JP2013012260A - Hdd用ガラス基板の検品・選別方法、hdd用情報記録媒体の製造方法 - Google Patents
Hdd用ガラス基板の検品・選別方法、hdd用情報記録媒体の製造方法 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】本発明は、化学強化工程によって表層に圧縮応力層が付与されたHDD用ガラス基板を検品・選別する工程において、前記HDD用ガラス基板の径方向において、中心孔の径端から0.5mmの位置から、前記HDD用ガラス基板の外径端から0.5mmの位置までの位相差の最大値が、5.0nm未満であるものを選択することを特徴とするHDD用ガラス基板の検品・選別方法である。
【選択図】図1
Description
本発明の製造方法における化学強化工程は、公知の方法であれば、特に限定されない。具体的には、例えば、後述する円盤加工工程等を施したガラス素板を化学強化処理液に浸漬させる工程等が挙げられる。このように浸漬させることによって、ガラス素板の表面に化学強化層を形成することができる。そして、化学強化層を形成することで耐衝撃性、耐振動性及び耐熱性等を向上させることができる。
検品・選別工程は、前述の化学強化工程を経た後に施され、化学強化工程後であれば、複数回施されていてもよい。
前記円盤加工工程は、所定の組成のガラス素材から板状に成形したガラス素板から、図4に示すように、内周及び外周が同心円となるように、中心部に貫通孔10aが形成された円盤状のガラス素板10に加工する工程である。具体的には、ダイレクトプレス法、フロート法などを用いて加工する。
図5は、前記ダイレクトプレス法によるガラス素板の加工工程を示す模式図である。
図6は、前記フロート法による加工工程を示す断面図である。
前記両面研削工程は、前記ガラス素板を所定の板厚に加工する工程である。具体的には、ガラス素板の両面を研削(両面研削)加工する工程等が挙げられる。このように加工することによって、ガラス素板の平行度、平坦度及び厚みを調整することができる。
両面研磨工程は、ガラス素板の主面を、酸化セリウムを含有する研磨スラリーにて研磨し、上述した両面研削工程で残留した傷や歪みの除去を目的とするものである。前記両面研磨工程は、粗研磨工程(一次研磨工程)と精密研磨工程(二次研磨工程)に分けて施されることもあり、下記の研磨方法を用いて実施する。
粗研磨工程で用いる研磨装置は、ガラス基板の製造に用いる研磨装置であれば、特に限定されない。
精密研磨工程は、前記粗研磨工程で得られた平坦平滑な主表面を維持しつつ、例えば、主表面の表面粗さ(Rmax)が6nm程度以下である平滑な鏡面に仕上げる鏡面研磨処理である、この精密研磨工程は、例えば、上記粗研磨工程で使用したものと同様の研磨装置を用い、研磨パッドを硬質研磨パッドから軟質研磨パッドに取り替えて行われる。なお、前記精密研磨工程で研磨する表面は、前記粗研磨工程で研磨する表面と同様、主表面である。
まず、ガラス素板の各成分についてさらに詳述する。
ガラス基板を用い、フロート法を用いてガラス基板を作製し、図3(b)に記載の方法に順じ、円盤加工工程、両面研削工程、両面研磨工程、化学強化処理工程、最終洗浄工程を施し、ガラス基板の製造を1000枚行った。なお、化学強化処理工程において、ガラス基板主面の圧縮応力層が30μmとなるように製造した。
以上のように製造された1000枚のガラス基板に磁性膜を製膜後、ハードディスクに搭載した際にエラーの発生率を求め、その各発生率による位相差との関係を図9に記した。
ガラス基板を用い、フロート法を用いてガラス基板を作製し、図3(c)の方法に準じて(但し、1回目の位相差測定は行わず)、円盤加工工程、両面研削工程、化学強化処理工程、洗浄工程、両面研磨工程、最終洗浄工程を施し、ガラス基板の製造を1000枚行った。なお、化学強化処理工程後の両面研磨工程において、ガラス基板主面の圧縮応力層が10μmとなるように製造した。
以上のように製造された1000枚のガラス基板を製膜後、ハードディスクに搭載した際にエラーの発生率を求め、その各発生率による位相差との関係を図10に記した。
2 ゴブ
3 下型
4 上型
5 流出パイプ
6 溶融ガラス
7 切断刃
8,9 切筋
10 ガラス基板
11 研削機
12 上定盤
13 下定盤
14 固定砥粒
15 ガラスカッター
16 ポンプ
101 磁気情報記録媒体用ガラス基板
Claims (5)
- 化学強化工程によって表層に圧縮応力層が付与されたHDD用ガラス基板を検品・選別する工程において、
前記HDD用ガラス基板の径方向において、中心孔の径端から0.5mmの位置から、前記HDD用ガラス基板の外径端から0.5mmの位置までの位相差の最大値が、5.0nm未満であるものを選択することを特徴とするHDD用ガラス基板の検品・選別方法。 - 化学強化工程によって表層に20μm以上の圧縮応力層が付与されたHDD用ガラス基板の検品・選別方法において、
前記位相差の最大値が、4.0nm未満であるものを選択することを特徴とする請求項1に記載のHDD用ガラス基板の検品・選別方法。 - 化学強化工程によって表層に20μm未満の圧縮応力層が付与されたHDD用ガラス基板を検品・選別する工程において、
前記位相差の最大値が、3.0nm未満であるものを選択することを特徴とする請求項1に記載のHDD用ガラス基板の検品・選別方法。 - 化学強化工程によって表層に20μm以上の圧縮応力層が付与されたHDD用ガラス基板の検品・選別することを特徴とする請求項1に記載のHDD用ガラス基板の検品・選別方法。
- 請求項1〜4の何れか1項に記載のHDD用ガラス基板の検品・選別方法により選択されたガラス基板にのみ磁性層を設けることを特徴とするHDD用情報記録媒体の製造方法。
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---|---|---|---|---|
JP6015876B1 (ja) * | 2016-07-05 | 2016-10-26 | 旭硝子株式会社 | 磁気記録媒体用のガラス基板、および磁気記録媒体の製造方法 |
WO2017217388A1 (ja) * | 2016-06-17 | 2017-12-21 | 日本電気硝子株式会社 | 強化ガラス板および強化ガラス板の製造方法 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09109196A (ja) * | 1995-10-23 | 1997-04-28 | Mitsubishi Eng Plast Kk | 光ディスク製造用射出成形金型 |
JP2001228034A (ja) * | 2000-02-14 | 2001-08-24 | Fuji Electric Co Ltd | ディスク基板の内部応力状態の測定法 |
JP2007263593A (ja) * | 2006-03-27 | 2007-10-11 | Photonic Lattice Inc | 位相差および光軸方位の測定装置 |
JP2009099251A (ja) * | 2007-09-28 | 2009-05-07 | Hoya Corp | 磁気ディスク用ガラス基板及びその製造方法 |
JP2012203960A (ja) * | 2011-03-25 | 2012-10-22 | Konica Minolta Advanced Layers Inc | 磁気情報記録媒体用ガラス基板の製造方法 |
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Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09109196A (ja) * | 1995-10-23 | 1997-04-28 | Mitsubishi Eng Plast Kk | 光ディスク製造用射出成形金型 |
JP2001228034A (ja) * | 2000-02-14 | 2001-08-24 | Fuji Electric Co Ltd | ディスク基板の内部応力状態の測定法 |
JP2007263593A (ja) * | 2006-03-27 | 2007-10-11 | Photonic Lattice Inc | 位相差および光軸方位の測定装置 |
JP2009099251A (ja) * | 2007-09-28 | 2009-05-07 | Hoya Corp | 磁気ディスク用ガラス基板及びその製造方法 |
JP2012203960A (ja) * | 2011-03-25 | 2012-10-22 | Konica Minolta Advanced Layers Inc | 磁気情報記録媒体用ガラス基板の製造方法 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2017217388A1 (ja) * | 2016-06-17 | 2017-12-21 | 日本電気硝子株式会社 | 強化ガラス板および強化ガラス板の製造方法 |
JP6015876B1 (ja) * | 2016-07-05 | 2016-10-26 | 旭硝子株式会社 | 磁気記録媒体用のガラス基板、および磁気記録媒体の製造方法 |
WO2018008161A1 (ja) * | 2016-07-05 | 2018-01-11 | 旭硝子株式会社 | 磁気記録媒体用のガラス基板、および磁気記録媒体の製造方法 |
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