JP2012192375A - 紫外線照射装置 - Google Patents
紫外線照射装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2012192375A JP2012192375A JP2011059824A JP2011059824A JP2012192375A JP 2012192375 A JP2012192375 A JP 2012192375A JP 2011059824 A JP2011059824 A JP 2011059824A JP 2011059824 A JP2011059824 A JP 2011059824A JP 2012192375 A JP2012192375 A JP 2012192375A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- power supply
- ultraviolet lamp
- supply line
- ultraviolet
- ultraviolet irradiation
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 56
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 10
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims abstract description 9
- 239000010865 sewage Substances 0.000 claims abstract description 8
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 7
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 7
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims description 38
- 230000035699 permeability Effects 0.000 claims description 8
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 claims 1
- 238000004659 sterilization and disinfection Methods 0.000 abstract description 6
- 230000001954 sterilising effect Effects 0.000 abstract description 4
- 230000002779 inactivation Effects 0.000 abstract description 2
- 238000011012 sanitization Methods 0.000 abstract 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 7
- 230000007257 malfunction Effects 0.000 description 5
- 239000000047 product Substances 0.000 description 4
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 3
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000015271 coagulation Effects 0.000 description 3
- 238000005345 coagulation Methods 0.000 description 3
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 3
- 238000004062 sedimentation Methods 0.000 description 3
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 3
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000005672 electromagnetic field Effects 0.000 description 2
- 239000008235 industrial water Substances 0.000 description 2
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004061 bleaching Methods 0.000 description 1
- 239000007844 bleaching agent Substances 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 239000000701 coagulant Substances 0.000 description 1
- 238000004042 decolorization Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000004332 deodorization Methods 0.000 description 1
- 230000000249 desinfective effect Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000002500 effect on skin Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 239000003673 groundwater Substances 0.000 description 1
- 230000000415 inactivating effect Effects 0.000 description 1
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 239000006228 supernatant Substances 0.000 description 1
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/30—Treatment of water, waste water, or sewage by irradiation
- C02F1/32—Treatment of water, waste water, or sewage by irradiation with ultraviolet light
- C02F1/325—Irradiation devices or lamp constructions
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/28—Treatment of water, waste water, or sewage by sorption
- C02F1/283—Treatment of water, waste water, or sewage by sorption using coal, charred products, or inorganic mixtures containing them
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/52—Treatment of water, waste water, or sewage by flocculation or precipitation of suspended impurities
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/72—Treatment of water, waste water, or sewage by oxidation
- C02F1/76—Treatment of water, waste water, or sewage by oxidation with halogens or compounds of halogens
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2201/00—Apparatus for treatment of water, waste water or sewage
- C02F2201/32—Details relating to UV-irradiation devices
- C02F2201/322—Lamp arrangement
- C02F2201/3223—Single elongated lamp located on the central axis of a turbular reactor
Landscapes
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Hydrology & Water Resources (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Water Supply & Treatment (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Water Treatments (AREA)
Abstract
【解決手段】処理水の給水ポート,排水ポートを有する紫外線照射水槽1と、紫外線照射水槽内に配置され,10kHz以上10MHz以下の高周波放電で点灯して処理水に紫外線を照射する紫外線ランプ5と、紫外線ランプを保護する保護管6と、紫外線照射水槽の両端に夫々設けられた,紫外線光と電磁波を遮蔽する保護カバー8と、前外線ランプと給電線を介して電気的に接続する電子安定器10とを具備し、紫外線ランプ及び給電線は夫々比導電率と比透磁率の積が1以上の材質からなり、かつ紫外線照射水槽及び保護管はその厚みが高周波電流の表皮深さの3倍以上の厚みの導体又は導電性のある樹脂からなることを特徴とする紫外線照射装置。
【選択図】図1
Description
従来の紫外線照射装置では、オゾンや薬品を処理水に均一に溶けこますために、滞留槽やスプレーポンプ等の攪拌装置が必需品で、水質や水量の変化に対し即対応できなかった。紫外線には、殺菌・消毒・脱色、工業用水の脱臭・脱色、あるいはパルプの漂白等の作用があり、水質や水量の変化に対し即対応するために、紫外線処理を行う。
このように、上下水道の殺菌・消毒・不活化を行う紫外線照射装置を用いたシステムにおいて、紫外線を用いる場合、紫外線を照射している数秒以内で殺菌・消毒・不活化される。
まず、上水処理システムにおける処理の流れの概要を、図1を参照して説明する。
川、湖又は地下水から原水を取水し(工程S1)、取水した原水を凝集沈殿槽に導入し、これに凝集剤を添加して凝集・沈殿させる(工程S2)。次に、凝集沈殿槽の上澄み水を活性炭濾過槽に送って異物を濾過し(工程S3)、濾過水を紫外線照射装置に送って紫外線を照射し(工程S4)、UV消毒処理水を塩素注入槽に送って塩素を注入(工程S5)した後に、一般家庭や事業所などに配水される。
J=e−δ/d
ここで、dは表皮深さ(μm)で、電流が表面電流の1/e(約0.37)になる深さである。表皮深さdは次のように計算される。
d=(5.03×108)×(ρ/μr・f)1/2=(6.609×10−3)/(f/σr)1/2
ここで、ρは抵抗率を、μrは比透磁率を、fは周波数を、σrは比導電率を示す。
(第1の実施形態)
第1の実施形態に係る紫外線照射装置について、図2を参照して説明する。
図中の符号1は、処理水の給水ポート2,排水ポート3を有する筒状の紫外線照射水槽を示す。ここで、紫外線照射水槽1は、その厚みが高周波電流の表皮深さの3倍以上の厚みの導体例えばステンレス(SUS304,SUS316,SUS316L等)により形成されている。この紫外線照射水槽1内には、処理水に紫外線4を照射する紫外線ランプ5が配置されている。紫外線ランプ5は、10kHz以上10MHz以下の高周波放電を利用して点灯させるもので、比導電率と比透磁率の積が1以上の材質から形成されている。紫外線照射水槽1には監視窓7が設けられ、この監視窓7より図示しない紫外線モニタを用いて紫外線ランプ5の紫外線照射量を監視するようになっている。
第2の実施形態に係る紫外線照射装置について、図3〜図5を参照して説明する。ここで、図3は紫外線照射装置の断面図、図4は図3の要部の拡大図、図5は図4の概略的な斜視図を示す。但し、図2と同部材は同符号を付して説明を省略する。
第2の実施形態に係る紫外線照射装置は、図3に示すように、保護管6及び保護カバー8内で給電線9を紫外線ランプ5と電子安定器10をループ状に接続するとともに、紫外線ランプ5と平行な第2の給電線9b部分は保護管6内で紫外線ランプ5と近接して配置されている。また、第2の給電線9bは、図4及び図5に示すように、紫外線ランプ5の両側に配置されたセラミック製のガイド部材12の貫通穴12aを通り、紫外線ランプ5を挟んで電子安定器10の反対側で固定部材13によりガイド部材12に固定されている。なお、図4、図5中の符号14は紫外線ランプ5の電極を示す。
第3の実施形態に係る紫外線照射装置について、図6を参照して説明する。但し、図2と同部材は同符号を付して説明を省略する。
第3の実施形態に係る紫外線照射装置は、図6に示すように、図2と比べ保護管6の径を大きくして、紫外線ランプ5の一端に接続する第2の給電線9bを給電線15a,15bに分岐させるとともに、一方の分岐した給電線15aを他方の分岐した給電線15bに接続させ、これらの給電線9a,9b、15a,15bを保護管6及び保護カバー8内に収容したことを特徴とする。ここで、給電線15a,15bは、紫外線ランプ5に対し対称的に配置されている。なお、図示しないが、図6の紫外線照射装置において、給電線15a,15bは、図4,図5の場合と同様に、ガイド部材と固定部材により支持、固定されている。
なお、第3の実施形態では、給電線9bを2本の給電線15a,15bに分岐する場合について述べたが、これに限らず、偶数本例えば4本の給電線に分岐させ、分岐された偶数本の給電線を紫外線ランプに対して対称的に配置してもよい。また、第3の実施形態においても、第2の実施形態と同様に、紫外線ランプ近傍の給電線の材質として、アルミニウムもしくはアルミニウム合金を使用することが好ましい。
第4の実施形態に係る紫外線照射装置について、図7を参照して説明する。但し、図2,図6と同部材は同符号を付して説明を省略する。
図中の符号18,19は、夫々紫外線照射水槽1の外側に両端部が保護カバー8まで延出しかつ前記紫外線ランプ5と並行となるように配置された給電線保護用の配管である。給電線9bから分岐した一方の給電線15bは、保護管5,保護カバー8及び配管18内を通って前記電子安定器10に直接接続している。給電線9bから分岐した他方の給電線15bは、保護管5,保護カバー8及び配管19を通って電子安定器10の近傍の給電線15aに接続している。給電線15a,15bのうち紫外線ランプ5と平行な部分は、紫外線ランプ5に対して対称的に配置されている。
なお、第4の実施形態では、第2の給電線9bを2本の給電線15a,15bに分岐する場合について述べたが、これに限らず、第2の給電線9b偶数本例えば4本の給電線に分岐させ、分岐された偶数本の給電線を紫外線ランプに対して対称的に配置してもよい。
第5の実施形態に係る紫外線照射装置について、図8を参照して説明する。但し、図2と同部材は同符号を付して説明を省略する。
第5の実施形態に係る紫外線照射装置は、図8に示すように、一端が紫外線ランプ5に接続する第2の給電線9bを紫外線ランプ5に螺旋状に配置したことを特徴とする。
Claims (8)
- 上下水道の殺菌・消毒・不活化を行う紫外線照射装置において、
処理水の給水ポート,排水ポートを有する紫外線照射水槽と、
この紫外線照射水槽内に配置され,10kHz以上10MHz以下の高周波放電で点灯して処理水に紫外線を照射する紫外線ランプと、
この紫外線ランプを保護する保護管と、
前記紫外線照射水槽の両端に夫々設けられた,紫外線光と電磁波を遮蔽する保護カバーと、
前記紫外線ランプと給電線を介して電気的に接続する電子安定器とを具備し、
前記紫外線ランプ及び前記給電線は夫々比導電率と比透磁率の積が1以上の材質からなり、かつ前記紫外線照射水槽及び保護カバーはその厚みが高周波電流の表皮深さの3倍以上の厚みの導体又は導電性のある樹脂からなることを特徴とする紫外線照射装置。 - 前記紫外線照射水槽に両端部が前記保護カバーまで延出しかつ前記紫外線ランプと並行となるように配置された給電線保護用の配管を備え、
前記給電線は、一端が前記電子安定器に接続しかつ他端が前記紫外線ランプの一端に接続する第1の給電線、及び一端が前記紫外線ランプに接続しかつ他端が前記配管内を通って前記電子安定器に接続する第2の給電線からなり、
前記第2の給電線は前記配管内で紫外線ランプと平行となるように配置され、前記第1,第2の給電線により前記紫外線ランプ及び前記電子安定器がループ状に接続されていることを特徴とする請求項1記載の紫外線照射装置。 - 前記給電線は、前記保護管内に配置され,一端が前記電子安定器に接続しかつ他端が前記紫外線ランプに接続する第1の給電線、及び前記保護管内に配置され,一端が前記紫外線ランプの一端に接続しかつ他端が前記電子安定器に接続する第2の給電線からなり、前記第1,第2の給電線により前記紫外線ランプ及び前記電子安定器がループ状に接続されていることを特徴とする請求項1記載の紫外線照射装置。
- 前記給電線は、前記保護管内に配置され,一端が前記電子安定器に接続しかつ他端が前記紫外線ランプに接続する第1の給電線、及び前記保護管内に配置され,一端が前記紫外線ランプの一端に接続しかつ他端が偶数個に分岐して前記電子安定器に接続する第2の給電線からなり、
第2の給電線のうち奇数番目に分岐した第2の給電線は前記電子安定器に直接接続し、偶数番目に分岐した第2の給電線は奇数番目に分岐した第2の給電線に接続し、
奇数番目に分岐した第2の給電線と偶数番目に分岐した第2の給電線は、前記紫外線ランプに対して対称的に配置されていることを特徴とする請求項1記載の紫外線照射装置。 - 前記紫外線照射水槽に両端部が前記保護カバーまで延出しかつ前記紫外線ランプと並行となるように配置された給電線保護用の偶数の配管を備え、
前記給電線は、一端が前記電子安定器に接続しかつ他端が前記紫外線ランプに接続する第1の給電線、及び一端が前記紫外線ランプの一端に接続しかつ他端が偶数個に分岐する第2の給電線からなり、
第2の給電線のうち奇数番目に分岐した第2の給電線は前記保護管,保護カバー及び奇数番目の前記配管内を通って前記電子安定器に直接接続し、第2の給電線のうち偶数番目に分岐した第2の給電線は前記保護管,保護カバー及び偶数番目の前記第2の配管を通って奇数番目に分岐した第2の給電線に接続し、
奇数番目に分岐した第2の給電線と偶数番目に分岐した第2の給電線は、前記紫外線ランプに対して対称的に配置されていることを特徴とする請求項1記載の紫外線照射装置。 - 前記給電線は、前記保護管内に配置され,一端が前記電子安定器に接続しかつ他端が前記紫外線ランプに接続する第1の給電線、及び前記保護管内に配置され,一端が前記紫外線ランプの一端に接続しかつ他端が前記電子安定器に接続する螺旋状の第2の給電線からなることを特徴とする請求項1記載の紫外線照射装置。
- 前記紫外線ランプ近傍の前記給電線の材質がアルミニウムもしくはアルミニウム合金であることを特徴とする請求項2〜6のいずれか一記載の紫外線照射装置。
- 前記給電線を通すガイド部材と、前記紫外線ランプを挟んで前記電子安定器側と反対側に位置する給電線を前記ガイド部材に固定する固定部材を更に具備することを特徴とする請求項4または5記載の紫外線照射装置。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011059824A JP5349516B2 (ja) | 2011-03-17 | 2011-03-17 | 紫外線照射装置 |
US13/421,649 US8507875B2 (en) | 2011-03-17 | 2012-03-15 | Ultraviolet irradiation apparatus |
EP12159638.1A EP2500320B1 (en) | 2011-03-17 | 2012-03-15 | Ultraviolet irradiation apparatus |
CN201210070721.0A CN102674500B (zh) | 2011-03-17 | 2012-03-16 | 紫外线照射装置 |
CA2771548A CA2771548C (en) | 2011-03-17 | 2012-03-16 | Ultraviolet irradiation apparatus for reduction of electromagnetic leakage |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011059824A JP5349516B2 (ja) | 2011-03-17 | 2011-03-17 | 紫外線照射装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012192375A true JP2012192375A (ja) | 2012-10-11 |
JP5349516B2 JP5349516B2 (ja) | 2013-11-20 |
Family
ID=45872825
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011059824A Active JP5349516B2 (ja) | 2011-03-17 | 2011-03-17 | 紫外線照射装置 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8507875B2 (ja) |
EP (1) | EP2500320B1 (ja) |
JP (1) | JP5349516B2 (ja) |
CN (1) | CN102674500B (ja) |
CA (1) | CA2771548C (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6845163B2 (ja) * | 2015-06-26 | 2021-03-17 | ソウル バイオシス カンパニー リミテッドSeoul Viosys Co.,Ltd. | 殺菌装置 |
US10849997B2 (en) * | 2018-10-10 | 2020-12-01 | Bolb Inc. | Disinfection device having disinfection light source |
US11925514B2 (en) | 2019-04-29 | 2024-03-12 | KMW Enterprises LLC | Apparatus and methods for intraoperative surgical instrument sterilization |
EP3992154A1 (en) * | 2020-10-29 | 2022-05-04 | Toshiba Lighting & Technology Corporation | Fluid sterilization device |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH1015544A (ja) * | 1996-07-08 | 1998-01-20 | Toshiba Lighting & Technol Corp | 液体処理装置および水処理装置 |
JP2001029947A (ja) * | 1999-07-26 | 2001-02-06 | Nippon Photo Science:Kk | 紫外線液体処理装置 |
JP2007220549A (ja) * | 2006-02-17 | 2007-08-30 | Photoscience Japan Corp | 短波長紫外線放電灯及び紫外線照射処理装置 |
JP2008084610A (ja) * | 2006-09-26 | 2008-04-10 | Photoscience Japan Corp | 短波長紫外線放電灯及び紫外線照射処理装置 |
Family Cites Families (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3550782A (en) * | 1968-05-09 | 1970-12-29 | Louis P Veloz | Water sterilizer apparatus |
US3851225A (en) * | 1973-06-07 | 1974-11-26 | Ltd Syst Inc | Water resistant ballast construction |
KR0170060B1 (ko) * | 1995-09-12 | 1999-05-01 | 이경수 | 방전등용 충진형 및 개방형 안정기의 제조방법 및 장치 |
GB9605311D0 (en) * | 1996-03-13 | 1996-05-15 | Mcalpine & Co Ltd | Sterilisation system |
WO2000075080A1 (en) * | 1999-06-04 | 2000-12-14 | Henry Kozlowski | Apparatus for ultraviolet light treatment of fluids |
US6258265B1 (en) * | 1999-10-15 | 2001-07-10 | James Phillip Jones | Water purifying apparatus having a plurality of purifying stages and modular ion exchange media containers |
US6479947B1 (en) * | 2000-10-13 | 2002-11-12 | Donald Ellis Newsome | Ultraviolet fluorescent lamp with unique drive circuit |
US20030232540A1 (en) * | 2002-06-14 | 2003-12-18 | Ozonia North America, Inc. | Rapid lamp assembly for high energy lamps |
CN2587850Y (zh) * | 2002-07-10 | 2003-11-26 | 福建新大陆环保科技有限公司 | 紫外线流体消毒系统 |
JP3940685B2 (ja) | 2002-09-30 | 2007-07-04 | 宏 林 | 紫外線・ひび割れ等検出判定機能を備えた紫外線殺菌浄化装置 |
ATE533175T1 (de) * | 2004-08-30 | 2011-11-15 | Univ Rutgers | Korona-entladungslampen |
DE102004047374A1 (de) * | 2004-09-29 | 2006-04-06 | Patent-Treuhand-Gesellschaft für elektrische Glühlampen mbH | Dielektrisch behinderte Entladungslampe mit elektrischer Abschirmung |
US7888657B1 (en) * | 2008-11-03 | 2011-02-15 | Zlatko Zadro | Ultraviolet water and object surface disinfection apparatus |
DE202010012773U1 (de) * | 2010-09-09 | 2010-12-02 | A.C.K. Aqua Concept Gmbh Karlsruhe | UV-Reaktor |
-
2011
- 2011-03-17 JP JP2011059824A patent/JP5349516B2/ja active Active
-
2012
- 2012-03-15 US US13/421,649 patent/US8507875B2/en active Active
- 2012-03-15 EP EP12159638.1A patent/EP2500320B1/en not_active Not-in-force
- 2012-03-16 CA CA2771548A patent/CA2771548C/en active Active
- 2012-03-16 CN CN201210070721.0A patent/CN102674500B/zh not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH1015544A (ja) * | 1996-07-08 | 1998-01-20 | Toshiba Lighting & Technol Corp | 液体処理装置および水処理装置 |
JP2001029947A (ja) * | 1999-07-26 | 2001-02-06 | Nippon Photo Science:Kk | 紫外線液体処理装置 |
JP2007220549A (ja) * | 2006-02-17 | 2007-08-30 | Photoscience Japan Corp | 短波長紫外線放電灯及び紫外線照射処理装置 |
JP2008084610A (ja) * | 2006-09-26 | 2008-04-10 | Photoscience Japan Corp | 短波長紫外線放電灯及び紫外線照射処理装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20120235059A1 (en) | 2012-09-20 |
CN102674500B (zh) | 2014-04-16 |
CA2771548C (en) | 2014-07-08 |
EP2500320A1 (en) | 2012-09-19 |
CN102674500A (zh) | 2012-09-19 |
JP5349516B2 (ja) | 2013-11-20 |
CA2771548A1 (en) | 2012-09-17 |
US8507875B2 (en) | 2013-08-13 |
EP2500320B1 (en) | 2017-04-19 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5349516B2 (ja) | 紫外線照射装置 | |
US20110150708A1 (en) | Ultraviolet irradiation device | |
JP5575078B2 (ja) | 紫外線照射装置 | |
JP2007152155A (ja) | 紫外線照射水処理装置 | |
JP2011131139A (ja) | 紫外線照射システム | |
JP2008093549A (ja) | 水浄化装置 | |
KR101594997B1 (ko) | 플라즈마 수처리장치 | |
US11426482B2 (en) | Systems and methods for cleaning and sterilizing fluids and articles using electromagnetic waves | |
JP2012061413A (ja) | 紫外線照射装置 | |
JP2012040505A (ja) | 液体処理装置 | |
JP7411770B2 (ja) | 水処理装置 | |
KR20030030164A (ko) | 자외선 및 오존을 이용한 살균장치 및 살균방법 | |
JP6382714B2 (ja) | 純水製造装置 | |
US20220402785A1 (en) | Systems and methods for cleaning and sterilizing fluids and articles using electromagnetic waves | |
JP2011161443A (ja) | 紫外線消毒装置 | |
KR20180098435A (ko) | 플라즈마 발생장치 및 이를 구비한 수처리 시스템 | |
NL1039616C2 (nl) | Werkwijze en inrichting voor desinfectie van een fluidum in een inductiereaktor met een lichtbron en titaniumoxidedeeltjes en ozon en ultrasone trillingen. | |
JP2005058995A (ja) | 水処理装置及び水処理設備 | |
JP2014140847A (ja) | 紫外線照射装置 | |
GB2595651A (en) | Sterlisation of endoscopes | |
JP6250295B2 (ja) | 紫外線殺菌システム | |
JP2017144356A (ja) | 紫外線照射装置 | |
JP2011056440A (ja) | 紫外線照射装置 | |
JP2004283832A (ja) | 殺菌処理方法および殺菌処理装置 | |
JP2012070713A (ja) | 浄化装置及び浄化方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20130321 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130402 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130603 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130723 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130820 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 5349516 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |