JP2012512321A - 基材コンポーネントの表面処理及び/又はコーティング用の装置 - Google Patents
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Abstract
Description
a)基材コンポーネントのための所望のコーティング又は処置プログラムに従って、堆積又は処理チャンバー内に、モジュールから、コーティング及び/又は処置ユニット(気化器、陰極、ターゲット、マグネトロン、フィラメント陰極、及びエッチング陽極など)及び遮蔽素子を組み立て、
b)同じ処理を受けることになる基材コンポーネントを基材キャリアに設置し、
c)堆積または処理チャンバーを閉じ、
d)1つのバッチで、基材キャリア上にグループで組み付けられる基材コンポーネントに対する個々の処理又はコーティングプログラムを実行する。
Claims (15)
- 気相からの堆積により、特にPVD(物理蒸着)又は反応性PVD法に従って気相からの物理的な堆積により、基材コンポーネントの表面処理及び/又はコーティングするための装置であって、前記の装置は、真空にすることができる堆積又は処理チャンバーを具備し、複数の基材キャリア(26)と複数のコーティング及び/又は処理ユニット(12、14、16)(気化器の源、陰極、ターゲット、マグネトロン、フィラメント陰極、及びエッチング陽極)は、前記の堆積又は処理チャンバー内に位置しており、前記の装置は、設備内に1つのバッチで導入される基材コンポーネント(56)を、異なる処理(コーティングや、表面処理)にかけることができるように、モジュール方式で装備されることを特徴とする装置。
- 基材コンポーネント(56)が、前記の堆積又は処理チャンバー内の様々な場所(ポジション1〜8)で、異なる処理を受けることを特徴とする請求項1に記載の装置。
- 少なくとも一つの遮蔽ユニット(48、50、52、54)は、前記の堆積又は処理室内に提供され、前記の少なくとも一つの遮蔽ユニットを用いて、少なくとも1つの基材キャリア(24、26)上に位置する前記の基材コンポーネント(56)が、コーティング及び/又は処理ユニット(12)の影響領域に排他的に保持されることを特徴とする請求項1又は2に記載の装置。
- 前記の遮蔽ユニット(48、50、52、54)は、モジュールとして実現され、好ましくは、板(48、52、54)から組み立てられる隔壁構造(48、50)のような平面構成素子から形成されることを特徴とする請求項3に記載の装置。
- 前記の堆積又は処理チャンバーが閉じたときに、前記の基材キャリア(24、26)と前記のコーティング及び/または処理ユニット(12)との間の相対的な位置を変更可能とするユニット(10、32〜42)を有することを特徴とする請求項1乃至4のいずれかに記載の装置。
- その周囲に分散した基材キャリア(24、26)のための駆動源(22)が装備されている取付スペース(18-1〜18-8)を複数個を有する、前記のコーティング及び/又は処理ユニット(12、14、気化器の源、陰極、ターゲット、マグネトロン)のためのキャリア構造の内部に、放射状に、前記の堆積又は処理チャンバー内に提供される取付台(10)を有することを特徴とする請求項5に記載の装置。
- 取付スペースには、基材キャリア(24、24)及び/又は遮蔽ユニット(48、50)が装備されることを特徴とする請求項6に記載の装置。
- 取付台(10)とキャリア構造との間の相対的な回転運動が制御可能となる駆動及びインデッスクングユニット(10、32〜42)を有することを特徴とする請求項6または7のいずれかに記載の装置。
- 前記の取付台(10)は、回転駆動装置を有することを特徴とする請求項8に記載の装置。
- 前記の基材キャリア(24、26)の動力は、基材コンポーネント(56)上に引き出されることを特徴とする請求項6乃至9のいずれかに記載の装置。
- 少なくとも1つの基材キャリアの回転運動は、前記の取付台のサイクル運動から切り離されることを特徴とする請求項6乃至10のいずれかに記載の装置。
- 少なくとも選択されたコーティング及び/又は処理ユニット(12-1、12-2)は、同期的に操作可能であることを特徴とする請求項1乃至11のいずれかに記載の装置。
- 前記のキャリア構造には、前記のコーティング及び/又は処理ユニット(12)及び/又は加熱ユニット(14)の取付位置ポジションが装備されていることを特徴とする請求項6乃至12のいずれかに記載の装置。
- 気相からの堆積により、特にPVD(物理蒸着)又は反応性PVD法に従って気相からの物理的な堆積により、基材コンポーネントの表面処理及び/又はコーティングするための方法において、前記の基材コンポーネントが、真空にすることができる堆積又は処理チャンバー内に複数の基材キャリヤと一緒に収容される方法であって、
a)基材コンポーネント(56)のための所望のコーティング又は処置プログラムに従って、堆積又は処理チャンバー内に、コーティング及び/又は処置ユニット(12、気化器、陰極、ターゲット、マグネトロン、フィラメント陰極、及びエッチング陽極)及び/又は加熱ユニット(16)及び遮蔽素子(48、50)を、モジュールから、組み立てる工程と、
b)同じ処理を受けることになる基材コンポーネント(56)を前記の基材キャリア(26)に設置する工程と、
c)前記の堆積又は処理チャンバーを閉じる工程と、
d)1つのバッチで、基材キャリア(24、26)上に取付けられている基材コンポーネント(56)に対する個々の処理又はコーティングプログラムを実行する工程と、
を有することを特徴とする方法。 - 前記の工程d)において、個々の基板のキャリア(24、26)は、必要に応じて、関連付けられている個々の前記のコーティング及び/又は処理ユニット(12)のための個々の表面処理に対して最適化された相対的なポジションに、サイクル的に提供されることを特徴とする請求項14に記載の方法。
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