JP2012171232A - 導電性フィルム - Google Patents
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Abstract
【課題】透明性、導電性、耐溶剤性に優れると同時に、さらに密着性にも優れる導電性フィルムを提供すること。
【解決手段】基材フィルム1、中間層2、透明導電塗膜層3、保護層4がこの順で積層された導電性フィルムにおいて、中間層2の表面粗さを特定範囲にすると同時に、保護層4の厚みを特定範囲にする。
【選択図】図1
【解決手段】基材フィルム1、中間層2、透明導電塗膜層3、保護層4がこの順で積層された導電性フィルムにおいて、中間層2の表面粗さを特定範囲にすると同時に、保護層4の厚みを特定範囲にする。
【選択図】図1
Description
本発明は導電性フィルムに関する。さらに詳しくは、液晶ディスプレイ(LCD)、透明タッチパネル、有機エレクトロルミネッセンス素子、無機エレクトロルミネッセンスランプ等の透明電極や電磁波シールド材として好適に使用される導電性フィルムに関する。
従来から液晶ディスプレイや透明タッチパネル等の透明電極や電磁波シールド材として、透明導電性フィルムが好適に用いられている。かかる透明導電性フィルムとしては、ポリエチレンテレフタレート(PET)、トリアセチルセルロース(TAC)等の透明基材フィルムの少なくとも片面に、酸化インジウム(In2O3)、酸化錫(SnO2)、In2O3とSnO2の混合焼結体(ITO)等を真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等のドライプロセスによって設けたものが良く知られている。
しかしながら、これらの透明導電性フィルムは、ウェブ状での連続加工や打ち抜き加工がなされたり、また、表面加工工程等において曲げられた状態で用いられたり、保管されたりするため、このような加工工程や保管している間に、導電層にクラックが発生して表面抵抗が増大してしまう問題があった。
一方、透明基材フィルムの上に、導電性高分子をウェット塗布することによって形成された透明導電塗膜層は、膜自体に柔軟性があり、クラック等の問題が生じ難い。また、導電性高分子のウェット塗布による製造方法は、ドライプロセスを用いないため、一般的にコーティングスピードが速く、また製造コストが比較的安く、生産性に優れるという利点もある。
しかしながら、このような導電性高分子としては、これまで一般的にポリチオフェン、ポリアニリン、ポリピロール等が用いられてきたが、これらは、開発の初期段階では高い導電性が得られないために帯電防止用途等に使用が限定されていたり、導電塗膜層自体の色相が問題となったりしていた。
これについて、最近では製法の改良等によりこれらの問題も改善されてきている。例えば、3,4−ジアルコキシチオフェンをポリアニオン存在下で酸化重合することによって得られるポリ(3,4−ジアルコキシチオフェン)とポリアニオンとからなる導電性高分子(特許文献1)は、近年の製法の改良(特許文献2および特許文献3)等により、高い光線透過率を保ったまま非常に低い表面抵抗を発現している。
これらの導電性高分子を透明導電塗膜層として用いた透明導電性フィルムの場合、その後の加工工程における導電塗膜表面の耐溶剤性や耐水性が低く、課題となっていた。この問題を解決すべく、かかる導電性高分子にバインダー成分となる高分子材料を添加する方法や、シランカップリング剤を用いる方法(特許文献4)が提案されたが、耐溶剤性、特にアルコール類、エステル類などに対する耐溶剤性の改善は未だ十分ではなかった。そして、このような問題を解決するために、導電性フィルムにおける透明導電塗膜層の上に、金属アルコキシドの反応生成物からなる保護層を設ける方法が提案されている(特許文献5)。
しかしながら、近年このような導電性フィルムは、保護層の上にさらに他の層を積層して用いられることが多くなってきており、保護層と、かかる他の層との密着性の向上が要求されてきた。そして、上記のような導電性フィルムでは、近年要求される厳しいレベルの密着性に対しては、その要求特性を満たせない場合がでてきた。
そこで本発明は、透明性、導電性、耐溶剤性に優れると同時に、さらに密着性にも優れる導電性フィルムを提供することを目的とする。
そこで本発明は、透明性、導電性、耐溶剤性に優れると同時に、さらに密着性にも優れる導電性フィルムを提供することを目的とする。
本発明者らは、上記の課題を達成するため鋭意検討した結果、基材フィルムと透明導電塗膜層との間に、特定材料からなり、かつ中心線平均表面粗さRaが特定範囲にある中間層を設け、さらに保護層の厚みを特定範囲とした場合に、表面抵抗値に著しい影響を与えることなく、耐溶剤性を改善し、さらに同時に密着性にも優れることを見出し、本発明に到達した。
本発明は、以下の構成を採用するものである。
1.基材フィルム、
ポリエステル樹脂およびオキサゾリン基とポリアルキレンオキシド鎖とを有するアクリル樹脂を含有する樹脂組成物から形成され、中心線平均表面粗さRaが3〜15nmである中間層、
透明導電塗膜層、および
金属アルコキシドの反応生成物からなり、厚みが50nmを超え150nm以下である保護層
がこの順で積層された導電性フィルムであって、全光線透過率が60%以上、保護層表面における表面抵抗が10〜1×105Ω/□の範囲にある導電性フィルム。
2.透明導電塗膜層が、下記一般式
(ここで、式中、R1およびR2は相互に独立して水素またはC1−4のアルキル基を表わすか、あるいは一緒になって任意に置換されてもよいC1−12のアルキレン基を表わす。)
で表わされる繰り返し単位からなるポリカチオン状のポリチオフェンとポリアニオンとからなる導電性高分子からなる上記1に記載の導電性フィルム。
3.透明導電塗膜層が、シランカップリング剤の反応生成物を含有する上記2に記載の導電性フィルム。
4.保護層がアルコキシシランの反応生成物からなる上記1〜3のいずれか1に記載の導電性フィルム。
5.透明導電塗膜層の表面抵抗が10〜1×105Ω/□の範囲にある上記1〜4のいずれか1に記載の導電性フィルム。
1.基材フィルム、
ポリエステル樹脂およびオキサゾリン基とポリアルキレンオキシド鎖とを有するアクリル樹脂を含有する樹脂組成物から形成され、中心線平均表面粗さRaが3〜15nmである中間層、
透明導電塗膜層、および
金属アルコキシドの反応生成物からなり、厚みが50nmを超え150nm以下である保護層
がこの順で積層された導電性フィルムであって、全光線透過率が60%以上、保護層表面における表面抵抗が10〜1×105Ω/□の範囲にある導電性フィルム。
2.透明導電塗膜層が、下記一般式
で表わされる繰り返し単位からなるポリカチオン状のポリチオフェンとポリアニオンとからなる導電性高分子からなる上記1に記載の導電性フィルム。
3.透明導電塗膜層が、シランカップリング剤の反応生成物を含有する上記2に記載の導電性フィルム。
4.保護層がアルコキシシランの反応生成物からなる上記1〜3のいずれか1に記載の導電性フィルム。
5.透明導電塗膜層の表面抵抗が10〜1×105Ω/□の範囲にある上記1〜4のいずれか1に記載の導電性フィルム。
本発明によれば、透明性、導電性、耐溶剤性に優れると同時に、更に密着性にも優れる導電性フィルムを提供することができる。ここで密着性とは、導電性フィルムを用いる後工程において、保護層の上に形成する層との密着性を指す。
また、本発明によって得られた導電性フィルムは、上記特性に優れるため、液晶ディスプレイ(LCD)、透明タッチパネル、有機エレクトロルミネッセンス素子、無機エレクトロルミネッセンスランプ等の透明電極や電磁波シールド材等として好適に使用できる。
また、本発明によって得られた導電性フィルムは、上記特性に優れるため、液晶ディスプレイ(LCD)、透明タッチパネル、有機エレクトロルミネッセンス素子、無機エレクトロルミネッセンスランプ等の透明電極や電磁波シールド材等として好適に使用できる。
本発明の導電性フィルムを、まず図1を用いて説明する。図1は、本発明の導電性フィルムの断面図、すなわち層構成の一例を示す。図1中の、符号1は基材フィルム、符号2は中間層、符号3は透明導電塗膜層、および符号4は保護層を示す。図1(特に図1(a))に示すように、本発明の導電性フィルムは、基材フィルムの少なくとも片面に、中間層がまず積層され、該中間層の上に透明導電塗膜層が積層され、該透明導電塗膜層の上に保護層が積層されたものである。このような構成を有するものであれば、例えば図1(b)のように、反射防止層、ハードコート層、粘着層等の他の機能層(符号5)が、本発明の目的を損なわない限りにおいて、さらに形成されていても良い。
<導電性フィルム>
本発明の導電性フィルムは、基材フィルム、特定の樹脂組成物から形成され、中心線平均表面粗さRaが3〜15nmである中間層、透明導電塗膜層、および金属アルコキシドの反応生成物からなり、厚みが50nmを超え150nm以下である保護層がこの順で積層されていることが必要である。例えば、上記Raを有する中間層を有しないと、基材フィルムと透明導電塗膜層との密着性に劣るばかりでなく、保護層表面における密着性が発現できない。また、透明導電塗膜層が導電性フィルムの表面に位置すると、保護層による耐溶剤性が発現できない。また、密着性も発現できない。
本発明の導電性フィルムは、基材フィルム、特定の樹脂組成物から形成され、中心線平均表面粗さRaが3〜15nmである中間層、透明導電塗膜層、および金属アルコキシドの反応生成物からなり、厚みが50nmを超え150nm以下である保護層がこの順で積層されていることが必要である。例えば、上記Raを有する中間層を有しないと、基材フィルムと透明導電塗膜層との密着性に劣るばかりでなく、保護層表面における密着性が発現できない。また、透明導電塗膜層が導電性フィルムの表面に位置すると、保護層による耐溶剤性が発現できない。また、密着性も発現できない。
本発明の導電性フィルムは、全光線透過率が60%以上であることが必要である。全光線透過率が上記数値範囲にあると、液晶ディスプレイ、透明タッチパネル等の透明電極や電磁波シールド材として用いたときに、十分な透明性が得られる。このような観点から、全光線透過率は、好ましくは65%以上、より好ましくは70%以上、さらに好ましくは85%以上である。かかる全光線透過率は、後述の基材フィルム、透明導電塗膜層および保護層の選定によって適宜調整できる。
また、本発明の導電性フィルムは、保護層側の表面における表面抵抗が10〜1×105Ω/□の範囲にあることが必要である。かかる表面抵抗が上記数値範囲にあると、液晶ディスプレイ、透明タッチパネル等の透明電極や電磁波シールド材として用いたときに、電極として十分に機能することができ、また十分な電磁波シールド特性が得られる。上限を超えると、このような用途において十分な導電性が得られず、他方、下限未満にすることは、耐溶剤性に劣る傾向にあり、また製造工程が不安定化しやすい。このような観点から、好ましい表面抵抗は、1×102〜1×105Ω/□、さらに1×103〜1×104Ω/□である。同様の観点から、保護層が形成される前の透明導電塗膜層の表面抵抗も、10〜1×105Ω/□、さらに1×102〜1×105Ω/□、さらに1×103〜1×104Ω/□、特に2×103〜5×103Ω/□の範囲にあることが好ましい。
以下、本発明の導電性フィルムを構成する各層について、さらに詳述する。
本発明の導電性フィルムは、その波長550nmにおける表面反射率は3%以下であることが好ましい。また、ヘイズは1.5%未満であることが透明性の観点から好ましい。さらに好ましくは1%以下、特に好ましくは0.5%以下である。
本発明の導電性フィルムは、その波長550nmにおける表面反射率は3%以下であることが好ましい。また、ヘイズは1.5%未満であることが透明性の観点から好ましい。さらに好ましくは1%以下、特に好ましくは0.5%以下である。
<透明導電塗膜層>
(導電性高分子)
本発明における透明導電塗膜層は、表面抵抗を下げられ、かつ透明性を具備するものであれば特に制限されないが、例えば特開2003−286336号公報で挙げられているような以下の一般式
で表される繰り返し単位からなるからなるカチオン状のポリチオフェン(以下、“ポリ(3,4−ジ置換チオフェン)”と称することがある)と、ポリアニオンとを含んでなる導電性高分子(a)からなることが好ましい。すなわち、この導電性高分子(a)はポリ(3,4−ジ置換チオフェン)とポリアニオンとの複合化合物である。ここでかかる導電性高分子(a)は、透明導電塗膜層中に、50重量%以上、好ましくは70重量%以上、さらに好ましくは90重量%以上である。
(導電性高分子)
本発明における透明導電塗膜層は、表面抵抗を下げられ、かつ透明性を具備するものであれば特に制限されないが、例えば特開2003−286336号公報で挙げられているような以下の一般式
かかる導電性高分子(a)を構成するポリ(3,4−ジ置換チオフェン)のR1およびR2は、相互に独立して水素またはC1−4のアルキル基を表わすか、あるいは一緒になって任意に置換されてもよいC1−12のアルキレン基を表わす。R1およびR2が一緒になって形成される、置換基を有してもよいC1−12のアルキレン基の代表例は、1,2−アルキレン基(例えば、1,2−シクロヘキシレンおよび2,3−ブチレン等)である。R1およびR2が一緒になって形成されるC1−12のアルキレン基の好適な例は、メチレン、1,2−エチレンおよび1,3−プロピレン基であり、1,2−エチレン基が特に好適である。また、その他の具体例としては、アルキル置換されていてもよいメチレン基、C1−12のアルキル基もしくはフェニル基で置換されていてもよい1,2−エチレン基、1,3−プロピレン基が挙げられる。
導電性高分子(a)を構成するポリアニオンとしては、高分子状カルボン酸類(例えばポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリマレイン酸等)、高分子状スルホン酸(例えばポリエチレンスルホン酸、ポリビニルスルホン酸等)等が挙げられる。これらの高分子状カルボン酸及びスルホン酸類は、ビニルカルボン酸およびビニルスルホン酸類と他の重合可能な低分子化合物、例えばアクリレート類およびスチレン等との共重合体であってもよい。これらポリアニオンの中でもポリスチレンスルホン酸およびその全てもしくは一部が金属塩であるものが好ましく用いられる。
本発明における透明導電塗膜層を形成するためのコーティング組成物は、上述の導電性高分子を水に分散させた液を主成分として用いるが、例えば透明導電塗膜層の強度を向上させる場合等、必要に応じてポリエステル、ポリアクリル、ポリウレタン、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルブチラール等の適当な熱可塑性樹脂をバインダーとして添加することができる。すなわち、本発明における透明導電塗膜層は、これらバインダーを含有することができる。
また、かかる透明導電塗膜層を形成するためのコーティング組成物には、必要に応じて、バインダーを溶解させる目的、もしくは基材フィルムへの濡れ性を改善する目的、コーティング組成物の固形分濃度を調整する目的等で、水と相溶性のある適当な溶媒を添加することができる。かかる溶媒の例としては、アルコール類(メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール等)、アミド類(ホルムアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、アセトアミド、N−メチルアセトアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルプロピオンアミド等)等が好ましく用いられる。
さらに、透明導電塗膜層を形成するためのコーティング組成物には、基材フィルムに対する濡れ性を向上させる目的で、少量の界面活性剤を加えても良い。好ましい界面活性剤としては、非イオン性界面活性剤(例えば、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ソルビタン脂肪酸エステル等)、およびフッ素系界面活性剤(例えばフルオロアルキルカルボン酸塩、パーフルオロアルキルベンゼンスルホン酸塩、パーフルオロアルキル4級アンモニウム、パーフルオロアルキルポリオキシエチレンエタノール等)等が挙げられる。
また、透明導電塗膜層の塗膜強度を向上させる目的で、それを形成するためのコーティング組成物には、シランカップリング剤としてのシラン化合物を添加することが好ましい。かかるシラン化合物としては、好ましくは、アルコキシシランおよびアシロキシシランからなる群より選ばれる少なくとも1種が挙げられる。なお、シラン化合物は、加水分解され、さらに縮合反応された反応生成物として透明導電塗膜層中に存在することになる。シラン化合物の具体例としては、例えばアシロキシシランとしては、テトラアセトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン、ジメチルジアセトキシシラン、トリメチルアセトキシシラン等のテトラアシロキシシランや炭化水素置換アシロキシシランが挙げられる。また、アルコキシシランとしては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトライソブトキシシラン等のテトラアルコキシシランや、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、トリメチルエトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン等の炭化水素基置換アルコキシシランが挙げられる。また、アルコキシ基以外の反応性官能基を有していても良く、例えば、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン等のアルコキシシランが挙げられる。なかでも、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトライソブトキシシラン等のテトラアルコキシシラン、およびγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン等のアルコキシ基以外の反応性官能基を有するトリアルコキシシランが好ましく、特にグリシドキシ基を有するトリアルコキシシランが好ましい。かかるシラン化合物の添加量は、上記効果を奏するにあたって、導電性高分子の重量100重量%を基準として50重量%以下、特に10〜40重量%の範囲とするのが適当である。
また、かかるシラン化合物の加水分解/縮合を効率よく進行させるために、触媒を併用することが好ましい。触媒としては酸性触媒または塩基性触媒のいずれをも用いることができる。酸性触媒としては、例えば硫酸、塩酸、硝酸等の無機酸、酢酸、クエン酸、プロピオン酸、しゅう酸、p−トルエンスルホン酸等の有機酸が好適である。一方塩基性触媒としては例えばアンモニア、トリエチルアミン、トリプロピルアミン等の有機アミン化合物、ナトリウムメトキシド、カリウムメトキシド、カリウムエトキシド、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属化合物等が好適である。
(透明導電塗膜層の形成方法)
本発明において透明導電塗膜層は、上記の必須成分および任意成分を含有する、透明導電塗膜層を形成するためのコーティング組成物を作成し、それを基材フィルム上の中間層の上に塗布して塗膜を形成し、加熱乾燥して形成される。溶媒としては、好ましくは水が用いられ、コーティング組成物は、水分散体であることが好ましい。多少の水に可溶な有機溶剤を含んでいてもよい。塗布方法としては、公知の方法を採用できる。例えばリップダイレクト法、コンマコーター法、スリットリバース法、ダイコーター法、グラビアロールコーター法、ブレードコーター法、スプレーコーター法、エアーナイフコート法、ディップコート法、バーコーター法等が好ましく挙げられる。また、加熱条件としては、好ましくは80〜160℃で10〜120秒間、特に好ましくは100〜150℃で20〜60秒間である。紫外線(UV)硬化性樹脂または電子線(EB)硬化性樹脂をバインダーとして併用した場合には、一般的には予備乾燥を行った後、紫外線照射または電子線照射を行なう。
本発明において透明導電塗膜層は、上記の必須成分および任意成分を含有する、透明導電塗膜層を形成するためのコーティング組成物を作成し、それを基材フィルム上の中間層の上に塗布して塗膜を形成し、加熱乾燥して形成される。溶媒としては、好ましくは水が用いられ、コーティング組成物は、水分散体であることが好ましい。多少の水に可溶な有機溶剤を含んでいてもよい。塗布方法としては、公知の方法を採用できる。例えばリップダイレクト法、コンマコーター法、スリットリバース法、ダイコーター法、グラビアロールコーター法、ブレードコーター法、スプレーコーター法、エアーナイフコート法、ディップコート法、バーコーター法等が好ましく挙げられる。また、加熱条件としては、好ましくは80〜160℃で10〜120秒間、特に好ましくは100〜150℃で20〜60秒間である。紫外線(UV)硬化性樹脂または電子線(EB)硬化性樹脂をバインダーとして併用した場合には、一般的には予備乾燥を行った後、紫外線照射または電子線照射を行なう。
また、かかる透明導電塗膜層を形成するためのコーティング組成物を、後述する中間層上に塗布する際には、必要に応じて、さらに密着性・塗工性を向上させるための予備処理として、該中間層表面にコロナ放電処理、プラズマ放電処理などの物理的表面処理を施してもよい。
透明導電塗膜層の厚みは、好ましくは0.01〜0.30μm、より好ましくは0.02〜0.25μm、さらに好ましくは0.02〜0.1μm、特に好ましくは0.02〜0.05μmであり、導電性および透明性の向上効果を高くすることができる。厚みが薄すぎると導電性の向上効果が低くなる傾向にあり、逆に厚すぎると、全光線透過率の向上効果が低くなり、またブロッキングが生じやすくなる傾向にある。
<中間層>
本発明においては、上記透明導電塗膜層と基材フィルムとの密着性を向上させるため、また、後工程での加工適正、すなわち後工程において保護層の上に形成される層に対する密着性を向上させるため、これらの間に中心線平均表面粗さRaが3nm以上、15nm以下である中間層を設ける必要がある。これにより、後加工において保護層の上に他の層を設ける際に、かかる層と保護層との密着性に優れる。また、透明性に優れる。Raが小さすぎる場合には、後工程において保護層上に他の層を加工する際の密着性が劣る。このような観点から、Raは、好ましくは3.5nm以上である。他方、Raが高すぎる場合には、表面の光の拡散や内部ヘイズの増加により光学適正に劣る、すなわち透明性に劣る傾向にある。このような観点から、Raは、好ましくは12nm以下、より好ましくは10nm以下、さらに好ましくは5nm以下である。なお、このようなRaの達成方法としては、後述するような好ましい基材フィルムを用いたり、中間層に後述するような粒子を添加したりすることを、好ましく挙げることができる。
本発明においては、上記透明導電塗膜層と基材フィルムとの密着性を向上させるため、また、後工程での加工適正、すなわち後工程において保護層の上に形成される層に対する密着性を向上させるため、これらの間に中心線平均表面粗さRaが3nm以上、15nm以下である中間層を設ける必要がある。これにより、後加工において保護層の上に他の層を設ける際に、かかる層と保護層との密着性に優れる。また、透明性に優れる。Raが小さすぎる場合には、後工程において保護層上に他の層を加工する際の密着性が劣る。このような観点から、Raは、好ましくは3.5nm以上である。他方、Raが高すぎる場合には、表面の光の拡散や内部ヘイズの増加により光学適正に劣る、すなわち透明性に劣る傾向にある。このような観点から、Raは、好ましくは12nm以下、より好ましくは10nm以下、さらに好ましくは5nm以下である。なお、このようなRaの達成方法としては、後述するような好ましい基材フィルムを用いたり、中間層に後述するような粒子を添加したりすることを、好ましく挙げることができる。
かかる中間層の厚みは、好ましくは0.01〜0.3μm、より好ましくは0.02〜0.25μm、さらに好ましくは0.1〜0.2μmである。かかる厚み範囲であると、上記密着性の向上効果を高くすることができる。また透明性の向上効果を高くすることができる。厚みが薄すぎると、密着力の向上効果が低下し、逆に厚すぎるとブロッキングを起こし易くなる傾向にあり、また透明性の向上効果が低くなる傾向にある。
さらに、本発明における中間層は、屈折率が好ましくは1.53〜1.63、より好ましくは1.55〜1.62であり、同時に厚みが好ましくは0.01〜0.10μm、より好ましくは0.02〜0.10μmであることが、反射防止効果の観点から好ましく、透明性の向上効果を高くすることができる。屈折率が上記範囲外である場合には、透明導電塗膜層との組み合わせで発現する光学干渉効果による反射防止効果が不十分となる傾向にある。また、厚みが上記範囲外である場合には、光学干渉効果を発現し難くなる。
かかる中間層は、ポリエステル樹脂およびオキサゾリン基とポリアルキレンオキシド鎖とを有するアクリル樹脂を含有する樹脂組成物から形成されるものである。
かかる中間層は、ポリエステル樹脂およびオキサゾリン基とポリアルキレンオキシド鎖とを有するアクリル樹脂を含有する樹脂組成物から形成されるものである。
(ポリエステル樹脂)
ポリエステル樹脂としては、特に制限はなく、以下に示す多塩基酸とポリオールとからなるポリエステルを例示することができる。特に水または多少の有機溶剤を含有する水に可溶性または分散性のポリエステルが好ましい。
ポリエステル樹脂としては、特に制限はなく、以下に示す多塩基酸とポリオールとからなるポリエステルを例示することができる。特に水または多少の有機溶剤を含有する水に可溶性または分散性のポリエステルが好ましい。
ポリエステル樹脂の多塩基酸成分としては、例えば、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、無水フタル酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸、1,4−シクロヘキサンジカルボン酸、アジピン酸、セバシン酸、トリメリット酸、ピロメリット酸、ダイマー酸、5−ナトリウムスルホイソフタル酸等を挙げることができる。ポリオール成分としては、例えばエチレングリコール、1,4−ブタンジオール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、1,6−ヘキサンジオール、1,4−シクロヘキサンジメタノール、キシリレングリコール、ジメチロールプロパン等や、ポリ(エチレンオキシド)グリコール、ポリ(テトラメチレンオキシド)グリコールを挙げることができる。本発明においては、本発明の課題がより達成しやすくなるため、これら酸成分および/またはポリオール成分を2種類以上含有する共重合ポリエステルが好ましい。なお、若干量であればマレイン酸、イタコン酸等の不飽和多塩基酸成分や、p−ヒドロキシ安息香酸等の如きヒドロキシカルボン酸成分が含まれていても良い。
(アクリル樹脂)
オキサゾリン基とポリアルキレンオキシド鎖とを有するアクリル樹脂としては、水または多少の有機溶剤を含有する水に可溶性または分散性のアクリル樹脂が好ましい。かかるオキサゾリン基及びポリアルキレンオキシド鎖を有するアクリル樹脂としては、例えば、以下に示すオキサゾリン基を有するモノマーやポリアルキレンオキシド鎖を有するモノマーを、後述するアルキル(メタ)アクリレートや(メタ)アクリルアミド等のその他の共重合成分からなるアクリルポリマーを主鎖とするポリマーに共重合成分として含むものを挙げることができる。
オキサゾリン基とポリアルキレンオキシド鎖とを有するアクリル樹脂としては、水または多少の有機溶剤を含有する水に可溶性または分散性のアクリル樹脂が好ましい。かかるオキサゾリン基及びポリアルキレンオキシド鎖を有するアクリル樹脂としては、例えば、以下に示すオキサゾリン基を有するモノマーやポリアルキレンオキシド鎖を有するモノマーを、後述するアルキル(メタ)アクリレートや(メタ)アクリルアミド等のその他の共重合成分からなるアクリルポリマーを主鎖とするポリマーに共重合成分として含むものを挙げることができる。
オキサゾリン基を有するモノマーとしては、例えば2−ビニル−2−オキサゾリン、2−ビニル−4−メチル−2−オキサゾリン、2−ビニル−5−メチル−2−オキサゾリン、2−イソプロペニル−2−オキサゾリン、2−イソプロペニル−4−メチル−2−オキサゾリン、2−イソプロペニル−5−メチル−2−オキサゾリン等を挙げることができ、これらの1種又は2種以上の混合物を使用することができる。これらの中で2−イソプロペニル−2−オキサゾリンが工業的に入手しやすく好適である。かかるオキサゾリン基を有するアクリル樹脂を用いることにより中間層の凝集力が向上し、透明導電塗膜層との密着性がより強固になる。更に、フィルム製膜工程内や透明導電塗膜層加工工程における金属ロールに対する耐擦傷性を基材フィルム表面に付与できる。尚、オキサゾリン基を含有するモノマーの含有量は、該アクリル樹脂中の含有量として、好ましくは2〜40重量%、より好ましくは3〜35重量%、更に好ましくは5〜30重量%である。
ポリアルキレンオキシド鎖を有するモノマーとしては、例えばアクリル酸、メタクリル酸のカルボキシル基にポリアルキレンオキシドを付加させたエステルを挙げることができる。ポリアルキレンオキシド鎖としては、例えば、ポリメチレンオキシド、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシド、ポリブチレンオキシド等を挙げることができる。ポリアルキレンオキシド鎖の繰り返し単位は3〜100であることが好ましい。かかるポリアルキレンオキシド鎖を有するアクリル樹脂を用いることにより中間層中のポリエステル樹脂とアクリル樹脂の相溶性がポリアルキレンオキシド鎖を含有しないアクリル樹脂と比較してよくなり、中間層の透明性を向上させることができる。ここでポリアルキレンオキシド鎖の繰り返し単位が3より小さいとポリエステル樹脂とアクリル樹脂との相溶性が低下して中間層の透明性が悪くなりやすく、逆に100より大きいと中間層の耐湿熱性が下がり、高湿度、高温下での透明導電性塗膜層との密着性が低下し易くなる。尚、ポリアルキレンオキシド鎖を有するモノマーの含有量は、該アクリル樹脂中の含有量としては好ましくは3〜40重量%、より好ましくは4〜35重量%、さらに好ましくは5〜30重量%である。
アクリル樹脂のその他の共重合成分としては、例えば以下のモノマーを挙げることができる。すなわち、アルキルアクリレート、アルキルメタクリレート(アルキル基が例えばメチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基、2−エチルヘキシル基、シクロヘキシル基のもの);2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルメタクリレート等のヒドロキシ基含有モノマー:グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート、アリルグリシジルエーテル等のエポキシ基含有モノマー;アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、クロトン酸、スチレンスルホン酸及びその塩(ナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩、第三級アミン塩等)等のカルボキシル基、スルホン酸基またはその塩を有するモノマー;アクリルアミド、メタクリルアミド、N−アルキルアクリルアミド、N−アルキルメタクリルアミド、N,N−ジアルキルアクリルアミド、N,N−ジアルキルメタクリルアミド(アルキル基が例えばメチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基、2−エチルヘキシル基、シクロヘキシル基のもの)、アクリロイルモルフォリン、N−メチロールアクリルアミド、N−メチロールメタクリルアミド、N−フェニルアクリルアミド、N−フェニルメタクリルアミド等のアミド基を有するモノマー;無水マレイン酸、無水イタコン酸等の酸無水物のモノマー;ビニルイソシアネート、アリルイソシアネート、スチレン、ビニルメチルエーテル、ビニルエチルエーテル、ビニルトリアルコキシシラン、アルキルマレイン酸モノエステル、アルキルフマル酸モノエステル、アルキルイタコン酸モノエステル、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、塩化ビニリデン、エチレン、プロピレン、塩化ビニル、酢酸ビニル、ブタジエン等である。
(樹脂組成物)
中間層を形成する樹脂組成物中において、ポリエステル樹脂の含有割合は、5〜95重量%であることが好ましく、50〜90重量%であることがさらに好ましく、50〜70重量%であることが特に好ましい。また、オキサゾリン基およびポリアルキレンオキシド鎖を有するアクリル樹脂の含有割合は、5〜90重量%であることが好ましく、10〜50重量%であることがさらに好ましく、20〜40重量%であることが特に好ましい。このような含有割合であると、基材層と透明導電塗膜層との密着性の向上効果を高くすることができる。また、保護層上に形成する層との密着性の向上効果を高くすることができる。また、屈折率が好ましい範囲となりやすく、透明性の向上効果を高くすることができる。ポリエステル樹脂の含有割合が多すぎるか、もしくはオキサゾリン基およびポリアルキレンオキシド鎖を有するアクリル樹脂の含有割合が少なすぎると、中間層の凝集力が低下し、透明導電塗膜層の密着性の向上効果が低くなる傾向にあり、保護層上に形成する層との密着性の向上効果が低くなる傾向にある。また、ポリエステル樹脂の含有割合が少なすぎるか、もしくはオキサゾリン基およびポリアルキレンオキシド鎖を含有するアクリル樹脂の含有割合が多すぎる場合にも、透明導電塗膜層の密着性の向上効果が低くなる傾向にあり、保護層上に形成する層との密着性の向上効果が低くなる傾向にある。
また、ポリエステル樹脂およびアクリル樹脂の含有割合を上記範囲にして、以下の他の機能成分を含有させて、各々の機能を付与することができる。
中間層を形成する樹脂組成物中において、ポリエステル樹脂の含有割合は、5〜95重量%であることが好ましく、50〜90重量%であることがさらに好ましく、50〜70重量%であることが特に好ましい。また、オキサゾリン基およびポリアルキレンオキシド鎖を有するアクリル樹脂の含有割合は、5〜90重量%であることが好ましく、10〜50重量%であることがさらに好ましく、20〜40重量%であることが特に好ましい。このような含有割合であると、基材層と透明導電塗膜層との密着性の向上効果を高くすることができる。また、保護層上に形成する層との密着性の向上効果を高くすることができる。また、屈折率が好ましい範囲となりやすく、透明性の向上効果を高くすることができる。ポリエステル樹脂の含有割合が多すぎるか、もしくはオキサゾリン基およびポリアルキレンオキシド鎖を有するアクリル樹脂の含有割合が少なすぎると、中間層の凝集力が低下し、透明導電塗膜層の密着性の向上効果が低くなる傾向にあり、保護層上に形成する層との密着性の向上効果が低くなる傾向にある。また、ポリエステル樹脂の含有割合が少なすぎるか、もしくはオキサゾリン基およびポリアルキレンオキシド鎖を含有するアクリル樹脂の含有割合が多すぎる場合にも、透明導電塗膜層の密着性の向上効果が低くなる傾向にあり、保護層上に形成する層との密着性の向上効果が低くなる傾向にある。
また、ポリエステル樹脂およびアクリル樹脂の含有割合を上記範囲にして、以下の他の機能成分を含有させて、各々の機能を付与することができる。
(脂肪族ワックス)
本発明における上記樹脂組成物には、脂肪族ワックスを、樹脂組成物100重量%中に、0.5〜30重量%含有させることが好ましく、1〜10重量%含有させることがさらに好ましく、3〜7重量%含有させることが特に好ましい。このような態様で脂肪族ワックスを含有することにより、中間層の密着性を維持したまま、基材フィルムに滑性を付与することができる。含有量が少なすぎると、中間層による滑り性の向上効果が低くなる。他方、多すぎると、基材フィルムへの密着や、透明導電塗膜層を基材に密着させる性能の向上効果が低くなる。
本発明における上記樹脂組成物には、脂肪族ワックスを、樹脂組成物100重量%中に、0.5〜30重量%含有させることが好ましく、1〜10重量%含有させることがさらに好ましく、3〜7重量%含有させることが特に好ましい。このような態様で脂肪族ワックスを含有することにより、中間層の密着性を維持したまま、基材フィルムに滑性を付与することができる。含有量が少なすぎると、中間層による滑り性の向上効果が低くなる。他方、多すぎると、基材フィルムへの密着や、透明導電塗膜層を基材に密着させる性能の向上効果が低くなる。
好ましく用いられる脂肪族ワックスとしては、具体的には、カルナバワックス、キャンデリラワックス、ライスワックス、木ロウ、ホホバオイル、パームワックス、ロジン変性ワックス、オウリキュリーワックス、サトウキビワックス、エスパルトワックス、バークワックス等の植物系ワックス、ミツロウ、ラノリン、鯨ロウ、セラックワックス等の動物系ワックス、モンタンワックス、オゾケライト、セレシンワックス等の石油系ワックス、フィッシャートロプッシュワックス、ポリエチレンワックス、ポリプロピレンワックス等の合成炭化水素ワックス等が挙げられる。なかでも透明導電性塗膜層との滑り性が良好なことから、カルナバワックス、パラフィンワックス、ポリエチレンワックスが好ましい。これらのワックス類は、特に環境問題および取り扱い易さの観点から水分散されたものを用いることが好ましい。
(微粒子)
さらに、上記樹脂組成物には、平均粒子径が0.005〜0.5μmの範囲にある微粒子を、樹脂組成物の重量を基準として、0.1〜20重量%含有させることが好ましい。含有量がこのような範囲にあると、中間層を有する基材フィルムの取り扱い性、すなわち滑性が向上する。また、透明性の向上効果を高くすることができる。さらに、本発明が規定する中間層の中心線平均表面粗さRaを達成し易くなる。微粒子の含有量が少なすぎると、基材フィルムの滑り性が低下する傾向にあり、ロール状に巻き取ることが困難になる傾向にある。他方、多すぎると、中間層の透明性が低下する傾向にあり、それにより導電性フィルムの透明性の向上効果が低くなる傾向にあり、ディスプレイやタッチパネル等、用途によっては使用が困難になる傾向にある。このような観点から、微粒子の平均粒子径は、より好ましくは0.01〜0.2μmであり、さらに好ましくは0.05〜0.15μmである。また、同様の観点より、含有量は、より好ましくは0.5〜10重量%であり、さらに好ましくは1〜5重量%である。
さらに、上記樹脂組成物には、平均粒子径が0.005〜0.5μmの範囲にある微粒子を、樹脂組成物の重量を基準として、0.1〜20重量%含有させることが好ましい。含有量がこのような範囲にあると、中間層を有する基材フィルムの取り扱い性、すなわち滑性が向上する。また、透明性の向上効果を高くすることができる。さらに、本発明が規定する中間層の中心線平均表面粗さRaを達成し易くなる。微粒子の含有量が少なすぎると、基材フィルムの滑り性が低下する傾向にあり、ロール状に巻き取ることが困難になる傾向にある。他方、多すぎると、中間層の透明性が低下する傾向にあり、それにより導電性フィルムの透明性の向上効果が低くなる傾向にあり、ディスプレイやタッチパネル等、用途によっては使用が困難になる傾向にある。このような観点から、微粒子の平均粒子径は、より好ましくは0.01〜0.2μmであり、さらに好ましくは0.05〜0.15μmである。また、同様の観点より、含有量は、より好ましくは0.5〜10重量%であり、さらに好ましくは1〜5重量%である。
好ましく用いられる微粒子としては、例えば炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、酸化カルシウム、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、硫酸バリウム、酸化チタン、酸化錫、酸化アンチモン、カーボンブラック、二硫化モリブデン等の無機微粒子、シリカと酸化チタンからなる複合無機微粒子、アクリル系架橋重合体、スチレン系架橋重合体、シリコーン樹脂、フッ素樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、フェノール樹脂、ナイロン樹脂、ポリエチレンワックス等の有機微粒子を挙げることができる。これらのうち、シリカと酸化チタンからなる複合無機微粒子やシリカ粒子が好ましい。さらに、中間層を形成する高分子バインダー(前記ポリエステル樹脂とアクリル樹脂の混合物)と微粒子の屈折率差は、反射防止効果およびヘイズの観点から0.02以下であることが好ましく、屈折率差がこれを超えて大きくなると、導電性フィルムの透明性の向上効果が低くなる傾向にある。中間層の表面粗さは、これらの微粒子の平均粒子径や含有量を適正にすることで、達成することができる。例えば、微粒子が小さすぎたり、含有量が少なすぎると、表面粗さが平坦になる傾向にある。また、微粒子が大きすぎたり、含有量が多すぎると、表面粗さが粗くなる傾向にある。
(中間層の形成方法)
中間層は、上記の必須成分および任意成分を含有する樹脂組成物を、好ましくは水溶液、水分散液、または乳化液等の水性塗液の形態とした、中間層を形成するためのコーティング組成物を、基材フィルム上に塗布し、加熱乾燥することにより形成される。かかる樹脂組成物またはコーティング組成物には、本発明の目的を阻害しない限りにおいて、必要に応じて、前記成分以外の他の成分、例えば帯電防止剤、着色剤、界面活性剤、紫外線吸収剤等を添加して、中間層にそれらの機能を付加することもできる。特に滑剤を添加することにより、耐ブロッキング性をさらに良好なものとすることができる。
中間層は、上記の必須成分および任意成分を含有する樹脂組成物を、好ましくは水溶液、水分散液、または乳化液等の水性塗液の形態とした、中間層を形成するためのコーティング組成物を、基材フィルム上に塗布し、加熱乾燥することにより形成される。かかる樹脂組成物またはコーティング組成物には、本発明の目的を阻害しない限りにおいて、必要に応じて、前記成分以外の他の成分、例えば帯電防止剤、着色剤、界面活性剤、紫外線吸収剤等を添加して、中間層にそれらの機能を付加することもできる。特に滑剤を添加することにより、耐ブロッキング性をさらに良好なものとすることができる。
かかるコーティング組成物の固形分濃度は、好ましくは20重量%以下、更に好ましくは1〜10重量%である。この割合が1重量%未満であると、基材フィルムへの濡れ性が不足することがあり、一方20重量%を越えると、コーティング組成物の貯蔵安定性や中間層の外観が悪化することがある。
上記コーティング組成物の塗布は、任意の段階で実施することができるが、特に、基材フィルムとしてポリエステルフィルムを用いる場合には、ポリエステルフィルムの製造過程で実施すること、すなわち基材フィルムの製膜時に並行して中間層を形成することが好ましく、さらには配向結晶化が完了する前のポリエステルフィルムに上記コーティング組成物を塗布し、中間層を形成するのが好ましい。
ここで、配向結晶化が完了する前のポリエステルフィルムとは、未延伸フィルム、未延伸フィルムを縦方向(機械軸方向のこと。)または横方向(機械軸方向と垂直な方向のこと。)の何れか一方に配向せしめた一軸配向フィルム、さらには縦方向および横方向の二方向に低倍率延伸配向せしめたもの(最終的に縦方向および/または横方向に再延伸せしめて配向結晶化を完了せしめる前の二軸延伸フィルム)等を含むものである。なかでも未延伸フィルムまたは一方向に延伸せしめた一軸延伸フィルムに、中間層を形成するためのコーティング組成物を塗布し、縦延伸および/または横延伸と熱固定とを施すのが好ましい。
塗布方法としては、それ自体公知の方法を採用すればよい。例えばリップダイレクト法、コンマコーター法、スリットリバース法、ダイコーター法、グラビアロールコーター法、ブレードコーター法、スプレーコーター法、エアーナイフコート法、ディップコート法、バーコーター法などを例示することができ、これらの方法を単独または組み合わせて用いることができる。なお、塗膜は必要に応じて基材フィルムの片面のみに形成してもよいし、両面に形成してもよい。
中間層を形成するためのコーティング組成物を基材フィルムに塗布する際には、塗布性を向上させるための予備処理として、フィルム表面にコロナ処理、火炎処理、プラズマ処理等の物理処理を施すか、あるいはコーティング組成物中に、これと化学的に不活性な界面活性剤を、濡れ剤として添加することが好ましい。かかる界面活性剤は、上記コーティング組成物の基材フィルムへの濡れを促進するものであり、例えば、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル、ポリオキシエチレン−脂肪酸エステル、ソルビタン脂肪族エステル、グリセリン脂肪酸エステル、脂肪酸金属石鹸、アルキル硫酸塩、アルキルスルホン酸塩、アルキルスルホコハク酸塩等のアニオン型、ノニオン型界面活性剤を挙げることができる。界面活性剤は、コーティング組成物中の固形分、すなわち中間層を形成する樹脂組成物100重量%中に、0.1〜10重量%含まれていることが好ましい。
<保護層>
本発明における保護層は、金属アルコキシドの加水分解後の縮合反応生成物から形成されるものである。好適に用いられる金属アルコキシドは下記一般式で示される化合物である。
本発明における保護層は、金属アルコキシドの加水分解後の縮合反応生成物から形成されるものである。好適に用いられる金属アルコキシドは下記一般式で示される化合物である。
ここで、上記一般式中の、R4は、メチル基、エチル基、ノルマルプロピル基、イソプロピル基、ノルマルブチル基、イソブチル基等のアルキル基が例示できる。またR3は、R4と同様のアルキル基、およびアセチル基等のアシル基が例示できる。このように本発明においては、アシロキシ基もアルコキシ基に包含されるものとし、また、金属アシロキシドも金属アルコキシドに包含されるものとする。Mは金属元素を表わし、好ましくはAl、Si、Ti、Zrであり、中でも特にSiが好ましい。また、上記式におけるmは金属元素Mの価数を示し、nは金属元素Mに付加するアルコキシ基の数を示し、nはmと同じかそれよりも小さい数である。これら化合物の中でも加水分解可能な物質が好ましく、好ましい金属アルコキシドとしては、メチルトリアセトキシシラン、ジメチルジアセトキシシラン、トリメチルアセトキシシラン、テトラアセトキシシラン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトライソブトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、トリメチルエトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、γ―グリシドキシトリメトキシシラン等が挙げられる。上記アルコキシシランの加水分解/縮合を効率よく進行させるためには触媒が必要となる。好適に用いられる触媒としては、上述の透明導電塗膜層におけるシラン化合物の触媒として説明したものと同様なものが挙げられる。
保護層の厚みは、後工程において保護層の上に設けられる他の層との密着性を向上するという観点から、50nmを超え、150nm以下であることが必要である。また、かかる範囲にあると、耐溶剤性にも優れる。保護層の厚みが下限未満だと、十分な密着性が得られず、また耐溶剤性も低くなる傾向にある。このような観点から、好ましい保護層の厚みは60nm以上、さらに好ましくは65nm以上である。他方、上限を超えると、表面抵抗が上昇し、導電性が低下する。このような観点から、好ましい保護層の厚みは130nm以下、より好ましくは120nm以下、さらに好ましくは85nm以下である。
(保護層の形成方法)
保護層は、上記成分を含有する、保護層を形成するためのコーティング組成物を作成し、それを透明導電塗膜層の上に塗布して塗膜を形成し、加熱乾燥して形成される。かかる加熱乾燥により、上記金属アルコキシドの縮合反応生成物が形成される。
保護層は、上記成分を含有する、保護層を形成するためのコーティング組成物を作成し、それを透明導電塗膜層の上に塗布して塗膜を形成し、加熱乾燥して形成される。かかる加熱乾燥により、上記金属アルコキシドの縮合反応生成物が形成される。
かかる保護層を形成するためのコーティング組成物に用いる溶媒としては、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル等のエステル類メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、テトラヒドロフラン等のエーテル類、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、n−ブタノール、プロピレングリコール等のアルコール類等が挙げられ、中でもアルコール類、ケトン類、エーテル類、エステル類が好ましい。また、例えばアルコール類においては、エタノールよりもイソプロピルアルコールの方が、さらに低い表面抵抗が得られる。このような溶媒を用いることにより、保護層表面における導電性の向上効果を高くすることができる。このような保護層を透明導電塗膜層上に形成しても、導電性フィルムとしての表面抵抗の値に大きな影響を与えない原因は明らかにはなっていないが、保護層の形成時に透明導電塗膜層の一部が保護層を形成するためのコーティング組成物中に一部溶解し、それにより形成される保護層が、一部両層の材料の混合物になっている可能性が考えられる。
保護層を形成する際の塗布方法としては、公知の方法を採用でき、例えばリップダイレクト法、コンマコーター法、スリットリバース法、ダイコーター法、グラビアロールコーター法、ブレードコーター法、スプレーコーター法、エアーナイフコート法、ディップコート法、バーコーター法などが好ましく挙げられる。また、加熱条件としては、80〜160℃で10〜120秒間、さらに100〜150℃で20〜60秒間、特に130〜150℃で40〜60秒間が好ましい。このような加熱条件を選択することにより、上記透明導電塗膜層の一部が保護層を形成するためのコーティング組成物中に一部溶解する作用が促進され、導電性の向上効果を高くすることができる。
保護層は、本発明の目的を阻害しない限りにおいて、上記透明導電塗膜層に用いることができるバインダーを含有していてもよい。また、かかるバインダーとしては、UV硬化性樹脂またはEB硬化性樹脂であってもよいが、それらを用いた場合には、一般的には予備乾燥を行った後、紫外線照射または電子線照射を行なって保護層を形成する。
<基材フィルム>
本発明における基材フィルムとしては、特に制限はないが、(メタ)アクリルポリマー、ポリスチレン、ポリ酢酸ビニル、ポリエチレンやポリプロピレンのようなポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリイミド、ポリアミド、ポリスルホン、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート(以下、PETと称することがある。)、ポリエチレンナフタレート(以下、PENと称することがある。)等のポリエステルおよびこれらの共重合体や、アミノ基エポキシ基、ヒドロキシル基、カルボニル基等の官能基で一部変性した樹脂、トリアセチルセルロース(TAC)からなるフィルムが好適である。これらの基材フィルムのうち、機械特性や透明性、生産コストの点からポリエステル(PET、PENおよびそれらの共重合体)フィルムが特に好ましい。基材フィルムの厚みは特に制限されないが、500μm以下が好ましい。500μmより厚い場合は剛性が強すぎて、得られた反射防止フィルムのディスプレイへの貼り付け時の取り扱いが困難である。より好ましい厚みは50〜350μm、さらに好ましくは100〜250μmである。薄すぎると剛性に劣り、用途によっては使用し難い。
本発明における基材フィルムとしては、特に制限はないが、(メタ)アクリルポリマー、ポリスチレン、ポリ酢酸ビニル、ポリエチレンやポリプロピレンのようなポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリイミド、ポリアミド、ポリスルホン、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート(以下、PETと称することがある。)、ポリエチレンナフタレート(以下、PENと称することがある。)等のポリエステルおよびこれらの共重合体や、アミノ基エポキシ基、ヒドロキシル基、カルボニル基等の官能基で一部変性した樹脂、トリアセチルセルロース(TAC)からなるフィルムが好適である。これらの基材フィルムのうち、機械特性や透明性、生産コストの点からポリエステル(PET、PENおよびそれらの共重合体)フィルムが特に好ましい。基材フィルムの厚みは特に制限されないが、500μm以下が好ましい。500μmより厚い場合は剛性が強すぎて、得られた反射防止フィルムのディスプレイへの貼り付け時の取り扱いが困難である。より好ましい厚みは50〜350μm、さらに好ましくは100〜250μmである。薄すぎると剛性に劣り、用途によっては使用し難い。
本発明の導電性フィルムは、上述の通り基材フィルムの少なくとも片面に中間層、透明導電塗膜層、および保護層がこの順序で積層されていることが必要であるが、透明導電塗膜層、保護層が形成される側と反対の面には必要に応じて中間層があってもよいし、また、ハードコート層や反射防止層等の他の機能層を設けることもできる。
以下、実施例をあげて本発明をさらに詳細に説明する。なお、実施例中の評価は以下のように行った。
(1)各層の厚み
保護層、導電層、中間層の厚みは、反射分光膜厚計(大塚電子製、商品名「FE−3000」)によって、300〜800nmの反射率を測定し、代表的な屈折率の波長分散の近似式としてn−k Cauchyの分散式を引用し、スペクトルの実測値とフィッティングさせることにより求めた。
保護層、導電層、中間層の厚みは、反射分光膜厚計(大塚電子製、商品名「FE−3000」)によって、300〜800nmの反射率を測定し、代表的な屈折率の波長分散の近似式としてn−k Cauchyの分散式を引用し、スペクトルの実測値とフィッティングさせることにより求めた。
(2)全光線透過率およびヘイズ
JIS K7105に従い、スガ試験機(株)製のヘイズメーターHCM−2Bにて測定した。
JIS K7105に従い、スガ試験機(株)製のヘイズメーターHCM−2Bにて測定した。
(3)耐溶剤性
エタノールと酢酸エチルとをそれぞれしみ込ませたガーゼを、200g/cm2の一定荷重で、試料の保護層側表面を10往復こすった後、塗膜の状態を目視にて評価した。判定は以下の規準で行った。
○・・・塗膜のはがれがない
△・・・部分的に、僅かな塗膜のはがれがある
×・・・塗膜のはがれがある
エタノールと酢酸エチルとをそれぞれしみ込ませたガーゼを、200g/cm2の一定荷重で、試料の保護層側表面を10往復こすった後、塗膜の状態を目視にて評価した。判定は以下の規準で行った。
○・・・塗膜のはがれがない
△・・・部分的に、僅かな塗膜のはがれがある
×・・・塗膜のはがれがある
(4)表面抵抗
導電性フィルムの最表面(保護層を有する場合は保護層表面、保護層を有しない場合は透明導電塗膜層表面)において、三菱化学社製Lorester MCP−T600を用いて、JIS K7194に準拠して測定した。測定は任意の箇所を5回測定し、それらの平均値を求めた。
なお、表面抵抗が高すぎて測定ができなかった場合は、測定不能とした。
導電性フィルムの最表面(保護層を有する場合は保護層表面、保護層を有しない場合は透明導電塗膜層表面)において、三菱化学社製Lorester MCP−T600を用いて、JIS K7194に準拠して測定した。測定は任意の箇所を5回測定し、それらの平均値を求めた。
なお、表面抵抗が高すぎて測定ができなかった場合は、測定不能とした。
(5)密着性(加工適性)
導電性フィルムの最表面(保護層を有する場合は保護層表面、保護層を有しない場合は透明導電塗膜層表面)に、ポリエステル粘着テープ(日東電工株式会社製、型番:31B、25mm幅)を、2kgのローラーを用いて均一な力で貼り合わせてサンプルを作成した。作成したサンプルから、引っ張り試験機機にて、ポリエステル粘着テープを速度300mm/分、角度180度で剥離した時の剥離力を測定した。かかる測定を任意の5箇所について実施し、それらの平均値を剥離力(単位:g/25mm)とした。更に、以下の基準で判定を行った。
○・・・900g/25mm以上。テープの密着力が高く、加工適正に優れている。
×・・・900g/25mm未満。テープの密着力が低く、加工適性に劣る。
導電性フィルムの最表面(保護層を有する場合は保護層表面、保護層を有しない場合は透明導電塗膜層表面)に、ポリエステル粘着テープ(日東電工株式会社製、型番:31B、25mm幅)を、2kgのローラーを用いて均一な力で貼り合わせてサンプルを作成した。作成したサンプルから、引っ張り試験機機にて、ポリエステル粘着テープを速度300mm/分、角度180度で剥離した時の剥離力を測定した。かかる測定を任意の5箇所について実施し、それらの平均値を剥離力(単位:g/25mm)とした。更に、以下の基準で判定を行った。
○・・・900g/25mm以上。テープの密着力が高く、加工適正に優れている。
×・・・900g/25mm未満。テープの密着力が低く、加工適性に劣る。
(6)中間層の屈折率
中間層を形成するためのコーティング組成物を蒸発乾固させ、レーザー屈折計(METRICON PRINM COUPER Model2010)を用い、波長633nmでの屈折率を測定した。
中間層を形成するためのコーティング組成物を蒸発乾固させ、レーザー屈折計(METRICON PRINM COUPER Model2010)を用い、波長633nmでの屈折率を測定した。
(7)ガラス転移温度
サンプル約10mgを測定用のアルミニウム製パンに封入して示差熱量計(デュポン社製V4.0B2000型DSC)に装着し、25℃から20℃/分の速度で300℃まで昇温させ、300℃で5分間保持した後取り出し、直ちに氷の上に移して急冷した。このパンを再度示差熱量計に装着し、25℃から20℃/分の速度で300℃まで昇温させてガラス転移温度(Tg:℃)を測定した。
サンプル約10mgを測定用のアルミニウム製パンに封入して示差熱量計(デュポン社製V4.0B2000型DSC)に装着し、25℃から20℃/分の速度で300℃まで昇温させ、300℃で5分間保持した後取り出し、直ちに氷の上に移して急冷した。このパンを再度示差熱量計に装着し、25℃から20℃/分の速度で300℃まで昇温させてガラス転移温度(Tg:℃)を測定した。
(8)固有粘度
固有粘度([η]dl/g)は25℃のo−クロロフェノール溶液で測定した。
固有粘度([η]dl/g)は25℃のo−クロロフェノール溶液で測定した。
(9)中心線平均表面粗さRa
JIS B0601に準じ、(株)小坂研究所製の高精度表面粗さ計SE−3FATを使用して、針の半径2μm、荷重30mgで拡大倍率20万倍、カットオフ0.08mmの条件下にチャートを描かせ、表面粗さ曲線からその中心線方向に測定長さLの部分を抜き取り、この抜き取り部分の中心線をX軸、縦倍率の方向とY軸として、粗さ曲線をY=f(x)で表わした時、次の式で与えられた値をnm単位で表わし、中心線平均表面粗さRaとした。また、この測定は、基準長を1.25mmとして4個測定し、平均値で表わした。
JIS B0601に準じ、(株)小坂研究所製の高精度表面粗さ計SE−3FATを使用して、針の半径2μm、荷重30mgで拡大倍率20万倍、カットオフ0.08mmの条件下にチャートを描かせ、表面粗さ曲線からその中心線方向に測定長さLの部分を抜き取り、この抜き取り部分の中心線をX軸、縦倍率の方向とY軸として、粗さ曲線をY=f(x)で表わした時、次の式で与えられた値をnm単位で表わし、中心線平均表面粗さRaとした。また、この測定は、基準長を1.25mmとして4個測定し、平均値で表わした。
(10)透明導電塗膜層の密着性
学振磨耗試験機(テスター産業社製、商品名:学振型摩擦堅牢度試験機)を用いて測定を実施した。具体的には、10mm2のガーゼに水を十分に含ませたものに700gの荷重をかけて、1往復/2秒の速度で10往復塗膜上を擦った時の塗膜の剥がれ状態を評価した。評価基準を以下に示す。
○・・・塗膜の剥がれがない
×・・・塗膜に剥がれがみられる
学振磨耗試験機(テスター産業社製、商品名:学振型摩擦堅牢度試験機)を用いて測定を実施した。具体的には、10mm2のガーゼに水を十分に含ませたものに700gの荷重をかけて、1往復/2秒の速度で10往復塗膜上を擦った時の塗膜の剥がれ状態を評価した。評価基準を以下に示す。
○・・・塗膜の剥がれがない
×・・・塗膜に剥がれがみられる
[中間層を形成する樹脂組成物の組成]
表1に、実施例において中間層を形成する樹脂組成物の組成を示す。
表1に、実施例において中間層を形成する樹脂組成物の組成を示す。
なお、表1における各成分は、以下のとおりである。
ポリエステル1:酸成分が2,6−ナフタレンジカルボン酸65モル%/イソフタル酸30モル%/5−ナトリウムスルホイソフタル酸5モル%、グリコール成分がエチレングリコール90モル%/ジエチレングリコール10モル%で構成されている。Tg=80℃。数平均分子量13,000。
尚、ポリエステル1は特開平6−116487号公報の実施例1に記載の方法に準じて、下記の通り製造した。すなわち、2,6−ナフタレンジカルボン酸ジメチル44部、イソフタル酸ジメチル16部、5−ナトリウムスルホイソフタル酸ジメチル4部、エチレングリコール34部及びジエチレングリコール2部を反応器に仕込み、これにテトラブトキシチタン0.05部を添加して窒素雰囲気下で温度を230℃にコントロールして加熱し、生成するメタノールを留去させてエステル交換反応を行った。次いで、反応系の温度を徐々に255℃まで上昇させ系内を1mmHgの減圧にして重合反応を行い、ポリエステル1を得た。
ポリエステル1:酸成分が2,6−ナフタレンジカルボン酸65モル%/イソフタル酸30モル%/5−ナトリウムスルホイソフタル酸5モル%、グリコール成分がエチレングリコール90モル%/ジエチレングリコール10モル%で構成されている。Tg=80℃。数平均分子量13,000。
尚、ポリエステル1は特開平6−116487号公報の実施例1に記載の方法に準じて、下記の通り製造した。すなわち、2,6−ナフタレンジカルボン酸ジメチル44部、イソフタル酸ジメチル16部、5−ナトリウムスルホイソフタル酸ジメチル4部、エチレングリコール34部及びジエチレングリコール2部を反応器に仕込み、これにテトラブトキシチタン0.05部を添加して窒素雰囲気下で温度を230℃にコントロールして加熱し、生成するメタノールを留去させてエステル交換反応を行った。次いで、反応系の温度を徐々に255℃まで上昇させ系内を1mmHgの減圧にして重合反応を行い、ポリエステル1を得た。
ポリエステル2:酸成分がテレフタル酸60モル%/イソフタル酸35モル%/5−ナトリウムスルホイソフタル酸5モル%、グリコール成分がエチレングリコール90モル%/ジエチレングリコール10モル%で構成されている。Tg=45℃。数平均分子量14,000。
尚、ポリエステル2は特開平6−116487号公報の実施例1に記載の方法に準じて下記の通り製造した。すなわち、テレフタル酸ジメチル36部、イソフタル酸ジメチル21部、5−ナトリウムスルホイソフタル酸ジメチル5部、エチレングリコール36部及びジエチレングリコール2部を反応器に仕込み、これにテトラブトキシチタン0.05部を添加して窒素雰囲気下で温度を230℃にコントロールして加熱し、生成するメタノールを留去させてエステル交換反応を行った。次いで、反応系の温度を徐々に255℃まで上昇させ系内を1mmHgの減圧にして重合反応を行い、ポリエステル2を得た。
尚、ポリエステル2は特開平6−116487号公報の実施例1に記載の方法に準じて下記の通り製造した。すなわち、テレフタル酸ジメチル36部、イソフタル酸ジメチル21部、5−ナトリウムスルホイソフタル酸ジメチル5部、エチレングリコール36部及びジエチレングリコール2部を反応器に仕込み、これにテトラブトキシチタン0.05部を添加して窒素雰囲気下で温度を230℃にコントロールして加熱し、生成するメタノールを留去させてエステル交換反応を行った。次いで、反応系の温度を徐々に255℃まで上昇させ系内を1mmHgの減圧にして重合反応を行い、ポリエステル2を得た。
アクリル1:メチルメタクリレート30モル%/2−イソプロペニル−2−オキサゾリン30モル%/ポリエチレンオキシド(n=10)メタクリレート10モル%/アクリルアミド30モル%で構成されている。Tg=50℃。
尚、アクリル1は特開昭63−37167号公報の製造例1〜3に記載の方法に準じて下記の通り製造した。すなわち、四つ口フラスコに、界面活性剤としてラウリルスルホン酸ナトリウム3部、およびイオン交換水181部を仕込んで窒素気流下で60℃まで昇温させ、次いで重合開始剤として過硫酸アンモニウム0.5部、亜硝酸水素ナトリウム0.2部を添加し、更にモノマー類であるメタクリル酸メチル23.3部、2−イソプロペニル−2−オキサゾリン22.6部、ポリエチレンオキシド(n=10)メタクリレート40.7部及びアクリルアミド13.3部の混合物を3時間にわたり、液温が60〜70℃になるように調整しながら滴下した。滴下終了後も同温度範囲に2時間保持しつつ攪拌下に反応を継続させ、次いで冷却して固形分が35%のアクリル1の水分散体を得た。
尚、アクリル1は特開昭63−37167号公報の製造例1〜3に記載の方法に準じて下記の通り製造した。すなわち、四つ口フラスコに、界面活性剤としてラウリルスルホン酸ナトリウム3部、およびイオン交換水181部を仕込んで窒素気流下で60℃まで昇温させ、次いで重合開始剤として過硫酸アンモニウム0.5部、亜硝酸水素ナトリウム0.2部を添加し、更にモノマー類であるメタクリル酸メチル23.3部、2−イソプロペニル−2−オキサゾリン22.6部、ポリエチレンオキシド(n=10)メタクリレート40.7部及びアクリルアミド13.3部の混合物を3時間にわたり、液温が60〜70℃になるように調整しながら滴下した。滴下終了後も同温度範囲に2時間保持しつつ攪拌下に反応を継続させ、次いで冷却して固形分が35%のアクリル1の水分散体を得た。
アクリル2:メチルメタクリレート30モル%/2−イソプロペニル−2−オキサゾリン40モル%/アクリルアミド30モル%で構成されている。Tg=80℃。
尚、アクリル2は特開昭63−37467号公報の製造例1〜3に記載の方法に準じて下記の通り製造した。すなわち、四つ口フラスコに、界面活性剤としてラウリルスルホン酸ナトリウム3部、およびイオン交換水181部を仕込んで窒素気流下で60℃まで昇温させ、次いで重合開始剤として過硫酸アンモニウム0.5部および亜硝酸水素ナトリウム0.2部を添加し、さらにモノマー類であるメタクリル酸メチル34.9部、2−イソプロペニル−2−オキサゾリン45.2部およびアクリルアミド19.9部の混合物を3時間にわたり、液温が60〜70℃になるように調整しながら滴下した。滴下終了後も同温度範囲に2時間保持しつつ攪拌下に反応を継続させ、次いで冷却して固形分が35%のアクリル2の分散体を得た。
尚、アクリル2は特開昭63−37467号公報の製造例1〜3に記載の方法に準じて下記の通り製造した。すなわち、四つ口フラスコに、界面活性剤としてラウリルスルホン酸ナトリウム3部、およびイオン交換水181部を仕込んで窒素気流下で60℃まで昇温させ、次いで重合開始剤として過硫酸アンモニウム0.5部および亜硝酸水素ナトリウム0.2部を添加し、さらにモノマー類であるメタクリル酸メチル34.9部、2−イソプロペニル−2−オキサゾリン45.2部およびアクリルアミド19.9部の混合物を3時間にわたり、液温が60〜70℃になるように調整しながら滴下した。滴下終了後も同温度範囲に2時間保持しつつ攪拌下に反応を継続させ、次いで冷却して固形分が35%のアクリル2の分散体を得た。
アクリル3:メチルメタクリレート45モル%/ブチルアクリレート45モル%/グリシジルメタクリレート5モル%/2−ヒドロキシエチルメタクリレート5モル%で構成されている。Tg=50℃。
尚、アクリル3は特開昭63−37167号公報の製造例1〜3の方法に準じて下記の通り製造した。すなわち、四つ口フラスコに界面活性剤としてラウリルスルホン酸ナトリウム3部、およびイオン交換水181部を仕込んで窒素気流下で60℃まで昇温させ、次いで重合開始剤として過硫酸アンモニウム0.5部および亜硝酸水素ナトリウム0.2部を添加し、さらにモノマー類であるメタクリル酸メチル38.7部、アクリル酸ブチル49.6部、グリシジルメタクリレート6.1部および2−ヒドロキシエチルメタクリレート5.6部の混合物を3時間にわたり、液温が60〜70℃になるように調整しながら滴下した。滴下終了後も同温度範囲に2時間保持しつつ攪拌下に反応を継続させ、次いで冷却して固形分が35%のアクリル3の水分散体を得た。
尚、アクリル3は特開昭63−37167号公報の製造例1〜3の方法に準じて下記の通り製造した。すなわち、四つ口フラスコに界面活性剤としてラウリルスルホン酸ナトリウム3部、およびイオン交換水181部を仕込んで窒素気流下で60℃まで昇温させ、次いで重合開始剤として過硫酸アンモニウム0.5部および亜硝酸水素ナトリウム0.2部を添加し、さらにモノマー類であるメタクリル酸メチル38.7部、アクリル酸ブチル49.6部、グリシジルメタクリレート6.1部および2−ヒドロキシエチルメタクリレート5.6部の混合物を3時間にわたり、液温が60〜70℃になるように調整しながら滴下した。滴下終了後も同温度範囲に2時間保持しつつ攪拌下に反応を継続させ、次いで冷却して固形分が35%のアクリル3の水分散体を得た。
添加剤1:シリカフィラー(平均粒径100nm)(日産化学株式会社製:商品名スノーテックスZL)
添加剤2:カルナバワックス(中京油脂株式会社製:商品名セロゾール524)
濡れ剤:ポリオキシエチレン(n=7)ラウリルエーテル(三洋化成株式会社製:商品名ナロアクティーN−70)
添加剤2:カルナバワックス(中京油脂株式会社製:商品名セロゾール524)
濡れ剤:ポリオキシエチレン(n=7)ラウリルエーテル(三洋化成株式会社製:商品名ナロアクティーN−70)
[実施例1]
<基材フィルム及び中間層の形成>
溶融ポリエチレンテレフタレート([η]=0.62dl/g、Tg=78℃)をダイより押し出し、常法により冷却ドラムで冷却して未延伸フィルムとし、次いで、縦方向に3.4倍延伸した後、その両面に、表1に示す塗液1(表1に示す樹脂組成物の水性塗液、固形分濃度8重量%)をロールコーターで均一に塗布した。次いで塗工後にこのフィルムを横方向に125℃で3.6倍延伸し、220℃で幅方向に3%収縮させ熱固定を行い、中間層が形成された、厚さ188μmの基材フィルムを得た。なお、中間層の厚さは表裏ともにそれぞれ0.15μmであった。ここで、中間層表面における中心線平均表面粗さRaを測定した。
<基材フィルム及び中間層の形成>
溶融ポリエチレンテレフタレート([η]=0.62dl/g、Tg=78℃)をダイより押し出し、常法により冷却ドラムで冷却して未延伸フィルムとし、次いで、縦方向に3.4倍延伸した後、その両面に、表1に示す塗液1(表1に示す樹脂組成物の水性塗液、固形分濃度8重量%)をロールコーターで均一に塗布した。次いで塗工後にこのフィルムを横方向に125℃で3.6倍延伸し、220℃で幅方向に3%収縮させ熱固定を行い、中間層が形成された、厚さ188μmの基材フィルムを得た。なお、中間層の厚さは表裏ともにそれぞれ0.15μmであった。ここで、中間層表面における中心線平均表面粗さRaを測定した。
<透明導電塗膜層の形成>
ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)とポリスチレンスルホン酸を主成分とし、シランカップリング剤とを含んでなる導電性塗料(日本アグファ・ゲバルト(株)社製、商品名:Orgacon S−300)をマイヤーバーを用いて、上記で得られた基材フィルムにおける中間層の上に、表2に示す乾燥後の厚みとなるように塗布し、120℃で1分間の乾燥を行い、透明導電塗膜層を形成した。ここで、透明導電塗膜層表面の表面抵抗は、2000Ω/□であった。
ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)とポリスチレンスルホン酸を主成分とし、シランカップリング剤とを含んでなる導電性塗料(日本アグファ・ゲバルト(株)社製、商品名:Orgacon S−300)をマイヤーバーを用いて、上記で得られた基材フィルムにおける中間層の上に、表2に示す乾燥後の厚みとなるように塗布し、120℃で1分間の乾燥を行い、透明導電塗膜層を形成した。ここで、透明導電塗膜層表面の表面抵抗は、2000Ω/□であった。
<保護層の形成>
テトラエトキシシラン22.5gとメチルトリエトキシシラン2.5g、シリコーンオイル0.25g、エタノール18.8g、n−プロパノール18.8gを混合し攪拌した溶液中に、予めイオン交換水17.5gと0.001Nの塩酸6.0g混合しておいた溶液を加え、全量投入後10分間攪拌し、その後20時間静置することで加水分解反応を進行させた。この液をイソプロピルアルコールにて3倍に希釈したものを、上述の透明導電塗膜層の上にマイヤーバーを用いて、表2に示す乾燥後の厚みとなるように塗工し、温度140℃で60秒乾燥することで保護層を形成し、導電性フィルムを得た。得られた導電性フィルムの特性を表2に示す。
テトラエトキシシラン22.5gとメチルトリエトキシシラン2.5g、シリコーンオイル0.25g、エタノール18.8g、n−プロパノール18.8gを混合し攪拌した溶液中に、予めイオン交換水17.5gと0.001Nの塩酸6.0g混合しておいた溶液を加え、全量投入後10分間攪拌し、その後20時間静置することで加水分解反応を進行させた。この液をイソプロピルアルコールにて3倍に希釈したものを、上述の透明導電塗膜層の上にマイヤーバーを用いて、表2に示す乾燥後の厚みとなるように塗工し、温度140℃で60秒乾燥することで保護層を形成し、導電性フィルムを得た。得られた導電性フィルムの特性を表2に示す。
[実施例2〜8、比較例1〜9]
中間層の塗液および保護層の厚みを表1および表2に示すとおりとした以外は、実施例1と同様な操作により導電性フィルムを得た。得られた導電性フィルムの特性を表2に示す。なお、比較例3においては中間層を形成せず、比較例4においては保護層を形成しなかった。
中間層の塗液および保護層の厚みを表1および表2に示すとおりとした以外は、実施例1と同様な操作により導電性フィルムを得た。得られた導電性フィルムの特性を表2に示す。なお、比較例3においては中間層を形成せず、比較例4においては保護層を形成しなかった。
本発明の導電性フィルムは、密着性に優れるため、保護層の上にさらに機能層を積層することができるため、液晶ディスプレイ(LCD)、透明タッチパネル、有機エレクトロルミネッセンス素子、無機エレクトロルミネッセンスランプ等の透明電極や電磁波シールド材として好適に使用することができる。
1 基材フィルム
2 中間層
3 透明導電塗膜層
4 保護層
5 反射防止層、ハードコート層、粘着層等の他の機能層
2 中間層
3 透明導電塗膜層
4 保護層
5 反射防止層、ハードコート層、粘着層等の他の機能層
Claims (5)
- 基材フィルム、
ポリエステル樹脂およびオキサゾリン基とポリアルキレンオキシド鎖とを有するアクリル樹脂を含有する樹脂組成物から形成され、中心線平均表面粗さRaが3〜15nmである中間層、
透明導電塗膜層、および
金属アルコキシドの反応生成物からなり、厚みが50nmを超え150nm以下である保護層
がこの順で積層された導電性フィルムであって、全光線透過率が60%以上、保護層表面における表面抵抗が10〜1×105Ω/□の範囲にある導電性フィルム。 - 透明導電塗膜層が、シランカップリング剤の反応生成物を含有する請求項2に記載の導電性フィルム。
- 保護層がアルコキシシランの反応生成物からなる請求項1〜3のいずれか1項に記載の導電性フィルム。
- 透明導電塗膜層の表面抵抗が10〜1×105Ω/□の範囲にある請求項1〜4のいずれか1項に記載の導電性フィルム。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011035932A JP2012171232A (ja) | 2011-02-22 | 2011-02-22 | 導電性フィルム |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2011035932A JP2012171232A (ja) | 2011-02-22 | 2011-02-22 | 導電性フィルム |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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JP2012171232A true JP2012171232A (ja) | 2012-09-10 |
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ID=46974576
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JP2011035932A Withdrawn JP2012171232A (ja) | 2011-02-22 | 2011-02-22 | 導電性フィルム |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP2012171232A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2015020015A1 (ja) * | 2013-08-09 | 2015-02-12 | 日本ケミコン株式会社 | 色素増感太陽電池 |
JP2020175611A (ja) * | 2019-04-19 | 2020-10-29 | ナガセケムテックス株式会社 | 積層体 |
CN113396053A (zh) * | 2019-02-18 | 2021-09-14 | 昭和电工株式会社 | 透明导电基体及包含该透明导电基体的触摸面板 |
-
2011
- 2011-02-22 JP JP2011035932A patent/JP2012171232A/ja not_active Withdrawn
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPWO2015020015A1 (ja) * | 2013-08-09 | 2017-03-02 | 日本ケミコン株式会社 | 色素増感太陽電池 |
CN113396053A (zh) * | 2019-02-18 | 2021-09-14 | 昭和电工株式会社 | 透明导电基体及包含该透明导电基体的触摸面板 |
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A761 | Written withdrawal of application |
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