JP2012255749A - Semiconductor device and method of measuring semiconductor device - Google Patents

Semiconductor device and method of measuring semiconductor device Download PDF

Info

Publication number
JP2012255749A
JP2012255749A JP2011130112A JP2011130112A JP2012255749A JP 2012255749 A JP2012255749 A JP 2012255749A JP 2011130112 A JP2011130112 A JP 2011130112A JP 2011130112 A JP2011130112 A JP 2011130112A JP 2012255749 A JP2012255749 A JP 2012255749A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
measurement
circuit
semiconductor device
measuring
analog
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2011130112A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP5617768B2 (en
Inventor
Yoshinori Koyama
芳紀 小山
Yoshihiro Murakami
嘉浩 村上
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Denso Corp
Original Assignee
Denso Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Denso Corp filed Critical Denso Corp
Priority to JP2011130112A priority Critical patent/JP5617768B2/en
Publication of JP2012255749A publication Critical patent/JP2012255749A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP5617768B2 publication Critical patent/JP5617768B2/en
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Tests Of Electronic Circuits (AREA)
  • Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To perform accurate measurement of the analog characteristics of a semiconductor chip on a semiconductor wafer.SOLUTION: A semiconductor device comprises: a part to be measured 3 of a semiconductor chip 1, which includes a semiconductor element 3a and a circuit 3b; and a measurement circuit 4 that measures the analog characteristics of the part to be measured 3. The measurement circuit 4 is powered through probe needles Pa and Pb from an external power supply, internally generates an applied voltage for measurement, and applies it through a wiring pattern 5 to the part to be measured 3. The measurement circuit 4 inputs the output of the part to be measured 3 through the wiring pattern 5, and converts it to digital data. The measurement circuit 4 is connected through a wiring pattern 7 to a nonvolatile memory 6 of a semiconductor chip 2, where the digital data is transferred and stored. After a series of measurement completes, the digital data is retrieved from the nonvolatile memory 6. Influences of the contact resistance and stray capacitance of the probe needles are reduced, thereby allowing accurate measurement of analog characteristics.

Description

本発明は、半導体チップに形成された半導体素子あるいは回路の電気的特性を測定するための構成を備えた半導体装置および半導体装置の測定方法に関する。   The present invention relates to a semiconductor device having a configuration for measuring electrical characteristics of a semiconductor element or circuit formed on a semiconductor chip and a method for measuring the semiconductor device.

半導体ウエハ上の半導体素子特性あるいは回路特性を測定する際に、プローバやテスタなどの半導体ウエハにアクセスする測定装置を用いることが主流となっている。測定装置と半導体ウエハ上の被測定部との電気的接続は、半導体ウエハに形成した電極パッドにプローブ針を接触させ、プローブ針から電極パッドを介して被測定部に接続するようにしている。   When measuring semiconductor element characteristics or circuit characteristics on a semiconductor wafer, it is the mainstream to use a measuring device that accesses the semiconductor wafer, such as a prober or a tester. The electrical connection between the measuring device and the part to be measured on the semiconductor wafer is such that the probe needle is brought into contact with the electrode pad formed on the semiconductor wafer, and the probe needle is connected to the part to be measured through the electrode pad.

この場合、プローブ針と電極パッドとの間は圧接状態で電気的に接続するので、両者の接触状態によっては接触抵抗が大きくなる上に変動しやすく、また両者の間に形成される浮遊容量成分も測定に影響を与える要素となる。半導体装置の微細化が進むにしたがって、大電流を流した状態で測定する特性や、過渡的な特性を測定する場合には、接触抵抗や容量成分の影響が素子特性の測定に無視できない程度の影響を与えるようになってきた。   In this case, since the probe needle and the electrode pad are electrically connected in a pressure contact state, depending on the contact state between them, the contact resistance increases and is likely to fluctuate, and the stray capacitance component formed between the two Are also factors that affect measurement. As semiconductor devices become more miniaturized, when measuring characteristics with a large current flowing or when measuring transient characteristics, the effects of contact resistance and capacitance components are not negligible in measuring element characteristics. It has come to influence.

この点、特許文献1に示されるようなデジタル特性を測定する場合には、印加電圧も小さく、しかもデジタル値の処理においてはアナログ特性の測定のような厳密な条件が要求されないのである程度は実現できていた。   In this regard, when measuring digital characteristics as shown in Patent Document 1, the applied voltage is also small, and in the processing of digital values, strict conditions such as measurement of analog characteristics are not required, and can be realized to some extent. It was.

特許第3217035号公報Japanese Patent No. 3217035

本発明は、上記事情を考慮してなされたもので、その目的は、半導体ウエハ上に形成された半導体装置の被測定部のアナログ電気特性をプローブ針で測定する際の誤差を極力低減することができる構成の半導体装置および半導体装置の測定方法を提供することにある。   The present invention has been made in consideration of the above circumstances, and an object thereof is to reduce as much as possible an error in measuring an analog electrical characteristic of a measured portion of a semiconductor device formed on a semiconductor wafer with a probe needle. It is an object of the present invention to provide a semiconductor device having a configuration capable of achieving the above and a method for measuring the semiconductor device.

請求項1の半導体装置によれば、素子あるいは回路が形成された被測定部に対して、測定回路によりアナログ特性を測定することができる。この場合、測定回路の電源回路は、外部電源から給電を受けるとアナログ特性測定用の電源に変換して被測定部に供給し、被測定部から出力されるアナログ特性の出力は変換回路においてデジタルデータに変換される。これにより、被測定部に外部からプローブ針などを用いて直接給電したり、給電時の被測定部の出力をアナログ値としてプローブ針により直接取り出すことがなくなるので、接触抵抗や浮遊容量の影響で誤差を大きく伴う測定結果となるのを抑制することができる。また、これによってプローブ針を接触させて測定を行う構成とした場合でも、測定に悪影響を与えない電源供給を行えるとともに、データをデジタルで取り出すことで測定結果も悪影響を受けない状態で取得することができる。   According to the semiconductor device of the first aspect, the analog characteristic can be measured by the measurement circuit with respect to the portion to be measured in which the element or the circuit is formed. In this case, when the power supply circuit of the measurement circuit is supplied with power from the external power supply, it converts it into a power supply for measuring analog characteristics and supplies it to the part to be measured. Converted to data. As a result, it is no longer possible to directly feed power to the measured part from the outside using a probe needle or the like, or to directly take out the output of the measured part at the time of feeding as an analog value with the probe needle. It is possible to suppress a measurement result with a large error. In addition, even when the probe needle is in contact with the measurement, power can be supplied without adversely affecting the measurement, and the data can be acquired digitally and the measurement results can be acquired without being adversely affected. Can do.

請求項2の半導体装置によれば、上記発明において、記憶部を設けて変換回路から出力されるデジタルデータを記憶させるようにしたので、一連のアナログ特性の測定で得られる測定結果を記憶部に一旦保存し、別途取り出すことで、特性測定のためにプローブ針などを接触保持させる時間を短縮できるとともに、測定をまとめて行った上で後からアナログ特性データを取り出すことができる。この場合、記憶部は測定回路や被測定部の近傍に配置することもできるし、離れた位置に配置することもできる。   According to the semiconductor device of the second aspect, in the above invention, since the storage unit is provided to store the digital data output from the conversion circuit, the measurement result obtained by measuring a series of analog characteristics is stored in the storage unit. By temporarily storing and separately taking out, it is possible to shorten the time for holding the probe needle and the like in contact with each other for the characteristic measurement, and it is possible to take out the analog characteristic data later after performing the measurement together. In this case, the storage unit can be arranged in the vicinity of the measurement circuit and the part to be measured, or can be arranged at a remote position.

請求項3の半導体装置によれば、第1のチップ領域に被測定部および測定回路を配置し、第2のチップ領域に記憶部を設け、両者の間を配線パターンにより接続した状態に構成しているので、両者の間を別途に接続しなくてもデジタルデータとしてのアナログ特性の測定結果を記憶部に保存することができる。また、この場合でも、記憶部が測定回路の変換回路から離れた位置に配置されていても、デジタルデータを授受することから、配線パターンによる抵抗成分の影響を受けることが少ない。   According to another aspect of the semiconductor device of the present invention, the portion to be measured and the measurement circuit are disposed in the first chip region, the storage portion is provided in the second chip region, and the two are connected by the wiring pattern. Therefore, the measurement result of the analog characteristics as digital data can be stored in the storage unit without separately connecting the two. Also in this case, even if the storage unit is arranged at a position away from the conversion circuit of the measurement circuit, the digital data is exchanged, so that it is less affected by the resistance component due to the wiring pattern.

請求項4の半導体装置によれば、上記請求項3の発明において、第1のチップ領域が複数設けられた構成とし、それらの測定回路から出力されるデジタルデータは、第2のチップ領域の記憶部においてまとめて記憶するので、第2のチップ領域が全体に占める割合を過剰に増大させることなく実施することができる。   According to a semiconductor device of a fourth aspect, in the invention of the third aspect, a plurality of first chip regions are provided, and digital data output from these measurement circuits is stored in the second chip region. Since the data are stored together in the unit, the second chip region can be implemented without excessively increasing the ratio of the entire second chip region.

請求項5の半導体装置によれば、請求項2の発明において、第1のチップ領域に被測定部および測定回路を配置し、第2のチップ領域に記憶部を配置し、第1のチップ領域内に測定回路のデジタル信号の出力端子に接続される第1の電極パッドを設け、第2のチップ領域内に記憶部のデータ入力端子に接続される第2の電極パッドを設け、第1の電極パッドと第2の電極パッドとの間を短絡用のプローブ針を接触させることで電気的に接続して短絡させることができるように構成しているので、測定時に記憶部に接続するためにプローブ針を使って接続することで被測定部のアナログ特性の測定結果をデジタルデータに変換したものとして記憶させることができる。また、これにより、第1のチップと第2のチップとの間を切断する場合にも配線による影響を受けることなく切断することができる。   According to the semiconductor device of claim 5, in the invention of claim 2, the measured part and the measurement circuit are arranged in the first chip area, the storage part is arranged in the second chip area, and the first chip area A first electrode pad connected to the output terminal of the digital signal of the measurement circuit is provided therein, a second electrode pad connected to the data input terminal of the storage unit is provided in the second chip area, and the first electrode pad is provided. Since the electrode pad and the second electrode pad are configured to be electrically connected and short-circuited by bringing a probe needle for short-circuiting into contact, in order to connect to the storage unit during measurement By connecting with the probe needle, the measurement result of the analog characteristic of the part to be measured can be stored as converted into digital data. Thereby, even when cutting between the first chip and the second chip, the cutting can be performed without being affected by the wiring.

請求項6の半導体装置によれば、上記請求項5の発明において、第1の電極パッドを備えた第1のチップ領域を複数備え、第2のチップ領域に形成される記憶部は、複数の第1のチップの測定回路の出力するデジタルデータがそれぞれ第1の電極パッドと第2の電極パッドとの間をプローブ針で短絡接続されることにより入力され、アナログ特性データを記憶するように設けられているので、第2のチップ領域に形成している記憶部に対して複数の第1のチップ領域に設けられた測定回路からのアナログ特性データをまとめて記憶させることができる。   According to a semiconductor device of a sixth aspect, in the invention of the fifth aspect, a plurality of first chip regions each having a first electrode pad are provided, and a plurality of storage portions formed in the second chip region are provided. Digital data output from the measurement circuit of the first chip is input by short-circuiting the first electrode pad and the second electrode pad with a probe needle, and provided to store analog characteristic data Therefore, the analog characteristic data from the measurement circuits provided in the plurality of first chip regions can be stored together in the storage unit formed in the second chip region.

請求項7の半導体装置によれば、上記請求項5及び6の発明において、第2のチップ領域に形成され、複数の第1のチップ領域に対応してそのそれぞれの測定回路から出力されるデジタル信号を選択的に記憶部に入力するように設けられた選択回路部を備えているので、第2のチップ領域の記憶部は、選択回路部により、複数の第1のチップ領域に設けられた変換回路からのアナログ特性データを、第1のチップ領域毎に選択的に記憶することができる。   According to a semiconductor device of a seventh aspect, in the inventions of the fifth and sixth aspects, the digital signal formed in the second chip region and output from each measurement circuit corresponding to the plurality of first chip regions. Since the selection circuit unit provided to selectively input the signal to the storage unit is provided, the storage unit of the second chip region is provided in the plurality of first chip regions by the selection circuit unit. Analog characteristic data from the conversion circuit can be selectively stored for each first chip area.

請求項8の半導体装置によれば、上記請求項5ないし7の発明において、複数の第1のチップ領域を、第2のチップ領域を中心としてその周囲に配置形成したので、複数の第1のチップ領域のそれぞれの測定回路から第2のチップ領域の記憶部に対してほぼ同じ距離で接続することができ、記憶部単位で周囲の第1のチップ領域のアナログ特性データを管理することができる。   According to the semiconductor device of the eighth aspect, in the inventions of the fifth to seventh aspects, since the plurality of first chip regions are arranged around the second chip region, the plurality of first chip regions are formed. Each measurement circuit in the chip area can be connected to the storage unit in the second chip area at substantially the same distance, and analog characteristic data in the surrounding first chip area can be managed in units of the storage unit. .

請求項9の半導体装置によれば、上記請求項ないし7の発明において、複数の第1のチップ領域を、第2のチップ領域に対して列状に配置形成したので、複数の第1のチップ領域のアナログ特性データを列ごとに保持して管理することができる。   According to the semiconductor device of claim 9, in the inventions of claims 9 to 7, since the plurality of first chip regions are arranged and formed in a row with respect to the second chip region, the plurality of first chips The analog characteristic data of the area can be held and managed for each column.

請求項10の半導体装置によれば、上記請求項1ないし9の発明において、測定回路を、アナログ特性として被測定部の直流の電流電圧特性を測定するように構成しているので、被測定部のアナログ特性をカーブトレーサのような交流的な測定をするのではなく、実際の直流を通電したときのデータとして測定することができ、しかも、カーブトレーサのような測定電源出力を掃引して印加する方式の装置を用いることなくデータを取得することができる。   According to the semiconductor device of the tenth aspect, in the inventions of the first to ninth aspects, the measurement circuit is configured to measure the direct current voltage characteristic of the measured part as an analog characteristic. Rather than measuring the analog characteristics of AC as a curve tracer, it can be measured as data when the actual DC is energized, and the measurement power output like a curve tracer is swept and applied. Data can be acquired without using an apparatus of a method.

請求項11の半導体装置によれば、請求項1ないし10の発明において、測定回路を、アナログ特性として被測定部の交流の過渡特性を測定するように構成したので、プローブ針などの接触抵抗や浮遊容量の影響を受けることなく測定用の電圧を印加し、且つ被測定部からの出力を測定することができ、被測定部が回路を構成している場合などで、より正確な交流過渡特性を測定することができる。   According to the semiconductor device of the eleventh aspect, in the invention of the first to tenth aspects, the measurement circuit is configured to measure the AC transient characteristic of the measured part as an analog characteristic. More accurate AC transient characteristics when measuring voltage can be applied without being affected by stray capacitance and the output from the measured part can be measured. Can be measured.

請求項12の半導体装置によれば、請求項1ないし11の発明において、測定回路を、外部から電源が印加されると、電源回路から供給される電源を被測定部に印加する過程と、被測定部の状態が安定するまで待機する過程と、被測定部の出力信号を測定する過程と、測定結果を変換回路に与えてデジタル信号に変換させる過程とからなる測定ステップを繰り返し実行するように構成し、測定ステップを実行する際には、電源回路から供給されるアナログ特性測定用の電源を、最初の測定ステップでは初期電圧を印加し、以後の測定ステップでは前回の測定ステップから予め設定された電圧だけ変化させた印加電圧を印加するように構成したので、被測定部に印加電圧を静的に与えてアナログ特性を得ることができ、印加電圧を徐々に変化させることで所定範囲の印加電圧を印加したときの各印加電圧における電流特性を得ることができ、これによってカーブトレーサのような掃引型の測定装置で測定したのと同等のデータをデジタルデータとして得ることができる。   According to a semiconductor device of a twelfth aspect, in the invention of any one of the first to eleventh aspects, when a power source is applied from the outside, the process of applying the power source supplied from the power source circuit to the part to be measured, Repeatedly perform the measurement steps consisting of the process of waiting until the state of the measurement unit stabilizes, the process of measuring the output signal of the measured part, and the process of providing the measurement result to the conversion circuit and converting it to a digital signal When configuring and executing the measurement step, the analog characteristic measurement power source supplied from the power supply circuit is applied in the first measurement step, the initial voltage is applied, and in the subsequent measurement step, it is preset from the previous measurement step. The applied voltage is applied by changing the applied voltage, so that the analog characteristics can be obtained by applying the applied voltage statically to the measured part, and the applied voltage is gradually changed. Thus, it is possible to obtain current characteristics at each applied voltage when an applied voltage in a predetermined range is applied, thereby obtaining digital data equivalent to that measured by a sweep type measuring device such as a curve tracer. be able to.

請求項13の半導体装置の測定方法によれば、半導体装置に設けられる素子あるいは回路からなる被測定部のアナログ特性を測定する半導体装置の測定方法であって、半導体装置に、被測定部の素子あるいは回路のアナログ特性を測定するための測定回路を設け、この測定回路に外部から給電を受けるとアナログ特性測定用の電源に変換して測定回路に供給する電源回路と、測定回路により測定されたアナログ特性の測定結果をデジタル信号に変換して出力する変換回路と設け、電源回路に対して外部から電源を供給することで、測定回路により、被測定部に対するアナログ特性測定用の電源として複数段階に分けて変化させる電圧を供給させ、電圧印加時の前記被測定部のアナログ出力を変換回路によりデジタル信号に変換してデジタルデータとして出力させるので、被測定部のアナログ特性の測定を半導体装置に設けた測定回路により測定することができ、プローブ針などによる測定と異なり、接触抵抗や浮遊容量の影響を受けない状態で測定をすることができる。   According to the semiconductor device measurement method of the thirteenth aspect, there is provided a semiconductor device measurement method for measuring an analog characteristic of a part to be measured including an element or a circuit provided in the semiconductor device. Alternatively, a measurement circuit for measuring the analog characteristics of the circuit is provided, and when the power is supplied from the outside to the measurement circuit, it is converted into a power source for measuring analog characteristics and supplied to the measurement circuit, and the measurement circuit measures A conversion circuit that converts the measurement results of analog characteristics into digital signals and outputs them, and supplies power to the power supply circuit from the outside. The voltage to be changed is supplied separately, and the analog output of the measured part at the time of voltage application is converted into a digital signal by a conversion circuit. As a result, it is possible to measure the analog characteristics of the measured part using a measurement circuit provided in the semiconductor device. Unlike measurement using a probe needle, measurement is performed without being affected by contact resistance or stray capacitance. Can do.

請求項14の半導体装置の測定方法によれば、請求項13の発明において、電源回路に対して外部電源から給電プローブ針により電源を供給し、変換回路から出力されるデジタルデータをデータプローブ針により取り出すようにしているので、被測定部に対するアナログ特性の測定に支障のない電源供給を行えるとともに、プローブ針によるアナログ特性のデータの取得をデジタルデータとして取り出すことができるので、接触抵抗や浮遊容量の影響を受けにくい状態で正確なデータを得ることができる。   According to the semiconductor device measurement method of the fourteenth aspect, in the invention of the thirteenth aspect, power is supplied to the power supply circuit from an external power supply by a power supply probe needle, and digital data output from the conversion circuit is supplied by a data probe needle. Since it is possible to supply power without hindrance to the measurement of analog characteristics to the measured part, and acquisition of analog characteristic data by the probe needle can be extracted as digital data, contact resistance and stray capacitance Accurate data can be obtained without being affected.

請求項15の半導体装置の測定方法によれば、請求項13の発明において、半導体装置にデジタルデータを記憶する記憶部を設け、電源回路に対して外部電源から給電プローブ針により電源を供給し、変換回路から出力されるデジタルデータを記憶部に記憶させ、被測定部の測定の終了後に記憶部に記憶したデジタルデータを外部に取り出すようにしたので、測定したアナログ特性のデータを記憶部にデジタルデータとして記憶し、これを外部に取り出せるので、一連の測定を一括して行えるとともに、測定後にアナログ特性のデータを一括して取り出せる。   According to the measurement method of a semiconductor device of claim 15, in the invention of claim 13, a storage unit for storing digital data is provided in the semiconductor device, and power is supplied to the power supply circuit from an external power supply by a feeding probe needle, Since the digital data output from the conversion circuit is stored in the storage unit and the digital data stored in the storage unit is taken out after the measurement of the measured part, the measured analog characteristic data is digitally stored in the storage unit. Since it is stored as data and can be retrieved to the outside, a series of measurements can be performed at once, and analog characteristic data can be retrieved after measurement.

請求項16の半導体装置の測定方法によれば、請求項15の発明において、記憶部は複数の被測定部に対応して設けられるので、記憶部を複数の被測定部に対して一括して設けることで、省スペース化を図れるとともに、データ取得を一括して行うことができる。   According to the method for measuring a semiconductor device of claim 16, in the invention of claim 15, since the storage unit is provided corresponding to the plurality of measured units, the storage unit is collectively provided for the plurality of measured units. By providing, space saving can be achieved and data acquisition can be performed collectively.

本発明の第1の実施形態を示す半導体チップの構成図The block diagram of the semiconductor chip which shows the 1st Embodiment of this invention 測定回路のブロック構成図Block diagram of measurement circuit アナログ特性の測定処理を示す流れ図Flow chart showing analog characteristic measurement process 本発明の第2の実施形態を示す半導体チップの配置構成図Semiconductor chip arrangement configuration diagram showing a second embodiment of the present invention 本発明の第3の実施形態を示す半導体チップの配置構成図Semiconductor chip arrangement configuration diagram showing a third embodiment of the present invention 本発明の第4の実施形態を示す半導体チップの構成図The block diagram of the semiconductor chip which shows the 4th Embodiment of this invention 本発明の第5の実施形態を示す半導体チップの配置構成図Semiconductor chip arrangement configuration diagram showing a fifth embodiment of the present invention 本発明の第6の実施形態を示す半導体チップの配置構成図Semiconductor chip arrangement configuration diagram showing a sixth embodiment of the present invention

(第1の実施形態)
以下、本発明の第1の実施形態について図1〜図3を参照して説明する。
図1は、半導体ウエハW上に多数形成される半導体装置である半導体チップ1および半導体チップ2を示している。半導体チップ1および2は、それぞれ第1および第2のチップ領域として設けられるもので、スクライブラインWsを介して隣接する位置には位置されている。半導体チップ1には、被測定部3である半導体素子3aや回路3bなどが多数設けられており、これらのアナログ特性を測定するための測定回路4が設けられている。測定回路4と被測定部3である各半導体素子3a、回路3bとの間は測定用の配線パターン5により接続されている。測定回路4には、配線4aを介して電極パッド4bが設けられ、外部電源からのプローブ針Pa、Pbによる所定電圧の給電を受けるように構成される。なお、半導体チップ1には、上記の構成に加えて、被測定部3とともに回路を構成する他の半導体素子などが設けられている。
(First embodiment)
Hereinafter, a first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.
FIG. 1 shows a semiconductor chip 1 and a semiconductor chip 2 which are semiconductor devices formed in large numbers on a semiconductor wafer W. The semiconductor chips 1 and 2 are provided as first and second chip regions, respectively, and are positioned adjacent to each other through the scribe line Ws. The semiconductor chip 1 is provided with a large number of semiconductor elements 3a, circuits 3b, and the like, which are parts to be measured 3, and a measurement circuit 4 for measuring these analog characteristics. The measurement circuit 4 is connected to each semiconductor element 3a and the circuit 3b, which are the part to be measured 3, by a wiring pattern 5 for measurement. The measurement circuit 4 is provided with an electrode pad 4b through a wiring 4a, and is configured to receive a predetermined voltage from the external power supply by the probe needles Pa and Pb. In addition to the above configuration, the semiconductor chip 1 is provided with other semiconductor elements that constitute a circuit together with the measured portion 3.

半導体チップ2には、記憶部としての不揮発性メモリ6が設けられている。この不揮発性メモリ6は、電気的に書き換え可能で電源を切っても記憶状態が保持される不揮発性のメモリからなる。また、不揮発性メモリ6は、半導体ウエハWのスクライブラインWsを跨いで半導体チップ1の測定回路4との間に設けられた配線パターン7により電気的に接続されている。不揮発性メモリ6には、配線パターン6aと電極パッド6bとが設けられており、外部からデータを取り出すことができるように構成されている。なお、図示では2個の電極パッド6bを示しているが、データ取り出しのために3個以上の電極パッド6bを設ける構成とすることもできる。   The semiconductor chip 2 is provided with a nonvolatile memory 6 as a storage unit. The non-volatile memory 6 is a non-volatile memory that is electrically rewritable and retains its stored state even when the power is turned off. The non-volatile memory 6 is electrically connected by a wiring pattern 7 provided between the measurement circuit 4 of the semiconductor chip 1 across the scribe line Ws of the semiconductor wafer W. The nonvolatile memory 6 is provided with a wiring pattern 6a and an electrode pad 6b so that data can be taken out from the outside. Although two electrode pads 6b are shown in the drawing, a configuration in which three or more electrode pads 6b are provided for data extraction may be employed.

図2は測定回路4のブロック構成を示すもので、電源回路としての印加電圧調整回路8は、被測定部3の半導体素子3aあるいは回路3bに対する測定用印加電圧を生成する回路で、外部電源から電極パッド4b、配線4aを介して給電される。この印加電圧調整回路8は、昇圧回路を含んだ構成とされ、クロック回路9からのクロックを基準として所定電圧の外部電源から被測定部3のアナログ特性の測定に必要な広い範囲の測定用印加電圧を生成し、初期印加電圧から徐々に変化させて配線5を介して被測定部3に印加したり、あるいは回路3bの過渡特性を測定するためのパルス信号などを印加したりするように構成されている。   FIG. 2 shows a block configuration of the measurement circuit 4. An applied voltage adjustment circuit 8 as a power supply circuit is a circuit that generates a measurement applied voltage for the semiconductor element 3a or the circuit 3b of the unit 3 to be measured. Power is supplied through the electrode pad 4b and the wiring 4a. The applied voltage adjusting circuit 8 is configured to include a booster circuit. The applied voltage for measurement in a wide range necessary for measuring the analog characteristics of the device under test 3 from an external power source having a predetermined voltage with the clock from the clock circuit 9 as a reference. A voltage is generated and gradually changed from the initial applied voltage and applied to the measured part 3 via the wiring 5, or a pulse signal or the like for measuring the transient characteristics of the circuit 3b is applied. Has been.

被測定部のアナログ特性を示す出力は、配線5を介して入力され、増幅回路10において信号レベルを増幅し、変換回路としてのAD変換回路11によりデジタルデータに変換する。このとき、AD変換回路11は、サンプリングタイミング制御回路12から所定のサンプリング周期でアナログ信号をデジタル信号に変換する。サンプリングタイミング制御回路12は、クロック回路9から与えられるクロック信号でサンプリングタイミング信号を生成する。AD変換回路11から出力されるデジタル信号は、メモリ制御回路13において不揮発性メモリ6に書き込み記憶される。配線パターン7は、データを送信するラインと、書き込みや消去などの制御を行うための制御ラインから構成される。   An output indicating the analog characteristics of the part to be measured is input via the wiring 5, the signal level is amplified in the amplifier circuit 10, and converted into digital data by the AD converter circuit 11 as a converter circuit. At this time, the AD conversion circuit 11 converts the analog signal into a digital signal from the sampling timing control circuit 12 at a predetermined sampling period. The sampling timing control circuit 12 generates a sampling timing signal with the clock signal supplied from the clock circuit 9. The digital signal output from the AD conversion circuit 11 is written and stored in the nonvolatile memory 6 in the memory control circuit 13. The wiring pattern 7 includes a line for transmitting data and a control line for performing control such as writing and erasing.

なお、上記の測定回路4の構成においては、被測定部となる半導体素子3aあるいは回路3bに対する複合的な構成として示していないが、複数の配線パターン5を切り替えて被測定部3に接続し、それぞれからアナログ特性の信号を入力できるように構成されている。また、どの被測定部3からの出力かに応じて不揮発性メモリ6の所定の記憶領域に記憶させるように構成されている。   In the configuration of the measurement circuit 4 described above, although not shown as a complex configuration for the semiconductor element 3a or the circuit 3b to be measured, the plurality of wiring patterns 5 are switched and connected to the measured portion 3. It is configured so that an analog characteristic signal can be input from each. Further, it is configured to store in a predetermined storage area of the nonvolatile memory 6 according to which output from the part to be measured 3 is output.

図3は実際のアナログ特性の測定で行われる手順を示すもので、測定に際しては、半導体チップ1の電極パッド4bに外部電源印加用のプローブ針Pa、Pbを接触させて給電状態にすることで測定プログラムが開始される。ここでは、被測定部3として半導体素子3aのアナログ特性である電流電圧特性を測定する場合の流れについて説明する。   FIG. 3 shows the procedure performed in the actual measurement of analog characteristics. In the measurement, the probe pads Pa and Pb for applying external power are brought into contact with the electrode pads 4b of the semiconductor chip 1 to bring them into a power supply state. The measurement program is started. Here, the flow in the case of measuring the current-voltage characteristic, which is the analog characteristic of the semiconductor element 3a, as the part to be measured 3 will be described.

測定回路4においては、外部電源が供給されると、印加電圧調整回路8において半導体素子3aに対する測定用初期電圧を生成し、配線5を介して印加する(S1)。測定用初期電圧を印加した状態で半導体素子3aの状態が安定するまで所定時間待機し(S2)、その後、配線5を介してアナログ特性の出力を増幅回路10に入力する(S3)。AD変換回路11は、増幅回路10により増幅されたアナログ特性の信号をデジタルデータに変換してメモリ制御回路13に出力する(S4)。メモリ制御回路13は、不揮発性メモリ6の所定のアドレスにアナログ特性のデジタルデータを記憶させる(S5)。   In the measurement circuit 4, when an external power supply is supplied, the applied voltage adjustment circuit 8 generates an initial measurement voltage for the semiconductor element 3a and applies it via the wiring 5 (S1). In a state where the initial voltage for measurement is applied, the semiconductor device 3a waits for a predetermined time until the state of the semiconductor element 3a is stabilized (S2), and then an analog characteristic output is input to the amplifier circuit 10 via the wiring 5 (S3). The AD conversion circuit 11 converts the analog characteristic signal amplified by the amplification circuit 10 into digital data and outputs the digital data to the memory control circuit 13 (S4). The memory control circuit 13 stores analog characteristic digital data at a predetermined address of the nonvolatile memory 6 (S5).

以後、印加電圧調整回路8において、測定用初期電圧を所定電圧だけ変化させた測定用電圧に変更して生成し、これを半導体素子3aに再び印加する(S6、S7)。そして、前述のステップS2〜S5を繰り返し実行することで変更設定した測定用電圧を印加したときのアナログ特性の信号を検出してデジタルデータに変換した上で不揮発性メモリ6に記憶させる。このようにして測定用電圧の印加の全パターンが終了すると(S6でYES)、一連のアナログ特性のデジタルデータが不揮発性メモリ6に記憶され、測定処理を終了する。   Thereafter, the applied voltage adjustment circuit 8 generates the measurement initial voltage by changing it to a measurement voltage that is changed by a predetermined voltage, and applies it again to the semiconductor element 3a (S6, S7). Then, by repeatedly executing steps S2 to S5 described above, a signal having an analog characteristic when the changed measurement voltage is applied is detected and converted into digital data, which is then stored in the nonvolatile memory 6. When all patterns of measurement voltage application are completed in this manner (YES in S6), a series of analog characteristic digital data is stored in the nonvolatile memory 6 and the measurement process is terminated.

そして、次のアナログ特性の測定項目がある場合には、別のプログラムに従って半導体素子3aのアナログ特性を同様にして測定し、測定が終了した場合には、別の半導体素子3aあるいは回路3bのアナログ特性の測定処理を実施するようになる。ここで、アナログ特性としては、直流の静的な電圧を印加してそのときの電流値を測定する場合や、交流の動的な特性を測定するためのパルス信号などを印加してそのときの出力を測定する場合などが想定されており、これらに対応した印加電圧を生成して測定処理を行うように構成されている。   Then, when there is a measurement item of the next analog characteristic, the analog characteristic of the semiconductor element 3a is similarly measured according to another program, and when the measurement is completed, the analog of another semiconductor element 3a or the circuit 3b is measured. A characteristic measurement process is performed. Here, as an analog characteristic, when a DC static voltage is applied and the current value at that time is measured, or a pulse signal for measuring an AC dynamic characteristic is applied and the current value is The case where an output is measured etc. is assumed and it is comprised so that the applied voltage corresponding to these may be produced | generated and a measurement process may be performed.

直流の電流電圧特性のようなアナログ特性としては、例えば、オフ状態での電流電圧特性や、逆方向特性などや、オン状態での電流電圧特性などがある。また、交流的なアナログ特性としては、スイッチング特性や、位相余裕度など種々の特性の測定が対象として考えられる。   Examples of analog characteristics such as direct current voltage characteristics include current-voltage characteristics in the off state, reverse characteristics, and current-voltage characteristics in the on-state. Further, as the AC analog characteristics, various characteristics such as switching characteristics and phase margins can be measured.

このようにして半導体チップ1内の全ての被測定部3についてアナログ特性の測定が終了すると、一連の測定処理が終了する。測定された各被測定部3のアナログ特性のデジタルデータは不揮発性メモリ6内に記憶保続された状態となる。なお、測定処理は、一連の測定を1回行う構成とすることもできるし、複数回同じ測定処理を繰り返すことで信頼性の高いデータを得るようにしても良い。   In this way, when the measurement of the analog characteristics is completed for all the measured parts 3 in the semiconductor chip 1, a series of measurement processes is completed. The measured digital data of the analog characteristics of each measured part 3 is stored in the nonvolatile memory 6. Note that the measurement process may be configured to perform a series of measurements once, or to obtain highly reliable data by repeating the same measurement process a plurality of times.

この後、不揮発性メモリ6に設けられたデータ取り出し用の電極パッド6b、6bにプローブ針を接触させて内部に記憶されたアナログ特性のデジタルデータを取り出すことができる。このとき、読み出す情報はデジタルデータであるので、プローブ針による接触抵抗や浮遊容量の影響を受けにくい状態で一括して取得することができる。   Thereafter, the digital data having analog characteristics stored therein can be taken out by bringing the probe needle into contact with the electrode pads 6b, 6b for taking out data provided in the nonvolatile memory 6. At this time, since the information to be read is digital data, it can be acquired in a lump in a state where it is hardly affected by the contact resistance or stray capacitance by the probe needle.

このような本実施形態によれば、半導体ウエハW上に形成された半導体チップ1の被測定部3に対してアナログ特性の測定を行ってデジタルデータに変換する測定回路4と、デジタルデータとして半導体チップ2の不揮発性メモリ測定6に記憶させる構成としたので、プローブ針による所定電圧の外部電源の供給を行うだけで、測定回路4によりアナログ特性測定用の印加電圧を生成して順次印加することができ、プローブ針から直接測定用印加電圧を与える場合と異なり、接触抵抗や浮遊容量の影響を受けるのを極力低減した状態で測定を行うことができる。   According to the present embodiment as described above, the measurement circuit 4 that measures the analog characteristics of the measurement target portion 3 of the semiconductor chip 1 formed on the semiconductor wafer W and converts it into digital data, and the semiconductor as digital data. Since the nonvolatile memory measurement 6 of the chip 2 is stored, it is possible to generate an applied voltage for measuring the analog characteristics by the measurement circuit 4 and sequentially apply the voltage simply by supplying a predetermined voltage from the probe needle. Unlike the case where the applied voltage for measurement is directly applied from the probe needle, the measurement can be performed with the influence of the contact resistance and stray capacitance being reduced as much as possible.

発明者らの測定では、従来方式によるプローブを用いたアナログ特性の測定では、接触抵抗や寄生容量などの影響で、測定誤差が10〜20%程度発生していたものが、数%程度まで低減させることができている。寄生容量については、従来方式で100pF程度あったものが、本実施形態の構成によると1pF程度まで抑制することができている。   In the measurement by the inventors, in the measurement of analog characteristics using a probe according to the conventional method, a measurement error of about 10 to 20% due to the influence of contact resistance or parasitic capacitance is reduced to about several percent. Has been able to. With regard to the parasitic capacitance, what was about 100 pF in the conventional method can be suppressed to about 1 pF according to the configuration of the present embodiment.

また、測定結果のアナログ特性の信号をデジタルデータに変換した状態で記憶させるので、データの取り出しに際しても接触抵抗や浮遊容量の影響を受けることなく取得することができる。   In addition, since the analog characteristic signal of the measurement result is stored in a state converted into digital data, the data can be acquired without being affected by contact resistance or stray capacitance.

そして、アナログ特性のデジタルデータを一括して不揮発性メモリ6に記憶させた状態とするので、その間、プローブ針などの接触部分を介した状態としていないので、接触不良などの状態によるデータ取得失敗を無くして、迅速且つ正確な測定が行えるとともに、データの取り出しも一括して迅速に行うことができる。   And since the digital data of analog characteristics are collectively stored in the nonvolatile memory 6, the data acquisition failure due to the state of contact failure or the like is not performed during that time because the contact portion such as the probe needle is not used. Without this, quick and accurate measurement can be performed, and data can be quickly and collectively extracted.

さらに、被測定部3の半導体素子3aあるいは回路3bのアナログ特性を上記したような処理手順で測定するので、結果としてカーブトレーサやパラメータアナライザのような測定装置で測定したのと同等のデータを得ることができ、測定系の簡素化、低コスト化も図れるようになり、データ処理においても直接パソコンなどに取り込んでデジタルデータとして簡単に処理をすることができるようになる。   Further, since the analog characteristics of the semiconductor element 3a or the circuit 3b of the measured part 3 are measured by the processing procedure as described above, as a result, data equivalent to that measured by a measuring device such as a curve tracer or a parameter analyzer is obtained. In addition, the measurement system can be simplified and the cost can be reduced, and data processing can be easily performed as digital data by directly importing the data into a personal computer or the like.

なお、上記実施形態においては、測定回路4による測定処理を、図3に示すプログラム処理的な流れとして制御機能部によりプログラムによる処理で行うこともできるし、ハードウェア構成により実現することも可能である。   In the above embodiment, the measurement process by the measurement circuit 4 can be performed by a program by the control function unit as a program process flow shown in FIG. 3, or can be realized by a hardware configuration. is there.

(第2の実施形態)
図4は本発明の第2の実施形態を示すもので、第1の実施形態と異なるところは、半導体チップ2に設けた不揮発性メモリ6に対して複数個の半導体チップ1(1a〜1dの4個)を周囲に配置した構成としたところである。
(Second Embodiment)
FIG. 4 shows a second embodiment of the present invention. The difference from the first embodiment is that a plurality of semiconductor chips 1 (1a to 1d) are compared with the nonvolatile memory 6 provided in the semiconductor chip 2. FIG. 4) are arranged around the periphery.

半導体チップ1a〜1dは、第1の実施形態で示した半導体チップ1と同じもので、半導体チップ2の四辺部のスクライブラインWsを介して隣接する位置に配置されている。また、半導体チップ2には、不揮発性メモリ6に加えて選択回路部としてのセレクタ回路14が設けられている。セレクタ回路14は、4個の半導体チップ1a〜1dの各測定回路4から配線パターン7a〜7dによって接続されており、回路内部にて切り替え選択をして不揮発性メモリ6にデータを転送してチップ毎に記憶させる。   The semiconductor chips 1 a to 1 d are the same as the semiconductor chip 1 shown in the first embodiment, and are arranged at adjacent positions via the scribe lines Ws on the four sides of the semiconductor chip 2. In addition to the nonvolatile memory 6, the semiconductor chip 2 is provided with a selector circuit 14 as a selection circuit unit. The selector circuit 14 is connected to each of the measurement circuits 4 of the four semiconductor chips 1a to 1d by wiring patterns 7a to 7d. The selector circuit 14 performs switching selection inside the circuit and transfers the data to the nonvolatile memory 6 to chip. Remember every time.

各半導体チップ1a〜1dの被測定部3のアナログ特性の測定に際しては、第1の実施形態と同様にして、外部電源をプローブ針Pa、Pbを測定回路4の電極パッド4b、4bに接触させて給電することで行われる。各半導体チップ1a〜1dの測定回路4においては、外部電源が供給されるとチップ内の被測定部3である半導体素子3aあるいは回路3bのアナログ特性の測定を開始する。   When measuring the analog characteristics of the measured part 3 of each of the semiconductor chips 1a to 1d, the external power source is brought into contact with the probe needles Pa and Pb and the electrode pads 4b and 4b of the measuring circuit 4 as in the first embodiment. This is done by supplying power. In the measurement circuit 4 of each of the semiconductor chips 1a to 1d, when an external power supply is supplied, measurement of analog characteristics of the semiconductor element 3a or the circuit 3b, which is the part to be measured 3 in the chip, is started.

アナログ特性の測定は、図3に示した手順にて測定用印加電圧が順次印加され、各測定用印加電圧の印加時に得られる測定結果をデジタルデータに変換して半導体チップ2に転送する。半導体チップ2では、セレクタ回路14において入力された半導体チップ1a〜1dに応じて記憶アドレスを振り分けて不揮発性メモリ6に転送して記憶させる。不揮発性メモリ6内に各半導体チップ1a〜1d別に記憶した被測定部3のアナログ特性のデジタルデータは、電極パッド6b、6bにプローブ針を接触させて取り出すことができる。   In the measurement of the analog characteristics, the applied voltage for measurement is sequentially applied according to the procedure shown in FIG. 3, and the measurement result obtained when each applied voltage for measurement is applied is converted into digital data and transferred to the semiconductor chip 2. In the semiconductor chip 2, storage addresses are distributed according to the semiconductor chips 1 a to 1 d input in the selector circuit 14, transferred to the nonvolatile memory 6 and stored therein. Digital data of analog characteristics of the measured part 3 stored in the nonvolatile memory 6 for each of the semiconductor chips 1a to 1d can be taken out by contacting the probe pads with the electrode pads 6b and 6b.

このような第2の実施形態によれば、複数の半導体チップ1a〜1dの被測定部3のアナログ特性のデジタルデータを、セレクタ回路14を設けてチップ毎に一括して不揮発性メモリ6に記憶させるようにしたので、第1の実施形態の効果に加えて、4個の半導体チップ1a〜1dに1個の半導体チップ2を設ける構成でアナログ特性のデータを一括して記憶させることができる。   According to the second embodiment as described above, the digital data of the analog characteristics of the measured portions 3 of the plurality of semiconductor chips 1a to 1d is stored in the nonvolatile memory 6 collectively for each chip by providing the selector circuit 14. Therefore, in addition to the effects of the first embodiment, analog characteristic data can be stored in a lump with a configuration in which one semiconductor chip 2 is provided in four semiconductor chips 1a to 1d.

また、このように1つのブロックで5個のチップを十字状に配置するので、同様の他のブロックを配置する場合においても、多数のブロックを無駄なスペースを発生させることなく隙間なく配置をすることができる。   In addition, since five chips are arranged in a cross shape in one block in this way, even when other similar blocks are arranged, a large number of blocks can be arranged without generating a wasteful space. be able to.

なお、この実施形態では、1個の半導体チップ2に対して4個の半導体チップ1a〜1dを配置する構成としたが、これに限らず、2個や3個としても良いし、あるいは5個以上配置する構成としても良く、例えば8個を配置することでまとまったブロックを構成することもできる。   In this embodiment, four semiconductor chips 1a to 1d are arranged for one semiconductor chip 2. However, the present invention is not limited to this, and two or three chips may be used, or five chips. A configuration in which the blocks are arranged may be used, and for example, a group of blocks may be configured by arranging eight blocks.

(第3の実施形態)
図5は本発明の第3の実施形態を示すもので、第2の実施形態と異なるところは、4個の半導体チップ1a〜1dを列状に配置したところである。この場合には、半導体チップ2を中心として、その両側の一方側に半導体チップ1a、1bを配置し、反対側に半導体チップ1c、1dを配置している。各半導体チップ1a〜1dの測定回路4は、配線パターン7a〜7dをそれぞれ介して半導体チップ2のセレクタ回路14に電気的に接続されている。各半導体チップ1a〜1dの電極パッド4bおよび半導体チップ2の電極パッド6bは図示を省略している。
(Third embodiment)
FIG. 5 shows a third embodiment of the present invention. The difference from the second embodiment is that four semiconductor chips 1a to 1d are arranged in a line. In this case, the semiconductor chips 1a and 1b are arranged on one side of both sides of the semiconductor chip 2, and the semiconductor chips 1c and 1d are arranged on the opposite side. The measurement circuit 4 of each semiconductor chip 1a to 1d is electrically connected to the selector circuit 14 of the semiconductor chip 2 via wiring patterns 7a to 7d, respectively. The electrode pads 4b of the semiconductor chips 1a to 1d and the electrode pads 6b of the semiconductor chip 2 are not shown.

以上のような構成を採用するので、第1の実施形態における作用効果を得る事ができるとともに、第2の実施形態における作用効果も得ることができる。また、同様に、複数のブロックを配置する場合も隙間なく配置することができる。   Since the configuration as described above is employed, the operational effects in the first embodiment can be obtained, and the operational effects in the second embodiment can also be obtained. Similarly, when a plurality of blocks are arranged, they can be arranged without a gap.

なお、この実施形態においても、4個の半導体チップ1a〜1dに限らず、所望する個数の半導体チップ1を配置する構成とすることができる。
また、配線パターン7a〜7dは、直接半導体チップ2のセレクタ回路14に接続する構成としたが、例えば、半導体チップ1a(1d)においては、半導体チップ1b(1c)の測定回路4に接続する構成とし、半導体チップ1b(1c)の測定回路4を経由してセレクタ回路14に転送するように構成しても良い。
In this embodiment as well, not only the four semiconductor chips 1a to 1d but also a desired number of semiconductor chips 1 can be arranged.
The wiring patterns 7a to 7d are directly connected to the selector circuit 14 of the semiconductor chip 2. For example, in the semiconductor chip 1a (1d), the wiring patterns 7a to 7d are connected to the measuring circuit 4 of the semiconductor chip 1b (1c). The data may be transferred to the selector circuit 14 via the measurement circuit 4 of the semiconductor chip 1b (1c).

(第4の実施形態)
図6は本発明の第4の実施形態を示すもので、第1の実施形態と異なるところは、半導体チップ2を設ける代わりに、アナログ特性のデジタルデータを直接取得するようにしたところである。すなわち、半導体チップ1の測定回路4には、例えば2本のデータ取り出し用の配線パターン4cが導出されその先端に電極パッド4dが設けられた構成とされている。電極パッド4dは、デジタルデータを取得するためのプローブ針Pc、Pdが接触できるように設けられている。
(Fourth embodiment)
FIG. 6 shows a fourth embodiment of the present invention. The difference from the first embodiment is that instead of providing the semiconductor chip 2, digital data having analog characteristics is directly acquired. That is, the measurement circuit 4 of the semiconductor chip 1 has a configuration in which, for example, two wiring patterns 4c for extracting data are led out and electrode pads 4d are provided at the tips thereof. The electrode pad 4d is provided so that probe needles Pc and Pd for acquiring digital data can come into contact with each other.

上記構成としているので、アナログ特性の測定で、各測定用印加電圧の印加時に得られる測定結果がデジタルデータに変換されると、そのデジタルデータはプローブ針Pc、Pdにより外部に取り出すことができる。このようにして、順次測定されるアナログ特性のデータはデジタルデータとしてプローブ針Pc、Pdにより直接取り出すことができる。   With the above configuration, when the measurement result obtained when applying each measurement applied voltage is converted into digital data in the measurement of analog characteristics, the digital data can be extracted to the outside by the probe needles Pc and Pd. In this way, the analog characteristic data sequentially measured can be directly taken out as digital data by the probe needles Pc and Pd.

この場合に、プローブ針Pa、Pbにより外部電源を供給し、プローブ針Pc、Pdにより測定データを取り出すという構成においては、従来のプローブ針による半導体ウエハW上の半導体チップの測定という外見上では同じであるが、外部電源は測定回路4において測定用印加電圧に変換されて被測定部3に与えられ、その時の測定結果はデジタルデータに変換した状態で取り出すことができるので、プローブ針の接触による接触抵抗の影響や浮遊容量の影響を受けたり、取り出すデータがノイズなどにより影響を受けたりすることを極力防止して、正確なアナログ特性の測定を行うことができる。
なお、測定に用いるデータ取り出し用のプローブPc、Pdは、2本に限らず、必要に応じて複数本用いて行うことができる。
In this case, the configuration in which the external power is supplied by the probe needles Pa and Pb and the measurement data is taken out by the probe needles Pc and Pd is the same in terms of the measurement of the semiconductor chip on the semiconductor wafer W by the conventional probe needles. However, the external power supply is converted into a measurement applied voltage in the measurement circuit 4 and applied to the measured part 3, and the measurement result at that time can be taken out in a state converted into digital data. Accurate analog characteristics can be measured by preventing the influence of contact resistance and stray capacitance, and the influence of the extracted data from noise.
Note that the number of data extraction probes Pc and Pd used for measurement is not limited to two, and a plurality of probes can be used as necessary.

(第5の実施形態)
図7は本発明の第5の実施形態を示すもので、第1の実施形態と異なるところは、半導体チップ1と2との間の配線パターン7を設ける代わりに、データ転送用の短絡状態を形成するプローブ針Pe、Pfを接続することで測定を行う構成としたところである。
(Fifth embodiment)
FIG. 7 shows a fifth embodiment of the present invention. The difference from the first embodiment is that instead of providing the wiring pattern 7 between the semiconductor chips 1 and 2, a short-circuit state for data transfer is provided. The configuration is such that measurement is performed by connecting the probe needles Pe and Pf to be formed.

この場合には、半導体チップ1においては、測定回路4のデジタルデータを出力する部分に配線パターン4cを設け、その先端に電極パッド4dを形成している。また、半導体チップ2においては、不揮発性メモリ6のデータを取り込む部分に配線パターン6aを設け、その先端に電極パッド6bを形成している。そして、電極パッド4dと6bとにそれぞれ電気的に短絡接続しているプローブ針Pe、Pfを接触させ、測定回路4からデジタルデータを不揮発性メモリ6に転送するようにしている。   In this case, in the semiconductor chip 1, a wiring pattern 4c is provided at a portion where the digital data of the measurement circuit 4 is output, and an electrode pad 4d is formed at the tip thereof. Further, in the semiconductor chip 2, a wiring pattern 6a is provided at a portion for taking in data of the nonvolatile memory 6, and an electrode pad 6b is formed at the tip thereof. The probe needles Pe and Pf that are electrically short-circuited to the electrode pads 4 d and 6 b are brought into contact with each other, and the digital data is transferred from the measurement circuit 4 to the nonvolatile memory 6.

なお、ここでは電極パッド4dと6bとの一対を設ける構成としているが、データ転送に必要な数の電極パッドを設け、それらの間を短絡接続したプローブ針を接触させることで両者の間を接続するようにすれば良い。   Here, a pair of electrode pads 4d and 6b is provided, but the number of electrode pads necessary for data transfer is provided, and a probe needle that is short-circuited between them is connected to connect the two. You should do it.

このような第5の実施形態によれば、第1の実施形態と同様の作用効果が得られるとともに、半導体チップ1と2との間に配線パターンを設けないので、スクライブラインWsを跨ぐ配線パターンを設ける第2の実施形態の構成に比べ、各半導体チップ1をスクライブして分離する場合でも、切断後の半導体チップ1に配線パターン部分での短絡状態の発生などを起こすのを回避でき、スクライブ後にそのまま製品として利用することができるようになる。   According to the fifth embodiment as described above, the same operational effects as those of the first embodiment can be obtained, and no wiring pattern is provided between the semiconductor chips 1 and 2, so that the wiring pattern straddling the scribe line Ws. Compared to the configuration of the second embodiment in which the semiconductor chip 1 is scribed, even when each semiconductor chip 1 is scribed and separated, it is possible to avoid the occurrence of a short-circuit state in the wiring pattern portion in the semiconductor chip 1 after cutting. It can be used as a product later.

(第6の実施形態)
図8は本発明の第6の実施形態を示すもので、第4の実施形態と異なるところは、半導体チップ1と2との間の電気的接続を配線パターンによらず、プローブ針Pc、Pdの接触により短絡状態を形成するようにしたところである。測定を行う半導体チップ1a〜1dのいずれかに図示していない外部電源からの電源供給を行うと、測定回路4は前述同様の測定処理を開始する。セレクタ回路14は、プローブ針Pc、Pdにより短絡された半導体チップ1a〜1dのいずれかの測定回路4から出力されるアナログ特性のデジタルデータを入力して不揮発性メモリ6に記憶させる。
このような第6の実施形態によっても、第4の実施形態と同様の作用効果を得る事ができるとともに、第5の実施形態の効果も得ることができる。
(Sixth embodiment)
FIG. 8 shows a sixth embodiment of the present invention. The difference from the fourth embodiment is that the electrical connection between the semiconductor chips 1 and 2 is not related to the wiring pattern, but the probe needles Pc and Pd. A short-circuit state is formed by contact of the above. When power is supplied from an external power source (not shown) to any of the semiconductor chips 1a to 1d to be measured, the measurement circuit 4 starts the same measurement process as described above. The selector circuit 14 inputs analog data digital data output from the measurement circuit 4 of any one of the semiconductor chips 1 a to 1 d short-circuited by the probe needles Pc and Pd and stores the digital data in the nonvolatile memory 6.
Also according to the sixth embodiment, the same effects as those of the fourth embodiment can be obtained, and the effects of the fifth embodiment can also be obtained.

(他の実施形態)
なお、本発明は、上述した一実施形態のみに限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々の実施形態に適用可能であり、例えば、以下のように変形または拡張することができる。
(Other embodiments)
In addition, this invention is not limited only to one embodiment mentioned above, It can apply to various embodiment in the range which does not deviate from the summary, For example, it can deform | transform or expand as follows. .

半導体チップ1には、被測定部3として半導体素子3aおよび回路3bが設けられたものとして説明したが、これに限らず、半導体素子3aのみのものでも良いし、回路3bのみのものでも良い。また、被測定部3として、複数のものを設ける構成で示したが、被測定部としては半導体素子3aあるいは回路3bが1個だけ配置されたものにも適用できる。   The semiconductor chip 1 has been described as being provided with the semiconductor element 3a and the circuit 3b as the part to be measured 3. However, the present invention is not limited to this, and the semiconductor chip 1 alone or the circuit 3b alone may be used. In addition, although a configuration in which a plurality of parts to be measured 3 are provided is shown, the part to be measured can be applied to a structure in which only one semiconductor element 3a or circuit 3b is arranged.

アナログ特性の測定内容として、静特性である電流電圧特性と動特性である過渡特性を測定する場合を示したが、他のアナログ特性のデータを取得する場合にも適用できる。
上記各実施形態は、さらに他の実施形態との組み合わせによる実施形態とすることもできる。
As the measurement contents of the analog characteristics, the case where the current-voltage characteristics which are static characteristics and the transient characteristics which are dynamic characteristics are measured has been shown, but the present invention can also be applied when acquiring data of other analog characteristics.
Each said embodiment can also be made into embodiment by a combination with other embodiment.

図面中、1、1a〜1dは半導体チップ(第1のチップ領域)、2は半導体チップ(第2のチップ領域)、3は被測定部、3aは半導体素子、3bは回路、4は測定回路、4bは電極パッド、4dは電極パッド(第1の電極パッド)、6は不揮発性メモリ(記憶部)、6bは電極パッド(第2の電極パッド)、7、7a〜7dは配線パターン、8は印加電圧調整回路(電源回路)、11はAD変換回路(変換回路)、13はメモリ制御回路、14はセレクタ回路(選択回路部)、14bは電極パッド(第2の電極パッド)である。   In the drawings, 1, 1a to 1d are semiconductor chips (first chip areas), 2 is a semiconductor chip (second chip areas), 3 is a part to be measured, 3a is a semiconductor element, 3b is a circuit, 4 is a measurement circuit 4b is an electrode pad, 4d is an electrode pad (first electrode pad), 6 is a nonvolatile memory (storage unit), 6b is an electrode pad (second electrode pad), 7, 7a to 7d are wiring patterns, 8 Is an applied voltage adjustment circuit (power supply circuit), 11 is an AD conversion circuit (conversion circuit), 13 is a memory control circuit, 14 is a selector circuit (selection circuit unit), and 14b is an electrode pad (second electrode pad).

Claims (16)

アナログ特性の被測定部となる素子あるいは回路が少なくとも一つ形成された被測定部と、前記被測定部の前記素子あるいは回路のアナログ特性を測定するための測定回路とを備え、
前記測定回路は、外部から給電を受けるとアナログ特性測定用の印加電圧を前記被測定部に出力する電源回路と、
前記アナログ特性測定用の印加電圧に応じて前記被測定部の出力を取り込んでデジタルデータに変換して出力する変換回路と、
を含んで構成されていることを特徴とする半導体装置。
A device under test in which at least one element or circuit serving as a device under test of analog characteristics is formed, and a measurement circuit for measuring the analog characteristics of the device or circuit of the device under test;
The measurement circuit is a power supply circuit that outputs an applied voltage for measuring an analog characteristic to the measured part when power is supplied from the outside;
A conversion circuit that takes in the output of the measured part according to the applied voltage for measuring the analog characteristics, converts it into digital data, and outputs it,
A semiconductor device comprising:
請求項1に記載の半導体装置において、
前記変換回路から出力される前記アナログ特性の測定結果のデジタルデータを記憶するための記憶部を備えたことを特徴とする半導体装置。
The semiconductor device according to claim 1,
A semiconductor device comprising: a storage unit for storing digital data of the measurement result of the analog characteristics output from the conversion circuit.
請求項2に記載の半導体装置において、
前記被測定部、前記測定回路が形成される第1のチップ領域と、
前記記憶部が形成される第2のチップ領域と、
前記第1のチップ領域の前記測定回路のデジタル信号の出力部と前記第2のチップ領域の前記記憶部のデータ入力部との間を電気的に接続する配線パターンと
を備えたことを特徴とする半導体装置。
The semiconductor device according to claim 2,
A first chip region in which the measurement target and the measurement circuit are formed;
A second chip region in which the storage unit is formed;
And a wiring pattern for electrically connecting a digital signal output portion of the measurement circuit in the first chip region and a data input portion of the storage portion in the second chip region. Semiconductor device.
請求項3に記載の半導体装置において、
前記第1のチップ領域を複数備え、
前記第2のチップ領域に形成される前記記憶部は、前記複数の第1のチップの前記測定回路の出力するデジタルデータがそれぞれ前記配線パターンを介して入力されるとこれを記憶するように設けられていることを特徴とする半導体装置。
The semiconductor device according to claim 3.
A plurality of the first chip regions;
The storage unit formed in the second chip region is provided to store digital data output from the measurement circuit of the plurality of first chips when the digital data is input through the wiring pattern, respectively. A semiconductor device characterized in that the semiconductor device is provided.
請求項2に記載の半導体装置において、
前記被測定部、前記測定回路が形成される第1のチップ領域と、
前記記憶部が形成される第2のチップ領域と、
前記第1のチップ領域内に形成され、前記測定回路のデジタル信号の出力端子に接続される第1の電極パッドと、
前記第2のチップ領域内に形成され、前記記憶部のデータ入力端子に接続される第2の電極パッドとを備え、
前記第1の電極パッドと前記第2の電極パッドとのそれぞれに短絡用のプローブ針を接触させることで両者の間を電気的に接続可能に構成したことを特徴とする半導体装置。
The semiconductor device according to claim 2,
A first chip region in which the measurement target and the measurement circuit are formed;
A second chip region in which the storage unit is formed;
A first electrode pad formed in the first chip region and connected to an output terminal of a digital signal of the measurement circuit;
A second electrode pad formed in the second chip region and connected to a data input terminal of the storage unit,
A semiconductor device, wherein a short-circuit probe needle is brought into contact with each of the first electrode pad and the second electrode pad so that the two can be electrically connected to each other.
請求項5に記載の半導体装置において、
前記第1の電極パッドを備えた前記第1のチップ領域を複数備え、
前記第2のチップ領域に形成される前記記憶部は、前記複数の第1のチップの前記測定回路の出力するデジタルデータがそれぞれ前記第1の電極パッドと前記第2の電極パッドとの間をプローブ針で短絡接続されることにより入力され、前記アナログ特性データを記憶するように設けられていることを特徴とする半導体装置。
The semiconductor device according to claim 5,
A plurality of the first chip regions including the first electrode pads;
In the storage unit formed in the second chip region, the digital data output from the measurement circuit of the plurality of first chips is between the first electrode pad and the second electrode pad, respectively. A semiconductor device, which is provided so as to be inputted by being short-circuited by a probe needle and to store the analog characteristic data.
請求項5または6に記載の半導体装置において、
前記第2のチップ領域に形成され、前記複数の第1のチップ領域に対応してそのそれぞれの前記測定回路から出力されるデジタル信号を選択的に前記記憶部に入力するように設けられた選択回路部を備えたことを特徴とする半導体装置。
The semiconductor device according to claim 5 or 6,
A selection provided to selectively input a digital signal output from each of the measurement circuits corresponding to the plurality of first chip regions to the storage unit, which is formed in the second chip region. A semiconductor device comprising a circuit portion.
請求項5ないし7のいずれかに記載の半導体装置において、
前記複数の第1のチップ領域は、前記第2のチップ領域を中心としてその周囲に配置形成されていることを特徴とする半導体装置。
The semiconductor device according to any one of claims 5 to 7,
The semiconductor device according to claim 1, wherein the plurality of first chip regions are arranged and formed around the second chip region.
請求項5ないし7のいずれかに記載の半導体装置において、
前記複数の第1のチップ領域は、前記第2のチップ領域に対して列状に配置形成されていることを特徴とする半導体装置。
The semiconductor device according to any one of claims 5 to 7,
The plurality of first chip regions are arranged and formed in a row with respect to the second chip region.
請求項1ないし9のいずれかに記載の半導体装置において、
前記測定回路は、前記アナログ特性として前記被測定部の直流の電流電圧特性を測定するように構成されていることを特徴とする半導体装置。
The semiconductor device according to claim 1,
2. The semiconductor device according to claim 1, wherein the measurement circuit is configured to measure a direct current voltage characteristic of the measurement target portion as the analog characteristic.
請求項1ないし10のいずれかに記載の半導体装置において、
前記測定回路は、前記アナログ特性として前記被測定部の交流の過渡特性を測定するように構成されていることを特徴とする半導体装置。
The semiconductor device according to claim 1,
2. The semiconductor device according to claim 1, wherein the measuring circuit is configured to measure an AC transient characteristic of the measurement target portion as the analog characteristic.
請求項1ないし11のいずれかに記載の半導体装置において、
前記測定回路は、
外部から電源が印加されると、
前記電源回路から供給される電源を前記被測定部に印加する過程と、前記被測定部の状態が安定するまで待機する過程と、前記被測定部の出力信号を測定する過程と、測定結果を前記変換回路に与えてデジタル信号に変換させる過程とからなる測定ステップを繰り返し実行するように構成され、
前記測定ステップを実行する際には、前記電源回路から供給されるアナログ特性測定用の電源を、最初の測定ステップでは初期電圧を印加し、以後の測定ステップでは前回の測定ステップから予め設定された電圧だけ変化させた印加電圧を印加することを特徴とする半導体装置。
The semiconductor device according to claim 1,
The measurement circuit includes:
When power is applied from the outside,
A process of applying power supplied from the power supply circuit to the device under test, a process of waiting until the state of the device under test stabilizes, a process of measuring an output signal of the device under test, and a measurement result It is configured to repeatedly execute a measurement step consisting of a process of giving to the conversion circuit and converting it into a digital signal,
When executing the measurement step, an analog characteristic measurement power source supplied from the power supply circuit is applied in the first measurement step, and an initial voltage is applied in the subsequent measurement step, which is preset from the previous measurement step. A semiconductor device, wherein an applied voltage changed by a voltage is applied.
半導体装置に設けられる素子あるいは回路からなる被測定部のアナログ特性を測定する半導体装置の測定方法であって、
前記半導体装置に、前記被測定部の前記素子あるいは回路のアナログ特性を測定するための測定回路を設け、この測定回路に外部から給電を受けるとアナログ特性測定用の電源に変換して前記測定回路に供給する電源回路と、前記測定回路により測定されたアナログ特性の測定結果をデジタル信号に変換して出力する変換回路と設け、
前記電源回路に対して外部から電源を供給することで、前記測定回路により、前記被測定部に対するアナログ特性測定用の電源として複数段階に分けて変化させる電圧を供給させ、電圧印加時の前記被測定部のアナログ出力を前記変換回路によりデジタル信号に変換してデジタルデータとして出力させることを特徴とする半導体装置の測定方法。
A method for measuring a semiconductor device for measuring an analog characteristic of a part to be measured including an element or a circuit provided in a semiconductor device,
The semiconductor device is provided with a measurement circuit for measuring an analog characteristic of the element or circuit of the part to be measured, and when the measurement circuit receives power from the outside, the measurement circuit converts the analog circuit to a power source for measuring the analog characteristic. A power supply circuit that supplies power, and a conversion circuit that converts the measurement result of the analog characteristics measured by the measurement circuit into a digital signal and outputs the digital signal,
By supplying power to the power supply circuit from the outside, the measurement circuit supplies a voltage that is changed in multiple stages as a power supply for measuring the analog characteristics of the measured part, and the power supply circuit is supplied with the voltage at the time of voltage application. A method for measuring a semiconductor device, wherein the analog output of a measurement unit is converted into a digital signal by the conversion circuit and output as digital data.
請求項13に記載の半導体装置の測定方法において、
前記電源回路に対して外部電源から給電プローブ針により電源を供給し、
前記変換回路から出力されるデジタルデータをデータプローブ針により取り出すことを特徴とする半導体装置の測定方法。
The method for measuring a semiconductor device according to claim 13,
Supply power from the external power supply to the power supply circuit by a power supply probe needle,
A method for measuring a semiconductor device, characterized in that digital data output from the conversion circuit is extracted by a data probe needle.
請求項13に記載の半導体装置の測定方法において、
前記半導体装置にデジタルデータを記憶する記憶部を設け、
前記電源回路に対して外部電源から給電プローブ針により電源を供給し、
前記測定回路から出力されるデジタルデータを前記記憶部に記憶させ、
前記被測定部の測定の終了後に前記記憶部に記憶したデジタルデータを外部に取り出すことを特徴とする半導体装置の測定方法。
The method for measuring a semiconductor device according to claim 13,
A storage unit for storing digital data in the semiconductor device;
Supply power from the external power supply to the power supply circuit by a power supply probe needle,
The digital data output from the measurement circuit is stored in the storage unit,
A method for measuring a semiconductor device, comprising: taking out digital data stored in the storage unit after measurement of the measurement target unit is completed.
請求項15に記載の半導体装置の測定方法において、
前記記憶部は複数の被測定部に対応して設けられていることを特徴とする半導体装置の測定方法。
In the measuring method of the semiconductor device according to claim 15,
The method of measuring a semiconductor device, wherein the storage unit is provided corresponding to a plurality of measured parts.
JP2011130112A 2011-06-10 2011-06-10 Semiconductor device and measuring method of semiconductor device Expired - Fee Related JP5617768B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011130112A JP5617768B2 (en) 2011-06-10 2011-06-10 Semiconductor device and measuring method of semiconductor device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011130112A JP5617768B2 (en) 2011-06-10 2011-06-10 Semiconductor device and measuring method of semiconductor device

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2012255749A true JP2012255749A (en) 2012-12-27
JP5617768B2 JP5617768B2 (en) 2014-11-05

Family

ID=47527440

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2011130112A Expired - Fee Related JP5617768B2 (en) 2011-06-10 2011-06-10 Semiconductor device and measuring method of semiconductor device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5617768B2 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20170067797A (en) * 2014-10-02 2017-06-16 자일링크스 인코포레이티드 In-die transistor characterization in an ic

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61169025A (en) * 1985-01-23 1986-07-30 Hitachi Ltd Semiconductor integrated circuit
JPH05273313A (en) * 1992-03-27 1993-10-22 Yamaha Corp Formation of test circuit
JPH09197024A (en) * 1996-01-17 1997-07-31 Toshiba Ave Corp Testing circuit and digital ic incorporating the testing circuit
JP2001134458A (en) * 1999-09-03 2001-05-18 Advantest Corp Method and constitution for testing embedded analog and mixed signal core of system on chip
JP2001210685A (en) * 1999-11-19 2001-08-03 Hitachi Ltd Test system and method of manufacturing semiconductor integrated circuit device
JP2001358586A (en) * 2000-06-13 2001-12-26 Matsushita Electric Ind Co Ltd Semiconductor integrated circuit and a/d converter testing method
JP2004093198A (en) * 2002-08-29 2004-03-25 Matsushita Electric Ind Co Ltd Electronic device having self-diagnosis function
JP2007294028A (en) * 2006-04-26 2007-11-08 Matsushita Electric Ind Co Ltd Test circuit and test method

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61169025A (en) * 1985-01-23 1986-07-30 Hitachi Ltd Semiconductor integrated circuit
JPH05273313A (en) * 1992-03-27 1993-10-22 Yamaha Corp Formation of test circuit
JPH09197024A (en) * 1996-01-17 1997-07-31 Toshiba Ave Corp Testing circuit and digital ic incorporating the testing circuit
JP2001134458A (en) * 1999-09-03 2001-05-18 Advantest Corp Method and constitution for testing embedded analog and mixed signal core of system on chip
JP2001210685A (en) * 1999-11-19 2001-08-03 Hitachi Ltd Test system and method of manufacturing semiconductor integrated circuit device
JP2001358586A (en) * 2000-06-13 2001-12-26 Matsushita Electric Ind Co Ltd Semiconductor integrated circuit and a/d converter testing method
JP2004093198A (en) * 2002-08-29 2004-03-25 Matsushita Electric Ind Co Ltd Electronic device having self-diagnosis function
JP2007294028A (en) * 2006-04-26 2007-11-08 Matsushita Electric Ind Co Ltd Test circuit and test method

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20170067797A (en) * 2014-10-02 2017-06-16 자일링크스 인코포레이티드 In-die transistor characterization in an ic
JP2017537459A (en) * 2014-10-02 2017-12-14 ザイリンクス インコーポレイテッドXilinx Incorporated In-die transistor characteristics evaluation with IC
KR102482439B1 (en) 2014-10-02 2022-12-27 자일링크스 인코포레이티드 In-die transistor characterization in an ic

Also Published As

Publication number Publication date
JP5617768B2 (en) 2014-11-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7782073B2 (en) High accuracy and universal on-chip switch matrix testline
JP2006518532A5 (en)
CN104237577B (en) The method and apparatus of wafer sort
CN109037090B (en) Multi-test type probe card and corresponding test system
KR101148917B1 (en) Manufacturing method and wafer unit for testing
JP5617768B2 (en) Semiconductor device and measuring method of semiconductor device
TWI485413B (en) Burn-in tester
US7259579B2 (en) Method and apparatus for semiconductor testing utilizing dies with integrated circuit
JP6016415B2 (en) Inspection data creation device and circuit board inspection device
JP5438572B2 (en) Probe card inspection apparatus, inspection method and inspection system
US9030221B2 (en) Circuit structure of test-key and test method thereof
US20170082687A1 (en) De-bugging environment with smart card
TWI653852B (en) Signal quality detection circuit and associated signal quality detection method
JP2014142303A (en) Semiconductor device and semiconductor testing system
CN103852675A (en) On-line test fixture with pneumatic probes
TW508442B (en) Integrated semiconductor circuit and method for functional testing of pad cells
JP4811986B2 (en) Inspection method of semiconductor integrated circuit
Cabrini et al. A compact low-cost test equipment for thermal and electrical characterization of integrated circuits
CN113433479B (en) Programmable power supply test system, simulation method, device, storage medium and terminal
TWI708305B (en) Improved method of mass sampling test for wafer process yield analysis
JP2010165819A (en) Apparatus and method for testing semiconductor integrated circuits
CN103630718A (en) Oscilloscope
TW200921112A (en) Power source stabilizing circuit, electronic device and testing instrument
JP3330866B2 (en) Semiconductor signal line connection confirmation method and device
JP2004119774A (en) Semiconductor device

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20130801

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20131210

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20131211

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20140122

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20140819

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20140901

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 5617768

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees