JP2012532458A5

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Publication number: JP2012532458A5
Application number: JP2012518552A
Authority: JP
Filing date: 2010-06-23
Publication date: 2013-08-08
Anticipated expiration: 2030-06-23

Description

時間的に変化する分類性能の監視のためのシステムおよび方法が開示される。
方法は、１つまたは複数の走査型検査ツールからの１つまたは複数の標本の１つまたは複数の特性の指標となる、１つまたは複数の信号を受信することと、１つまたは複数の走査型検査ツールから受信した１つまたは複数の信号に、１つまたは複数の分類規則を適用して、１つまたは複数の標本における１つまたは複数の欠陥タイプの総数を決定することと、１つまたは複数の高分解能検査ツールを用いて、１つまたは複数の標本における１つまたは複数の欠陥タイプの総数を決定することと、１つまたは複数の走査型検査ツールから受信した１つまたは複数の信号に適用される１つまたは複数の分類規則の適用によって決定された、１つまたは複数の標本における１つまたは複数の欠陥タイプの総数と、１つまたは複数の高分解能検査ツールを用いて決定された、１つまたは複数の標本における１つまたは複数の欠陥タイプの総数と、の間の１つまたは複数の相関を計算することと、を含みうるが、これに限定されるものではない。
上述の概要、および以下の詳細な説明は、共に例示的、説明的なものに過ぎず、必ずしも請求項に記載された本発明を限定するものではないことが理解されるべきである。添付の図面は、本明細書に組み込まれて本明細書の一部を構成し、本発明の実施形態を例示し、概要と共に、本発明の原理の説明に役立つものである。
本発明は以下の適用例としても実現可能である。
［適用例１］
時間的に変化する欠陥分類性能の監視のための方法であって、
１つまたは複数の走査型検査ツールからの１つまたは複数の標本の１つまたは複数の特性の指標となる、１つまたは複数の信号を受信することと、
前記１つまたは複数の走査型検査ツールから受信した前記１つまたは複数の信号に、１つまたは複数の分類規則を適用して、前記１つまたは複数の標本における１つまたは複数の欠陥タイプの総数を決定することと、
１つまたは複数の高分解能検査ツールを用いて、前記１つまたは複数の標本における前記１つまたは複数の欠陥タイプの総数を決定することと、
前記１つまたは複数の走査型検査ツールから受信した１つまたは複数の信号に適用される１つまたは複数の分類規則の適用によって決定された、前記１つまたは複数の標本における前記１つまたは複数の欠陥タイプの総数と、前記１つまたは複数の高分解能検査ツールを用いて決定された、前記１つまたは複数の標本における前記１つまたは複数の欠陥タイプの総数と、の間の１つまたは複数の相関を計算することと、含む方法。
［適用例２］
適用例１に記載の方法であって、
前記１つまたは複数の走査型検査ツールは、明視野パターン付きウェハ検査装置、パターン付き暗視野光子光学ウェハ検査装置、パターンなし暗視野光子光学ウェハ検査装置、および電子ビーム光学領域走査型検査装置のうちの少なくとも１つから選択される、方法。
［適用例３］
適用例１に記載の方法であって、
前記分類特性は、サイズ、形状、極性、テクスチャ、コントラスト、バックグラウンドビジネスのうちの少なくとも１つから選択される、方法。
［適用例４］
適用例１に記載の方法であって、
前記１つまたは複数の高分解能検査ツールは、走査型電子顕微鏡、原子間力顕微鏡、共焦点顕微鏡のうちの少なくとも１つから選択される、方法。
［適用例５］
適用例１に記載の方法であって、
前記１つまたは複数の走査型検査ツールから受信した前記１つまたは複数の信号に、１つまたは複数の分類規則を適用して、前記１つまたは複数の標本における１つまたは複数の欠陥タイプの総数を前記決定することは、
前記１つまたは複数の走査型検査ツールから受信した前記１つまたは複数の信号に、１つまたは複数の分類規則を適用して、少なくとも第１標本および第２標本における１つまたは複数の欠陥タイプの総数を決定することを含み、
１つまたは複数の高分解能検査ツールを用いて、前記１つまたは複数の標本における前記１つまたは複数の欠陥タイプの総数を前記決定することは、
前記１つまたは複数の高分解能検査ツールを用いて、少なくとも前記第１標本および前記第２標本における１つまたは複数の欠陥タイプの総数を決定することを含み、
前記１つまたは複数の走査型検査ツールから受信した１つまたは複数の信号に適用される１つまたは複数の分類規則の適用によって決定された、前記１つまたは複数の標本における前記１つまたは複数の欠陥タイプの総数と、前記１つまたは複数の高分解能検査ツールを用いて決定された、前記１つまたは複数の標本における前記１つまたは複数の欠陥タイプの総数と、の間の１つまたは複数の相関を前記計算することは、
前記１つまたは複数の光学検査ツールから受信した１つまたは複数の信号に対する１つまたは複数の分類規則の適用によって決定された、１つまたは複数の欠陥タイプの総数の少なくとも前記第１標本および前記第２標本と、前記１つまたは複数の高分解能検査ツールの使用を通して決定された、１つまたは複数の欠陥タイプの総数と、の間の相対的安定性を計算することを含む、方法。
［適用例６］
適用例１に記載の方法であって、
前記１つまたは複数の走査型検査ツールから受信した前記１つまたは複数の信号に、１つまたは複数の分類規則を適用して、前記１つまたは複数の標本における１つまたは複数の欠陥タイプの総数を前記決定することは、
前記１つまたは複数の走査型検査ツールから受信した前記１つまたは複数の信号に対する、１つまたは複数の分類規則を適用して、標本における少なくとも第１欠陥タイプおよび第２欠陥タイプの総数を決定することを含み、
１つまたは複数の高分解能検査ツールを用いて、前記１つまたは複数の標本における前記１つまたは複数の欠陥タイプの総数を前記決定することは、
前記１つまたは複数の高分解能検査ツールの使用により、標本における少なくとも第１欠陥タイプおよび第２欠陥タイプの総数を決定することを含み、
前記１つまたは複数の走査型検査ツールから受信した１つまたは複数の信号に適用される１つまたは複数の分類規則の適用によって決定された、前記１つまたは複数の標本における前記１つまたは複数の欠陥タイプの総数と、前記１つまたは複数の高分解能検査ツールを用いて決定された、前記１つまたは複数の標本における前記１つまたは複数の欠陥タイプの総数と、の間の１つまたは複数の相関を前記計算することは、
前記１つまたは複数の走査型検査ツールから受信した前記標本に関連付けられた１つまたは複数の信号に対する１つまたは複数の分類規則の適用によって決定された、前記第１欠陥タイプの前記総数と前記第２欠陥タイプの前記総数の間の第１相関を計算することと、
前記１つまたは複数の高分解能検査ツールを用いて決定された、前記第１欠陥タイプの前記総数と前記第２欠陥タイプの前記総数の間の第２相関を計算することと、
前記第１相関と前記第２相関の間の相関を計算することと、を含む、方法。
［適用例７］
適用例１に記載の方法であって、
１つまたは複数の光学検査ツールから受信した１つまたは複数の信号に対して適用される、１つまたは複数の分類規則を生成すること、を更に含む、方法。
［適用例８］
適用例１に記載の方法であって、
前記１つまたは複数の走査型検査ツールから受信した１つまたは複数の信号に対する１つまたは複数の分類規則の適用によって決定された、前記１つまたは複数の標本における１つまたは複数の欠陥タイプの前記総数と、前記１つまたは複数の高分解能検査ツールを用いて決定された欠陥タイプの総数と、の間の１つまたは複数の相関に従って、１つまたは複数の分類規則を修正すること、を更に含む、方法。
［適用例９］
時間的に変化する欠陥分類性能の監視のためのシステムであって、
１つまたは複数の走査型検査ツールからの１つまたは複数の標本の１つまたは複数の特性の指標となる、１つまたは複数の信号を受信するための手段と、
前記１つまたは複数の走査型検査ツールから受信した前記１つまたは複数の信号に、１つまたは複数の分類規則を適用して、前記１つまたは複数の標本における１つまたは複数の欠陥タイプの総数を決定するための手段と、
１つまたは複数の高分解能検査ツールを用いて、前記１つまたは複数の標本における前記１つまたは複数の欠陥タイプの総数を決定するための手段と、
前記１つまたは複数の走査型検査ツールから受信した１つまたは複数の信号に適用される１つまたは複数の分類規則の適用によって決定された、前記１つまたは複数の標本における前記１つまたは複数の欠陥タイプの総数と、前記１つまたは複数の高分解能検査ツールを用いて決定された、前記１つまたは複数の標本における前記１つまたは複数の欠陥タイプの総数と、の間の１つまたは複数の相関を計算するための手段と、を含むシステム。
［適用例１０］
適用例９に記載のシステムであって、
前記１つまたは複数の走査型検査ツールは、明視野パターン付きウェハ検査装置、パターン付き暗視野光子光学ウェハ検査装置、パターンなし暗視野光子光学ウェハ検査装置、および電子ビーム光学領域走査型検査装置のうちの少なくとも１つから選択される、システム。
［適用例１１］
適用例９に記載のシステムであって、
前記分類性能は、サイズ、形状、極性、テクスチャ、コントラスト、バックグラウンドビジネスのうちの少なくとも１つから選択される、システム。
［適用例１２］
適用例９に記載のシステムであって、
前記１つまたは複数の高分解能検査ツールは、走査型電子顕微鏡、原子間力顕微鏡、共焦点顕微鏡のうちの少なくとも１つから選択される、システム。
［適用例１３］
適用例９に記載のシステムであって、
前記１つまたは複数の走査型検査ツールから受信した前記１つまたは複数の信号に、１つまたは複数の分類規則を適用して、前記１つまたは複数の標本における１つまたは複数の欠陥タイプの総数を決定するための手段は、
前記１つまたは複数の走査型検査ツールから受信した前記１つまたは複数の信号に、１つまたは複数の分類規則を適用して、少なくとも第１標本および第２標本における１つまたは複数の欠陥タイプの総数を決定することを含み、
１つまたは複数の高分解能検査ツールを用いて、前記１つまたは複数の標本における前記１つまたは複数の欠陥タイプの総数を前記決定するための手段は、
前記１つまたは複数の高分解能検査ツールを用いて、少なくとも前記第１標本および前記第２標本における１つまたは複数の欠陥タイプの総数を決定するための手段を含み、
前記１つまたは複数の走査型検査ツールから受信した１つまたは複数の信号に適用される１つまたは複数の分類規則の適用によって決定された、前記１つまたは複数の標本における前記１つまたは複数の欠陥タイプの総数と、前記１つまたは複数の高分解能検査ツールを用いて決定された、前記１つまたは複数の標本における前記１つまたは複数の欠陥タイプの総数と、の間の１つまたは複数の相関を前記計算するための手段は、
前記１つまたは複数の光学検査ツールから受信した１つまたは複数の信号に対する１つまたは複数の分類規則の適用によって決定された、１つまたは複数の欠陥タイプの総数の少なくとも前記第１標本および前記第２標本と、前記１つまたは複数の高分解能検査ツールの使用を通して決定された、１つまたは複数の欠陥タイプの総数と、の間の相対的安定性を計算するための手段を含む、システム。
［適用例１４］
適用例９に記載のシステムであって、
前記１つまたは複数の走査型検査ツールから受信した前記１つまたは複数の信号に対する、１つまたは複数の分類規則を適用して、前記１つまたは複数の標本における１つまたは複数の欠陥タイプの総数を前記決定するための手段は、
前記１つまたは複数の高分解能検査ツールの使用により、標本における少なくとも第１欠陥タイプおよび第２欠陥タイプの総数を決定するための手段を含み、
１つまたは複数の高分解能検査ツールを用いて、前記１つまたは複数の標本における前記１つまたは複数の欠陥タイプの総数を前記決定するための手段は、
前記１つまたは複数の高分解能検査ツールの使用により、標本における少なくとも第１欠陥タイプおよび第２欠陥タイプの総数を決定することを含み、
前記１つまたは複数の走査型検査ツールから受信した１つまたは複数の信号に適用される１つまたは複数の分類規則の適用によって決定された、前記１つまたは複数の標本における前記１つまたは複数の欠陥タイプの総数と、前記１つまたは複数の高分解能検査ツールを用いて決定された、前記１つまたは複数の標本における前記１つまたは複数の欠陥タイプの総数と、の間の１つまたは複数の相関を前記計算するための手段は、
前記１つまたは複数の走査型検査ツールから受信した前記標本に関連付けられた１つまたは複数の信号に対する１つまたは複数の分類規則の適用によって決定された、前記第１欠陥タイプの前記総数と前記第２欠陥タイプの前記総数の間の第１相関を計算するための手段と、
前記１つまたは複数の高分解能検査ツールを用いて決定された、前記第１欠陥タイプの前記総数と前記第２欠陥タイプの前記総数の間の第２相関を計算するための手段と、
前記第１相関と前記第２相関の間の相関を計算するための手段と、を含む、システム。
［適用例１５］
適用例９に記載のシステムであって、
１つまたは複数の光学検査ツールから受信した１つまたは複数の信号に対して適用される、１つまたは複数の分類規則を生成するための手段を更に含む、システム。
［適用例１６］
適用例９に記載のシステムであって、
前記１つまたは複数の走査型検査ツールから受信した１つまたは複数の信号に対する１つまたは複数の分類規則の適用によって決定された、前記１つまたは複数の標本における１つまたは複数の欠陥タイプの前記総数と、前記１つまたは複数の高分解能検査ツールを用いて決定された欠陥タイプの総数と、の間の１つまたは複数の相関に従って、１つまたは複数の分類規則を修正するための手段を更に含む、システム。
［適用例１７］
コンピュータデバイス上でプロセスを実行するためのコンピュータ可読命令を含むコンピュータ可読媒体であって、前記プロセスは、
１つまたは複数の走査型検査ツールからの１つまたは複数の標本の１つまたは複数の特性の指標となる、１つまたは複数の信号を受信することと、
前記１つまたは複数の走査型検査ツールから受信した前記１つまたは複数の信号に、１つまたは複数の分類規則を適用して、前記１つまたは複数の標本における１つまたは複数の欠陥タイプの総数を決定することと、
１つまたは複数の高分解能検査ツールを用いて、前記１つまたは複数の標本における前記１つまたは複数の欠陥タイプの総数を決定することと、
前記１つまたは複数の走査型検査ツールから受信した１つまたは複数の信号に適用される１つまたは複数の分類規則の適用によって決定された、前記１つまたは複数の標本における前記１つまたは複数の欠陥タイプの総数と、前記１つまたは複数の高分解能検査ツールを用いて決定された、前記１つまたは複数の標本における前記１つまたは複数の欠陥タイプの総数と、の間の１つまたは複数の相関を計算することと、を含むコンピュータ可読媒体。
［適用例１８］
適用例１７に記載のコンピュータ可読媒体であって、
前記１つまたは複数の走査型検査ツールから受信した前記１つまたは複数の信号に、１つまたは複数の分類規則を適用して、前記１つまたは複数の標本における１つまたは複数の欠陥タイプの総数を前記決定するための手段は、
前記１つまたは複数の走査型検査ツールから受信した前記１つまたは複数の信号に、１つまたは複数の分類規則を適用して、少なくとも第１標本および第２標本における１つまたは複数の欠陥タイプの総数を決定することを含み、
１つまたは複数の高分解能検査ツールを用いて、前記１つまたは複数の標本における前記１つまたは複数の欠陥タイプの総数を前記決定するための手段は、
前記１つまたは複数の高分解能検査ツールを用いて、少なくとも前記第１標本および前記第２標本における１つまたは複数の欠陥タイプの総数を決定するための手段を含み、
前記１つまたは複数の走査型検査ツールから受信した１つまたは複数の信号に適用される１つまたは複数の分類規則の適用によって決定された、前記１つまたは複数の標本における前記１つまたは複数の欠陥タイプの総数と、前記１つまたは複数の高分解能検査ツールを用いて決定された、前記１つまたは複数の標本における前記１つまたは複数の欠陥タイプの総数と、の間の１つまたは複数の相関を前記計算するための手段は、
前記１つまたは複数の光学検査ツールから受信した１つまたは複数の信号に対する１つまたは複数の分類規則の適用によって決定された、１つまたは複数の欠陥タイプの総数の少なくとも前記第１標本および前記第２標本と、前記１つまたは複数の高分解能検査ツールの使用を通して決定された、１つまたは複数の欠陥タイプの総数と、の間の相対的安定性を計算するための手段を含む、コンピュータ可読媒体。
［適用例１９］
適用例１７に記載のシステムであって、
前記１つまたは複数の走査型検査ツールから受信した前記１つまたは複数の信号に、１つまたは複数の分類規則を適用して、前記１つまたは複数の標本における１つまたは複数の欠陥タイプの総数を前記決定するための手段は、
前記１つまたは複数の高分解能検査ツールの使用により、標本における少なくとも第１欠陥タイプおよび第２欠陥タイプの総数を決定するための手段を含み、
１つまたは複数の高分解能検査ツールを用いて、前記１つまたは複数の標本における前記１つまたは複数の欠陥タイプの総数を前記決定するための手段は、
前記１つまたは複数の高分解能検査ツールの使用により、標本における少なくとも第１欠陥タイプおよび第２欠陥タイプの総数を決定することを含み、
前記１つまたは複数の走査型検査ツールから受信した１つまたは複数の信号に適用される１つまたは複数の分類規則の適用によって決定された、前記１つまたは複数の標本における前記１つまたは複数の欠陥タイプの総数と、前記１つまたは複数の高分解能検査ツールを用いて決定された、前記１つまたは複数の標本における前記１つまたは複数の欠陥タイプの総数と、の間の１つまたは複数の相関を前記計算するための手段は、
前記１つまたは複数の走査型検査ツールから受信した前記標本に関連付けられた１つまたは複数の信号に対する１つまたは複数の分類規則の適用によって決定された、前記第１欠陥タイプの前記総数と前記第２欠陥タイプの前記総数の間の第１相関を計算するための手段と、
前記１つまたは複数の高分解能検査ツールを用いて決定された、前記第１欠陥タイプの前記総数と前記第２欠陥タイプの前記総数の間の第２相関を計算するための手段と、
前記第１相関と前記第２相関の間の相関を計算するための手段と、を含む、システム。
［適用例２０］
適用例１７に記載のシステムであって、
１つまたは複数の光学検査ツールから受信した１つまたは複数の信号に対して適用される、１つまたは複数の分類規則を生成すること、を更に含む、システム。
［適用例２１］
適用例１７に記載のシステムであって、
前記１つまたは複数の走査型検査ツールから受信した１つまたは複数の信号に対する１つまたは複数の分類規則の適用によって決定された、前記１つまたは複数の標本における１つまたは複数の欠陥タイプの前記総数と、前記１つまたは複数の高分解能検査ツールを用いて決定された欠陥タイプの総数と、の間の前記１つまたは複数の相関に従って、１つまたは複数の分類規則を修正するための手段を更に含む、システム。

作業１２０６は、１つまたは複数の走査型検査ツールから受信した標本に関連付けられた１つまたは複数の信号に対する１つまたは複数の分類規則の適用によって決定された、第１欠陥タイプの総数と第２欠陥タイプの総数との間の第１相関を計算することを示す。例えば、図１に示されるように、欠陥分析モジュール１０２は、欠陥総数データ１０８Ａを監視しうる。例えば、図６，８に示されるように、標本ウェハ１０５に見られる第１欠陥タイプ（例えば、欠陥１）における欠陥総数、および標本ウェハ１０５に見られる第２欠陥タイプ（例えば、欠陥２）における欠陥総数を示す、欠陥総数データ１０８Ａは、標本ウェハ１０５の製造の完了に対応する時間に従ってプロットされうるものであり、それによって、第１欠陥タイプ（例えば、欠陥１）における欠陥総数、および第２欠陥タイプ（例えば、欠陥２）における欠陥総数の監視を可能とする。第１欠陥タイプと第２欠陥タイプの間の相関（例えば、比率）は、欠陥総数データ１０８Ａから計算されうる。

作業１２０８は、１つまたは複数の高分解能検査ツールを用いて決定された、第１欠陥タイプの総数と第２欠陥タイプの総数との間の第２相関を計算することを示す。例えば、図１に示されるように、欠陥分析モジュール１０２は、欠陥総数データ１０８Ｂを監視しうる。例えば、図７，９に示されるように、標本ウェハ１０５に見られる第１欠陥タイプ（例えば、欠陥１）における欠陥総数、および標本ウェハ１０５に見られる第２欠陥タイプ（例えば、欠陥２）における欠陥総数を示す、欠陥総数データ１０８Ｂは、標本ウェハ１０５の製造の完了に対応する時間に従ってプロットされうるものであり、それによって、第１欠陥タイプ（例えば、欠陥１）における欠陥総数、および第２欠陥タイプ（例えば、欠陥２）における欠陥総数の監視を可能とする。第１欠陥タイプと第２欠陥タイプの間の相関（例えば、比率）は、欠陥総数データ１０８Ｂから計算されうる。

例えば、上述のように、図６は、検査モジュール１０１によって決定された、標本ウェハ１０５内の欠陥１の総数を示す。図７は、性能監視モジュール１０３によって決定された、標本ウェハ１０５内の欠陥１の総数を示す。図８は、検査モジュール１０１によって決定された、欠陥２の総数を示す。図９は、性能監視モジュール１０３によって決定された、標本ウェハ１０５内の欠陥２の総数を示す。

Claims

時間的に変化する欠陥分類性能の監視のための方法であって、
１つまたは複数の走査型検査ツールからの１つまたは複数の標本の１つまたは複数の特性の指標となる、１つまたは複数の信号を受信することと、
前記１つまたは複数の走査型検査ツールから受信した前記１つまたは複数の信号に、１つまたは複数の分類規則を適用して、前記１つまたは複数の標本における１つまたは複数の欠陥タイプの総数を決定することと、
１つまたは複数の高分解能検査ツールを用いて、前記１つまたは複数の標本における前記１つまたは複数の欠陥タイプの総数を決定することと、
前記１つまたは複数の走査型検査ツールから受信した１つまたは複数の信号に適用される１つまたは複数の分類規則の適用によって決定された、前記１つまたは複数の標本における前記１つまたは複数の欠陥タイプの総数と、前記１つまたは複数の高分解能検査ツールを用いて決定された、前記１つまたは複数の標本における前記１つまたは複数の欠陥タイプの総数と、の間の１つまたは複数の相関を計算することと、含む方法。
請求項１に記載の方法であって、
前記１つまたは複数の走査型検査ツールから受信した前記１つまたは複数の信号に、１つまたは複数の分類規則を適用して、前記１つまたは複数の標本における１つまたは複数の欠陥タイプの総数を前記決定することは、
前記１つまたは複数の走査型検査ツールから受信した前記１つまたは複数の信号に、１つまたは複数の分類規則を適用して、少なくとも第１標本および第２標本における１つまたは複数の欠陥タイプの総数を決定することを含み、
１つまたは複数の高分解能検査ツールを用いて、前記１つまたは複数の標本における前記１つまたは複数の欠陥タイプの総数を前記決定することは、
前記１つまたは複数の高分解能検査ツールを用いて、少なくとも前記第１標本および前記第２標本における１つまたは複数の欠陥タイプの総数を決定することを含み、
前記１つまたは複数の走査型検査ツールから受信した１つまたは複数の信号に適用される１つまたは複数の分類規則の適用によって決定された、前記１つまたは複数の標本における前記１つまたは複数の欠陥タイプの総数と、前記１つまたは複数の高分解能検査ツールを用いて決定された、前記１つまたは複数の標本における前記１つまたは複数の欠陥タイプの総数と、の間の１つまたは複数の相関を前記計算することは、
前記１つまたは複数の光学検査ツールから受信した１つまたは複数の信号に対する１つまたは複数の分類規則の適用によって決定された、１つまたは複数の欠陥タイプの総数の少なくとも前記第１標本および前記第２標本と、前記１つまたは複数の高分解能検査ツールの使用を通して決定された、１つまたは複数の欠陥タイプの総数と、の間の相対的安定性を計算することを含む、方法。
請求項１に記載の方法であって、
前記１つまたは複数の走査型検査ツールから受信した前記１つまたは複数の信号に、１つまたは複数の分類規則を適用して、前記１つまたは複数の標本における１つまたは複数の欠陥タイプの総数を前記決定することは、
前記１つまたは複数の走査型検査ツールから受信した前記１つまたは複数の信号に、１つまたは複数の分類規則を適用して、標本における少なくとも第１欠陥タイプおよび第２欠陥タイプの総数を決定することを含み、
１つまたは複数の高分解能検査ツールを用いて、前記１つまたは複数の標本における前記１つまたは複数の欠陥タイプの総数を前記決定することは、
前記１つまたは複数の高分解能検査ツールの使用により、標本における少なくとも第１欠陥タイプおよび第２欠陥タイプの総数を決定することを含み、
前記１つまたは複数の走査型検査ツールから受信した１つまたは複数の信号に適用される１つまたは複数の分類規則の適用によって決定された、前記１つまたは複数の標本における前記１つまたは複数の欠陥タイプの総数と、前記１つまたは複数の高分解能検査ツールを用いて決定された、前記１つまたは複数の標本における前記１つまたは複数の欠陥タイプの総数と、の間の１つまたは複数の相関を前記計算することは、
前記１つまたは複数の走査型検査ツールから受信した前記標本に関連付けられた１つまたは複数の信号に対する１つまたは複数の分類規則の適用によって決定された、前記第１欠陥タイプの前記総数と前記第２欠陥タイプの前記総数の間の第１相関を計算することと、
前記１つまたは複数の高分解能検査ツールを用いて決定された、前記第１欠陥タイプの前記総数と前記第２欠陥タイプの前記総数の間の第２相関を計算することと、
前記第１相関と前記第２相関の間の相関を計算することと、を含む、方法。
請求項１から請求項３までのいずれか一項に記載の方法であって、
１つまたは複数の光学検査ツールから受信した１つまたは複数の信号に対して適用される、１つまたは複数の分類規則を生成すること、を更に含む、方法。
請求項１から請求項４までのいずれか一項に記載の方法であって、
前記１つまたは複数の走査型検査ツールから受信した１つまたは複数の信号に対する１つまたは複数の分類規則の適用によって決定された、前記１つまたは複数の標本における１つまたは複数の欠陥タイプの前記総数と、前記１つまたは複数の高分解能検査ツールを用いて決定された欠陥タイプの総数と、の間の１つまたは複数の相関に従って、１つまたは複数の分類規則を修正すること、を更に含む、方法。
請求項１から請求項５までのいずれか一項に記載の方法であって、
前記１つまたは複数の走査型検査ツールは、明視野パターン付きウェハ検査装置、パターン付き暗視野光子光学ウェハ検査装置、パターンなし暗視野光子光学ウェハ検査装置、および電子ビーム光学領域走査型検査装置のうちの少なくとも１つから選択される、方法。
請求項１から請求項６までのいずれか一項に記載の方法であって、
前記分類特性は、サイズ、形状、極性、テクスチャ、コントラスト、バックグラウンドビジネスのうちの少なくとも１つから選択される、方法。
請求項１から請求項７までのいずれか一項に記載の方法であって、
前記１つまたは複数の高分解能検査ツールは、走査型電子顕微鏡、原子間力顕微鏡、共焦点顕微鏡のうちの少なくとも１つから選択される、方法。
時間的に変化する欠陥分類性能の監視のためのシステムであって、
１つまたは複数の走査型検査ツールからの１つまたは複数の標本の１つまたは複数の特性の指標となる、１つまたは複数の信号を受信するための手段と、
前記１つまたは複数の走査型検査ツールから受信した前記１つまたは複数の信号に、１つまたは複数の分類規則を適用して、前記１つまたは複数の標本における１つまたは複数の欠陥タイプの総数を決定するための手段と、
１つまたは複数の高分解能検査ツールを用いて、前記１つまたは複数の標本における前記１つまたは複数の欠陥タイプの総数を決定するための手段と、
前記１つまたは複数の走査型検査ツールから受信した１つまたは複数の信号に適用される１つまたは複数の分類規則の適用によって決定された、前記１つまたは複数の標本における前記１つまたは複数の欠陥タイプの総数と、前記１つまたは複数の高分解能検査ツールを用いて決定された、前記１つまたは複数の標本における前記１つまたは複数の欠陥タイプの総数と、の間の１つまたは複数の相関を計算するための手段と、を含むシステム。
請求項９に記載のシステムであって、
前記１つまたは複数の走査型検査ツールから受信した前記１つまたは複数の信号に、１つまたは複数の分類規則を適用して、前記１つまたは複数の標本における１つまたは複数の欠陥タイプの総数を決定するための手段は、
前記１つまたは複数の走査型検査ツールから受信した前記１つまたは複数の信号に、１つまたは複数の分類規則を適用して、少なくとも第１標本および第２標本における１つまたは複数の欠陥タイプの総数を決定する手段を含み、
１つまたは複数の高分解能検査ツールを用いて、前記１つまたは複数の標本における前記１つまたは複数の欠陥タイプの総数を前記決定するための手段は、
前記１つまたは複数の高分解能検査ツールを用いて、少なくとも前記第１標本および前記第２標本における１つまたは複数の欠陥タイプの総数を決定するための手段を含み、
前記１つまたは複数の走査型検査ツールから受信した１つまたは複数の信号に適用される１つまたは複数の分類規則の適用によって決定された、前記１つまたは複数の標本における前記１つまたは複数の欠陥タイプの総数と、前記１つまたは複数の高分解能検査ツールを用いて決定された、前記１つまたは複数の標本における前記１つまたは複数の欠陥タイプの総数と、の間の１つまたは複数の相関を前記計算するための手段は、
前記１つまたは複数の光学検査ツールから受信した１つまたは複数の信号に対する１つまたは複数の分類規則の適用によって決定された、１つまたは複数の欠陥タイプの総数の少なくとも前記第１標本および前記第２標本と、前記１つまたは複数の高分解能検査ツールの使用を通して決定された、１つまたは複数の欠陥タイプの総数と、の間の相対的安定性を計算するための手段を含む、システム。
請求項９に記載のシステムであって、
前記１つまたは複数の走査型検査ツールから受信した前記１つまたは複数の信号に対する、１つまたは複数の分類規則を適用して、前記１つまたは複数の標本における１つまたは複数の欠陥タイプの総数を前記決定するための手段は、
前記１つまたは複数の走査型検査ツールから受信した前記１つまたは複数の信号に、１つまたは複数の分類規則を適用して、標本における少なくとも第１欠陥タイプおよび第２欠陥タイプの総数を決定するための手段を含み、
１つまたは複数の高分解能検査ツールを用いて、前記１つまたは複数の標本における前記１つまたは複数の欠陥タイプの総数を前記決定するための手段は、
前記１つまたは複数の高分解能検査ツールの使用により、標本における少なくとも第１欠陥タイプおよび第２欠陥タイプの総数を決定する手段を含み、
前記１つまたは複数の走査型検査ツールから受信した１つまたは複数の信号に適用される１つまたは複数の分類規則の適用によって決定された、前記１つまたは複数の標本における前記１つまたは複数の欠陥タイプの総数と、前記１つまたは複数の高分解能検査ツールを用いて決定された、前記１つまたは複数の標本における前記１つまたは複数の欠陥タイプの総数と、の間の１つまたは複数の相関を前記計算するための手段は、
前記１つまたは複数の走査型検査ツールから受信した前記標本に関連付けられた１つまたは複数の信号に対する１つまたは複数の分類規則の適用によって決定された、前記第１欠陥タイプの前記総数と前記第２欠陥タイプの前記総数の間の第１相関を計算するための手段と、
前記１つまたは複数の高分解能検査ツールを用いて決定された、前記第１欠陥タイプの前記総数と前記第２欠陥タイプの前記総数の間の第２相関を計算するための手段と、
前記第１相関と前記第２相関の間の相関を計算するための手段と、を含む、システム。
請求項９から請求項１１までのいずれか一項に記載のシステムであって、
１つまたは複数の光学検査ツールから受信した１つまたは複数の信号に対して適用される、１つまたは複数の分類規則を生成するための手段を更に含む、システム。
請求項９から請求項１２までのいずれか一項に記載のシステムであって、
前記１つまたは複数の走査型検査ツールから受信した１つまたは複数の信号に対する１つまたは複数の分類規則の適用によって決定された、前記１つまたは複数の標本における１つまたは複数の欠陥タイプの前記総数と、前記１つまたは複数の高分解能検査ツールを用いて決定された欠陥タイプの総数と、の間の１つまたは複数の相関に従って、１つまたは複数の分類規則を修正するための手段を更に含む、システム。
請求項９から請求項１３までのいずれか一項に記載のシステムであって、
前記１つまたは複数の走査型検査ツールは、明視野パターン付きウェハ検査装置、パターン付き暗視野光子光学ウェハ検査装置、パターンなし暗視野光子光学ウェハ検査装置、および電子ビーム光学領域走査型検査装置のうちの少なくとも１つから選択される、システム。
請求項９から請求項１４までのいずれか一項に記載のシステムであって、
前記分類性能は、サイズ、形状、極性、テクスチャ、コントラスト、バックグラウンドビジネスのうちの少なくとも１つから選択される、システム。
請求項９から請求項１５までのいずれか一項に記載のシステムであって、
前記１つまたは複数の高分解能検査ツールは、走査型電子顕微鏡、原子間力顕微鏡、共焦点顕微鏡のうちの少なくとも１つから選択される、システム。
コンピュータデバイス上でプロセスを実行するためのコンピュータ可読命令を含むコンピュータ可読媒体であって、前記プロセスは、
１つまたは複数の走査型検査ツールからの１つまたは複数の標本の１つまたは複数の特性の指標となる、１つまたは複数の信号を受信することと、
前記１つまたは複数の走査型検査ツールから受信した前記１つまたは複数の信号に、１つまたは複数の分類規則を適用して、前記１つまたは複数の標本における１つまたは複数の欠陥タイプの総数を決定することと、
１つまたは複数の高分解能検査ツールを用いて、前記１つまたは複数の標本における前記１つまたは複数の欠陥タイプの総数を決定することと、
前記１つまたは複数の走査型検査ツールから受信した１つまたは複数の信号に適用される１つまたは複数の分類規則の適用によって決定された、前記１つまたは複数の標本における前記１つまたは複数の欠陥タイプの総数と、前記１つまたは複数の高分解能検査ツールを用いて決定された、前記１つまたは複数の標本における前記１つまたは複数の欠陥タイプの総数と、の間の１つまたは複数の相関を計算することと、を含むコンピュータ可読媒体。
請求項１７に記載のコンピュータ可読媒体であって、
前記１つまたは複数の走査型検査ツールから受信した前記１つまたは複数の信号に、１つまたは複数の分類規則を適用して、前記１つまたは複数の標本における１つまたは複数の欠陥タイプの総数を前記決定することは、
前記１つまたは複数の走査型検査ツールから受信した前記１つまたは複数の信号に、１つまたは複数の分類規則を適用して、少なくとも第１標本および第２標本における１つまたは複数の欠陥タイプの総数を決定することを含み、
１つまたは複数の高分解能検査ツールを用いて、前記１つまたは複数の標本における前記１つまたは複数の欠陥タイプの総数を前記決定することは、
前記１つまたは複数の高分解能検査ツールを用いて、少なくとも前記第１標本および前記第２標本における１つまたは複数の欠陥タイプの総数を決定することを含み、
前記１つまたは複数の走査型検査ツールから受信した１つまたは複数の信号に適用される１つまたは複数の分類規則の適用によって決定された、前記１つまたは複数の標本における前記１つまたは複数の欠陥タイプの総数と、前記１つまたは複数の高分解能検査ツールを用いて決定された、前記１つまたは複数の標本における前記１つまたは複数の欠陥タイプの総数と、の間の１つまたは複数の相関を前記計算することは、
前記１つまたは複数の光学検査ツールから受信した１つまたは複数の信号に対する１つまたは複数の分類規則の適用によって決定された、１つまたは複数の欠陥タイプの総数の少なくとも前記第１標本および前記第２標本と、前記１つまたは複数の高分解能検査ツールの使用を通して決定された、１つまたは複数の欠陥タイプの総数と、の間の相対的安定性を計算することを含む、コンピュータ可読媒体。
請求項１７に記載のコンピュータ可読媒体であって、
前記１つまたは複数の走査型検査ツールから受信した前記１つまたは複数の信号に、１つまたは複数の分類規則を適用して、前記１つまたは複数の標本における１つまたは複数の欠陥タイプの総数を前記決定することは、
前記１つまたは複数の高分解能検査ツールの使用により、標本における少なくとも第１欠陥タイプおよび第２欠陥タイプの総数を決定することを含み、
１つまたは複数の高分解能検査ツールを用いて、前記１つまたは複数の標本における前記１つまたは複数の欠陥タイプの総数を前記決定することは、
前記１つまたは複数の高分解能検査ツールの使用により、標本における少なくとも第１欠陥タイプおよび第２欠陥タイプの総数を決定することを含み、
前記１つまたは複数の走査型検査ツールから受信した１つまたは複数の信号に適用される１つまたは複数の分類規則の適用によって決定された、前記１つまたは複数の標本における前記１つまたは複数の欠陥タイプの総数と、前記１つまたは複数の高分解能検査ツールを用いて決定された、前記１つまたは複数の標本における前記１つまたは複数の欠陥タイプの総数と、の間の１つまたは複数の相関を前記計算することは、
前記１つまたは複数の走査型検査ツールから受信した前記標本に関連付けられた１つまたは複数の信号に対する１つまたは複数の分類規則の適用によって決定された、前記第１欠陥タイプの前記総数と前記第２欠陥タイプの前記総数の間の第１相関を計算することと、
前記１つまたは複数の高分解能検査ツールを用いて決定された、前記第１欠陥タイプの前記総数と前記第２欠陥タイプの前記総数の間の第２相関を計算することと、
前記第１相関と前記第２相関の間の相関を計算することと、を含む、コンピュータ可読媒体。
請求項１７から請求項１９までのいずれか一項に記載のコンピュータ可読媒体であって、前記プロセスは、
１つまたは複数の光学検査ツールから受信した１つまたは複数の信号に対して適用される、１つまたは複数の分類規則を生成すること、を更に含む、コンピュータ可読媒体。
請求項１７から請求項２０までのいずれか一項に記載のコンピュータ可読媒体であって、前記プロセスは、
前記１つまたは複数の走査型検査ツールから受信した１つまたは複数の信号に対する１つまたは複数の分類規則の適用によって決定された、前記１つまたは複数の標本における１つまたは複数の欠陥タイプの前記総数と、前記１つまたは複数の高分解能検査ツールを用いて決定された欠陥タイプの総数と、の間の前記１つまたは複数の相関に従って、１つまたは複数の分類規則を修正することを更に含む、コンピュータ可読媒体。