JP2012104739A - 発光素子 - Google Patents
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Abstract
【課題】発光層内部での光吸収が低減され、上方への光反射率が高められた発光素子を提供する。
【解決手段】第1の反射器40を有する支持体8と、第1および第2の発光部60a,60bと、第2の反射器64と、を備えた発光素子が提供される。第1および第2の発光部は、前記支持体の上に設けられ、発光層22a,22bを有し、前記発光層からの放出光のうち下方に向かう光が前記第1の反射器により上方に向かって反射可能とされている。第2の反射器は、前記第1および第2の発光部の間に挟まれ前記支持体の上に設けられ、かつ下方に向かって拡幅する断面形状を有し、側面に設けられた側面金属層64aを有する。
【選択図】図1
【解決手段】第1の反射器40を有する支持体8と、第1および第2の発光部60a,60bと、第2の反射器64と、を備えた発光素子が提供される。第1および第2の発光部は、前記支持体の上に設けられ、発光層22a,22bを有し、前記発光層からの放出光のうち下方に向かう光が前記第1の反射器により上方に向かって反射可能とされている。第2の反射器は、前記第1および第2の発光部の間に挟まれ前記支持体の上に設けられ、かつ下方に向かって拡幅する断面形状を有し、側面に設けられた側面金属層64aを有する。
【選択図】図1
Description
本発明の実施形態は、発光素子に関する。
照明装置、表示装置、および信号機などにおいて、高出力発光素子が要求される。
発光素子が、その発光層から下方に向かう放出光を反射する反射電極を有すると、上方における光取り出し効率を高めることができる。
しかしながら、反射電極により反射された光および発光層の面に沿って放出された光は、キャリアが十分に注入されない発光層領域を通過する間に吸収される。このため、光出力が十分には高められない問題がある。
発光層内部での光吸収が低減され、上方への光反射率が高められた発光素子を提供する。
実施形態によれば、第1の反射器を有する支持体と、第1および第2の発光部と、第2の反射器と、を備えたことを特徴とする発光素子が提供される。第1および第2の発光部は、前記支持体の上に設けられ、発光層を有し、前記発光層からの放出光のうち下方に向かう光が前記第1の反射器により上方に向かって反射可能とされている。第2の反射器は、前記第1および第2の発光部の間に挟まれ前記支持体の上に設けられ、かつ下方に向かって拡幅する断面形状を有し、側面に設けられた側面金属層を有する。
以下、図面を参照しつつ、本発明の実施形態について説明する。
図1(a)は第1の実施形態にかかる発光素子の模式平面図、図1(b)はA−A線に沿った模式断面図、図1(c)は領域ENを部分拡大した模式断面図、である。
発光素子は、第1の反射器を有する支持体8と、第1および第2の発光部60a、60bと、第2の反射器64と、を有している。支持体8は、例えば、基板10、基板10の裏面側に設けられた基板下部電極13、基板10の上面に設けられた接合電極46、第1の反射器(反射電極)40、および反射電極40の上に設けられたコンタクト層14、を有することができる。反射電極40は、少なくともAuを含むことができる。また、反射電極40は、例えば、光反射側にAuZn(0.3%Zn含有)、Ag、およびAlなどを有し、反射側とは反対の側にAuを有していてもよい。
図1(a)は第1の実施形態にかかる発光素子の模式平面図、図1(b)はA−A線に沿った模式断面図、図1(c)は領域ENを部分拡大した模式断面図、である。
発光素子は、第1の反射器を有する支持体8と、第1および第2の発光部60a、60bと、第2の反射器64と、を有している。支持体8は、例えば、基板10、基板10の裏面側に設けられた基板下部電極13、基板10の上面に設けられた接合電極46、第1の反射器(反射電極)40、および反射電極40の上に設けられたコンタクト層14、を有することができる。反射電極40は、少なくともAuを含むことができる。また、反射電極40は、例えば、光反射側にAuZn(0.3%Zn含有)、Ag、およびAlなどを有し、反射側とは反対の側にAuを有していてもよい。
発光部60a、60bは、第1のコンタクト層14の側から、第1の電流拡散層16、第1のクラッド層18、発光層22(22a,22b)、第2のクラッド層24、および第2の電流拡散層26、が積層された構造からなる。第1のコンタクト層14、第1の電流拡散層16、および第1のクラッド層18は、第1導電形を有する。また、第2のクラッド層24および第2の電流拡散層26は、第2の導電形を有する。
第1の発光部60aは、支持体8の上に設けられ、第1の発光層22aを有する。また、第2の発光部60bは、支持体8の上に設けられ、第2の発光層22bを有する。このように、発光部60(60a,60b)は、少なくとも2つの発光部を含む。第1の実施形態では複数の発光層60は互いに平行であるものとする。発光層22a、22bからの放出光のうち、光G1は直接上方へ出射される。また、下方に向かう光は、反射電極40により上方に向かって反射される光G2を含む。
第2の反射器64は、第1の発光部60aおよび第2の発光部60bの間に挟まれ支持体8の上に設けられ、発光層22a、22bからの放出光のうち側方に向う光を上方に向かって反射することができる。第1の実施形態では、第2の反射器64は、互いに平行に設けられた複数の発光部60と、平行に設けられる。
また、例えば、第2の反射器64は、発光部60a、60bの積層構造と同一の積層構造と、その側面金属層64aと、を有することができる。第2の反射器64は、下方に配置された支持体8へ向かうに従って拡幅する断面形状を有する。そして、第2の反射器64は、その側面に、側面金属層64aを有する。側面金属層64aは、発光部60a、60bからの放出光のうち側方へ向かう光を上方に向けて反射する(G3)。
発光層22a、22bから下方へ向かう光は、反射電極40により反射されたのち、第2の反射器64の側面金属層64aによりさらに反射されて上方に向かう光G4をさらに含む。また、最も外側の発光部60aの側面60sからの光G5は、第2の反射器64に当たらないので側方に向けて放出される。もし、チップの外縁に沿った領域に第2の反射器64を設けると、チップの側方への無駄な放出光が低減できる。
第1の発光部60aの上面60uには、その上面60uの幅よりも狭い幅WSを有する第1の細線電極50aを有する。また、第2の発光部60bの上面60uには、その上面60uの幅よりも狭い幅WSを有する第2の細線電極50bを有する。なお、第1の細線電極50aと第2の細線電極50bとを平行とすることが好ましい。さらに、発光部60の上面60uおよび側面に、微小な凹凸面を形成すると全反射が低減でき、光取り出し効率をより高めることができる。なお、図1において、第1および第2の細線電極は、ストライプ形状を有している。
第1および第2の細線電極50a、50bの幅WSを、例えば、2〜20μmのように細くすると細線電極50による放出光の遮光量を低減できるが、実装部材の配線部とのワイヤボンディングが困難となる。この場合、支持体8の上に設けられ、第1および第2の細線電極50a、50bと接続されたパッド電極52をさらに設けると、実装部材とのワイヤボンデングが容易となる。例えば、図1のように、長手方向に5つの細長い発光部60を配置すると、それぞれの細線電極50と連結されたパッド電極52にボンディングワイヤを接続することができる。なお、電極配置は、図1に限定されない。例えば、パッド電極を囲むように第1および第2の発光部を設け、第1の発光部の上面に第1の細線電極、第2の発光部の上面に第2の細線電極、をそれぞれ配置してもよい。さらに、第2の反射器は、第1の発光部と第2の発光部との間に設けることができる。この場合、第1および第2の細線電極は、例えば細い円環形状などとしてもよい。
発光部60の材料は、Inx(GayAl1−y)1−xP(但し、0≦x≦1、0≦y≦1)、AlxGa1−xAs(0≦x≦1)、InxGayAl1−x−yN(但し、0≦x≦1、0≦y≦1 x+y≦1)などとすることができる。これらの組成式で表される材料は、p形不純物やn形不純物となる元素が添加されたものも含んでもよい。これらの材料からなる発光層22は、可視光波長範囲の光を放出可能である。
図2(a)は比較例にかかる発光素子の模式平面図、図2(b)はB−B線に沿った模式断面図、図2(c)は領域ENCを部分拡大した模式断面図、である。
発光素子は、支持体108と、積層体132と、を有している。支持体108は、基板110、基板110の裏面側に設けられた基板下部電極113、基板110の上面に設けられた接合電極146、反射電極140、およびコンタクト層114、を有している。
発光素子は、支持体108と、積層体132と、を有している。支持体108は、基板110、基板110の裏面側に設けられた基板下部電極113、基板110の上面に設けられた接合電極146、反射電極140、およびコンタクト層114、を有している。
積層体132は、電流拡散層116、クラッド層118、発光層122、クラッド層124、および電流拡散層126、を有している。発光層122からの放出光のうち下方に向かう光が反射電極140により上方に向かって反射可能とされる。
図2(c)のように、積層体132の上に設けられた細線電極150a、150bから積層体132へキャリアが注入されると、細線電極150a、150bの下方に発光領域RRを生じる。他方、発光領域RRに挟まれた領域ARは、キャリアの低注入領域である。すなわち、発光層122からの放出光のうち横方向へ進む光g1の一部は、領域AR内で吸収される。また、発光層122から下方に向かい反射電極140で反射された光g2の一部も領域AR内で吸収される。
比較例では、第2の反射器を設けないので側方へ向かう光を上方に反射することが困難であるばかりではなく、発光層122の内部の領域ARでの光損失が増加する。このため、高出力とすることが困難である。発明者らは、このような低注入領域では波長の短い側の光がより多く吸収され、取り出される光は波長の長い側の成分が含まれる割合が多くなるので発光スペクトルがシフトすることを見出した。この結果、得られる発光スペクトルは、所望の発光スペクトルからずれる問題が生じる。
これに対して、第1の実施形態では、キャリア低注入領域を除去して第2の反射器64を設ける。このため、発光層内部での光損失が低減され、かつ上方に効率よく反射でき、高出力を得ることができる。また、発光スペクトルのシフトが抑制される。
図3(a)は第2の実施形態にかかる発光素子の模式平面図、図3(b)はC−C線に沿った模式断面図、図3(c)は領域ENを部分拡大した模式断面図、である。
発光部60は、Inx(GayAl1−y)1−xP(但し、0≦x≦1、0≦y≦1)、およびAlxGa1−xAs(0≦x≦1)、を含むものとする。また、第1導電形はp形、第2導電形はn形、であるものとする。
発光部60は、Inx(GayAl1−y)1−xP(但し、0≦x≦1、0≦y≦1)、およびAlxGa1−xAs(0≦x≦1)、を含むものとする。また、第1導電形はp形、第2導電形はn形、であるものとする。
第1のコンタクト層14は、Al0.5Ga0.5Asからなり、キャリア濃度が1×1019cm−3、かつ厚さが0.2μmなどとされる。第1の電流拡散層16は、In0.5(Ga0.3Al0.7)0.5Pからなり、キャリア濃度が4×1017cm−3、かつ厚さが0.3μmなどとされる。第1のクラッド層18は、In0.5Al0.5Pからなり、キャリア濃度が2×1017cm−3、かつ厚さが0.6μmなどとされる。第2のクラッド層24は、In0.5Al0.5Pからなり、キャリア濃度が4×1017cm−3、かつ厚さが0.6μmなどとされる。第2の電流拡散層26は、In0.5(Ga0.3Al0.7)0.5Pからなり、キャリア濃度が5×1017cm−3、かつ厚さが2μmなどとされる。
発光層22は、In0.5(Ga0.94Al0.06)0.5Pなどからなる井戸層と、In0.5(Ga0.4Al0.6)0.5Pなどからなる障壁層と、が交互に配列されたMQW(Multi Quantum Well)構造とされる。また、例えば井戸層の幅は10nm、障壁層の幅は20nmなどとされる。さらに発光層22は、アンドープまたは低濃度とされる。
また、第1のコンタクト層14と反射電極40との間に、ITO(Indium Tin Oxide)などからなる透明電極44がさらに設けられている。
他方、p形Siなどからなる基板10の上に、TiやPtを含む基板上部電極11、接合電極46がこの順序で設けられている。反射電極40は、一方の側では放出光を上方に効率よく反射し、他方の側では基板10の接合金属46とウェーハ接合が容易とされることが好ましい。
細線電極50から注入された電子は、発光層22に流れ込む。他方、反射電極40からの電流JTは破線で表すように透明電極44内を横方向に流れ、並列に配置された発光部60a、60b、・・・に順にJ1、J2のように流れ込む。電流JTにより発光層22に注入されたホールが、電子と再結合し発光する。すなわち、透明電極44を設けることにより、複数配置された発光部60に電流JTを均一に注入することが容易となる。なお、透明電極44をコンタクト層14と接触させることにより、全面をノンアロイコンタクトとし、合金による光損失を低減できる。
また、チップの外縁に沿って配置された発光部60aの外側の側面60sは、第2の反射器と対向しない。もし、側面60sの下方に、例えばSiO2などからなる電流ブロック層48を設けると、側面60sからの放出光を低減し、光取り出し効率を高めることができる。この場合、透明電極44や反射金属40に段差を生じ、反射金属40と接合金属46との間に隙間40cを生じやすいが、透明電極44を設けるので、電流JTを横方向に広げることは容易である。
図4は、第2の実施形態にかかる発光素子の製造方法の工程断面図であり、図4(a)はウェーハ接合前の模式図、図4(b)はウェーハ接合後の模式断面図、図4(c)は発光部および第2の反射器を形成した後の模式断面図、図4(d)はチップに分割後の模式断面図、である。
図4(a)のように、GaAsなどからなる結晶成長基板80に、MOCVD(Metal Organic Chemical Vapor Deposition)法やMBE(Molecular Beam Epitaxy)法を用いて、積層体32を結晶成長する。積層体32は、結晶成長基板80の側から、例えば、第2の電流拡散層26、第2のクラッド層24、発光層22、第1のクラッド層18、第1の電流拡散層16、および第1のコンタクト層14、を含む。
図4(a)のように、GaAsなどからなる結晶成長基板80に、MOCVD(Metal Organic Chemical Vapor Deposition)法やMBE(Molecular Beam Epitaxy)法を用いて、積層体32を結晶成長する。積層体32は、結晶成長基板80の側から、例えば、第2の電流拡散層26、第2のクラッド層24、発光層22、第1のクラッド層18、第1の電流拡散層16、および第1のコンタクト層14、を含む。
チップ化した場合に、最も外側となる発光部の外方へ向かう側面60sの下方となる領域にSiO2などの絶縁膜をパターニングし電流ブロック層48とする。電流ブロック層48および第1のコンタクト層14を覆い、ITO(Indium Tin Oxide)などからなる透明電極44を形成する。続いて、AuZn、Ag、およびAlなどからなる第1の膜40a(厚さ0.2μm)と、Au(厚さ0.6μm)を含む第2の膜40bと、含む反射電極40を形成する。第1の膜40aをAgやAlとすると、青色光など短い波長に対しても反射率を高くできる。なお、反射金属40の表面は、電流ブロック層48の高さの分だけ段差を生じる。
他方、p形Siなどからなる基板10にはTi、Ptなどを含む基板上部電極11を介してAuを含む接合金属46を設ける。反射電極40と、基板10に設けられた接合金属46と、の表面を重ね合わせ真空中で加圧しつつ、例えば300℃で加熱する。反射金属40と、接合金属46と、がAuを主成分として含むと、ウェーハ同士が容易に接合される。反射電極40に生じた段差は、ウェーハ接合後に隙間40cとして残ることもある。しかし、電流ブロック層48の下方には隙間を生じないので、電流経路が確保される。
続いて、図4(b)のように結晶成長基板80を、溶液エッチング法または研磨法などを用いて除去する。さらに電流ブロック層48の中心がダイシングロードの中心となるように、発光部60と、第2の反射器64と、に挟まれた領域の積層体32をエッチングにより除去する。エッチングの深さは、少なくとも発光層22の側面が露出するようにする。例えば、積層体32のうち第1のコンタクト層14をエッチングストップ層とすると、側面からの放出光G3が第2の反射器64の側面金属層64aで効率よく上方に向けて反射されるので好ましい。細線電極50の幅WSを2〜20μmとする場合、発光部60の上面の幅WEは、例えば、20〜150μmとすることができる。また、発光部60の高さTEは、3〜10μmなどとすることができる。
発光部60および第2の反射器64の側面金属層64aの傾きは、溶液エッチング工程およびドライエッチング工程において、エッチング液または反応ガスを変化させることによって制御できる。それぞれの傾斜が異なる場合、発光部60と、第2の反射器64と、のエッチング工程を分けて行えばよい。
続いて、図4(d)のように、発光部60の上面60uに、細線電極50を形成する。また、細線電極50と接続されたパッド電極52を形成する。さらに、第2の反射器64の側面金属層64aを形成する。なお、メッキ法などを用いて、第2の反射器64を金属ブロックで形成してもよい。
さらに、基板10の裏面に基板下部電極13を形成する。電流ブロック層48を含む所定の位置にダイシングを行うと発光素子のチップが完成する。パッド電極52を矩形とする場合、短辺の長さを80μm以上とするとワイヤボンディングが容易となる。
図5(a)は第3の実施形態にかかる発光素子の模式平面図、図5(b)はD−D線に沿った模式断面図、図5(c)は領域ENを部分拡大した模式断面図、である。
発光部および第2の反射器の形状は、平行な細長い矩形に限定されない。第3の実施形態では、発光部61は、格子状に配置される。また、第2の反射器65は、格子状の発光部61に囲まれて支持体8に設けられる。すなわち、第2の反射器65の4つの側面金属層65aは、対向する発光部61の4つの側面からの放出光をそれぞれ上方に向けて反射することができる。なお、D−D線と直交する方向E−E線に沿った断面における発光部61のピッチは、D−D線に沿った断面におけるピッチと同一でなくともよい。
発光部および第2の反射器の形状は、平行な細長い矩形に限定されない。第3の実施形態では、発光部61は、格子状に配置される。また、第2の反射器65は、格子状の発光部61に囲まれて支持体8に設けられる。すなわち、第2の反射器65の4つの側面金属層65aは、対向する発光部61の4つの側面からの放出光をそれぞれ上方に向けて反射することができる。なお、D−D線と直交する方向E−E線に沿った断面における発光部61のピッチは、D−D線に沿った断面におけるピッチと同一でなくともよい。
図6(a)は第4の実施形態にかかる発光素子の模式平面図、図6(b)はF−F線に沿った模式断面図、図6(c)は領域ENを部分拡大した模式断面図、である。
第1および第2の発光部60a、60bは、支持体8に向かうに従って幅が狭くなる。発光層22からの放出光は、支持体8の表面に対して平行に出射しようとするが、スネルの法則により上方に屈折して放出される(G6)。このため、第2の反射器64により上方に折れ曲げることが容易となる。また、発光部60と第2の反射器64との間隔を近づけることが容易となる。このように、発光部60からの出射方向、および第2の反射器64による反射方向、と変化させることができるので指向特性の制御がより容易となる。
第1および第2の発光部60a、60bは、支持体8に向かうに従って幅が狭くなる。発光層22からの放出光は、支持体8の表面に対して平行に出射しようとするが、スネルの法則により上方に屈折して放出される(G6)。このため、第2の反射器64により上方に折れ曲げることが容易となる。また、発光部60と第2の反射器64との間隔を近づけることが容易となる。このように、発光部60からの出射方向、および第2の反射器64による反射方向、と変化させることができるので指向特性の制御がより容易となる。
図7(a)は第5の実施形態にかかる発光素子の模式平面図、図7(b)はH−H線に沿った模式断面図、図7(c)は領域ENを部分拡大した模式断面図、である。
電流拡散層16と、コンタクト層14と、の間に第1の反射器(分布ブラッグ反射層)70が設けられている。
電流拡散層16と、コンタクト層14と、の間に第1の反射器(分布ブラッグ反射層)70が設けられている。
分布ブラッグ反射(DBR:Distributed Bragg Reflector)層70は、第1の層と、第1の層の屈折率とは異なる屈折率を有する第2の層と、が交互に積層される。放出光が、第1の層と第2の層との1ペアを通過した時、位相が2分の1波長ずれるようにすると、ペア数の増加に応じて反射が強め合い反射率を高めることができる。また、第1の層および第2の層を通過した時、位相がそれぞれ4分の1波長ずれるようにすると、反射率を高めることがさらに容易となる。このようにして、DBR層70の中心波長を、発光層22からの放出光の発光波長と一致させることができる。
また、DBR層70は、p形In0.5(GayAl1−y)0.5P(0≦y≦1)からなる第1の層と、p型In0.5Al0.5Pからなる第2の層と、が交互に積層されたものとすることができる。第1の層と第2の層とは屈折率差を有する。第1の層と第2の層との前記ペア数は、例えば20以上40以下の範囲とされる。このようにしても、反射電極40と同様に、下方へ向かう放出光を上方に向けて反射することができる。
以上、第1〜第5の実施形態によれば、発光層内部での光吸収が低減され、第1および第2の反射器により、上方への反射率が高められた発光素子が提供される。このような発光素子は、高い出力を得ることが容易であり、照明装置、表示装置、および信号機などに広く用いることができる。
本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。
8 支持体、22(22a、22b) 発光層、40 第1の反射器(反射電極))、50 細線電極、52 パッド電極、60、61 発光部、64、65 第2の反射器、64a、65a 側面金属層、70 第1の反射器(DBR層)、WS 細線電極の幅
Claims (5)
- 第1の反射器を有する支持体と、
前記支持体の上に設けられ、発光層を有し、前記発光層からの放出光のうち下方に向かう光が前記第1の反射器により上方に向かって反射可能とされた第1および第2の発光部と、
前記第1および第2の発光部の間に挟まれ前記支持体の上に設けられ、かつ下方に向かって拡幅する断面形状を有し、側面に設けられた側面金属層を有する第2の反射器と、
を備えたことを特徴とする発光素子。 - 前記第1および第2の発光部は、前記支持体の表面に対して垂直となる側面、および下方に向かうに従って幅が狭くなる側面のいずれかを有することを特徴とする請求項1記載の発光素子。
- 前記第1の発光部の上面に設けられ、前記第1の発光部の前記上面の幅よりも狭い幅を有する第1の細線電極と、
前記第2の発光部の上面に設けられ、前記第2の発光部の前記上面の幅よりも狭い幅を有し、前記第1の細線電極に対して平行に設けられた第2の細線電極と、
前記支持体の上に設けられ、前記第1および第2の細線電極と接続されたパッド電極と、
をさらに備えたことを特徴とする請求項1または2に記載の発光素子。 - 前記第1の反射器は、反射電極であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1つに記載の発光素子。
- 前記第1の反射器は、分布ブラッグ反射層であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1つに記載の発光素子。
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