JP2013007714A5 - - Google Patents

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つまり、プロセッサエレメントが故障した際に、画像分配制御部によって、故障したプロセッサエレメントが保存すべき情報を、装置に接続された正常なプロセッサエレメントに保存するように、再分配し、再設定した速度で検査を続行するように構成されている。
前者は、コスト面の問題がある。後者は、比較的、処理能力の低い信号処理装置で構成が可能であり、コスト面で有利である。しかしながら、ウエハ表面上の汚れは、不確定であるため、検出精度を保持しながら、データ量削減処理を行うことが可能であることの保証ができないという問題がある。
本発明の目的は、検査速度の低下を伴うことなく、かつ装置容積に占める信号処理部の比率を増加させることなく、データメモリのオーバーフローを回避し、ウエハ全面の検査データを取得することが可能な表面検査装置及び表面検査方法を実現することである。
試料台上の被検査物に照明光を照射し、被検査物からの散乱光を複数の散乱光検出手段により検出し検出信号を出力し、これら複数の散乱光検出手段からの検出信号を合成し、合成した検出信号を示す複数のデータを1単位としてブロック化し、複数のブロックのそれぞれの中の複数のデータのうちの選択したデータをメモリに記憶し、メモリのデータ記憶容量のうちの空き容量に基づいて、上記1ブロックとするデータ数を状態監視手段により変更し、上記メモリに記憶されたデータを処理し、被検査物の表面の欠陥を検出する
検査速度の低下を伴うことなく、かつ装置容積に占める信号処理部の比率を増加させることなく、データメモリのオーバーフローを回避し、ウエハ全面の検査データを取得することが可能な表面検査装置及び表面検査方法を実現することができる。
表示手段113には、ウエハ100上の欠陥データを表すマップ(便宜上「欠陥マップ」と称する)や、例えば、入力操作手段117により指定された条件に従って統合処理手段112によって処理された信号を基に構築された合成データ、ウエハ上のブロック化数の変化を表すマップ(便宜上「ブロック化マップ」と称する)、欠陥密度を示す欠陥密度マップ(便宜上「欠陥密度マップ」と称する)、検出条件(例えば、レシピ)等を表示する。
また、1ブロック内のデータ数を増加させることを判断する他の方法としては、状態監視手段302が、メモリ303のデータ格納増加量を時間単位で監視し、増加量が一定値となった時点で、1ブロック内のデータ数を増加させる方法もある。1ブロック内のデータ数を増加させた後も、メモリ303のデータ格納増加量を時間単位で監視し、増加量が一定値となった時点で、さらに1ブロック内のデータ数を増加させるように構成することもできる。
拡大マップ720には、欠陥マップ701とブロック化マップ702とを重ねて表示することができる。また、欠陥マップ701とブロック化マップ702とを、拡大マップ720上で、それぞれ個別に表示することもできる。ブロック化数の表示領域703には、拡大マップ720上において、入力操作手段117による操作又は表示領域703へのタッチ操作により、カーソル706で選択されたブロック化マップ702のブロック化数が表示される。ブロック化マップ702において、ブロック化数が異なるブロックを色別に分けて、ブロック化マップ702に表示させることもできる。カラーバー704は、ブロック化数と色とを対応させる。
以上のように、本発明によれば、データメモリ303の記憶容量の空き容量を監視し、空き容量の減少に伴って記憶すべきデータ量を制御して、欠陥検査データ取得前におけるデータメモリ303のオーバーフローを回避するように構成したので、検査速度の低下を伴うことなく、かつ装置容積に占める信号処理部の比率を増加させることなく、データメモリのオーバーフローを回避し、ウエハ全面の検査データを取得することが可能な表面検査装置及び表面検査方法を実現することができる。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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US20140064596A1 (en) * 2012-08-29 2014-03-06 Micron Technology, Inc. Descriptor guided fast marching method for analyzing images and systems using the same
CN112864038A (zh) * 2021-01-26 2021-05-28 上海华力微电子有限公司 晶圆密集缺陷源头检测方法及其检测系统

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3025065B2 (ja) * 1991-08-15 2000-03-27 日本電信電話株式会社 欠陥箇所表示処理方法
JP4268436B2 (ja) * 2003-04-15 2009-05-27 株式会社日立ハイテクノロジーズ 基板の異物検査装置および表示パネルの製造方法
US7215808B2 (en) * 2004-05-04 2007-05-08 Kla-Tencor Technologies Corporation High throughout image for processing inspection images
JP4563794B2 (ja) * 2004-12-28 2010-10-13 株式会社日立製作所 ストレージシステム及びストレージ管理方法
JP4996856B2 (ja) * 2006-01-23 2012-08-08 株式会社日立ハイテクノロジーズ 欠陥検査装置およびその方法
JP4203078B2 (ja) * 2006-04-17 2008-12-24 株式会社トプコン 表面検査方法及び装置
JP4567016B2 (ja) * 2007-03-28 2010-10-20 株式会社日立ハイテクノロジーズ 欠陥検査装置及び欠陥検査方法
JP5369643B2 (ja) * 2008-06-10 2013-12-18 富士通セミコンダクター株式会社 欠陥検査装置
JP5466396B2 (ja) 2008-12-09 2014-04-09 株式会社日立ハイテクノロジーズ 外観検査装置
JP2011022100A (ja) * 2009-07-21 2011-02-03 Hitachi High-Technologies Corp 基板の検査装置、および、基板の検査装置における基板の欠陥分布を得る方法

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