JP2012527099A - 光学補正構成体を備える半導体リソグラフィ用の投影露光装置 - Google Patents
光学補正構成体を備える半導体リソグラフィ用の投影露光装置 Download PDFInfo
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Abstract
【選択図】図1
Description
Claims (15)
- 少なくとも1つの光学素子(2)と、該光学素子(2)の目標局所加熱のために電磁放射線(7)を前記光学素子(2)に目標局所照射する少なくとも1つの照射手段とを備える、光学補正構成体を備える、半導体リソグラフィ用の投影露光装置であって、
前記少なくとも1つの照射手段により前記光学素子(2)に導入された熱エネルギーを消散する手段が存在することを特徴とする、投影露光装置。 - 請求項1に記載の投影露光装置において、
前記熱エネルギーを消散する手段は、前記光学素子(2)の表面の少なくとも1つを通る流体流、特にガス流を形成する手段を含むことを特徴とする、投影露光装置。 - 請求項2に記載の投影露光装置において、
前記光学素子(2)は、隣接して配置され、流体を流すことができる流路が互いの間に形成される、2つの光学部分素子(21、22)を備えることを特徴とする、投影露光装置。 - 請求項3に記載の投影露光装置において、
前記流路は、特に平行平面板として具現した前記光学部分素子(21、22)の平面により境界付けられることを特徴とする、投影露光装置。 - 請求項2〜4のいずれか1項に記載の投影露光装置において、
前記電磁加熱放射線(7)は、前記流体流を通って進むことを特徴とする、投影露光装置。 - 請求項3〜5のいずれか1項に記載の投影露光装置において、
前記電磁加熱放射線(7)を、前記光学部分素子(21、22)の2つの流路形成表面に指向させることを特徴とする、投影露光装置。 - 請求項2〜6のいずれか1項に記載の投影露光装置において、
前記流体流の移動方向は、前記光学素子(2)の表面と平行に指向させるか、又は該光学素子(2)の表面に対して垂直な向きの移動方向の成分を有することを特徴とする、投影露光装置。 - 請求項1〜7のいずれか1項に記載の投影露光装置において、
前記光学素子(2)は、互いに熱的に接触した少なくとも2つの部分素子(23、24)を有し、そのうちの好ましくはCaF2を含む第2部分素子(24)は、好ましくは石英ガラスを含む第1部分素子(23)よりも高い熱伝導率を有し、前記第2部分素子(24)は、該第2部分素子(24)と熱的に接触したヒートシンク(15)と共に、前記導入される熱エネルギーを消散する手段を形成することを特徴とする、投影露光装置。 - 請求項8に記載の投影露光装置において、
前記加熱放射線(7)を、前記第1部分素子(23)のうち前記第2部分素子(24)から離れた側に指向させるか、又は前記加熱放射線(7)を、前記第1部分素子(23)のうち前記第2部分素子(24)に熱的に連結した表面に指向させることを特徴とする、投影露光装置。 - 請求項8又は9に記載の投影露光装置において、
前記加熱放射線(7)を吸収する吸収層(17)を、前記光学部分素子(23、24)の一方に、好ましくは前記第1光学部分素子(23)と前記第2光学部分素子(24)との間に配置したことを特徴とする、投影露光装置。 - 請求項1に記載の投影露光装置において、
前記光学素子(2)は、該投影露光装置のミラーであり、該投影露光装置は、EUV投影露光装置であることを特徴とする、投影露光装置。 - 請求項11に記載の投影露光装置において、
前記エネルギーを消散する手段は、冷却媒体を流すことができるミラー基板における流路であるか、又は
前記エネルギーを消散する手段は、運動学的素子、軸受素子、又はアクチュエータとして具現されることが好ましい熱伝導固体であるか、又は
前記手段を、付加的な素子、特にファイバ又は熱伝導ストリップ等の付加的な素子として具現するか、又は
前記エネルギーを消散する手段は、放射素子、又はミラーを通る数パスカル、好ましくは3パスカル〜4パスカルの圧力の水素又はアルゴンの流体流、特にガス流であることを特徴とする、投影露光装置。 - 請求項1〜12のいずれか1項に記載の投影露光装置において、前記加熱放射線(7)のうち前記光学素子(2)により吸収されない部分をさらに操作する手段が存在し、該手段を、特に前記加熱放射線(7)の波長を有する放射線を吸収するのに適した吸収素子として具現したことを特徴とする、投影露光装置。
- 請求項13に記載の投影露光装置において、前記吸収素子を、該投影露光装置のハウジングの外部に配置し、該ハウジングは、前記加熱放射線(7)の非吸収部分を前記吸収素子の方向に通す窓を有することを特徴とする、投影露光装置。
- 請求項13又は14に記載の投影露光装置において、前記さらに操作する手段は、前記放射線(7)の非吸収部分を前記光学素子(2)又は該投影露光装置の異なるコンポーネントに指向させることができる反射素子であることを特徴とする、投影露光装置。
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