターン描画インクは、銀ペーストインクである場合を例示するが、これに限られるものではなく、銅などの導電粒子を含む材質であってもかまわない。下地層7内部に形成された導電パターン6の厚みは、約0.8〜2.5μm程度の厚さになる。 Next, FIG.1 (c) shows a drawing process. As shown in FIG. 1C, a pattern drawing ink containing conductive particles is driven into the uncured underlayer 7 by an ink jet method to form a conductive pattern 6. By successively ejecting the pattern drawing ink droplets at an appropriate density, the pattern drawing ink droplets that have been deposited on the underlayer 7 are connected to each other, and the conductive pattern 6 is drawn. By being driven into the uncured underlayer 7, the pattern drawing ink can be formed so as to sink into the underlayer 7 as shown in FIG. By forming the conductive pattern 6 inside the base layer 7 in this way, the conductive pattern 6 can be prevented from being wet and spread by being blocked by the base layer 7, so that the width can be narrowed while maintaining the thickness of the wiring. It becomes possible. It is better to select a material so that the pattern drawing ink does not dissolve in the uncured underlayer 7. If the base layer 7 and the pattern drawing ink are made of a material that does not dissolve each other, the pattern drawing ink droplets are easily connected to each other, and the base layer 7 remains between the droplets and the conductivity of the conductive pattern 6 is not lowered. . The pattern drawing ink is exemplified by silver paste ink, but is not limited thereto, and may be a material containing conductive particles such as copper. The thickness of the conductive pattern 6 formed in the underlayer 7 is about 0.8 to 2.5 μm.

次に、図1(d)は、硬化工程を示す。図1(d)に示されるように、下地層7を硬化させる。下地層7の硬化は、メタルハライドランプなどを用いたUV照射により、未硬化の下地層7が硬化するまで行う。 Next, FIG.1 (d) shows a hardening process. As shown in FIG. 1D, the underlayer 7 is cured. The underlayer 7 is cured until the uncured underlayer 7 is cured by UV irradiation using a metal halide lamp or the like.

上述した図1(a)の準備工程から図1(d)の硬化工程を経ることで、図2に示されるような配線基板1を容易にえることができる。未硬化の硬化性樹脂を含む絶縁性の下地層7に、導電粒子を含むパターン描画インクが打ち込まれるため、導電パターン6の拡がりを抑えられ、幅が狭い配線を一度の硬化で実現できる。基材2上に直接形成された導電パターン6の配線幅は、図3(a)に示されるように、最少でも約50μm程度であるが、下地層7上の導電パターン6の配線幅は、図3(b)に示されるように、約20μm程度まで細線化できる。尚、本実施形態では、導電パターン6が、縦方向に2本、横方向に2本引き回されている場合を例示したが、導電パターン6の配置および本数は、これにかぎられるものではない。 The wiring board 1 as shown in FIG. 2 can be easily obtained by passing through the curing process of FIG. 1D from the preparation process of FIG. Since the pattern drawing ink containing the conductive particles is driven into the insulating base layer 7 containing the uncured curable resin, the spreading of the conductive pattern 6 can be suppressed, and a narrow wiring can be realized by one-time curing. As shown in FIG. 3A, the wiring width of the conductive pattern 6 directly formed on the substrate 2 is about 50 μm at the minimum, but the wiring width of the conductive pattern 6 on the base layer 7 is As shown in FIG. 3B, the line can be thinned to about 20 μm. In the present embodiment, the case where two conductive patterns 6 are routed in the vertical direction and two in the horizontal direction is illustrated, but the arrangement and number of the conductive patterns 6 are not limited thereto. .

また、導電パターン6を形成する際は、導電パターン6が延びる方向にインクジェットヘッドをスキャンしながら形成することが好ましい。このことにより、パターン描画インクを少しずつずらして打ち込んで導電パターン6が断線することなく形成することができる。たとえば、図2に示されるように、導電パターン6を縦方向へ引き回す場合は、図1(c)の描画工程において、導電パターン6を打ち込むインクジェットヘッドを縦方向へスキャンまたは基材2を縦方向へスキャンし、導電パターンを横方向へ引き回す場合は、インクジェットヘッドを横方向へスキャンまたは基材2を横方向へスキャンし、描画を行う。 Further, when forming the conductive pattern 6, it is preferable to form the conductive pattern 6 while scanning the ink jet head in the direction in which the conductive pattern 6 extends. As a result, the pattern drawing ink is ejected by shifting little by little, and the conductive pattern 6 can be formed without disconnection. For example, as shown in FIG. 2, when the conductive pattern 6 is routed in the vertical direction, in the drawing process of FIG. 1C, the inkjet head for driving the conductive pattern 6 is scanned in the vertical direction or the substrate 2 is moved in the vertical direction. When the conductive pattern is drawn in the horizontal direction, the inkjet head is scanned in the horizontal direction or the substrate 2 is scanned in the horizontal direction to perform drawing.

また、配線基板1の導電パターン6の一部が、下地層7を介さずに基材2上に形成されていてもかまわない。図2に示される端子部9は、導電パターン6の一部で基材2上に直接形成されている。下地層7がないため、パターン描画インクは濡れ拡がってしまうが、外部装置との電気的接続を取る端子部9は、用途によってはある程度の面積が必要でそれほど細線化が要求されておらず、また接続にあたっては下地層7がない方が好ましい場合がある。このように配線の細線化を望まない部分には、未硬化の硬化性樹脂を含む絶縁性の下地層7の無い部分を作る工夫を行ってもかまわない。 Further, a part of the conductive pattern 6 of the wiring board 1 may be formed on the base material 2 without the base layer 7 interposed therebetween. The terminal portion 9 shown in FIG. 2 is directly formed on the substrate 2 by a part of the conductive pattern 6. Since the base layer 7 is not provided, the pattern drawing ink spreads wet, but the terminal portion 9 that is electrically connected to an external device requires a certain area depending on the application and is not required to be so thin. In connection, it may be preferable that the base layer 7 is not provided. Thus, it may be devised to create a portion without the insulating base layer 7 containing the uncured curable resin in the portion where the thinning of the wiring is not desired.

さらに、図1(a)準備工程から図1(d)硬化工程を経た後、図示はしないが、焼成工程を行ってもかまわない。焼成工程においては、下地層7の硬化工程後に、パターン描画インク6を焼成する。パターン描画インク6が、銀ペーストインクである場合、約100〜200℃の温度で、焼成を行う。このことにより、配線の低抵抗化ができる。また、本実施形態においては、下地層7がUV硬化性のアクリル樹脂である場合を例示したが、導電パターン6に含まれるパターン描画インクの焼成温度未満で硬化する、熱硬化性樹脂を用いて熱硬化させてもかまわない。パターン描画インクが下地層7に溶解しないそれぞれの材質を選定することにより、配線をより細線化することができる。 Further, after the curing process shown in FIG. 1 (a) to the curing process shown in FIG. 1 (d), although not shown, a firing process may be performed. In the firing step, the pattern drawing ink 6 is fired after the curing step of the underlayer 7. When the pattern drawing ink 6 is a silver paste ink, baking is performed at a temperature of about 100 to 200 ° C. As a result, the resistance of the wiring can be reduced. Moreover, in this embodiment, although the case where the base layer 7 was UV curable acrylic resin was illustrated, the thermosetting resin which hardens | cures below the baking temperature of the pattern drawing ink contained in the conductive pattern 6 is used. It may be heat-cured. By selecting each material that does not dissolve the pattern drawing ink in the underlying layer 7, the wiring can be made finer.

[第2実施形態]
図4は、本発明の第2の実施形態の配線基板の製造方法を説明する図である。第1の実施形態と同じ部分については共通の符号を付して説明を省略する。
[Second Embodiment]
FIG. 4 is a diagram for explaining a method of manufacturing a wiring board according to the second embodiment of the present invention. The same parts as those of the first embodiment are denoted by the same reference numerals and description thereof is omitted.

図4は、第2の実施形態の配線基板の製造方法を説明する図である。図4(a)は、準備工程を示す。図4(a)に示されるように、本実施形態は第1の実施形態と異なり、基材2の片面に段差3が設けられている。段差3は、約1〜100μm程度の厚さの絶縁性もしく導電性の材料からなる。 FIG. 4 is a view for explaining a method of manufacturing a wiring board according to the second embodiment. FIG. 4A shows a preparation process. As shown in FIG. 4A, the present embodiment is different from the first embodiment in that a step 3 is provided on one side of the substrate 2. The step 3 is made of an insulating or conductive material having a thickness of about 1 to 100 μm.

次に、図4(b)は、下地形成工程を示す。図4(b)に示されるように、基材2の段差3が設けられた片面に、未硬化の硬化性樹脂を含む絶縁性の下地層7を所望の領域に形成する。下地層7は、基材2の段差3を軽減するように平坦化膜を兼ねており、さらに段差3の上から段差3のない基材2に向けて、スロープ部5が設けられている。 Next, FIG.4 (b) shows a base | substrate formation process. As shown in FIG. 4B, an insulating base layer 7 containing an uncured curable resin is formed in a desired region on one side of the substrate 2 where the step 3 is provided. The underlayer 7 also serves as a planarizing film so as to reduce the step 3 of the base material 2, and further, a slope portion 5 is provided from the top of the step 3 toward the base material 2 without the step 3.

次に、第1の実施形態と同様に図4(c)に示す描画工程、図4(d)に示す硬化工程を行う。 Next, similarly to the first embodiment, a drawing process shown in FIG. 4C and a curing process shown in FIG. 4D are performed.

このようにすることにより、下地層7が、段差3を軽減する平坦化層を兼ねているため、導電パターンが断線することなく厚みを保ったまま細線化された導電パターンを形成することができる。また、本実施形態において、図4(a)の準備工程の段差3が導電性の材料からなる配線であってもよい。このことによって、配線基板上に既に形成されている配線をまたぐ配線を容易に形成可能となる。さらに多層の配線を形成する場合は、図4(b)の下地形成工程から図4(d)の硬化工程および焼成工程を繰り返してもよい。 By doing in this way, since the base layer 7 also serves as a planarizing layer for reducing the step 3, it is possible to form a thinned conductive pattern while maintaining the thickness without disconnecting the conductive pattern. . Moreover, in this embodiment, the level | step difference 3 of the preparation process of Fig.4 (a) may be wiring which consists of an electroconductive material. As a result, it is possible to easily form a wiring straddling a wiring already formed on the wiring board. Furthermore, when forming multilayer wiring, the curing process and the firing process in FIG. 4 (d) may be repeated from the base formation process in FIG. 4 (b).

1 配線基板
2 基材
3 段差
5 スロープ部
6 導電パターン
7 下地層
9 端子部
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Wiring board 2 Base material 3 Level | step difference 5 Slope part 6 Conductive pattern 7 Underlayer 9 Terminal part

Claims (4)

基材に導電パターンをインクジェット法によって形成する配線基板の製造方法において、前記基材に未硬化の硬化性樹脂を含む絶縁性の下地層を形成する下地形成工程と、導電粒子を含むパターン描画インクをインクジェット法にて前記下地層に打ち込んで前記下地層内部に導電パターンを形成する描画工程と、前記下地層を硬化する硬化工程とを有することを特徴とする配線基板の製造方法。     In a method of manufacturing a wiring board in which a conductive pattern is formed on a base material by an ink jet method, a base forming step for forming an insulating base layer containing an uncured curable resin on the base material, and a pattern drawing ink containing conductive particles A method of manufacturing a wiring board, comprising: a drawing step of forming a conductive pattern in the underlayer by an ink jet method and a curing step of curing the underlayer. 請求項1に記載の配線基板の製造方法において、前記硬化工程の後に、前記パターン描画インクを焼成する焼成工程を有することを特徴とする配線基板の製造方法。 2. The method for manufacturing a wiring board according to claim 1, further comprising a baking step of baking the pattern drawing ink after the curing step. 請求項1または請求項2に記載の配線基板の製造方法において、前記パターン描画インクが前記下地層に溶解しないことを特徴とする配線基板の製造方法。 3. The method for manufacturing a wiring board according to claim 1, wherein the pattern drawing ink does not dissolve in the base layer. 請求項1ないし請求項3のいずれか1項に記載の配線基板の製造方法において、前記基材が段差を有しており、前記下地層が前記段差を軽減する平坦化層を兼ねていることを特徴とする配線基板の製造方法。 4. The method of manufacturing a wiring board according to claim 1, wherein the base material has a step, and the underlayer also serves as a planarizing layer that reduces the step. 5. A method of manufacturing a wiring board characterized by the above.
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