JP2012197154A - エスカレータ用のプラズマ滅菌、洗浄処理装置及びそれを用いたエスカレータ - Google Patents
エスカレータ用のプラズマ滅菌、洗浄処理装置及びそれを用いたエスカレータ Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】ハンドレールと、ハンドレールに対してイオン、またはラジカル、またはUV光を照射するためのプラズマ源と、プラズマ源を収納するための筐体と、プラズマを生成するための電源と、筐体内を相対的に負圧にするためのファンと、ラジカルや、除去した菌やウイルスや手あかなどの有機物を除去するためのフィルタユニットと、前記筐体のハンドレール移動方向の前後に、前記ハンドレールに沿ってフィルタプレートを有するプラズマ殺菌・洗浄装置。
【選択図】図1A
Description
L∝V・G
の関係にするのが良い。
Claims (20)
- エスカレータのハンドレールの表面形状に沿いかつ該ハンドレール移動方向に沿って配置された面状の放電部を有するプラズマ源と、
密閉した空間内に該プラズマ源を収納するための筐体と、
前記ハンドレールの移動方向に沿って前記密閉した空間と外部の大気雰囲気とを連通するようにして前記筐体に設けられた一対の入口部と、
前記一対の入口部に配置され、前記ハンドレールの断面形状に沿った形状を有し、該ハンドレールの表面との間に微小隙間を有するフィルタプレートと、
前記プラズマ源の電源とを備えており、
前記プラズマ源は、略大気圧雰囲気において前記ハンドレールの表面の近傍にプラズマを生成し、
前記フィルタプレートは、前記プラズマにより前記空間内に発生したラジカルや、該プラズマで除去された前記ハンドレールの有機物を除去するための、フィルタを有する
ことを特徴とするエスカレータ用のプラズマ滅菌、洗浄処理装置。 - 請求項1において、
前記プラズマ源は、面状の放電部を構成する放電プレートを備えており、
前記放電プレートは、石英ガラス、またはアルミナやイットリアなどのセラミック材料からなる誘電体と、その内部に配置された一対の電極で構成されており、
前記放電プレートは、前記ハンドレールの幅に対応した長さを有しており、
前記一対の電極は、お互いに絶縁された櫛形状が矩形の領域内に交互に平行に複数本配列された構造となっており、
前記一対の電極が前記ハンドレールの幅に対応した長さを有しており、
前記一対の電極間に、互いに極性が異なるようにして高周波が印加されることにより、前記誘電体の表面近傍に、誘電体バリア放電による前記プラズマが生成される
ことを特徴とするエスカレータ用のプラズマ滅菌、洗浄処理装置。 - 請求項2において、
前記プラズマ源は、前記面状の放電部を構成する複数の前記放電プレートからなり、該複数の放電プレートが、ガイドの部分を除く、前記ハンドレールの外側の表面の全体を覆うように設置されている
ことを特徴とするエスカレータ用のプラズマ滅菌、洗浄処理装置。 - 請求項3において、
前記プラズマ源は、平面型の複数の放電プレートが、ガイドの部分を除く、前記ハンドレールの外側の表面の全体を覆うように設置されている
ことを特徴とするエスカレータ用のプラズマ滅菌、洗浄処理装置。 - 請求項3において、
前記プラズマ源は、平面型の少なくとも1つの前記プラズマ放電部と、湾曲型の少なくとも1つの前記プラズマ放電部とを組み合わせ、ハンドレールの形状に沿った放電面を持つプラズマ源として構成されている
ことを特徴とするエスカレータ用のプラズマ滅菌、洗浄処理装置。 - 請求項1において、
前記ハンドレールの移動速度をV,前記微小隙間58の大きさをGとしたとき、前記各フィルタプレートの長さLは、
L∝V・G
の関係にある
ことを特徴とするエスカレータ用のプラズマ滅菌、洗浄処理装置。 - 請求項6において、
前記微小隙間は、1mm〜5mmである
ことを特徴とするエスカレータ用のプラズマ滅菌、洗浄処理装置。 - 請求項1において、
前記フィルタプレートは、活性種や、除去して揮発した有機物を吸収するための活性炭、及びオゾン分解触媒を含む
ことを特徴とするエスカレータ用のプラズマ滅菌、洗浄処理装置。 - 請求項8において、
前記フィルタプレートは、前記ハンドレールの移動方向に対して複数に分割されており、前記ハンドレールに対向して設置されている前記吸収剤や前記触媒の種類や、表面の凹凸もしくは空孔率が異なるように構成されている
ことを特徴とするエスカレータ用のプラズマ滅菌、洗浄処理装置。 - エスカレータのハンドレールの表面形状に沿いかつ該ハンドレール移動方向に沿って配置された面状の放電部を有するプラズマ源と、
密閉した空間内に該プラズマ源を収納するための筐体と、
前記ハンドレールの移動方向に沿って前記密閉した空間と外部の大気雰囲気とを連通するようにして前記筐体に設けられた一対の入口部と、
該筐体内を相対的に負圧にするためのファンと、
前記密閉した空間と外部の大気雰囲気とを連通するようにして前記筐体に設けられた排気通路と、
前記一対の入口部に配置され、前記ハンドレールの断面形状に沿った形状を有し、該ハンドレールの表面との間に微小隙間を有するフィルタプレートと、
前記排気通路に配置されたフィルタボックスと、
前記プラズマ源の電源とを備えており、
前記プラズマ源は、略大気圧雰囲気において前記ハンドレールの表面の近傍にプラズマを生成し、
前記フィルタプレート及び前記フィルタボックスは、前記プラズマにより前記空間内に発生したラジカルや、該プラズマで除去された前記ハンドレールの有機物を除去するための、フィルタを有する
ことを特徴とするエスカレータ用のプラズマ滅菌、洗浄処理装置。 - 請求項10において、
前記プラズマ源は、面状の放電部を構成する放電プレートを備えており、
前記放電プレートは、石英ガラス、またはアルミナやイットリアなどのセラミック材料からなる誘電体と、その内部に配置された一対の電極で構成されており、
前記放電プレートは、前記ハンドレールの幅に対応した長さを有しており、
前記プラズマ源は、前記面状の放電部を構成する複数の前記放電プレートからなり、該複数の放電プレートが、ガイドの部分を除く、前記ハンドレールの外側の表面の全体を覆うように設置されている
ことを特徴とするエスカレータ用のプラズマ滅菌、洗浄処理装置。 - 請求項11において、
前記一対の電極は、お互いに絶縁された櫛形状が矩形の領域内に交互に平行に複数本配列された構造となっており、
前記一対の電極が前記ハンドレールの幅に対応した長さを有しており、
前記一対の電極間に、互いに極性が異なるようにして高周波が印加されることにより、前記誘電体の表面近傍に、誘電体バリア放電による前記プラズマが生成される
ことを特徴とするエスカレータ用のプラズマ滅菌、洗浄処理装置。 - 請求項12において、
前記プラズマ源は、平面型の複数の放電プレートが、ガイドの部分を除く、前記ハンドレールの外側の表面の全体を覆うように設置されている
ことを特徴とするエスカレータ用のプラズマ滅菌、洗浄処理装置。 - 請求項12において、
前記プラズマ源は、平面型の少なくとも1つの前記プラズマ放電部と、湾曲型の少なくとも1つの前記プラズマ放電部とを組み合わせ、ハンドレールの形状に沿った放電面を持つプラズマ源として構成されている
ことを特徴とするエスカレータ用のプラズマ滅菌、洗浄処理装置。 - 請求項10において、
前記ハンドレールの移動速度をV,前記微小隙間58の大きさをGとしたとき、前記各フィルタプレートの長さLは、
L∝V・G
の関係にある
ことを特徴とするエスカレータ用のプラズマ滅菌、洗浄処理装置。 - 請求項10において、
前記密閉した空間に、前記ファンで収集した空気に含まれる活性種や揮発物を除去するための第2のフィルタユニットを備えた
ことを特徴とするエスカレータ用のプラズマ滅菌、洗浄処理装置。 - 請求項10において、
前記排気通路でかつ前記フィルタボックスの上流側に、前記ファンで収集した空気に含まれる活性種や揮発物を除去するための第3のフィルタユニットを備え、
該第3のフィルタユニットの下流側で空気の流れを分岐し、該空気の流れ一方は前記プラズマ源近傍に吹き出し、他方は、前記第2のフィルタユニットを介して大気雰囲気に排気されるようにした
ことを特徴とするエスカレータ用のプラズマ滅菌、洗浄処理装置。 - 請求項10において、
前記プラズマ源の下方にUV光を透過するための、石英ガラスで構成されたスリット付のUV光透過プレートが設置されている
ことを特徴とするエスカレータ用のプラズマ滅菌、洗浄処理装置。 - エスカレータ用のハンドレールと、
該ハンドレールのプラズマ滅菌、洗浄処理装置と、
制御コンピューターとを備えており、
前記プラズマ滅菌、洗浄処理装置は、
前記ハンドレールの表面形状に沿いかつ該ハンドレール移動方向に沿って配置された面状の放電部を有するプラズマ源と、
密閉した空間内に該プラズマ源を収納するための筐体と、
前記ハンドレールの移動方向に沿って前記密閉した空間と外部の大気雰囲気とを連通するようにして前記筐体に設けられた一対の入口部と、
前記一対の入口部に配置され、前記ハンドレールの断面形状に沿った形状を有し、該ハンドレールの表面との間に微小隙間を有するフィルタプレートと、
前記プラズマ源の電源と、
前記プラズマ源は、略大気圧雰囲気において前記ハンドレールの表面の近傍にプラズマを生成し、
前記フィルタプレートは、前記プラズマにより前記空間内に発生したラジカルや、該プラズマで除去された前記ハンドレールの有機物を除去するための、フィルタを有する
ことを特徴とするエスカレータ。 - 請求項19において、
前記制御コンピューターは、前記ハンドレール汚れのレベルをモニタし、該汚れ度合いと汚れの位置情報とから、前記ハンドレールの汚染部位に対する前記プラズマの強度を増加させるように前記プラズマ源の電源の制御を行う
ことを特徴とするエスカレータ。
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