JP2012216691A - 載置台およびプラズマ処理装置 - Google Patents
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Abstract
本発明の実施形態では、ずれを防止し、取り替え作業を容易に実施できる保護層を有した載置台を提供する。
【解決手段】
載置台10は、ウェーハWを載置する載置面4を有する電極本体2と、前記載置面4に設けられ、紫外光を照射されることによって前記載置面4に対する粘着力が可変となる着脱自在な保護層3とを有することを特徴とする。また、載置台10をプラズマ処理装置100に適用し、プラズマ発生時の紫外光を用いて、保護層3の粘着力を可変とする。
【選択図】 図2
Description
被処理物を載置する載置面を有する電極本体と、
前記載置面に設けられ、紫外光を照射されることによって前記載置面に対する粘着力が可変となる着脱自在な保護層とを有することを特徴としている。
大気圧よりも減圧された雰囲気を維持可能な処理容器と、
前記処理容器の内部を所定の圧力まで減圧する減圧部と、
前記処理容器の内部に設けられた被処理物を載置する載置台と、
前記処理容器の内部にプラズマを発生させるプラズマ発生部と、
前記載置台の前記被処理物を載置する載置面に対しての粘着力が紫外光を照射されることによって変化する保護層を有することを特徴としている。
104a 第一の電位供給線、104b 第二の電位供給線、105 減圧部、106 排気配管、107 上部ガスノズル、108 ガス導入孔、109 プロセスガス供給部
G プロセスガス、P プラズマ、W 被処理物
Claims (5)
- 被処理物を載置する載置面を有する電極本体と、
前記載置面に設けられ、紫外光を照射されることによって前記載置面に対する粘着力が可変となる着脱自在な保護層とを有することを特徴とした載置台。 - 前記保護層は紫外光を照射することで粘着力が小さくなる材質であることを特徴とする請求項1記載の載置台。
- 大気圧よりも減圧された雰囲気を維持可能な処理容器と、
前記処理容器の内部を所定の圧力まで減圧する減圧部と、
前記処理容器の内部に設けられた被処理物を載置する載置台と、
前記処理容器の内部にプラズマを発生させるプラズマ発生部と、
前記載置台の前記被処理物を載置する載置面に対しての粘着力を照射されることによって変化する保護層を有することを特徴としたプラズマ処理装置。 - 前記保護層は基板処理中には粘着力を有し、前記被処理物処理後は着脱自在となる程度に粘着力が小さくなることを特徴とした請求項3記載のプラズマ処理装置。
- 前記保護層に紫外光を照射する光ランプを有することを特徴とした請求項3または請求項4記載のプラズマ処理装置。
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