JP2012526373A - レーザビームのスペクトルバンド幅を設定するための狭帯域化モジュール - Google Patents
レーザビームのスペクトルバンド幅を設定するための狭帯域化モジュール Download PDFInfo
- Publication number
- JP2012526373A JP2012526373A JP2012508944A JP2012508944A JP2012526373A JP 2012526373 A JP2012526373 A JP 2012526373A JP 2012508944 A JP2012508944 A JP 2012508944A JP 2012508944 A JP2012508944 A JP 2012508944A JP 2012526373 A JP2012526373 A JP 2012526373A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- module
- optical component
- narrow
- band
- narrowband
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/005—Optical devices external to the laser cavity, specially adapted for lasers, e.g. for homogenisation of the beam or for manipulating laser pulses, e.g. pulse shaping
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B19/00—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics
- G02B19/0004—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the optical means employed
- G02B19/0009—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the optical means employed having refractive surfaces only
- G02B19/0014—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the optical means employed having refractive surfaces only at least one surface having optical power
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B19/00—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics
- G02B19/0033—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the use
- G02B19/0047—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the use for use with a light source
- G02B19/0052—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the use for use with a light source the light source comprising a laser diode
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B26/00—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
- G02B26/08—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light
- G02B26/0875—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light by means of one or more refracting elements
- G02B26/0883—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light by means of one or more refracting elements the refracting element being a prism
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B26/00—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
- G02B26/08—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light
- G02B26/0875—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light by means of one or more refracting elements
- G02B26/0883—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light by means of one or more refracting elements the refracting element being a prism
- G02B26/0891—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light by means of one or more refracting elements the refracting element being a prism forming an optical wedge
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/09—Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
- G02B27/0938—Using specific optical elements
- G02B27/095—Refractive optical elements
- G02B27/0972—Prisms
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/42—Diffraction optics, i.e. systems including a diffractive element being designed for providing a diffractive effect
- G02B27/4233—Diffraction optics, i.e. systems including a diffractive element being designed for providing a diffractive effect having a diffractive element [DOE] contributing to a non-imaging application
- G02B27/4244—Diffraction optics, i.e. systems including a diffractive element being designed for providing a diffractive effect having a diffractive element [DOE] contributing to a non-imaging application in wavelength selecting devices
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/18—Diffraction gratings
- G02B5/1861—Reflection gratings characterised by their structure, e.g. step profile, contours of substrate or grooves, pitch variations, materials
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70483—Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
- G03F7/7055—Exposure light control in all parts of the microlithographic apparatus, e.g. pulse length control or light interruption
- G03F7/70575—Wavelength control, e.g. control of bandwidth, multiple wavelength, selection of wavelength or matching of optical components to wavelength
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/005—Optical devices external to the laser cavity, specially adapted for lasers, e.g. for homogenisation of the beam or for manipulating laser pulses, e.g. pulse shaping
- H01S3/0057—Temporal shaping, e.g. pulse compression, frequency chirping
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Lasers (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
【選択図】図4
Description
Claims (21)
- レーザ光源(10)のレーザビーム(14)のスペクトルバンド幅(Δλ)を設定するための狭帯域化モジュール(1)であって、レーザビームを該レーザビームの伝播方向に対して横方向に拡大するビーム拡大モジュール(18)と、反射型回折格子とを備え、該狭帯域化モジュールの第1光学コンポーネント(32)を、該狭帯域化モジュールの光軸に対して横方向の第1軸を中心とした円筒形部分を有する擾乱をレーザビームの波面に印加できるよう構成した、狭帯域化モジュール(1)において、前記第1光学コンポーネントを、前記第1軸と平行な旋回軸(35、43)を中心に旋回可能であるよう具現したことを特徴とする、狭帯域化モジュール。
- 請求項1に記載の狭帯域化モジュールにおいて、前記第1光学コンポーネントを、前記ビーム拡大モジュールの第1プリズムとして具現したことを特徴とする、狭帯域化モジュール。
- 請求項2に記載の狭帯域化モジュールにおいて、前記第1プリズムの入射面及び/又は出射面の少なくとも一部を、円筒形プロファイルとして構成したことを特徴とする、狭帯域化モジュール。
- 請求項1に記載の狭帯域化モジュールにおいて、前記第1光学コンポーネントの少なくとも一部を、円筒形の形態とし、前記ビーム拡大モジュールと前記反射型回折格子との間に配置したことを特徴とする、狭帯域化モジュール。
- 請求項4に記載の狭帯域化モジュールにおいて、前記第1光学コンポーネントを、シリンドリカルレンズ又はシリンドリカルミラーとして構成したことを特徴とする、狭帯域化モジュール。
- 請求項1〜5のいずれか1項に記載の狭帯域化モジュールにおいて、該狭帯域化モジュールの第2光学コンポーネントを、前記第1光学コンポーネントにより生じた波面擾乱を少なくとも部分的に補償できるよう構成し該狭帯域化モジュールに配置したことを特徴とする、狭帯域化モジュール。
- 請求項6に記載の狭帯域化モジュールにおいて、前記第2光学コンポーネントを該狭帯域化モジュールに変位可能に配置したことを特徴とする、狭帯域化モジュール。
- 請求項6又は7に記載の狭帯域化モジュールにおいて、前記第2光学コンポーネントを、前記ビーム拡大モジュールの第2プリズムとして具現したことを特徴とする、狭帯域化モジュール。
- 請求項8に記載の狭帯域化モジュールにおいて、前記第2プリズムの入射面及び/又は出射面の少なくとも一部を、円筒形プロファイルとして構成したことを特徴とする、狭帯域化モジュール。
- 請求項6又は7に記載の狭帯域化モジュールにおいて、前記第2光学コンポーネントの少なくとも一部を、円筒形の形態とし、前記ビーム拡大モジュールと前記反射型回折格子との間に配置したことを特徴とする、狭帯域化モジュール。
- 請求項10に記載の狭帯域化モジュールにおいて、前記第2光学コンポーネントを、シリンドリカルレンズ又はシリンドリカルミラーとして構成したことを特徴とする、狭帯域化モジュール。
- 請求項6又は7に記載の狭帯域化モジュールにおいて、前記反射型回折格子を、第2光学コンポーネントとして構成したことを特徴とする、狭帯域化モジュール。
- 請求項12に記載の狭帯域化モジュールにおいて、前記反射型回折格子は湾曲していることを特徴とする、狭帯域化モジュール。
- 請求項13に記載の狭帯域化モジュールにおいて、前記反射型回折格子の曲率の設定に用いることができる手段を提供することを特徴とする、狭帯域化モジュール。
- 請求項1〜14のいずれか1項に記載の狭帯域化モジュール(12)を備えるレーザ光源。
- 約140nm〜約380nmの範囲内にある波長(λ0)と、該波長(λ0)を中心としたバンド幅(Δλ)の波長スペクトルとを有する光を放出し、該バンド幅(Δλ)を設定可能である、レーザ光源。
- 波長(λ0)と、該波長(λ0)を中心としたバンド幅(Δλ)の波長スペクトルとを有し、約20ワット〜約2000ワットのパワー範囲のパワーを有する光を放出し、前記バンド幅(Δλ)を設定可能である、レーザ光源。
- 波長(λ0)と、該波長(λ0)中心としたバンド幅(Δλ)の波長スペクトルとを有し、約0.1mJ/パルス〜約500mJ/パルスの範囲内にあるパワー範囲のパワーを有する光パルスの形態の光を放出し、前記バンド幅(Δλ)を設定可能である、レーザ光源。
- 請求項18に記載のレーザ光源において、前記波長(λ0)は、約140nm〜約380nmの波長範囲内にある、レーザ光源。
- 請求項15〜19のいずれか1項に記載のレーザ光源において、前記バンド幅(Δλ)は、約100fm〜約1000fmの範囲で設定することができる、レーザ光源。
- 請求項15〜20のいずれか1項に記載のレーザ光源において、請求項1〜14のいずれか1項に記載の狭帯域化モジュール(12)を備える、レーザ光源。
Applications Claiming Priority (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US17654509P | 2009-05-08 | 2009-05-08 | |
DE102009020501.2 | 2009-05-08 | ||
DE102009020501A DE102009020501A1 (de) | 2009-05-08 | 2009-05-08 | Bandbreiteneinengungsmoduls zur Einstellung einer spektralen Bandbreite eines Laserstrahls |
US61/176,545 | 2009-05-08 | ||
PCT/EP2010/002722 WO2010127831A1 (en) | 2009-05-08 | 2010-05-04 | Bandwidth narrowing module for setting a spectral bandwidth of a laser beam |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012526373A true JP2012526373A (ja) | 2012-10-25 |
JP2012526373A5 JP2012526373A5 (ja) | 2013-05-30 |
Family
ID=42542902
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012508944A Pending JP2012526373A (ja) | 2009-05-08 | 2010-05-04 | レーザビームのスペクトルバンド幅を設定するための狭帯域化モジュール |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20120099612A1 (ja) |
JP (1) | JP2012526373A (ja) |
DE (1) | DE102009020501A1 (ja) |
WO (1) | WO2010127831A1 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101753355B1 (ko) | 2016-07-20 | 2017-07-06 | 서울대학교산학협력단 | 레이저 홀로그래픽 리소그래피 장치 및 패턴 제조 방법 |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103676498B (zh) * | 2013-11-18 | 2017-04-05 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 光刻机光瞳整形单元结构及其衍射光学元件设计方法 |
JP6999418B2 (ja) * | 2015-02-18 | 2022-01-18 | アイマックス シアターズ インターナショナル リミテッド | 投影された光のためのスペックル除去システム |
US9666191B1 (en) * | 2016-03-17 | 2017-05-30 | Vocalzoom Systems Ltd. | Laser-based system and optical microphone having increased bandwidth |
DE102018209602B4 (de) | 2018-06-14 | 2022-05-12 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optische Baugruppe zur Verringerung einer spektralen Bandbreite eines Ausgabestrahls eines Lasers |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10313143A (ja) * | 1997-05-09 | 1998-11-24 | Komatsu Ltd | 狭帯域化レーザ装置 |
JPH11274632A (ja) * | 1998-03-25 | 1999-10-08 | Komatsu Ltd | 狭帯域化レーザの波面制御装置 |
EP0955706A1 (en) * | 1998-05-04 | 1999-11-10 | Lambda Physik Gesellschaft Zur Herstellung Von Lasern Mbh | Laser system and method for narrow spectral linewidth through wavefront curvature compensation |
US20010033383A1 (en) * | 2000-01-27 | 2001-10-25 | Matthias Kramer | Resonator optics monitoring method |
US20020021728A1 (en) * | 1999-12-27 | 2002-02-21 | Newman Peter C. | Four KHz gas discharge laser |
US20070001127A1 (en) * | 2005-06-30 | 2007-01-04 | Cymer, Inc. | Active bandwidth control for a laser |
JP2008098282A (ja) * | 2006-10-10 | 2008-04-24 | Komatsu Ltd | 狭帯域化レーザのスペクトル幅調整装置 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6101211A (en) * | 1995-04-03 | 2000-08-08 | Komatsu, Ltd. | Narrow-band laser apparatus |
US6424666B1 (en) * | 1999-06-23 | 2002-07-23 | Lambda Physik Ag | Line-narrowing module for high power laser |
US6285701B1 (en) * | 1998-08-06 | 2001-09-04 | Lambda Physik Ag | Laser resonator for improving narrow band emission of an excimer laser |
US6163559A (en) * | 1998-06-22 | 2000-12-19 | Cymer, Inc. | Beam expander for ultraviolet lasers |
US6856638B2 (en) * | 2000-10-23 | 2005-02-15 | Lambda Physik Ag | Resonator arrangement for bandwidth control |
JP5157004B2 (ja) * | 2006-07-04 | 2013-03-06 | 株式会社小松製作所 | 狭帯域化レーザのスペクトル幅調整方法 |
-
2009
- 2009-05-08 DE DE102009020501A patent/DE102009020501A1/de not_active Withdrawn
-
2010
- 2010-05-04 WO PCT/EP2010/002722 patent/WO2010127831A1/en active Application Filing
- 2010-05-04 JP JP2012508944A patent/JP2012526373A/ja active Pending
-
2011
- 2011-09-21 US US13/238,470 patent/US20120099612A1/en not_active Abandoned
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10313143A (ja) * | 1997-05-09 | 1998-11-24 | Komatsu Ltd | 狭帯域化レーザ装置 |
JPH11274632A (ja) * | 1998-03-25 | 1999-10-08 | Komatsu Ltd | 狭帯域化レーザの波面制御装置 |
EP0955706A1 (en) * | 1998-05-04 | 1999-11-10 | Lambda Physik Gesellschaft Zur Herstellung Von Lasern Mbh | Laser system and method for narrow spectral linewidth through wavefront curvature compensation |
US20020021728A1 (en) * | 1999-12-27 | 2002-02-21 | Newman Peter C. | Four KHz gas discharge laser |
US20010033383A1 (en) * | 2000-01-27 | 2001-10-25 | Matthias Kramer | Resonator optics monitoring method |
US20070001127A1 (en) * | 2005-06-30 | 2007-01-04 | Cymer, Inc. | Active bandwidth control for a laser |
JP2008098282A (ja) * | 2006-10-10 | 2008-04-24 | Komatsu Ltd | 狭帯域化レーザのスペクトル幅調整装置 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101753355B1 (ko) | 2016-07-20 | 2017-07-06 | 서울대학교산학협력단 | 레이저 홀로그래픽 리소그래피 장치 및 패턴 제조 방법 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE102009020501A1 (de) | 2010-12-23 |
WO2010127831A1 (en) | 2010-11-11 |
US20120099612A1 (en) | 2012-04-26 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP7104828B2 (ja) | エキシマ光源におけるスペックルの低減 | |
US7653095B2 (en) | Active bandwidth control for a laser | |
JP2012526373A (ja) | レーザビームのスペクトルバンド幅を設定するための狭帯域化モジュール | |
JP3981048B2 (ja) | 光投影システム、光多重化装置およびレーザによって放出される光の空間的コヒーレンスを変化させずにレーザビームから放出される光を拡大する方法 | |
US6356576B1 (en) | Deep ultraviolet catadioptric anamorphic telescope | |
KR101837232B1 (ko) | 레이저빔의 확장 장치 및 방법 | |
JPWO2018020564A1 (ja) | レーザシステム | |
US11768362B2 (en) | Laser radiation system and method for manufacturing electronic device | |
US9798047B2 (en) | Device for applying light to an inner surface of a cylinder and beam transformation device for such a device | |
US20170059490A1 (en) | System and Method for Imaging a Sample with an Illumination Source Modified by a Spatial Selective Wavelength Filter | |
US9409255B1 (en) | High power laser imaging systems | |
US7751461B2 (en) | Linewidth-narrowed excimer laser cavity | |
US20170149199A1 (en) | Laser device | |
JP7390377B2 (ja) | レーザシステム、及び電子デバイスの製造方法 | |
US9429742B1 (en) | High power laser imaging systems | |
US20200159122A1 (en) | Method and apparatus for immersion grating lithography | |
JP2006216984A (ja) | 狭帯域発振エキシマレーザの波面最適化方法 | |
CN113169507B (zh) | 激光系统和电子器件的制造方法 | |
CN114813050B (zh) | 一种多模蓝光单管激光模式测量装置 | |
Laskin et al. | Creating round and square flattop laser spots in microprocessing systems with scanning optics | |
TW201706589A (zh) | 用於以由空間選擇性波長濾波器所修改之照明源成像樣本之系統及方法 | |
CN106911064A (zh) | 相位补偿型光栅激光谐振腔 | |
JPH04252012A (ja) | 円弧照明装置 | |
JP2021528844A (ja) | レーザの出力ビームのスペクトル帯域幅を減少させるための光学アセンブリ | |
Pesch et al. | Microscope illumination systems for 157 nm |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130415 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20130415 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20131227 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140128 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20140624 |