JP2012533848A - 調節可能であるルーバー加工されたプラズマエレクトロンフラッド筐体 - Google Patents
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Abstract
Description
本出願は、「ADJUSTABLE LOUVERED PLASMA ELECTRON FLOOD ENCLOSURE」という名称の、2009年7月15日に出願された米国特許仮出願第61/225,843に基づく優先権および利益を主張する。この内容は、参照することにより、その全体があたかも本明細書に十分に明記されているかのように本明細書に組み込まれるものとする。
Claims (23)
- イオン注入システムにおける粒子汚染を低減させるための装置であって、
上記イオン注入システムのビームラインに沿って存在するように構成されている筐体を備えており、
上記筐体は、入口、出口、および、自側面内に規定される複数のルーバーを有する少なくとも1つのルーバー加工された側面を有しており、
上記ビームラインは、上記入口および上記出口を通過しており、
上記少なくとも1つのルーバー加工された側面の上記複数のルーバーは、上記ビームラインに沿って飛行するイオンビームの縁を機械的にフィルタリングするように構成されている、
ことを特徴とする装置。 - 上記筐体は、互いに略対向して配置されている2つのルーバー加工された側面を備えている、
ことを特徴とする請求項1に記載の装置。 - 上記筐体の上記入口および上記出口の各幅は、上記ビームラインに対して垂直に測定される場合、上記2つのルーバー加工された側面の互いに対する位置により略規定される、
ことを特徴とする請求項2に記載の装置。 - 上記ルーバー加工された側面の少なくとも1つは、調節可能に取り付けられており、
上記筐体の上記入口および上記出口の片方または両方の幅は、調節可能である、
ことを特徴とする請求項3に記載の装置。 - 上記2つのルーバー加工された側面は、上記筐体の上記入口に付随した回転軸をそれぞれ有しており、上記2つのルーバー加工された側面は、上記回転軸のそれぞれについて回転するように構成されており、上記筐体の上記出口の上記幅を制御する、
ことを特徴とする請求項4に記載の装置。 - 上記2つのルーバー加工された側面は、互いに対して非平行な平面内に存在している、
ことを特徴とする請求項3に記載の装置。 - 上記筐体の上記入口の上記幅は、上記筐体の上流側にある開口部の幅によって略規定され、上記筐体の上記出口の上記幅は、ワークピースの直上流側にある、上記ビームラインの出口開口部を略規定する、
ことを特徴とする請求項6に記載の装置。 - 上記入口の上記幅は、上記出口の上記幅よりも小さい、
ことを特徴とする請求項3に記載の装置。 - 上記2つのルーバー加工された側面の間にて、上記筐体の上部を略包囲する上面を更に備えている、
ことを特徴とする請求項2に記載の装置。 - 上記上面は、穿孔されていないプレートを備えている、
ことを特徴とする請求項9に記載の装置。 - 上記上面は、自上面内に規定される複数のルーバーを有するルーバー加工された上面を備えている、
ことを特徴とする請求項9に記載の装置。 - 上記出口に最も近い、上記上面における1つ以上の上記複数のルーバーは、出口開口部の上部を規定する、
ことを特徴とする請求項11に記載の装置。 - 上記入口に最も近い、上記上面における1つ以上の上記複数のルーバーは、上流側の開口部と同一の高さを有している、
ことを特徴とする請求項11に記載の装置。 - 上記2つのルーバー加工された側面の間にて、上記筐体の底部を略包囲する底面を更に備えている、
ことを特徴とする請求項2に記載の装置。 - 上記底面は、複数の穿孔を備えている、
ことを特徴とする請求項14に記載の装置。 - 上記複数のルーバーは、上記イオンビームの飛行方向において測定される場合、上記ビームラインに対して略90度より小さな角度で曲げられている、
ことを特徴とする請求項1に記載の装置。 - 上記筐体は、炭素から成る、
ことを特徴とする請求項1に記載の装置。 - 上記筐体は、プラズマエレクトロンフラッド筐体を備えており、
1つ以上の電極が、上記プラズマエレクトロンフラッド筐体内部の上記イオンビームに電圧を印加するように構成されており、上記プラズマエレクトロンフラッド筐体内部の上記イオンビームの空間電荷を制御する、
ことを特徴とする請求項1に記載の装置。 - 少なくとも1つの上記少なくとも1つのルーバー加工された側面が、調節可能に取り付けられており、
上記筐体の上記入口および上記出口の片方または両方の幅は、調節可能である、
ことを特徴とする請求項1に記載の装置。 - 上記筐体は、上記イオン注入システムに対して電気的に接地またはバイアスされていない、
ことを特徴とする請求項1に記載の装置。 - 1つ以上のワークピースへのイオン注入時における粒子汚染を低減させる方法において、
自イオン注入システムのビームラインに沿って存在するように構成されている筐体を備えているイオン注入システムであって、上記1つ以上のワークピースにイオンビームを介してイオンを注入するためのイオン注入システムを設ける工程を含んでおり、
上記筐体は、入口、出口、および、自側面内に規定される複数のルーバーを有する少なくとも1つのルーバー加工された側面を有しており、
上記イオンに上記筐体の上記入口および上記出口を通過させる工程を更に含んでおり、
上記少なくとも1つのルーバー加工された側面の上記複数のルーバーは、上記イオンビームの縁を機械的にフィルタリングし、上記ビームラインから1つ以上の汚染物質を除去する、
ことを特徴とする方法。 - 上記筐体は、互いに略対向して配置されている2つのルーバー加工された側面を備えており、
上記筐体の上記入口および上記出口の各幅は、上記ビームラインに対して垂直に測定される場合、上記2つのルーバー加工された側面の互いに対する位置によって略規定されており、
少なくとも1つの上記ルーバー加工された側面の位置を制御し、上記筐体の上記入口および上記出口の片方または両方の上記幅を制御する工程を更に含んでいる、
ことを特徴とする請求項21に記載の方法。 - 上記筐体は、上記2つのルーバー加工された側面の間にて上記筐体の底部を略包囲する底面を更に備えており、
上記底面は、上記底部を貫通する複数の穿孔を備えており、
上記1つ以上の汚染物質は、重力により上記複数の穿孔を通過せしめられ、
上記筐体の上記底面を通過した上記1つ以上の汚染物質を、上記イオン注入システムから隔離する工程を更に含んでいる、
ことを特徴とする請求項22に記載の方法。
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