JP2012104481A - 放電プラズマに基づいた極紫外(euv)放射線発生のソース位置を安定させるための方法および装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明は、放電プラズマに基づいたEUV放射線の発生中にソース位置を安定させるための方法および装置に関する。ソース位置の位置変化を放射線ソースの動作中に単純な方法で補償できるようにする、EUV放射線の発生中にソース位置を安定させるための新規な可能性を見い出すという目的は、第1のビーム整列ユニット(7)、第2のビーム整列ユニット(4)、およびビーム集束ユニット(5)が、蒸発ビーム(3)に配置され、かつ第1〜第3の測定装置(8、9、10)に接続され、かつ基準値に対する蒸発ビーム(3)の方向偏差および発散偏差を取得および補償するために調整可能であるという点で、本発明によって達成される。
【選択図】図1
Description
− 蒸発ビームの第1の実際の方向値が、第1のビーム整列ユニットに当たる前に2つの座標において得られ、得られた実際の方向値が、第1の方向偏差を決定するために第1の基準方向値と比較されるステップと、
− 2つの座標における第2のビーム整列ユニットの位置補正が、蒸発ビームの第1の方向偏差を補償するために実行されるステップと、
− 蒸発ビームの第2の実際の方向値が、第1のビーム整列ユニットの下流における2つの座標において得られ、得られた第2の実際の方向値が、所定の蒸発位置の方向における第2の方向偏差を決定するために第2の基準方向値と比較されるステップと、
− 2つの座標における第1のビーム整列ユニットの位置補正が、蒸発ビームの第2の方向偏差を補償するために実行されるステップと、
− 蒸発ビームの実際の発散値が、第1のビーム整列ユニットの下流において得られ、得られた実際の発散値が、基準発散値と比較され、それによって、蒸発ビームが、発散偏差を決定するために所定の蒸発位置において蒸発ビームの補正された方向に沿って集束されるステップと、
− 蒸発位置における蒸発ビームの集束が調整されるように、ビーム集束ユニットが、発散偏差を補償するために補正されるステップと、
を介して満たされる。
− 蒸発ビームにおいて、第2のビーム整列ユニットが、ビーム集束ユニットの前に配置され、第1のビーム整列ユニットが、ビーム集束ユニットの後ろに配置される点と、
− 蒸発ビームにおいて、蒸発ビームの方向偏差を得るための第1の測定装置にむけて、蒸発ビームから第1のビーム成分を分離するための第1のビームスプリッタが、第2のビーム整列ユニットの前に配置され、第1の測定装置が、記憶/制御ユニット、および第2のビーム整列ユニットの位置および向きを調整できる調整手段に接続されることと、
− 蒸発位置の方向において基準値からの蒸発ビームの方向偏差を得るための第2の測定装置に向けて、蒸発ビームから第2のビーム成分を分離するための第2のビームスプリッタが、蒸発位置に集束される蒸発ビームにおいて第1のビーム整列ユニットの後ろに配置され、第2の測定装置が、記憶/制御ユニット、および第1のビーム整列ユニットの位置および向きを調整できる調整手段に接続されることと、
− 蒸発位置の方向において基準発散値からの蒸発ビームの発散偏差を得るための第3の測定装置に向けて、蒸発ビームから第3のビーム成分を分離するための第3のビームスプリッタが、蒸発位置に集束される蒸発ビームにおいて第1のビーム整列ユニットの後ろに配置され、第3の測定装置が、データ記憶装置、および所定の蒸発位置における蒸発ビームの焦点を生成するためにビーム集束ユニットを調整できる調整手段に接続される点と、
− 第1のビーム整列ユニット、第2のビーム整列ユニット、ビーム集束ユニット、第1のビームスプリッタ、第2のビームスプリッタ、および第3のビームスプリッタが、真空チャンバに機械的に固定して接続される点と、
において満たされる。
4分割フォトダイオード20の個別フォトダイオードa、b、cおよびdは、デジタル電圧値Sa、Sb、ScおよびSdを記録する。12ビットD/A変換装置を用いる場合に、これらの値は、(−2047...+2047)の範囲にある。これらの電圧値は、対応するフォトダイオードa、b、cおよびdに当たる蒸発ビーム3の放射線エネルギにそれぞれ比例する。パルス対パルス制御が絶対に必要というわけではないので、多くのビームパルスにわたって移動平均を形成することができる。目標は、4分割フォトダイオード20が接続される変位手段によって、4分割フォトダイオード20を横に設定位置X(設定)へ変位させることである。設定位置X(設定)はまた、以下によって説明することができる。
X(設定)=X(実際値)+f*[(Sa+Sc)−(Sb+Sd)]/(Sa+Sb+Sc+Sd)
ここで、fは、正常デジタル電圧値とX位置値との間の変換係数である。所望の設定位置X(設定)は、
[(Sa+Sc)−(Sb+Sd)]/(Sa+Sb+Sc+Sd)=0
の場合に達成される。
20kW電力用のこの設定位置X(設定)は、記憶/制御ユニット17におけるファイル(表1)に記憶される。
Y(設定)=Y(実際値)+g*[(Sa+Sb)−(Sc+Sd)]/(Sa+Sb+Sc+Sd)
ここで、gは、正常デジタル電圧値とY位置値との間の変換係数である。所望の設定位置Y(設定)は、以下の条件が満たされる場合に達成される。
[(Sa+Sb)−(Sc+Sd)]/(Sa+Sb+Sc+Sd)=0
この設定位置Y(設定)は、同様に、記憶/制御ユニット17におけるファイル(表1)に記憶される。
Z(設定)=Z(実際値)+h*(Se−Sf)/(Sa+Sf)
が達成されるように、第3のビーム成分3.3の蒸発ビームの方向において、開口ミラー19に対して第3の測定装置10の凸レンズを変位することであり、ここで、hは、正常デジタル電圧値とZ位置値との間の変換係数である。この設定位置Z(設定)は、同様に、記憶/制御ユニット17におけるファイル(表1)に記憶される。発散偏差は、第3の測定装置10によって決定される。
[(Sa+Sc]−(Sb+Sd)]/(Sa+Sb+Sc+Sd)≠0
である場合に、0からの偏差量は、第2のビーム指向ユニット4のx調整手段4.1によって実行されるモータステップ量を決定するために用いられる。調整手段4.1の送り方向は、同様に、ゼロからの決定された偏差の数学記号から推定することができる。第2のビーム指向ユニット4は、
[(Sa+Se)−(Sb+Sd)]/(Sa+Sb+Se+Sd)=0
まで傾斜される。
その後、X方向は調整される。x調整手段4.1は、記憶/制御ユニット17を介して制御される。
[(Sa+Sb)−(Sc+Sd)]/(Sa+Sb+Sc+Sd)≠0
である場合に、第2のビーム指向ユニット4のy調整手段4.2は、
[(Sa+Sb)−(Sc+Sd)]/(Sa+Sb+Sc+Sd)=t
まで、前の説明と同様に傾斜される。
次に、Y方向がまた、整列される。y調整手段4.2は、記憶/制御ユニット17を介して制御される。
1.1 入力窓
2. 放射線源
2.1 2次元的に調整可能な光学装置
3 蒸発ビーム
3.1 第1のビーム成分
3.2 第2のビーム成分
3.3 第3のビーム成分
4 第2のビーム指向ユニット
4.1 調整手段(X送り)
4.2 調整手段(Y送り)
5 ビーム集束ユニット
5.1 凹レンズ
5.2 (ビーム集束ユニットの)凸レンズ
5.3 調整手段(Z送り)
6 絞り
7 第1のビーム指向ユニット
7.1 調整手段(X送り)
7.2 調整手段(Y送り)
8 第1の測定装置
9 第2の測定装置
10 第3の測定装置
10.1 (第3の測定装置の)凸レンズ
11 第1のビームスプリッタ
12 第2のビームスプリッタ
13 第3のビームスプリッタ
14 蒸発位置
15 焦点
16 電極
17 記憶/制御ユニット
18 バイセル検出器
18.1および18.2 (x方向用の)フォトダイオード
18.3および18.4 (y方向用の)フォトダイオード
19 開口ミラー
19.1 開口部
20 4分割フォトダイオード
a〜d (4分割フォトダイオードの)フォトダイオード
21 第1の発散センサ
22 第2の発散センサ
23 回転レーザ窓
24 光学距離監視手段
Claims (16)
- 放電プラズマに基づいた極紫外(EUV)放射線の発生中にソース位置を安定させるための方法であって、パルス状の高エネルギ放射線の蒸発ビームが、真空チャンバの2つの電極間におけるエミッタ材料の蒸発用の所定の蒸発位置に、ビーム集束ユニットを介して向けられるものであり、
− 前記蒸発ビーム(3)の第1の実際の方向値が、第1のビーム整列ユニット(7)に当たる前に2つの座標にて得られ、得られた実際の方向値が、第1の方向偏差を決定するために第1の基準方向値と比較されるステップと、
− 2つの座標における第2のビーム整列ユニット(4)の位置補正が、前記蒸発ビーム(3)の前記第1の方向偏差を補償するために実行されるステップと、
− 前記蒸発ビーム(3)の第2の実際の方向値が、前記第1のビーム整列ユニット(7)の下流における2つの座標にて得られ、得られた第2の実際の方向値が、前記所定の蒸発位置(14)の方向における第2の方向偏差を決定するために第2の基準方向値と比較されるステップと、
− 2つの座標における前記第1のビーム整列ユニット(7)の位置補正が、前記蒸発ビーム(3)の前記第2の方向偏差を補償するために実行されるステップと、
− 前記蒸発ビーム(3)の実際の発散値が、前記第1のビーム整列ユニット(7)の下流にて得られ、得られた実際の発散値が、基準発散値と比較され、それによって、前記蒸発ビーム(3)が、発散偏差を決定するために前記所定の蒸発位置(14)にて前記蒸発ビーム(3)の補正された方向に沿って集束されるステップと、
− 前記蒸発位置(14)における前記蒸発ビーム(3)の集束が調整されるように、前記ビーム集束ユニット(5)が、前記発散偏差を補償するために補正されるステップと、
を特徴とする方法。 - 前記第1のビーム整列ユニット(7)、前記第2のビーム整列ユニット(4)、および前記ビーム集束ユニット(5)の補正調整値が、前記基準値が達成され第1〜第nの入力電力と関連付けられるように記憶される調整量として、放射線ソース(2)の異なる前記第1〜第nの入力電力用に得られ、前記放射線ソース(2)の入力電力が変化する場合には、これらの調整量が、検索されて整列用に使用可能であるようにすることを特徴とする、請求項1に記載の方法。
- 前記第1〜第nの入力電力の1つを選択する場合に、前記第1のビーム整列ユニット(7)、前記第2のビーム整列ユニット(4)、および前記集束ユニット(5)用の前記それぞれの記憶された調整量が、自動的に検索され、基本設定として調整されることを特徴とする、請求項2に記載の方法。
- 前記第1の実際の方向値、前記第2の実際の方向値、および前記実際の発散値を得るために用いられる位置敏感センサの補正調整値が、前記放射線ソース(2)の様々な第1〜第nの入力電力用に得られ、かつ前記第1〜第nの入力電力に関連付けられるように記憶されて、それらが、前記放射線ソース(2)の前記入力電力に変化がある場合に、検索されて調整用に使用可能であるようにすることを特徴とする、請求項1〜3のいずれか一項に記載の方法。
- 前記放射線ソース(2)の前記第1〜第nの入力電力の1つを選択する場合に、前記位置敏感センサ用の前記それぞれの記憶された調整量が、自動的に検索され、前記位置敏感センサの前記調整量が、基本設定として調整されることを特徴とする、請求項4に記載の方法。
- 前記蒸発ビーム(3)が、エミッタ材料が供給される蒸発位置(14)に集束されることを特徴とする、請求項1〜5のいずれか一項に記載の方法。
- 前記蒸発ビーム(3)が、前記電極(16)間の蒸発位置(14)に集束され、エミッタ材料の滴が、前記蒸発位置(14)に規則的に注入されることを特徴とする、請求項6に記載の方法。
- 前記エミッタ材料が、前記蒸発位置(14)に移動させられることを特徴とする、請求項6または7に記載の方法。
- 前記蒸発位置(14)と少なくとも1つの基準点との間の距離が、光学距離監視装置によって監視されることを特徴とする、請求項1〜8のいずれか一項に記載の方法。
- 放電プラズマに基づいた極紫外(EUV)放射線の発生中にソース位置を安定させるための装置であって、パルス状の高エネルギ放射線の蒸発ビームを発生するための放射線ソースが、少なくとも1つのビーム整列ユニットおよびビーム集束ユニットを介して、真空チャンバにおけるガス放電用の2つの電極間におけるエミッタ材料の蒸発用の所定の蒸発位置へ向けられる、装置において、
− 前記蒸発ビーム(3)にて、第2のビーム整列ユニット(4)が、ビーム集束ユニット(5)の前に配置され、第1のビーム整列ユニット(7)が、前記ビーム集束ユニット(5)の後ろに配置されることと、
− 前記蒸発ビーム(3)の方向偏差を得るための第1の測定装置(8)に向けて、前記蒸発ビーム(3)から第1のビーム成分(3.1)を分離するための第1のビームスプリッタ(11)が、前記第2のビーム整列ユニット(4)の前で前記蒸発ビーム(3)に配置され、前記第1の測定装置(8)が、記憶/制御ユニット(17)、および前記第2のビーム整列ユニット(4)の位置および向きを調整できる調整手段(4.1、4.2)に接続されることと、
− 前記蒸発位置(14)の方向にて基準値からの前記蒸発ビーム(3)の方向偏差を得るための第2の測定装置(9)に向けて、前記蒸発ビーム(3)から第2のビーム成分(3.2)を分離するための第2のビームスプリッタ(12)が、前記蒸発位置(14)に集束される前記蒸発ビーム(3)における前記第1のビーム整列ユニット(7)の後ろに配置される、前記第2の測定装置(9)が、前記記憶/制御ユニット(17)、および前記第1のビーム整列ユニット(7)の位置および向きを調整できる調整手段(7.1、7.2)に接続されることと、
− 前記蒸発位置(14)の方向にて基準発散値からの前記蒸発ビーム(3)の発散偏差を得るための第3の測定装置(10)に向けて、前記蒸発ビーム(3)から第3のビーム成分(3.3)を分離するための第3のビームスプリッタ(13)が、前記蒸発位置(14)に集束される前記蒸発ビーム(3)にて前記第1のビーム整列ユニット(7)の後ろに配置され、前記第3の測定装置(10)が、前記記憶/制御ユニット(17)、および前記所定の蒸発位置(14)における前記蒸発ビーム(3)の焦点(15)を生成するために前記ビーム集束ユニット(5)を調整できる調整手段(5.3)に接続されることと、
− 前記第1のビーム整列ユニット(7)、前記第2のビーム整列ユニット(4)、前記ビーム集束ユニット(5)、前記第1のビームスプリッタ(11)、前記第2のビームスプリッタ(12)、および前記第3のビームスプリッタ(13)が、前記真空チャンバ(1)に機械的に固定して接続されることと、
を特徴とする装置。 - 前記第2のビーム整列ユニット(4)が、前記パルス状の高エネルギ放射線用の前記放射線ソース(2)の2次元的に調整可能な方向マニュピレータとして構成され、前記第1のビーム整列ユニット(7)が、2次元的に調整可能なビーム偏向ユニットであることを特徴とする、請求項10に記載の装置。
- 前記第1のビーム整列ユニット(7)および前記第2のビーム整列ユニット(4)が、2次元的に調整可能なビーム偏向ユニットとして構成されることを特徴とする、請求項10に記載の装置。
- 前記第1の測定装置(8)および前記第2の測定装置(9)が、基準方向値からの方向偏差を得るために位置偏差を等価測定量として検出するための位置敏感放射線センサであることを特徴とする、請求項10に記載の装置。
- マトリックス検出器、4分割検出器(20)、互いに直交して配置された2つのバイセル検出器(18)の組み合わせ、および互いに直交して配置された2つのライン検出器の組み合わせを含む群から選択される受信ユニットが、位置敏感放射線センサとして用いられることを特徴とする、請求項13に記載の装置。
- 前記第3の測定装置(10)が、前記蒸発ビーム(3)から分離された前記第3のビーム成分(3.3)が向けられる中央開口部(19.1)を備えた開口ミラー(19)と、前記開口ミラー(19)の開口部(19.1)を通過する放射線を検出するための第1の発散センサ(21)と、前記開口ミラー(19)によって反射された前記第3のビーム成分(3.3)の放射線を検出するための第2の発散センサ(22)と、を有することを特徴とする、請求項10に記載の装置。
- 回転レーザ窓(23)が、前記蒸発ビーム(3)からのビーム成分を前記第2の測定装置(9)および前記第3の測定装置(10)へ向かって少なくとも周期的に分離する第2のビームスプリッタ(12)として、前記蒸発ビーム(3)に配置されることを特徴とする、請求項10に記載の装置。
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