JP2012117990A - スリット装置 - Google Patents
スリット装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2012117990A JP2012117990A JP2010269898A JP2010269898A JP2012117990A JP 2012117990 A JP2012117990 A JP 2012117990A JP 2010269898 A JP2010269898 A JP 2010269898A JP 2010269898 A JP2010269898 A JP 2010269898A JP 2012117990 A JP2012117990 A JP 2012117990A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- slit
- block
- gauges
- measurement
- block gauge
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims abstract description 80
- 238000000926 separation method Methods 0.000 claims description 4
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 abstract description 15
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 11
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 2
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Length-Measuring Instruments Using Mechanical Means (AREA)
Abstract
【解決手段】平坦性、平行性が保証された測定面11を下向きとして2個のブロックゲージ1B、1Cを支持体2Bに固定し、他の1個のブロックゲージ1Aを平坦性、平行性が保証された測定面11を上向きとして補助支持体3に取り付ける。補助支持体3は圧電素子により矢印方向に伸縮可能な可動機構4を介して支持体2Aに固定される。X線の入射方向から見て、ブロックゲージ1Aの測定面11とブロックゲージ1B、1Cの測定面11とをスリット幅方向の両開口端とするスリット開口が形成され、可動機構4によりブロックゲージ1Aを移動させることでスリット幅が零から所定範囲で可変である。
【選択図】図6
Description
なお、後述する実施例でも同様であるが、水平支持体2A、2B自体も複数個のブロックゲージを組み合わせて構成することにより、例えば水平支持体2A、2Bの対向する面について極めて高い平行性を容易に実現することができる。
即ち、図4(a)に示すように、ブロックゲージ1の測定面11と他の面(図1の例ではサイズが35mm×20mmである面)とがなす角部を切り落とすように、ブロックゲージ1の一部を切断面Aで切断する。これにより、測定面11の一部の測定面11’が残る。通常、こうした切断を行うと測定面11’の角部Bにかえりが発生するため、面取り処理を行ってこれを除去する。
この装置では、水平支持体2Bの上面に圧電素子を含む可動機構4の基部を固定し、可動機構4の上面にコ字形状支持体5Bを固定する。そして、コ字形状支持体5Bの中空部にブロックゲージ1Bを入れ、水平止めねじ6によりブロックゲージ1Bをコ字形状支持体5Bに対して固定する。そのあと、ブロックゲージ1Bの上面に他方のブロックゲージ1Aを直接載せ、垂直止めねじ7で下方に押しながら水平止めねじ6によりブロックゲージ1Aをコ字形状支持体5Aに対して固定する。そして、可動機構4を作動させてブロックゲージ1Bを僅かに下降させれば、スリット幅がごく微小であるスリット開口が形成される。例えば5nmステップで20μmストロークの可動機構4を用いれば、5μm程度から15μm程度までの5nmステップ可変スリットが可能である。
組立手順としては、図11(a)に示すように、3個の同サイズのブロックゲージ1B、1D、1Cを別のブロックゲージ1E(ダミー)の上に並べる。このとき、ブロックゲージ1B、1D、1Cの平坦性・平行性が保障されている測定面とブロックゲージ1Eの測定面が接するように各ブロックゲージを置く。またブロックゲージ1Bと1D、1Dと1Cとは、互いに触れない範囲でできるだけ近い距離とする。そして、ブロックゲージ1B、1D、1Cの上にコ字形状支持体5Cを被せ、垂直止めねじ7で各ブロックゲージ1B、1D、1Cをブロックゲージ1Eに押さえつけながら水平止めねじ6を締めて各ブロックゲージ1B、1D、1Cをコ字形状支持体5Cに対し固定する(図11(b)参照)。そうしてブロックゲージ1Eを離すと図11(c)に示すように、3個のブロックゲージ1B、1D、1Cの測定面が完全に一つの仮想平面上に並んだ状態となる。
11、12…測定面
2…支持剛体
2A、2B…水平支持体
3…補助支持体
4…可動機構
5A、5B、5C…コ字形状支持体
6…水平止めねじ
6…垂直止めねじ
8…薄膜部材
A…切断面
B…角部
Claims (5)
- 複数のブロックゲージと、各ブロックゲージの平坦性及び平行性が保証された測定面又は該測定面が乗る仮想平面が平行になるようにそれらブロックゲージを保持する保持手段と、を備え、異なるブロックゲージの対向する測定面又は各測定面が乗る対向する仮想平面の離間距離をスリット幅としたスリット開口を有することを特徴とするスリット装置。
- 請求項1に記載のスリット装置であって、
前記ブロックゲージは2個であり、前記保持手段は、前記2個のブロックゲージの平坦性及び平行性が保証された測定面同士が平行性を保って対面するようにそれらブロックゲージを保持し、前記2個のブロックゲージの対面する測定面の間にスリット開口が形成されることを特徴とするスリット装置。 - 請求項1に記載のスリット装置であって、
前記ブロックゲージは3個であり、前記保持手段は、前記3個のブロックゲージのうちの2個のブロックゲージの平坦性及び平行性が保証された測定面が同一の仮想面上に位置し、他の1個のブロックゲージの平坦性及び平行性が保証された測定面と前記仮想面とが平行性を保って対面し、且つ該ブロックゲージをその測定面に直交する方向に移動させた場合に該ブロックゲージが前記2個のブロックゲージの間に挿入される位置関係となるようにそれらブロックゲージを保持し、前記仮想平面と前記他の1個のブロックゲージの測定面との間にスリット開口が形成されることを特徴とするスリット装置。 - 請求項1〜3のいずれかに記載のスリット装置であって、
前記保持手段は、前記スリット開口をスリット幅方向に挟んで一方に位置する1乃至複数のブロックゲージを固定的に保持する第1保持手段と、前記スリット開口をスリット幅方向に挟んで他方に位置する1乃至複数のブロックゲージをスリット幅方向に移動可能に保持する第2保持手段と、を含むことを特徴とするスリット装置。 - 請求項5に記載のスリット装置であって、
前記第2保持手段は、圧電素子により前記1乃至複数のブロックゲージをスリット幅方向に移動させるものであることを特徴とするスリット装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010269898A JP5440481B2 (ja) | 2010-12-03 | 2010-12-03 | スリット装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010269898A JP5440481B2 (ja) | 2010-12-03 | 2010-12-03 | スリット装置 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012117990A true JP2012117990A (ja) | 2012-06-21 |
JP2012117990A5 JP2012117990A5 (ja) | 2013-08-29 |
JP5440481B2 JP5440481B2 (ja) | 2014-03-12 |
Family
ID=46500978
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010269898A Active JP5440481B2 (ja) | 2010-12-03 | 2010-12-03 | スリット装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5440481B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017506347A (ja) * | 2014-02-24 | 2017-03-02 | リガク イノベイティブ テクノロジーズ インコーポレイテッド | 高性能クラツキーアセンブリ |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0382943A (ja) * | 1989-08-25 | 1991-04-08 | Nec Corp | 全反射蛍光x線分析装置 |
JPH05100092A (ja) * | 1991-10-14 | 1993-04-23 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 多層膜x線スリツト |
JPH0854496A (ja) * | 1994-08-12 | 1996-02-27 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | X線用スリット |
JPH11213928A (ja) * | 1998-01-20 | 1999-08-06 | Rigaku Denki Kk | X線発生装置 |
JP3471477B2 (ja) * | 1995-03-17 | 2003-12-02 | 理学電機株式会社 | X線装置用可変スリット装置 |
JP3708596B2 (ja) * | 1995-10-02 | 2005-10-19 | 株式会社リガク | X線回折測定用スリット装置 |
-
2010
- 2010-12-03 JP JP2010269898A patent/JP5440481B2/ja active Active
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0382943A (ja) * | 1989-08-25 | 1991-04-08 | Nec Corp | 全反射蛍光x線分析装置 |
JPH05100092A (ja) * | 1991-10-14 | 1993-04-23 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 多層膜x線スリツト |
JPH0854496A (ja) * | 1994-08-12 | 1996-02-27 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | X線用スリット |
JP3471477B2 (ja) * | 1995-03-17 | 2003-12-02 | 理学電機株式会社 | X線装置用可変スリット装置 |
JP3708596B2 (ja) * | 1995-10-02 | 2005-10-19 | 株式会社リガク | X線回折測定用スリット装置 |
JPH11213928A (ja) * | 1998-01-20 | 1999-08-06 | Rigaku Denki Kk | X線発生装置 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017506347A (ja) * | 2014-02-24 | 2017-03-02 | リガク イノベイティブ テクノロジーズ インコーポレイテッド | 高性能クラツキーアセンブリ |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5440481B2 (ja) | 2014-03-12 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP3642674B1 (en) | Magnification compensation and/or beam steering in optical systems | |
CN101128917A (zh) | 曝光方法、电子元件制造方法、曝光装置以及照明光学装置 | |
JP2005268608A (ja) | ステージ装置 | |
JP5579024B2 (ja) | 保持体に固定された物差しを備える配列装置 | |
CN108885289B (zh) | 线栅偏振器制造方法 | |
JP2008168110A (ja) | 散乱線除去グリッドおよびその製造方法 | |
JP5440481B2 (ja) | スリット装置 | |
EP3870414A1 (en) | Optical element fabrication with optical scanner feedback | |
CN104834043B (zh) | 偏振光照射装置 | |
CN102576142A (zh) | 装配镜板叠层的方法 | |
CN104977811B (zh) | 曝光装置及其固定方法 | |
JP4458542B2 (ja) | 磁気シールド用ブレード材及び磁気シールド簾体 | |
KR20120040748A (ko) | 지지 장치 및 노광 장치 | |
JP5541312B2 (ja) | 偏光子ユニット、及び調整用治具 | |
TWI251659B (en) | Device for positioning machine parts moving on a straight or circular path | |
CN110911296B (zh) | 卡盘驱动装置和基底处理设备 | |
KR20140130013A (ko) | 브레이크용 지그 | |
JP2010002571A (ja) | 基板露光装置 | |
JP6381210B2 (ja) | 光学素子ユニット、回転方向の相対位置の調整方法、露光装置、物品の製造方法 | |
US6674583B2 (en) | Fabrication of unit lenses for compound refractive lenses | |
JPH05259263A (ja) | Xy微動ステージ | |
JPH03221336A (ja) | 可動ステージ装置 | |
US10879137B2 (en) | Template, template component, and semiconductor device manufacturing method | |
Li et al. | Reactive ion figuring of large optical membrane components | |
JP4296024B2 (ja) | 露光方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130710 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20130710 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20131112 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20131119 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20131202 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 5440481 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |