JP2013007026A - 剥離用組成物および剥離方法 - Google Patents
剥離用組成物および剥離方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2013007026A JP2013007026A JP2012085047A JP2012085047A JP2013007026A JP 2013007026 A JP2013007026 A JP 2013007026A JP 2012085047 A JP2012085047 A JP 2012085047A JP 2012085047 A JP2012085047 A JP 2012085047A JP 2013007026 A JP2013007026 A JP 2013007026A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- peeling
- compound
- adhesive
- stripping
- composition
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
- Detergent Compositions (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
Abstract
Description
本発明に係る剥離用組成物は、接着剤を剥離するための剥離用組成物であって、下記化学式(I)
本発明に係る剥離用組成物は、本発明の効果を損なわない範囲で、混和性のあるその他の成分を含んでいてもよい。その他の成分としては、例えば、PGME、PGMEA、2−ヘプタノン、酢酸ブチル、デカヒドロナフタレン、テトラヒドロナフタレン等が挙げられる。
本発明に係る剥離用組成物は、特に限定されるものではないが、例えば市販のまたは天然の上記化合物から任意に調製して、目的の純度およびトランス/シス比を有する化合物を含む剥離用組成物が得られる。そのような調製方法としては、例えば、蒸留等が挙げられる。また、市販の上記化合物、または天然の上記化合物の純度を高める場合には、純度調整として蒸留処理を行なうことがある。
本発明に係る剥離用組成物の使用方法としては特に限定されず、接着剤(あるいは接着層)に本発明に係る剥離用組成物を接触させればよい。例えば、従来公知の接着剤の剥離液と同様に使用してもよい。また、例えば、接着剤を塗布した基材を本発明に係る剥離用組成物中に浸漬してもよいし、当該接着剤上に本発明に係る剥離用組成物を塗布してもよいし、スプレーによって噴霧してもよい。
(材料の準備)
剥離試験において用いる剥離対象物として、下記化学式(II)
剥離用組成物の剥離性を、剥離速度に基づき評価した。具体的には、シリコン基板上にベーク後に15μmの厚さになる量の上述の接着剤組成物をスピン塗布し、100℃、160℃および220℃のそれぞれにおいて3分ずつベークして接着層を形成した。この接着層のみ(塗布膜)を室温下(23℃)で剥離液に浸漬し、シリコン基板上の接着層が完全に溶解した時点を終点とする方法により行なった。溶解速度は剥離膜厚(nm)/剥離時間(秒(s))で算出した。結果を表2および図1に示す。図1は、剥離用組成物による接着剤の溶解時間を示すグラフであり、縦軸が溶解速度(nm/s)を示し、横軸がトランス比を示す。表中の「溶解速度比」とは、トランス体の割合が100%であるp−メンタン剥離液(実施例1)の溶解速度を基準として算出したものである。
続いて、上述の接着剤組成物を用いて積層体を作製し、本発明に係る剥離用組成物の剥離性を確認した。
積層体の剥離例2において用いる積層体を以下のように作製した。
Claims (6)
- 上記化合物中に含まれるトランス体の割合が、シス体とトランス体の合計を100%とした場合に、50%より大きいことを特徴とする請求項1に記載の剥離用組成物。
- 上記化合物のトランス/シス比が1.0以上であることを特徴とする請求項1に記載の剥離用組成物。
- 上記化合物が、p−メンタンおよび2−イソプロピル−5−メチルシクロヘキサン−1−オンから選択される少なくとも1種であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の剥離用組成物。
- 剥離対象である接着剤が、炭化水素系接着剤であることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の剥離用組成物。
- 支持体と、上記支持体によって支持されている基板と、上記支持体および上記基板とを貼り合わせている接着層とを備えている積層体における上記基板から、上記支持体を剥離する方法であって、
上記接着層に、請求項1〜5のいずれか1項に記載の剥離用組成物を接触させる接触工程を包含していることを特徴とする剥離方法。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012085047A JP5956224B2 (ja) | 2011-05-24 | 2012-04-03 | 剥離用組成物および剥離方法 |
KR1020120052939A KR101638655B1 (ko) | 2011-05-24 | 2012-05-18 | 박리용 조성물 및 박리 방법 |
CN201210158578.0A CN102796630B (zh) | 2011-05-24 | 2012-05-21 | 剥离用组合物及剥离方法 |
TW101118179A TWI515278B (zh) | 2011-05-24 | 2012-05-22 | 剝離用組成物及剝離方法 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011115905 | 2011-05-24 | ||
JP2011115905 | 2011-05-24 | ||
JP2012085047A JP5956224B2 (ja) | 2011-05-24 | 2012-04-03 | 剥離用組成物および剥離方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013007026A true JP2013007026A (ja) | 2013-01-10 |
JP5956224B2 JP5956224B2 (ja) | 2016-07-27 |
Family
ID=47674632
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012085047A Active JP5956224B2 (ja) | 2011-05-24 | 2012-04-03 | 剥離用組成物および剥離方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5956224B2 (ja) |
TW (1) | TWI515278B (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015078313A (ja) * | 2013-10-17 | 2015-04-23 | 東京応化工業株式会社 | 剥離用組成物及び剥離方法 |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6093187B2 (ja) * | 2012-02-08 | 2017-03-08 | 東京応化工業株式会社 | 剥離用組成物、剥離用組成物の製造方法、及びその利用 |
TWI677543B (zh) * | 2018-01-19 | 2019-11-21 | 南韓商Mti股份有限公司 | 切片工藝用保護性塗層劑的剝離劑 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010109324A (ja) * | 2008-10-03 | 2010-05-13 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 剥離方法、基板の接着剤、および基板を含む積層体 |
WO2010143510A1 (ja) * | 2009-06-11 | 2010-12-16 | 東京応化工業株式会社 | 接着剤組成物 |
JP2013112634A (ja) * | 2011-11-28 | 2013-06-10 | Takasago Internatl Corp | p−メンタン−3,8−ジオール異性体混合物、及びこれを含む組成物、並びにこれらを含む製品 |
-
2012
- 2012-04-03 JP JP2012085047A patent/JP5956224B2/ja active Active
- 2012-05-22 TW TW101118179A patent/TWI515278B/zh active
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010109324A (ja) * | 2008-10-03 | 2010-05-13 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 剥離方法、基板の接着剤、および基板を含む積層体 |
WO2010143510A1 (ja) * | 2009-06-11 | 2010-12-16 | 東京応化工業株式会社 | 接着剤組成物 |
JP2013112634A (ja) * | 2011-11-28 | 2013-06-10 | Takasago Internatl Corp | p−メンタン−3,8−ジオール異性体混合物、及びこれを含む組成物、並びにこれらを含む製品 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015078313A (ja) * | 2013-10-17 | 2015-04-23 | 東京応化工業株式会社 | 剥離用組成物及び剥離方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW201311839A (zh) | 2013-03-16 |
TWI515278B (zh) | 2016-01-01 |
JP5956224B2 (ja) | 2016-07-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5580800B2 (ja) | 積層体、およびその積層体の分離方法 | |
JP6446290B2 (ja) | 接着剤組成物、積層体及び剥離方法 | |
SG177574A1 (en) | Film for semiconductor and semiconductor device manufacturing method | |
TW201329185A (zh) | 晶圓加工體、晶圓加工用構件、晶圓加工用暫時性接著材及薄型晶圓之製造方法 | |
TW201237095A (en) | Active resin composition, surface mounting method and printed wiring board | |
TW201247747A (en) | Polymer having silphenylene and siloxane structures, method of preparing the same, adhesive composition, adhesive sheet, protective material for semiconductor device, and semiconductor device | |
JP5942850B2 (ja) | 電子装置の製造方法、電気、電子部品の製造方法 | |
US20120115280A1 (en) | Film for semiconductor and semiconductor device manufacturing method | |
TW201533788A (zh) | 暫時固定用薄膜、暫時固定用薄膜片及半導體裝置 | |
JP2014037458A (ja) | 接着剤組成物、接着フィルムおよび貼付方法 | |
JP5956224B2 (ja) | 剥離用組成物および剥離方法 | |
JP6034625B2 (ja) | 剥離方法 | |
JP2012092283A (ja) | 接着剤組成物 | |
US20190091979A1 (en) | Laminate production method, substrate processing method, and laminate | |
KR101638655B1 (ko) | 박리용 조성물 및 박리 방법 | |
TWI680881B (zh) | 分離層形成用組成物、分離層、含分離層之層合物、層合物之製造方法及層合物之處理方法 | |
JP5661669B2 (ja) | 接着剤組成物、接着フィルムおよび基板の処理方法 | |
TW201250873A (en) | Manufacturing method of semiconductor apparatus, manufacturing method of semiconductor wafer with semiconductor device, manufacturing method of semiconductor wafer with adhesive layer and manufacturing method of semiconductor wafer laminate | |
KR102148125B1 (ko) | 접착제 조성물 및 접착 필름 | |
JP6159220B2 (ja) | 剥離用組成物及び剥離方法 | |
JP2014143308A (ja) | 仮固定用組成物及び半導体装置の製造方法 | |
JP2017011279A (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
JP2019094478A (ja) | 対象物の処理方法、半導体装置、その製造方法および剪断剥離用仮固定用組成物 | |
JP6247871B2 (ja) | 積層体、積層体形成キットおよび積層体形成方法 | |
TWI535815B (zh) | 暫時固定劑及基材之加工方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20150121 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20151112 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20151117 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160107 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20160614 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20160616 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5956224 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |