JP2012215763A - 脆性rfidラベル - Google Patents
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Abstract
【解決手段】非接触で外部装置とデータの送受信を行うRFIDラベルであって、ラベル基材上に設けられたアンテナとして機能する導電層と、前記アンテナに接合されたICチップと、更にRFIDラベルを被着体に貼付けるための接着層を配置して成るRFIDラベルにおいて、前記ラベル基材の厚みが5μm以上20μm以下で、かつ前記ラベル基材の、接着層と接するラベル裏面に、長さがラベル基材の厚みの3分の1以上で、かつ平面方向に300μm以下の間隔で、深さ方向にハーフカットを設けた。
【選択図】図1
Description
防止媒体として利用することができる。
そうと悪意をもってはがそうとした際、目視できないため、関係者以外はハーフカットが設けられていることに気が付かず、ラベル基材を壊してしまう。
本発明のRFIDラベルAにおいては、ラベル基材1は厚み34の薄いフィルムを用いる。厚み34としては、5μm以上20μm以下が好ましい。材質としては、絶縁性材料であれば特に限定されるものではなく、例えばPET、PVC、ABS等を用いることができる。更にこのラベル基材1には、図1、図6に示すように、深さ方向にハーフカット5を設ける。ハーフカットの大きさ32は、視認できない300μm以下で、深さ31としては、ラベル基材1厚み34の3分の1以上の深さ31が好ましく、従って、ハーフカットのアスペクト比は300:1.7以上で、深さ31方向に深いことが好ましい。
OVD機能層2は転写箔としてラベル基材1のアンテナ3の反対面に設けられる。OVD転写箔の作製方法としては、一般的な方法が可能であり、例えば、図5に示すように、支持体11に剥離保護層22を塗布し、その上にエンボス加工を施したホログラム形成層23を設け、更にアルミ薄膜層24、マスク層25、接着層26を設けた構成があげられる。
OVD機能層2は、アンテナ3の電波通信を阻害しないように、導電性を示さないことが必要である。したがって、例えばホログラム形成層23上に金属薄膜層24を設けたOVD機能層2を作製した後に、エッチング法を用いて格子状に蒸着膜を切る方法がとられる。この場合、ホログラムの光学的機能を失わないように、10μm以下のラインで切ることが好ましい。他にも、導電性を示さない方法であれば適宜使用できる。例えば、見る角度により色の変化(カラーシフト)を生じさせる方法として、光学特性の異なるセラミックスの薄膜を多層に積層して多層薄膜構造とさせる方法を用いることもできる。
アンテナ3の形成方法としては、導電性ペーストを印刷によってパターン状に塗布して形成する方法などを用いることができる。該導電性ペーストの導電性材料としては、銀系が好ましい。例としては、バインダーとしての樹脂と溶剤と微細な銀粒子を含む銀ペーストなどがあげられる。
択して用いることができる。また、超音波などにより、直接接合してもよい。
ハーフカット5の方法としては、一般的な方法が可能であり、例えば、抜き刃や針を用いた加工やレザー光などを用いた加工で形成することができる。また、このハーフカット5は後述するアンテナ3に重ならないように設けることが好ましい。これにより、アンテナ3の表面性を荒らすことないため、通信特性を阻害することなくラベル基材2の脆弱性を高めることができる。
接着層6の材料としては、アクリル系の熱接着剤、ホットメルト樹脂(例えば、ポリアミド、ウレタン、EVA等)、あるいは粘着剤等などを用いることができるが、本発明はこれに限定されるわけではない。また、接着層6の表面には、容易に剥離できるような離型シート7が仮粘着されている。
離型シート7としては、紙製又はプラスチック製のシートにシリコン樹脂などの離型剤層がコーティングなどによって積層されているセパレータを用いることができる。
なお、ラベル基材1が透明の場合には、前記アンテナ3が表面から見えないように、隠蔽層8を設けることも可能であり、導電性を示さない有機高分子樹脂が適用される。例えば、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、セルロース系樹脂、ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂、ビニル系樹脂等の熱可塑性樹脂や、反応性水酸基を有するアクリルポリオールやポリエステルポリオール等にポリイソシアネートを架橋剤として添加、架橋したウレタン樹脂や、メラミン系樹脂、フェノール系樹脂等の熱硬化樹脂、エポキシ(メタ)アクリル、ウレタン(メタ)アクリレート等の電離放射線(紫外線あるいは電子線)硬化樹脂を、単独もしくはこれらを複合して使用できる。
次に、本発明の具体的な実施例について説明する。
ポリエチレンWAX 0.1重量部
MEK(メチルエチルケトン) 59.9重量部
トルエン 30重量部
OVD形成層の実施組成を以下に示す。
MEK 50重量部
トルエン 25重量部
接着層の実施組成を以下に示す。
アクリル樹脂 5重量部
酢酸エチル 50重量部
酢酸ブチル 30重量部
RFIDタグの形成は50μmの厚さのPETフィルム(支持体)と15μm厚さのPETフィルム(ラベル基材1)を軽粘着で貼り合せたフィルムに、レザー光を用いて、直径200μm、深さ方向7.5μm、平面方向200μmピッチになるようにハーフカットを施した。次に、被着体と同色のエポキシ樹脂ベースのインキをラベル基材のハーフカットを施した面側に、スクリーン印刷にて全面塗布し、乾燥を行って3μm厚みの隠蔽層を設けた。
酢酸エチル 55重量部
酢酸ブチル 30重量部
前述のラベル基材の隠蔽層側に、エボキシ樹脂に銀粉を分散させた導電性ペーストをスクリーン印刷(350メッシュ)にて印刷し、70℃3分温風乾燥機にて乾燥を行って5μm厚みのアンテナを得た。このアンテナに、0.4mm角の大きさであるICチップの2つの端子をACP(異方導電性ペースト)により接合した。
ポリエステル樹脂 5重両部
酢酸エチル 45重量部
酢酸ブチル 20重量部
次に、離型シート7は、クラフト紙の片面にポリエチレンをラミネートし、その上にシリコン処理を施して離型シート7とした。厚みは112μmであり、アクリル系の粘着剤を塗布し、これを上記RFIDを形成したラベル基材1に転写することで接着層6を設け、図4に示すOVD機能層を転写する前のRFIDラベルBを作製した。
50μm厚みのPETフィルムの上に、アルミニウム薄膜のアンテナをエッチングにて形成し、RFID用のICチップ4を実装してRFIDインレットを得た。その面に接着層を設けてRFIDラベルDを作製した。
B・・・OVD機能層を転写する前のRFIDラベル
C・・・OVD転写箔
1・・・ラベル基材
2・・・OVD機能層
3・・・アンテナ
4・・・ICチップ
5・・・ハーフカット
6・・・接着層
7・・・離型シート
8・・・隠蔽層
11・・・支持体
12・・・仮接着層
22・・・剥離保護層
23・・・ホログラム形成層
24・・・金属薄膜層
25・・・マスク層
26・・・接着層
31・・・深さ
32・・・大きさ
33・・・間隔
34・・・厚み
Claims (3)
- 非接触で外部装置とデータの送受信を行うRFIDラベルであって、
ラベル基材上に設けられたアンテナとして機能する導電層と、
前記アンテナに接合されたICチップと、更にRFIDラベルを被着体に
貼付けるための接着層を配置して成るRFIDラベルにおいて、
前記ラベル基材の厚みが5μm以上20μm以下で、かつ前記ラベル基材の、
接着層と接するラベル裏面に、深さがラベル基材の厚みの3分の1以上で、
かつ平面方向に300μm以下の間隔で、深さ方向に形状が300μm以下の大きさで、アスペクト比が300:1.7以上のハーフカット
を設けたことを特徴とする脆性RFIDラベル。 - 前記接着層と反対面のラベル基材上に目視で光学的な効果を呈するOVD機能層が設けられたことを特徴とする請求項1に記載の脆性RFIDラベル。
- 前記RFIDラベルの導電層が導電性インキで設けられたことを特徴とする請求項1または2に記載の脆性RFIDラベル。
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CN112908147A (zh) * | 2019-12-03 | 2021-06-04 | 李锦峰 | 防伪标签及其物品 |
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-
2011
- 2011-04-01 JP JP2011081780A patent/JP5862037B2/ja active Active
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