JP2012133105A - 液晶表示素子の製造方法及び液晶表示素子 - Google Patents

Abstract

【課題】液晶表示素子の製造歩留まりを向上させること。
【解決手段】第１の基板上に構造体を形成する工程と、前記構造体上に第２の基板を貼り合わせて、前記第１の基板及び前記第２の基板間に、前記構造体により隔離された第１の空間及び第２の空間を形成する工程と、前記第１の空間及び前記第２の空間の境界部に選択的に光を照射しながら、前記第１の空間及び前記第２の空間の一方に、光硬化性樹脂を含有する第１の液晶材料を注入する工程と、前記第１の空間及び前記第２の空間の他方に、前記第１の液晶材料とは異なる第２の液晶材料を注入する工程と、を備える液晶表示素子の製造方法。
【選択図】図７

Description

本発明は、液晶表示素子の製造方法及び液晶表示素子に関する。

例えばフルカラー型の電子ペーパーに使用される反射型の液晶表示パネルは、異なる帯域の波長（RGB : Red- Green-Blue）を反射する液晶材料が注入された、３種の液晶表示素子を備えている。３種の液晶表示素子は、個別に製造されたあと、相互に積層され、電子ペーパーなどの液晶表示パネルとなる。このため、液晶表示パネルの厚さは、液晶表示素子単体の厚さの３倍程度となり、又、液晶表示パネルの製造コストは、液晶表示素子単体の製造コストの３倍程度となる。

そこで、液晶表示パネルの厚さ及び製造コストを低減するために、例えば１枚の液晶表示素子に、RGBのうち少なくとも２以上の液晶材料を注入して、液晶表示素子枚数を削減させた、いわゆる共用型の液晶表示素子が開発されている。共用型の液晶表示素子は、２枚の液晶基板と、液晶基板間に配置され、該液晶基板間の隙間を複数の空間に分離する壁部と、を備え、複数の液晶空間に、それぞれ異なる帯域の波長を反射する液晶材料が注入されている。

特開平０９−２５１１６５号公報

ところで、共用型の液晶表示素子に用いられる壁部は、非常に微細なものであるため、しばしば欠損が生じることがある。壁部に欠損が生じて、隣接する液晶空間が連通すると、共用型の液晶表示素子に注入された複数の液晶材料が混じり合い、液晶表示パネルの表示品質を劣化させる。従って、液晶表示パネルを製造する際に、壁部に欠損が発見されると、共用型の液晶表示素子を廃棄せざるを得ない。

本発明は、液晶表示素子の製造歩留まりが向上する液晶表示素子の製造方法及び液晶表示素子を提供する。

開示の技術の一観点によれば、第１の基板上に構造体を形成する工程と、前記構造体上に第２の基板を貼り合わせて、前記第１の基板及び前記第２の基板間に、前記構造体により隔離された第１の空間及び第２の空間を形成する工程と、前記第１の空間及び前記第２の空間の境界部に選択的に光を照射しながら、前記第１の空間及び前記第２の空間の一方に、光硬化性樹脂を含有する第１の液晶材料を注入する工程と、前記第１の空間及び前記第２の空間の他方に、前記第１の液晶材料とは異なる第２の液晶材料を注入する工程と、を備える液晶表示素子の製造方法が提供される。

開示の技術によれば、液晶表示素子の製造歩留まりを向上させることができる。

第１の実施形態にかかる液晶表示装置の概略図である。 第１の実施形態にかかる液晶表示装置の断面図である。 第１の実施形態にかかる第１、第２の液晶表示素子の平面図である。 第１の実施形態にかかる第１、第２の液晶表示素子の部分断面図である。 第１の実施形態にかかる第１、第２の液晶表示素子の製造工程の説明図である。 第１の実施形態にかかる第１、第２の液晶表示素子の製造工程の説明図である。 第１の実施形態にかかる第１、第２の液晶表示素子の製造工程の説明図である。 第１の実施形態にかかる第１、第２の液晶表示素子の壁部と、フォトマスクの開口との関係の説明図である。 第１の実施形態にかかる第１、第２の液晶材料の注入工程の説明図である。 第１の実施形態にかかる第１、第２の液晶材料の注入工程の説明図である。 ＵＶキュアラブル液晶を紫外線で硬化させる実験の結果であって、第１の実施形態にかかる第１、第２の液晶材料と同等の割合でＵＶキュアラブル液晶を含有する液晶材料の流速と、ＵＶキュアラブル液晶の硬化状態との関係図である。 第２の実施形態にかかる第１、第２の液晶表示素子の平面図である。 第２の実施形態にかかる第１、第２の液晶表示素子の製造工程の説明図である。 第２の実施形態にかかる第１、第２の液晶表示素子の壁部と、フォトマスクの開口との関係図である。 第２の実施形態の変形例にかかる第１、第２の液晶表示素子の製造工程の説明図である。

［第１の実施形態］
先ず、図１〜図１１を参照しながら、第１の実施形態を説明する。
［液晶表示装置の構成］
図１は、第１の実施形態にかかる液晶表示装置の概略図である。図２は、第１の実施形態にかかる液晶表示装置の断面図である。

図１、図２に示すように、液晶表示装置は、第１の液晶表示素子１０Ａと、第２の液晶表示素子１０Ｂと、可視光吸収層３０と、走査電極駆動回路４０と、データ電極駆動回路５０と、制御回路６０と、を備える。液晶表示装置としては、例えば電子ペーパーなどを想定しているが、本発明は、これに限定されるものではなく、他の液晶表示装置であっても良い。

第１、第２の液晶表示素子１０Ａ、１０Ｂは、相互に積層され、１枚の液晶表示パネルを構成している。第１、第２の液晶表示素子１０Ａ、１０Ｂは、シール部材１３（後述する）の内側に、それぞれ同数の画素領域Ｒｐを具備する。第１の液晶表示素子１０Ａの画素領域Ｒｐと、第２の液晶表示素子１０Ｂの画素領域Ｒｐは、相互に対向していて、液晶表示パネルの１画素を構成している。第１の液晶表示素子１０Ａは、液晶表示パネルの表側、即ち各種情報の表示面側に配置され、第２の液晶表示素子１０Ｂは、液晶表示パネルの裏側、即ち各種情報の表示面側とは逆側に配置される。

可視光吸収層３０は、必要に応じて、第２の液晶表示素子１０Ｂの裏側に配置される。可視光吸収層３０の材料は、特に限定されるものではないが、少なくとも可視光（波長帯域：３６０ｎｍ〜８３０ｎｍ）を吸収できる黒色材料を用いている。従って、第１、第２の液晶表示素子１０Ａ、１０Ｂを透過してきた可視光は、可視光吸収層３０に吸収され、第１、第２の液晶表示素子１０Ａ、１０Ｂが配置される液晶表示パネルの表側に反射されることはない。

走査電極駆動回路４０は、第１、第２の液晶表示素子１０Ａ、１０Ｂの走査電極１１ａ、１１ａ（後述する）に接続され、該走査電極１１ａ、１１ａに駆動電圧を印加する。データ電極駆動回路５０は、第１、第２の液晶表示素子１０Ａ、１０Ｂのデータ電極１２ａ、１２ａ（後述する）に接続され、該データ電極１２ａ、１２ａに駆動電圧を印加する。なお、本実施形態にかかる走査電極駆動回路４０は、第１、第２の液晶表示素子１０Ａ、１０Ｂの双方の走査電極１１ａ、１１ａに接続され、データ電極駆動回路５０は、第１、第２の液晶表示素子１０Ａ、１０Ｂの双方のデータ電極１２ａ、１２ａに接続されている。しかし、本発明は、これに限定されるものではない。例えば、第１、第２の液晶表示素子１０Ａ、１０Ｂのそれぞれに、別個の走査電極駆動回路４０、４０及びデータ電極駆動回路５０、５０を接続しても良い。この場合、走査電極駆動回路４０、４０及びデータ電極駆動回路５０、５０の配置をずらして、相互に重合しないように配慮することで、液晶表示パネルの厚さを抑えることができる。

制御装置６０は、走査電極駆動回路４０及びデータ電極駆動回路５０に接続されている。制御装置６０は、走査電極駆動回路４０及びデータ電極駆動回路５０を制御して、第１、第２の液晶表示素子１０Ａ、１０Ｂの走査電極１１ａ、１１ａ及びデータ電極１２ａ、１２ａに駆動電圧を印加させる。
［第１、第２の液晶表示素子１０Ａ、１０Ｂの構成］
図３は、第１の実施形態にかかる第１、第２の液晶表示素子１０Ａ、１０Ｂの平面図である。図４は、第１の実施形態にかかる第１、第２の液晶表示素子１０Ａ、１０Ｂの部分断面図であって、図３のIV−IV線における断面を示している。

第１、第２の液晶表示素子１０Ａ、１０Ｂは、第１、第２の空間１４ａ、１４ｂ（後述する）に注入される液晶材料の種類を除き、基本的に同一の構成を備える。従って、本明細書では、第１の液晶表示素子１０Ａの構成を詳細に説明し、第２の液晶表示素子１０Ｂの、第１の液晶表示素子１０Ａとの相違点を補足的に説明することにする。

図３に示すように、第１の液晶表示素子１０Ａは、相互に対向する第１の基板１１及び第２の基板１２と、第１、第２の基板１１、１２間に配置され、第１、第２の基板１１、１２間を封止するシール部材１３と、第１、第２の基板１１、１２間に配置される壁部（構造体）１４と、を備える。図３に示される第１、第２の基板１１、１２の寸法と、壁部１４の寸法との比率は、実物の第１の液晶表示素子１０Ａとは異なるものである。

第１、第２の基板１１、１２は、それぞれ長方形状に形成され、第１、第２の基板１１、１２間には、第１、第２の液晶材料Ｌｑ１、Ｌｑ２（後述する）を収容するための隙間Ｇが形成されている。第１、第２の基板１１、１２の隙間Ｇの寸法、即ち第１、第２の基板１１、１２の間隔は、特に限定されるものではないが、例えば１μｍ〜１０μｍとしても良い。なお、本実施形態では、第１、第２の基板１１、１２の隙間Ｇの寸法を約５μｍとしている。第１、第２の基板１１、１２の材料は、特に限定されるものではないが、例えばポリエチレンテレフタラート（PET; Poly Ethylene Terephthalate）、ポリカーボネート（PC; Poly Carbonate）、ポリエチレンナフタレート（PEN; Poly Ethylene Naphthalate）、又はポリエーテルスルホン（PES; Poly Ether Sulfone）などの樹脂材料、又はガラス材料を用いても良い。又、第１、第２の基板１１、１２の厚さは、特に限定されるものではないが、本実施形態では、約１００μｍとしている。

第１の基板１１は、第１の液晶表示素子１０Ａにおける、液晶表示パネルの表側に配置され、第２の基板１２と対向する内面には、複数の走査電極１１ａが配置されている（図１を参照）。複数の走査電極１１ａは、相互に間隔をあけて平行に延び、それぞれに走査電極駆動回路４０が接続されている。走査電極１１ａの材料としては、例えば酸化インジウム（ITO: Indium Tin Oxide）などの透明性を有する金属酸化物、もしくは他の金属含有物を用いても良い。

第２の基板１２は、第１の液晶表示素子１０Ａにおける、液晶表示パネルの裏側に配置され、第１の基板１１と対向する内面には、複数のデータ電極１２ａが配置されている（図１を参照）。複数のデータ電極１２ａは、相互に間隔をあけて平行に延び、それぞれにデータ電極駆動回路５０が接続されている。データ電極１２ａの材料としては、例えば酸化インジウム（ITO: Indium Tin Oxide）などの透明性を有する金属酸化物、もしくは他の金属含有物を用いても良い。

データ電極１２ａ及び走査電極１１ａは、相互に交差していて、走査電極１１ａ及びデータ電極１２ａ間に、第１、第２の液晶材料Ｌｑ１、Ｌｑ２（後述する）を挟み込んでいる。従って、走査電極１１ａ及びデータ電極１２ａに駆動電圧が印加されると、走査電極１１ａ及びデータ電極１２ａ間に位置する第１、第２の液晶材料Ｌｑ１、Ｌｑ２に制御電圧が印加され、第１、第２の液晶材料Ｌｑ１、Ｌｑ２の液晶分子の配列が制御変更される。

なお、第１の基板１１の内面に、液晶分子の配列を制御するための配向膜（図示しない）を、走査電極１１ａを被覆するように形成しても良い。同様に、第２の基板１２の内面に、液晶分子の配列を制御するための配向膜（図示しない）を、データ電極１２ａを被覆するように形成しても良い。配向膜の材料としては、例えばポリイミド樹脂などを用いても良い。

シール部材１３は、第１、第２の基板１１、１２間に配置され、第１、第２の基板１１、１２の隙間Ｇを液密に封止している。シール部材１３は、第１、第２の基板１１、１２の縁辺の近傍を、第１、第２の基板１１、１２の縁辺と平行に延びている。但し、液晶表示パネルの４つの隅部のうち、相互に対向する第１の隅部１５ａ及び第２の隅部１５ｂには、該シール部材１３が存在しないシール欠損部１３ａ、１３ｂが配置されている。本実施形態にかかるシール欠損部１３ａ、１３ｂは、液晶表示パネルの、相互に対向する第１、第２の隅部１５ａ、１５ｂに配置されているが、本発明は、これに限定されるものではない。即ち、液晶表示パネルの何れの箇所にシール欠損部１３ａ、１３ｂを配置しても良い。シール部材１３の材料は、特に限定されるものではないが、例えばアクリル系の樹脂材料を用いても良い。

壁部１４は、第１、第２の基板１１、１２間に配置され、液晶表示パネルの、第１の隅部１５ａから第２の隅部１５ｂにかけて蛇行状に延びている。これにより、壁部１４は、第１、第２の基板１１、１２の隙間Ｇに、相互に交噛する櫛歯形状の第１、第２の空間１４ａ、１４ｂを画定している。壁部１４の材料は、特に限定されるものではないが、例えばアクリル系レジスト材料などの感光性樹脂を用いても良い。壁部１４の幅は、特に限定されるものではないが、本実施形態では、約１０μｍに設定される。

壁部１４は、第１、第２の基板１１、１２の双方の内面に密着していて、第１、第２の空間１４ａ、１４ｂを液密に隔離している。第１、第２の空間１４ａ、１４ｂは、それぞれ、相互に異なる種類の液晶材料、即ち第１の液晶材料Ｌｑ１及び第２の液晶材料Ｌｑ２が注入されている。壁部１４の両端は、第１、第２の基板１１、１２の縁辺に到達していて、それぞれシール部材１３と協働して、第１の液晶材料Ｌｑ１の第１の注入口１６ａと、第２の液晶材料Ｌｑ２の第２の注入口１６ｂと、を画定している。即ち、第１の空間１４ａ及び第２の空間１４ｂは、液晶表示パネルの、第１、第２の隅部１５ａ、１５ｂに対応する位置に、それぞれ第１の液晶材料Ｌｑ１の第１の注入口１６ａと、第２の液晶材料Ｌｑ２の第２の注入口１６ｂと、を備える。

第１、第２の注入口１６ａ、１６ｂは、それぞれ封止部材１７ａ、１７ｂで封止され、第１、第２の空間１４ａ、１４ｂからの第１、第２の液晶材料Ｌｑ１、Ｌｑ２の流出が防止されている。封止部材１７ａ、１７ｂの材料は、特に限定されるものではないが、例えばエポキシ樹脂を用いても良い。

第１、第２の空間１４ａ、１４ｂの配列方向（図３中の矢印Ｘ方向）における、第１の空間１４ａの幅寸法Ｗ１は、第２の空間１４ｂの幅寸法Ｗ２の約半分に設定されている。従って、図４に示すように、第１、第２の液晶表示素子１０Ａ、１０Ｂの画素領域Ｒｐにおける、第１の液晶材料Ｌｑ１の占有面積は、第２の液晶材料Ｌｑ２の占有面積の約半分となる。但し、第１、第２の空間１４ａ、１４ｂの幅寸法Ｗ１、Ｗ２は、これに限定されるものではない。

以上のような第１、第２の空間１４ａ、１４ｂには、それぞれ第１の液晶材料Ｌｑ１、第２の液晶材料Ｌｑ２が注入されている。第１の液晶材料Ｌｑ１及び第２の液晶材料Ｌｑ２としては、例えばコレステリック液晶が用いられる。コレステリック液晶（カイラルネマティック液晶）は、ネマティック液晶にキラル製の添加剤（カイラル材）を添加したものであり、液晶分子のそれぞれが、入射光を反射させるプレーナ状態と、入射光を透過させるフォーカルコニック状態と、の何れかの配向状態で安定する特性を具備する。本実施形態にかかる第１、第２の液晶材料Ｌｑ１、Ｌｑ２としては、赤色（R: Red）、青色(B: Blue)、緑色(G: Green)の帯域の波長を反射する３種の液晶材料のうち、相互に異なる液晶材料が用いられる。

ところで、壁部１４は、非常に微細なものであるため、しばしば欠損１８が発生する。欠損１８は、第１、第２の空間１４ａ、１４ｂを連通させ、第１、第２の液晶材料Ｌｑ１、Ｌｑ２が混合する原因となる。しかし、本実施形態では、壁部１４に発生した欠損１８に、光硬化性樹脂が硬化した物質を含む硬化体１９が埋め込まれている。即ち、壁部１４に発生した欠損１８は、ＵＶキュアラブル液晶の硬化体１９で閉塞されている。これにより、第１、第２の空間１４ａ、１４ｂは、液密に分離され、第１、第２の液晶材料Ｌｑ１、Ｌｑ２の混合が防止されている。光硬化性樹脂は、後述するように、第１、第２の液晶材料Ｌｑ１、Ｌｑ２に混入されるものである。光硬化性樹脂としては、例えばＵＶキュアラブル液晶を用いても良い。ＵＶキュアラブル液晶は、それぞれの液晶分子が側鎖を持ち、全体として紫外線硬化性を有する液晶材料である。ＵＶキュアラブル液晶の具体例としては、例えば、大日本インキ化学工業（ＤＩＣ）のＵＣＬ−００１、ＵＣＬ−００２などが挙げられる。

なお、本実施形態にかかる硬化体１９は、フォーカルコニック状態、プレーナ状態、ホメオトロピック状態、他の状態の何れであっても良い。又、第１、第２の液晶材料Ｌｑ１、Ｌｑ２は、未硬化のＵＶキュアラブル液晶を含有していても良い。但し、第１、第２の液晶材料Ｌｑ１、Ｌｑ２の全体に占める未硬化のＵＶキュアラブル液晶の割合は、例えば１０重量％未満であることが好ましい。未硬化のＵＶキュアラブル液晶の割合が１０重量％未満であれば、液晶表示パネルの完成後に、第１、第２の液晶材料Ｌｑ１、Ｌｑ２に紫外線が照射されても、液晶表示パネルの表示品質に影響が生じにくい。

次に、第２の液晶表示素子１０Ｂの、第１の液晶表示素子１０Ａとの相違点を説明する。

図２に示すように、第２の液晶表示素子１０Ｂは、第１の液晶表示素子１０Ａの表裏を反転させたものである。従って、第２の液晶表示素子１０Ｂの第１、第２の空間１４ａ、１４ｂの配置は、第１の液晶表示素子１０Ａの第１、第２の空間１４ａ、１４ｂの配置と反転している。即ち、第１の液晶表示素子１０Ａの第１の空間１４ａは、画素領域Ｒｐの図中左側に位置しているが、第２の液晶表示素子１０Ｂの第１の空間１４ａは、画素領域Ｒｐの図中右側に位置している。

以上のような第２の液晶表示素子１０Ｂの第１、第２の空間１４ａ、１４ｂには、それぞれ第１、第３の液晶材料Ｌｑ１、Ｌｑ３が注入されている。即ち、第２の液晶表示素子１０Ｂの第１の空間１４ａと、第１の液晶表示素子１０Ａの第１の空間１４ａは、共通の液晶材料、即ち第１の液晶材料Ｌｑ１が注入されているが、第２の液晶表示素子１０Ｂの第２の空間１４ｂは、第１の液晶表示素子１０Ａの第２の空間１４ｂに注入されている第２の液晶材料Ｌｑ２とは異なる第３の液晶材料Ｌｑ３が注入されている。第３の液晶材料Ｌｑ３としては、赤色（R: Red）、青色(B: Blue)、緑色(G: Green)の帯域の波長を反射する３種の液晶材料のうち、第１、第２の液晶材料Ｌｑ１、Ｌｑ２とは異なる液晶材料が用いられる。

従って、第１の液晶表示素子１０Ａの画像領域Ｒｐと、第２の液晶表示素子１０Ｂの画像領域Ｒｐとで構成される液晶表示パネルの１画素に着目すれば、第１、第２、第３の液晶材料Ｌｑ１、Ｌｑ２、Ｌｑ３の占有面積は、同等となる。
［第１、第２の液晶表示素子１０Ａ、１０Ｂの製造工程］
図５は、第１の実施形態にかかる第１、第２の液晶表示素子の製造工程の説明図である。図６は、第１の実施形態にかかる第１、第２の液晶表示素子の製造工程の説明図である。図７は、第１の実施形態にかかる第１、第２の液晶表示素子の製造工程の説明図である。図８は、第１の実施形態にかかる第１、第２の液晶表示素子の壁部と、フォトマスクの開口との関係の説明図である。図９は、第１の実施形態にかかる第１、第２の液晶材料の注入工程の説明図である。図１０は、第１の実施形態にかかる第１、第２の液晶材料の注入工程の説明図である。

図５（ａ）に示すように、先ず、第１の基板１１上に、複数の走査電極１１ａを形成する。走査電極１１ａの形成方法は、特に限定されるものではないが、例えば第１の基板１１上に、酸化インジウムなどの金属膜を蒸着した後、該金属膜をエッチングによりパターニングしても良い。

次に、図５（ｂ）に示すように、第１の基板１１上に、例えばアクリル系のレジスト材料を塗布し、これを加熱により硬化させて、約５μｍの厚さを有する感光性のレジスト膜（感光膜）１４ｍを形成する。塗布法は、特に限定されるものではないが、例えばスピンコーティングを用いても良い。加熱温度や加熱時間は、特に限定されるものではなく、レジスト材料に応じて適宜選択すれば良い。なお、レジスト膜１４ｍの形成前に、第１の基板１１上に、複数の走査電極１１ａを被覆する配向膜（図示しない）を形成しても良い。

次に、図５（ｃ）に示すように、フォトマスク（露光用マスク）Ｍ１を用いて、第１の基板１１上に形成されたレジスト膜１４ｍを露光する。フォトマスクＭ１は、例えば石英板の表面に、クロム（Ｃｒ）などの遮光膜（図示しない）を形成したものを用いても良い。該遮光膜は、壁部１４の形状、即ち蛇行状に延びる開口Ｍｏ１を有している。従って、該フォトマスクＭ１を用いて、レジスト膜１４ｍを露光すると、蛇行状に延びる開口Ｍｏ１を透過した光がレジスト膜１４ｍに照射されて、レジスト膜１４ｍに、壁部１４に対応するジグザグ形状の露光パターンが形成される。このとき、レジスト膜１４ｍ上に、例えばパーティクルなどの遮光物が存在すると、レジスト膜１４ｍが充分に露光されないことがある。フォトマスクＭ１の開口Ｍｏ１の各種寸法は、フォトマスクＭ１とレジスト膜１４ｍとの間隔、即ちプリントギャップに応じて設定すれば良い。

次に、図５（ｄ）に示すように、レジスト膜１４ｍ上に現像液を供給して、レジスト膜１４ｍの未露光部を除去する。これにより、第１の基板１１上に、露光パターンに対応した、即ちフォトマスクＭ１の開口Ｍｏ１に対応する壁部１４が形成される。但し、レジスト膜１４ｍを露光したときに、レジスト膜１４ｍ上に遮光物Ｏが存在していると、遮光物Ｏ下に位置するレジスト膜１４ｍは、充分に露光されないことがある。このため、遮光物Ｏ下に位置するレジスト膜１４ｍは、現像液の供給時に、未露光部として第１の基板１１上から除去され、壁部１４に欠損１８が発生することがある。

次に、図５（ｅ）に示すように、第１の基板１１の縁辺に、第１の基板１１の縁辺と平行なシール部材１３を形成する。第１、第２の基板１１、１２の隙間Ｇが約５μｍであれば、シール部材１３の高さは、５μｍより大きく設定される。シール部材１３の形成方法としては、ディスペンス法を用いても良い。

次に、図６（ｆ）に示すように、第１の基板１１上に形成されたシール部材１３及び壁部１４上に第２の基板１２を搭載する。第２の基板１１は、別途に用意されるものであり、複数のデータ電極１２ａが形成されている。複数のデータ電極１２ａの形成方法は、複数の走査電極１１ａと同等でも良い。続いて、第１、第２の基板１１、１２を加熱及び加圧することで、第１、第２の基板１１、１２を貼り合せ、第１、第２の基板１１、１２の隙間Ｇに、相互に隔離された第１の空間１４ａ及び第２の空間１４ｂを画定する。但し、壁部１４に欠損１８が存在すると、第１、第２の空間１４ａ、１４ｂが該欠損１８を通じて連通することになる。なお、第１、第２の基板１１、１２を貼り合せる前に、第１、第２の基板１１、１２上の何れかに、複数の球状スペーサ（図示しない）を散布しても良い。複数の球状スペーサが散布されていれば、第１の液晶表示素子１０Ａを湾曲させたときに、第１、第２の基板１１、１２の隙間Ｇが変化しにくいので、第１、第２の空間１４ａ、１４ｂに注入された第１、第２の液晶材料Ｌｑ１、Ｌｑ２が大きく流動することを防止できる。さらに、第１、第２の基板１１、１２を貼り合せる前に、第１、第２の基板１１、１２上の何れかに、粘着性を有する柱状スペーサ（図示しない）を配置しても良い。柱状スペーサが配置されていれば、第１、第２の基板１１、１２が柱状スペーサに接着されるので、第１、第２の基板１１、１２を強固に貼り合わせることができる。

次に、図７（ｇ）に示すように、第１、第２の基板１１、１２の貼合体を、チャンバＣ内に配置する。続いて、チャンバＣ内を減圧して、真空状態とする。続いて、図８に示すように、レジスト膜１４ｍの露光時に使用したフォトマスクＭ１を用いて、第１、第２の基板１１、１２の貼合体に紫外線を照射する。これにより、レジスト膜１４ｍに形成された露光パターンと同等の領域に、即ち壁部１４を形成すべき領域に紫外線が選択的に照射される。壁部１４に欠損１８が発生していれば、該欠損１８にも紫外線が照射される。即ち、フォトマスクＭ１を用いることで、第１、第２の空間１４ａ、１４ｂの境界部に選択的に紫外線を照射することができる。紫外線の波長は、特に限定されるものではないが、例えば２５４ｎｍ以上とすれば良い。さらに、紫外線の帯域を越える波長、例えば３６５ｎｍ、又はそれ以上の波長としても良い。３６５ｎｍ以上の波長を用いれば、液晶材料の破壊を抑制することができる。そして、紫外線の照射中に、第１、第２の注入口１６ａ、１６ｂを、それぞれ、液晶槽中に貯留された第１、第２の液晶材料Ｌｑ１、Ｌｑ２に浸漬して、チャンバＣ内を大気圧に開放する。これにより、液晶槽中の第１、第２の液晶材料Ｌｑ１、Ｌｑ２は、大気圧に加圧され、図９に示すように、徐々に第１、第２の空間１４ａ、１４ｂ内に拡散する。第１、第２の液晶材料Ｌｑ１、Ｌｑ２は、光硬化性樹脂を含有している。光硬化性樹脂としては、例えばＵＶキュアラブル液晶を用いても良い。ＵＶキュアラブル液晶は、それぞれの液晶分子が側鎖を持ち、全体として紫外線硬化性を有する液晶材料である。ＵＶキュアラブル液晶の具体例としては、例えば、大日本インキ化学工業（ＤＩＣ）のＵＣＬ−００１、ＵＣＬ−００２などが挙げられる。そして、図１０に示すように、第１の液晶材料Ｌｑ１又は第２の液晶材料Ｌｑ２が欠損１８に到達すると、該第１の液晶材料Ｌｑ１又は第２の液晶材料Ｌｑ２が、欠損１８に照射されている紫外線に暴露される。これにより、第１の液晶材料Ｌｑ１又は第２の液晶材料Ｌｑ２中のＵＶキュアラブル液晶が硬化して、欠損１８に硬化体１９が形成される。このように、本実施形態では、レジスト膜１４ｍの露光時に使用したフォトマスクＭ１を用いて、第１、第２の基板１１、１２の貼合体に紫外線を照射するので、欠損１８を狙って局所的に紫外線を照射する必要が無い。このため、欠損１８に硬化体１９を埋め込むために、煩雑な作業を追加する必要が無い。

なお、第１、第２の液晶材料Ｌｑ１、Ｌｑ２に占めるＵＶキュアラブル液晶の割合を決定する場合、先ず、１枚の第１の液晶表示素子１０Ａに含まれる欠損１８の個数及び平均体積を割り出して、該欠損１８の個数及び平均体積に基づき、第１の液晶表示素子１０Ａに含まれる欠損１８の総体積を見積もる。そして、欠損１８の総体積を充分に埋め込むことができる程度のＵＶキュアラブル液晶の割合を決定する。例えば、第１の液晶表示素子１０Ａに占める壁部１４の割合と、壁部１４の近傍にＵＶキュアラブル液晶が存在する確率と、に基づき、ＵＶキュアラブル液晶の割合を決定しても良い。具体的には、１画素分の長さを１５０μｍ、壁部１４の幅を１０μｍ、とした場合、第１の液晶表示素子１０Ａに占める壁部１４の割合は、１５％程度となる。従って、壁部１４の近傍にＵＶキュアラブル液晶が存在する確率を５０％とすれば、ＵＶキュアラブル液晶の割合が５％〜１５％、より好ましくは７％〜１０％とすれば良い。

次に、図７（ｈ）に示すように、第１、第２の空間１４ａ、１４ｂに第１、第２の液晶材料Ｌｑ１、Ｌｑ２が充填されたら、第１、第２の注入口１６ａ、１６ｂに封止部材１７ａ、１７ｂを注入して、第１、第２の空間１４ａ、１４ｂを完全に密閉する。封止部材１７ａ、１７ｂの充填法としては、例えば、第１、第２の注入口１６ａ、１６ｂに、流動性のあるエポキシ樹脂などを充填して、加熱ヘッドなどで熱硬化させても良い。

以上で、第１の液晶表示素子１０Ａが完成する。第２の液晶表示素子１０Ｂの製造工程も、第１の液晶表示素子１０Ａと同等である。

図１１は、ＵＶキュアラブル液晶を紫外線で硬化させる実験の結果であって、第１の実施形態にかかる第１、第２の液晶材料Ｌｑ１、Ｌｑ２と同等の割合でＵＶキュアラブル液晶を含有する液晶材料の流速と、ＵＶキュアラブル液晶の硬化状態との関係図である。本実験では、紫外線の照射量を５００ｍＪ／ｃｍ２、第１、第２の液晶材料Ｌｑ１、Ｌｑ２中のＵＶキュアラブル液晶の割合を１０重量％としている。

図１１に示すように、液晶材料の流速が２ｍｍ／ｓｅｃ以上だと、液晶材料が充分に硬化しないが、液晶材料の流速が１ｍｍ／ｓｅｃ以下であれば、液晶材料が充分に硬化することがわかる。従って、第１の液晶表示素子１０Ａに第１、第２の液晶材料Ｌｑ１、Ｌｑ２を注入するときに、第１、第２の液晶材料Ｌｑ１、Ｌｑ２の流速を１ｍｍ／ｓｅｃ以下にすれば、欠損１８に到達した第１の液晶材料Ｌｑ１又は第２の液晶材料Ｌｑ２に含まれるＵＶキュアラブル液晶が充分に硬化され、該欠損１８を液密に封止することができる。但し、本実施形態にかかる第１、第２の液晶材料Ｌｑ１、Ｌｑ２の流速は、必ずしも、１ｍｍ／ｓｅｃ以下である必要はない。即ち、紫外線の照射量又は第１、第２の液晶材料Ｌｑ１、Ｌｑ２に占めるＵＶキュアラブル液晶の割合に応じて、第１、第２の液晶材料Ｌｑ１、Ｌｑ２の流速を決定しても良い。

なお、第１の実施形態では、第１、第２の液量材料Ｌｑ１、Ｌｑ２の双方がＵＶキュアラブル液晶を含有していた。しかし、本実施形態は、これに限定されるものではなく、例えば第１、第２の液晶材料Ｌｑ１、Ｌｑ２の何れかにのみ、ＵＶキュアラブル液晶を含有させても良い。但し、第１、第２の液晶材料Ｌｑ１、Ｌｑ２の何れかにのみ、ＵＶキュアラブル液晶を含有させる場合、第１、第２の液晶材料Ｌｑ１、Ｌｑｗ２のうち、ＵＶキュアラブル液晶を含有させた液晶材料が壁部１４の欠損１８に先に到達する必要がある。従って、第１、第２の液晶材料Ｌｑ１、Ｌｑ２を第１、第２の空間１４ａ、１４ｂに同時に注入するのではなく、好ましくは、第１、第２の液晶材料Ｌｑ１、Ｌｑ２のうち、ＵＶキュアラブル液晶を含有させた液晶材料を事前に注入すべきである。

又、第１の実施形態にかかる第１、第２の液晶材料Ｌｑ１、Ｌｑ２は、ＵＶキュアラブル液晶を含有しているが、本発明は、これに限定されるものではない。例えば、紫外線の照射により硬化する材料であれば、他の紫外線硬化性樹脂を用いても良い。さらに、紫外線の照射により硬化するものではなく、例えば加熱により硬化する、熱硬化性樹脂などを用いても良い。
［第２の実施形態］
次に、図１２−１４を参照しながら、第２の実施形態を説明する。

図１２は、第２の実施形態にかかる第１、第２の液晶表示素子の平面図である。図１３は、第２の実施形態にかかる第１、第２の液晶表示素子の製造工程の説明図である。図１４は、第２の実施形態にかかる第１、第２の液晶表示素子の壁部と、フォトマスクの開口との関係図である。

第１の実施形態にかかる第１、第２の液晶材料Ｌｑ１、Ｌｑ２は、未硬化のＵＶキュアラブル液晶を含有している。このため、第１、第２の液晶表示素子１０Ａ、１０Ｂの完成後に、紫外線が照射されると、第１、第２の液晶材料Ｌｑ１、Ｌｑ２の未硬化のＵＶキュアラブル液晶が硬化することがある。このとき、ＵＶキュアラブル液晶が添加された液晶がフォーカルコニック状態であれば、生成される硬化体もフォーカルコニック状態となるため、第１、第２の液晶表示素子１０Ａ、１０Ｂのコントラストが高まる。又、ＵＶキュアラブル液晶が添加された液晶がプレーナ状態であれば、生成される硬化体もプレーナ状態となるため、第１、第２の液晶表示素子１０Ａ、１０Ｂの明度が高まる。即ち、未硬化のＵＶキュアラブル液晶が残留していると、第１、第２の液晶表示素子１０Ａ、１０Ｂの完成後、第１、第２の液晶表示素子１０Ａ、１０Ｂの明度やコントラストが変化することがある。

しかし、図１２に示すように、第２の実施形態にかかる第１、第２の液晶表示素子２０Ａ、２０Ｂでは、未硬化のＵＶキュアラブル液晶を壁部１４の内面に析出させ、硬化体２９としている。従って、第１、第２の液晶表示素子２０Ａ、２０Ｂの完成後に、第１、第２の液晶表示素子２０Ａ、２０Ｂの明度やコントラストが変化することがない。

このため、第２の実施形態では、第１、第２の注入口１６ａ、１６ｂを封止部材１７ａ、１７ｂで封止した後、図１３に示すように、紫外線照射用のフォトマスク（硬化用マスク）Ｍ２を用いて、第１、第２の液晶表示素子２０Ａ、２０Ｂに紫外線を照射している。

ここで使用する紫外線照射用のフォトマスクＭ２は、図１４に示すように、フォトマスクＭ１の開口Ｍｏ１よりも幅広の開口Ｍｏ２を有している。従って、該フォトマスクＭ２を用いて、第１、第２の液晶表示素子２０Ａ、２０Ｂに紫外線を照射すると、壁部１４（欠損１８を含む）だけでなく、壁部１４の側面近傍にも、紫外線を照射することができる。

このため、第１、第２の液晶材料Ｌｑ１、Ｌｑ２の液晶分子の熱運動に付随して、壁部１４の側面にＵＶキュアラブル液晶が接近してきたときに、該ＵＶキュアラブル液晶が壁部１４の側面近傍に照射されている紫外線に暴露され、壁部１４の内面に硬化体２９として析出することになる。これにより、第２の実施形態にかかる第１、第２の液晶材料Ｌｑ１、Ｌｑ２は、壁部１４と、壁部１４の内面に析出した硬化体２９と、で隔離されることとなる。

なお、フォトマスクＭ２の開口Ｍｏ２の各種寸法は、フォトマスクＭ２と第１、第２の液晶表示素子２０Ａ、２０Ｂとの間隔、即ちプリントギャップに応じて設定すれば良いが、例えば、該フォトマスクＭ２を用いて、紫外線を照射したときに、壁部１４の側面から約２〜３μｍの範囲内に紫外線が照射されるように設定しても良い。フォトマスクＭ２は、フォトマスクＭ１のマスクデータを用いれば、比較的容易に製造することができるので、フォトマスクＭ２の製造コストが問題になることもない。

又、紫外線の波長は、特に限定されるものではないが、硬化体１９を形成するために使用した紫外線と同等、即ち２５４ｎｍ以上としても良い。但し、紫外線の帯域を越える波長、例えば３６５ｎｍ、又はそれ以上の波長としても良い。３６５ｎｍ以上の波長を用いれば、液晶材料の破壊を抑制することができる。

又、硬化体２９は、フォーカルコニック状態、プレーナ状態、ホメオトロピック状態、他の状態の何れであっても良い。但し、第１、第２の液晶表示素子２０Ａ、２０Ｂの明度を高めるために、硬化体２９を積極的にプレーナ状態としても良い。又、第１、第２の液晶表示素子２０Ａ、２０Ｂのコントラストを高めるために、硬化体２９を積極的にフォーカルコニック状態としても良い。硬化体２９をプレーナ状態又はフォーカルコニック状態とするには、例えば試験機（図示しない）により、走査電極１１ａ及びデータ電極１２ａに駆動電圧を印加して、未硬化のＵＶキュアラブル液晶が添加された液晶材料をプレーナ状態又はフォーカルコニック状態としながら、壁部１４の近傍に紫外線を照射すれば良い。

以上のように、第２の実施形態にかかる第１、第２の液晶材料Ｌｑ１、Ｌｑ２は、未硬化のＵＶキュアラブル液晶を含有しないので、第１、第２の液晶表示素子２０Ａ、２０Ｂの完成後に、第１、第２の液晶表示素子２０Ａ、２０Ｂの明度やコントラストが変化することがない。
［第２の実施形態の変形例］
次に、図１５を参照しながら、第２の実施形態の変形例を説明する。

図１５は、第２の実施形態の変形例にかかる第１、第２の液晶表示素子の製造工程の説明図である。

第２の実施形態では、第１、第２の液晶材料Ｌｑ１、Ｌｑ２の注入後、フォトマスクＭ２を用いて、第１、第２の液晶表示素子２０Ａ、２０Ｂに紫外線を照射している。しかし、本発明は、これに限定されるものではない。例えば、図１５に示すように、第１、第２の液晶表示素子２０Ａ、２０Ｂに紫外線を全面照射しても良い。硬化体は、高分子であるＵＶキュアラブル液晶分子が相互に連結して、流動性を喪失しているが、ＵＶキュアラブル液晶分子間に存在する第１、第２の液晶材料Ｌｑ１、Ｌｑ２は、外部からの駆動電圧に対応する配向状態をとることができる。従って、第１、第２の液晶表示素子２０Ａ、２０Ｂに紫外線を全面照射して、ＵＶキュアラブル液晶を硬化させても、第１、第２の液晶表示素子１０Ａ、１０Ｂの駆動に影響は生じない。

紫外線の波長は、特に限定されるものではないが、硬化体１９を形成するために使用した紫外線と同等、即ち２５４ｎｍ以上としても良い。但し、紫外線の帯域を越える波長、例えば３６５ｎｍ、又はそれ以上の波長としても良い。３６５ｎｍ以上の波長を用いれば、液晶材料の破壊を抑制することができる。

又、硬化体（図示しない）は、フォーカルコニック状態、プレーナ状態、ホメオトロピック状態、他の状態の何れであっても良い。但し、第１、第２の液晶表示素子２０Ａ、２０Ｂの明度を高めるために、硬化体を積極的にプレーナ状態としても良い。又、第１、第２の液晶表示素子２０Ａ、２０Ｂのコントラストを高めるために、硬化体を積極的にフォーカルコニック状態としても良い。

以上のように、第１、第２の液晶表示素子２０Ａ、２０Ｂに紫外線を全面照射すれば、フォトマスクＭ２を用意する必要が無いので、未硬化のＵＶキュアラブル液晶を簡単に硬化させることができる。

上述の実施形態を、以下に付記として記載する。
（付記１）
第１の基板上に構造体を形成する工程と、
前記構造体上に第２の基板を貼り合わせて、前記第１の基板及び前記第２の基板間に、前記構造体により隔離された第１の空間及び第２の空間を形成する工程と、
前記第１の空間及び前記第２の空間の境界部に選択的に光を照射しながら、前記第１の空間及び前記第２の空間の一方に、光硬化性樹脂を含有する第１の液晶材料を注入する工程と、
前記第１の空間及び前記第２の空間の他方に、前記第１の液晶材料とは異なる第２の液晶材料を注入する工程と、
を備えることを特徴とする液晶表示素子の製造方法。
（付記２）
付記１に記載の液晶表示素子の製造方法において、
さらに、前記第１の液晶材料の注入後、前記第１の液晶材料に、前記光硬化性樹脂を硬化するための光を照射する工程を備えることを特徴とする液晶表示素子の製造方法。
（付記３）
付記２に記載の液晶表示素子の製造方法において、
前記第１の液晶材料の注入後、前記構造体の壁面近傍に存在する前記第１の液晶材料に、前記光硬化性樹脂を硬化するための光を選択的に照射することを特徴とする液晶表示素子の製造方法。
（付記４）
付記１に記載の液晶表示素子の製造方法において、
前記第２の液晶材料は、光硬化性樹脂を含有していて、前記第１の液晶材料と同時に、前記第１の空間及び前記第２の空間の他方に注入されることを特徴とする液晶表示素子の製造方法。
（付記５）
付記４に記載の液晶表示素子の製造方法において、
さらに、前記第２の液晶材料の注入後、前記第２の液晶材料に、前記光硬化性樹脂を硬化するための光を照射する工程を備えることを特徴とする液晶表示素子の製造方法。
（付記６）
付記５に記載の液晶表示素子の製造方法において、
前記第２の液晶材料の注入後、前記構造体の壁面近傍に存在する前記第２の液晶材料に、前記光硬化性樹脂を硬化するための光を選択的に照射することを特徴とする液晶表示素子の製造方法。
（付記７）
第１の基板上に感光膜を形成する工程と、
露光用マスクを用いて、前記感光膜を露光することにより、前記感光膜に露光パターンを形成する工程と、
前記感光膜を現像して、前記第１の基板上に、前記感光膜の露光パターンに対応する構造体を形成する工程と、
前記構造体上に第２の基板を貼り合せて、前記第１の基板及び前記第２の基板間に、前記構造体により隔離された第１の空間及び前記第２の空間を形成する工程と、
前記露光用マスクを用いて、前記第１の基板及び前記第２の基板間に光を照射しながら、前記第１の空間及び前記第２の空間の一方に、光硬化性樹脂を含有する第１の液晶材料を注入する工程と、
前記第１の空間及び前記第２の空間の他方に、前記第１の液晶材料とは異なる第２の液晶材料を注入する工程と、
を備えることを特徴とする液晶表示素子の製造方法。
（付記８）
付記７に記載の液晶表示素子の製造方法において、
さらに、前記第１の液晶材料の注入後、前記第１の液晶材料に、前記光硬化性樹脂を硬化させるための光を照射する工程を備えることを特徴とする液晶表示素子の製造方法。
（付記９）
付記８に記載の液晶表示素子の製造方法において、
前記第１の液晶材料の注入後、前記露光用マスクとは異なる硬化用マスクを用いて、前記構造体及び前記構造体の壁面近傍に存在する第１の液晶材料に、前記光硬化性樹脂を硬化させるための光を選択的に照射する工程を備えることを特徴とする液晶表示素子の製造方法。
（付記１０）
付記８に記載の液晶表示素子の製造方法において、
前記第２の液晶材料は、光硬化性樹脂を含有していて、前記第１の液晶材料と同時に、前記第１の空間及び前記第２の空間の他方に注入されることを特徴とする液晶表示素子の製造方法。
（付記１１）
付記１乃至１０のいずれかに記載の液晶表示素子の製造方法において、
前記光硬化性樹脂は、ＵＶキュアラブル液晶であることを特徴とする液晶表示素子の製造方法。
（付記１２）
互いに対向する第１の基板及び第２の基板と、
前記第１の基板及び前記第２の基板間に設けられ、前記第１の基板及び前記第２の基板間を第１の空間及び第２の空間に分離する構造体と、
前記第１の空間に注入された第１の液晶材料と、
前記第２の空間に注入された第２の液晶材料と、を備え、
前記構造体の少なくとも一部は、光硬化性樹脂の硬化体で形成されていることを特徴とする液晶表示素子。
（付記１３）
付記１２に記載の液晶表示素子において、
前記光硬化性樹脂の硬化体は、前記構造体の壁面に形成されていることを特徴とする液晶表示素子。
（付記１４）
付記１２又は１３に記載の液晶表示素子において、
前記光硬化性樹脂は、ＵＶキュアラブル液晶であることを特徴とする液晶表示素子。

１０Ａ：第１の液晶表示素子（液晶表示素子）
１０Ｂ：第２の液晶表示素子（液晶表示素子）
１１：第１の基板
１２：第２の基板
１４：壁部（構造体）
１４ａ：第１の空間
１４ｂ：第２の空間
１４ｍ：レジスト膜（感光膜）
１９：硬化体
２９：硬化体
Ｌｑ１：第１の液晶材料
Ｌｑ２：第２の液晶材料
Ｍ１：フォトマスク（露光用マスク）
Ｍ２：フォトマスク（硬化用マスク）

Claims (10)

1. 第１の基板上に構造体を形成する工程と、
   前記構造体上に第２の基板を貼り合わせて、前記第１の基板及び前記第２の基板間に、前記構造体により隔離された第１の空間及び第２の空間を形成する工程と、
   前記第１の空間及び前記第２の空間の境界部に選択的に光を照射しながら、前記第１の空間及び前記第２の空間の一方に、光硬化性樹脂を含有する第１の液晶材料を注入する工程と、
   前記第１の空間及び前記第２の空間の他方に、前記第１の液晶材料とは異なる第２の液晶材料を注入する工程と、
   を備えることを特徴とする液晶表示素子の製造方法。
2. 請求項１に記載の液晶表示素子の製造方法において、
   さらに、前記第１の液晶材料の注入後、前記第１の液晶材料に、前記光硬化性樹脂を硬化するための光を照射する工程を備えることを特徴とする液晶表示素子の製造方法。
3. 請求項２に記載の液晶表示素子の製造方法において、
   前記第１の液晶材料の注入後、前記構造体の壁面近傍に存在する前記第１の液晶材料に、前記光硬化性樹脂を硬化するための光を選択的に照射することを特徴とする液晶表示素子の製造方法。
4. 第１の基板上に感光膜を形成する工程と、
   露光用マスクを用いて、前記感光膜を露光することにより、前記感光膜に露光パターンを形成する工程と、
   前記感光膜を現像して、前記第１の基板上に、前記感光膜の露光パターンに対応する構造体を形成する工程と、
   前記構造体上に第２の基板を貼り合せて、前記第１の基板及び前記第２の基板間に、前記構造体により隔離された第１の空間及び前記第２の空間を形成する工程と、
   前記露光用マスクを用いて、前記第１の基板及び前記第２の基板間に光を照射しながら、前記第１の空間及び前記第２の空間の一方に、光硬化性樹脂を含有する第１の液晶材料を注入する工程と、
   前記第１の空間及び前記第２の空間の他方に、前記第１の液晶材料とは異なる第２の液晶材料を注入する工程と、
   を備えることを特徴とする液晶表示素子の製造方法。
5. 請求項４に記載の液晶表示素子の製造方法において、
   さらに、前記第１の液晶材料の注入後、前記第１の液晶材料に、前記光硬化性樹脂を硬化させるための光を照射する工程を備えることを特徴とする液晶表示素子の製造方法。
6. 請求項５に記載の液晶表示素子の製造方法において、
   前記第１の液晶材料の注入後、前記露光用マスクとは異なる硬化用マスクを用いて、前記構造体及び前記構造体の壁面近傍に存在する第１の液晶材料に、前記光硬化性樹脂を硬化させるための光を選択的に照射する工程を備えることを特徴とする液晶表示素子の製造方法。
7. 請求項１乃至６のいずれかに記載の液晶表示素子の製造方法において、
   前記光硬化性樹脂は、ＵＶキュアラブル液晶であることを特徴とする液晶表示素子の製造方法。
8. 互いに対向する第１の基板及び第２の基板と、
   前記第１の基板及び前記第２の基板間に設けられ、前記第１の基板及び前記第２の基板間を第１の空間及び第２の空間に分離する構造体と、
   前記第１の空間に注入された第１の液晶材料と、
   前記第２の空間に注入された第２の液晶材料と、を備え、
   前記構造体の少なくとも一部は、光硬化性樹脂の硬化体で形成されていることを特徴とする液晶表示素子。
9. 請求項８に記載の液晶表示素子において、
   前記光硬化性樹脂の硬化体は、前記構造体の壁面に形成されていることを特徴とする液晶表示素子。
10. 請求項８又は９に記載の液晶表示素子において、
    前記光硬化性樹脂は、ＵＶキュアラブル液晶であることを特徴とする液晶表示素子。