JP2012119608A - 洗浄装置および基板の洗浄方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明は、支持膜が接着されている基板を洗浄する洗浄装置100であって、上記支持膜の上記基板が接着されている側の面における、基板が接着されていない露出面に、当該露出面側から紫外線を照射する紫外線照射ユニット10と、上記紫外線が照射された支持膜に接着されている上記基板を洗浄する洗浄ユニット20とを備える。
【選択図】図1
Description
本発明に係る洗浄方法は、支持膜が接着されている基板を洗浄する洗浄方法であって、上記支持膜の上記基板が接着されている側の面における、基板が接着されていない露出面に、当該露出面側から紫外線を照射する紫外線照射工程と、上記紫外線照射工程において紫外線が照射された支持膜に接着されている上記基板を洗浄する洗浄工程とを包含している。
本発明は、支持膜が接着されている基板を洗浄する洗浄装置を提供する。本発明に係る洗浄装置は、上記支持膜の上記基板が接着されている側の面における、基板が接着されていない露出面に、当該露出面側から紫外線を照射する紫外線照射手段と、上記紫外線が照射された支持膜に接着されている上記基板を洗浄する洗浄手段とを備える構成である。
実施例1では、図2に示す手順により基板を洗浄した。図2は、実施例1の洗浄方法の処理を示す図である。
実施例1,2および比較例において基板を洗浄した後の支持膜の状態を評価した。評価は支持膜を目視で観察することにより行ない、膨潤の程度および露出面における付着物の存在を確認した。
3 支持板
10 紫外線照射ユニット(紫外線照射手段)、
20 洗浄ユニット(洗浄手段)
30 搬送ユニット
40 基板収納ユニット
50 位置合わせユニット
100 洗浄装置
Claims (8)
- 支持膜が接着されている基板を洗浄する洗浄装置であって、
上記支持膜の上記基板が接着されている側の面における、基板が接着されていない露出面に、当該露出面側から紫外線を照射する紫外線照射手段と、
上記紫外線が照射された支持膜に接着されている上記基板を洗浄する洗浄手段とを備えることを特徴とする洗浄装置。 - 上記支持膜が接着されている側の面とは反対側の面に接着剤を介して支持板が接着された上記基板から、支持板を剥離する剥離手段をさらに備え、
上記洗浄手段は、上記剥離手段によって支持板が剥離された上記基板上に残存している付着物を除去するようになっていることを特徴とする請求項1に記載の洗浄装置。 - 上記紫外線照射手段によって紫外線が照射される基板の周囲が不活性ガス雰囲気になるように不活性ガスを供給する不活性ガス供給手段をさらに備えることを特徴とする請求項1または2に記載の洗浄装置。
- 上記洗浄手段は、上記基板を洗浄液で洗浄するようになっていることを特徴とする請求項1から3のいずれか1項に記載の洗浄装置。
- 支持膜が接着されている基板を洗浄する洗浄方法であって、
上記支持膜の上記基板が接着されている側の面における、基板が接着されていない露出面に、当該露出面側から紫外線を照射する紫外線照射工程と、
上記紫外線照射工程において紫外線が照射された支持膜に接着されている上記基板を洗浄する洗浄工程とを包含していることを特徴とする洗浄方法。 - 上記紫外線照射工程の前に、上記支持膜が接着されている側の面とは反対側の面に接着剤を介して支持板が接着された上記基板から、支持板を剥離する剥離工程をさらに含み、
上記洗浄工程では、上記剥離工程後に上記基板上に残存している付着物を除去することを特徴とする請求項5に記載の洗浄方法。 - 上記紫外線照射工程の後に、上記支持膜が接着されている側の面とは反対側の面に接着剤を介して支持板が接着された上記基板から、支持板を剥離する剥離工程をさらに含み、
上記洗浄工程では、上記剥離工程後に上記基板上に残存している付着物を除去することを特徴とする請求項5に記載の洗浄方法。 - 上記紫外線照射工程では、不活性ガス雰囲気下で紫外線を照射することを特徴とする請求項5から7のいずれか1項に記載の洗浄方法。
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