JP2012522566A5 - - Google Patents

Claims (19)

1. 美容及びボディシェイピング処置のための装置であって、
   プローブと
   外部電極と、
   少なくとも一のＲＦ電圧源及び少なくとも一のレーザ放射源と
   を含み、
   前記プローブは、
   細長いレーザ放射伝導体であって、前記伝導体の遠位端が組織の体積の中に挿入されるべく構成され、前記プローブの近位端が、ロードセルと、ＲＦ電圧及びレーザ放射の一以上のタイプを受け入れるべく動作可能なコネクタとを終端とする放射伝導体と、
   前記放射伝導体の遠位端に配置された一対の電極と
   を含み、
   前記外部電極は、動作可能に皮膚表面と永久接触し、かつ、前記一対の電極のそれぞれよりも実質的に大きな面積を有し、
   前記少なくとも一のＲＦ電圧源及び少なくとも一のレーザ放射源は、前記電極の間にＲＦ電圧の少なくとも一のタイプを供給するべく構成される装置。
2. 前記外部電極は、可撓性電極又は複数電極のグリッドからなる電極群の少なくとも一である、請求項１に記載の装置。
3. 前記放射伝導体に配置された前記一対の電極の前記少なくとも一の電極と前記外部電極との間の、及び前記放射伝導体に配置された前記一対の電極の間のインピーダンスをモニタリングするメカニズムをさらに含む、請求項１に記載の装置。
4. 前記プローブは、ＲＦ電圧、光放射、及びその双方の組み合わせからなる群の少なくとも一のトリートメントエネルギーを前記組織に適用するべく構成される、請求項１に記載の装置。
5. 前記放射伝導体の遠位端に配置された前記一対の電極は、平坦電極、円筒電極、半円形電極、及び同心電極からなる群の少なくとも一である、請求項１に記載の装置。
6. 前記放射伝導体の遠位端に配置された前記一対の電極は、その間の距離が変化可能に構成される、請求項１に記載の装置。
7. 前記プローブは、前記放射伝導体／光ガイドの遠位端に配置された前記一対の電極の間に高出力ＲＦ電圧を適用するべく構成される、請求項１に記載の装置。
8. 前記放射伝導体／光ガイドの遠位端に配置された前記一対の電極の間のインピーダンスの変化を解釈して、トリートメントプロセス進捗、トリートメント終了点、及びトリートメントを受ける体積の温度を示すべく動作可能なメカニズムをさらに含む、請求項１に記載の装置。
9. トリートメントを受ける組織のタイプを示すべく構成されたメカニズムをさらに含む、請求項１に記載の装置。
10. 前記放射伝導体の遠位端に配置された前記一対の電極と前記外部電極との間に供給される前記ＲＦ電圧は、前記放射伝導体の遠位端に配置された前記一対の電極の間に供給される電圧とは少なくとも一のパラメータにおいて異なり、前記パラメータは、少なくともＲＦ電圧振幅又はＲＦ電圧周波数を含む、請求項１又は５のいずれか一項に記載の装置。
11. 前記プローブの遠位端に冷却流体を送達するべく構成された冷却流体導通チャネルをさらに含む、請求項１に記載の装置。
12. ＲＦ電圧源が前記ＲＦ電圧をパルスモード又は連続モードで適用し、前記レーザ放射源は前記レーザ放射をパルスモード又は連続モードで適用する、請求項１０に記載の装置。
13. 前記ロードセルは、前記プローブに作用する力を測定するべく動作可能である、請求項１に記載の装置。
14. 前記放射伝導体／光ガイドに配置された前記一対の電極と前記外部電極との間の、及び前記放射伝導体／光ガイドに配置された前記一対の電極の間のインピーダンスをモニタリングするメカニズムをさらに含む、請求項１に記載の装置。
15. 美容及びボディシェイピング処置のための装置であって、
    遠位端が組織の体積の中に挿入されるべく動作可能な細長いレーザ放射伝導体と、機械的な動きに対する前記組織の抵抗力を測定するべく動作可能なロードセルとを有するプローブであって、複数のトリートメントパラメータが前記ロードセルの測定に基づいて調整されるプローブと、
    前記組織の体積の中に少なくとも一のタイプのレーザ放射を与えるべく動作可能に構成された少なくとも一のレーザ放射源と
    を含む装置。
16. トリートメントの終了点決定も、前記ロードセルの測定に基づいて行われる、請求項１５に記載の装置。
17. 美容及びボディシェイピング処置のための装置であって、
    細長いレーザ放射伝導体を有するプローブであって、前記伝導体の遠位端が組織の体積の中に挿入されるべく動作可能なプローブと、
    前記伝導体の遠位端に配置された一対の電極と、
    前記組織の体積の中に少なくとも一のタイプのレーザ放射を与えるべく動作可能な少なくとも一のレーザ放射源と、
    前記少なくとも一の電極と外部電極との間に少なくとも一のタイプのＲＦ電圧を与えるべく構成された少なくとも一のＲＦ電圧源及び少なくとも一のレーザ放射源と
    を含む装置。
18. 近位端が複数のＲＦ電圧及びレーザ放射の一以上のタイプを受け入れるべく動作可能なコネクタを終端とするプローブをさらに含む、請求項１７に記載の装置。
19. 前記プローブの近位端はロードセルを含む、請求項１７に記載の装置。