JP2012084437A - X-ray generator and manufacturing method of x-ray generator - Google Patents

X-ray generator and manufacturing method of x-ray generator Download PDF

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an x-ray generator and a manufacturing method of an x-ray generator capable reducing corrosion of an X-ray transmission window exposed to the ambient air at a low cost without spoiling X-ray transmissivity.SOLUTION: An x-ray generator comprises: a vacuum envelope 180; X-ray generation means provided in the vacuum envelope 180; an X-ray transmission window 182 which is connected to the vacuum envelope 180, seals the vacuum envelope 180, is composed of beryllium, and transmits the X-ray generated by the X-ray generation means and emits it to the ambient air side; and a protection film F. The protection film F covers at least a part of the surface on the side exposed to the ambient air of the X-ray transmission window 182 and is formed of a reaction coating with the X-ray transmission window 182 and benzotriazole or its derivative.

Description

本発明の実施形態は、Ｘ線発生装置及びＸ線発生装置の製造方法に関する。   Embodiments described herein relate generally to an X-ray generator and a method for manufacturing the X-ray generator.

Ｘ線管装置のようなＸ線発生装置は、真空外囲器の一部にＸ線透過窓を備えている。このＸ線透過窓としては、Ｘ線の透過率の高いベリリウムを使用する場合が少なくない。しかし、ベリリウム製のＸ線透過窓の外側(真空と反対側)が大気であるような使用環境である場合、Ｘ線照射の影響で、腐食され、最終的にはＸ線透過窓が破壊される恐れがある。   An X-ray generator such as an X-ray tube device includes an X-ray transmission window in a part of the vacuum envelope. As this X-ray transmission window, beryllium having a high X-ray transmittance is often used. However, if the outside of the beryllium X-ray transmission window (on the opposite side of the vacuum) is the atmosphere, it is corroded by the effects of X-ray irradiation, and eventually the X-ray transmission window is destroyed. There is a risk.

Ｘ線透過窓が破壊されると、真空外囲器内の減圧が解かれ、真空外囲器内に空気が入る不具合が生じる。特に、軟Ｘ線に対する透過率を高めるためにベリリウムの厚みを５０μｍ以下に薄くする場合にこの不具合が短時間で発生し易い。   When the X-ray transmission window is destroyed, the reduced pressure in the vacuum envelope is released, causing a problem that air enters the vacuum envelope. In particular, this problem is likely to occur in a short time when the beryllium thickness is reduced to 50 μm or less in order to increase the transmittance for soft X-rays.

このため、Ｘ線透過窓の表面に保護性の薄膜を形成することが知られている。例えば、Ｘ線透過窓の表面には、Ｓｉ３Ｎ４、ＳｉＯ２、ＳｉＣ、ＢＮ、Ｂ４Ｃ、Ｂ４Ｓｉ、Ａｌ２Ｏ３、ポリイミド、架橋ポリエチレン等からなり、数十乃至数百ｎｍの厚みを有する保護膜が形成されている。また、Ｘ線透過窓の表面に、ホウ素を０．１乃至１．０μｍ被着させている。さらにまた、Ｘ線透過窓の表面には、膜厚１０乃至１００ｎｍのＳｉＯ２からなる中間層を介して膜厚１０乃至１００ｎｍのＴｉＯ２が設けられている。 For this reason, it is known to form a protective thin film on the surface of the X-ray transmission window. For example, the surface of the X-ray transmission window is made of Si 3 N 4 , SiO 2 , SiC, BN, B 4 C, B 4 Si, Al 2 O 3 , polyimide, cross-linked polyethylene, etc., and several tens to several hundreds nm. A protective film having a thickness of 1 mm is formed. Further, 0.1 to 1.0 μm of boron is deposited on the surface of the X-ray transmission window. Furthermore, TiO 2 having a thickness of 10 to 100 nm is provided on the surface of the X-ray transmission window via an intermediate layer made of SiO 2 having a thickness of 10 to 100 nm.

特公平３−３５７７４号公報Japanese Patent Publication No. 3-35774 特開平６−３０２２８９号公報JP-A-6-302289 特開平１０−１４２３９９号公報JP-A-10-142399

上記のような従来のＸ線発生装置では、以下のような問題が発生する恐れがある。
（１）まず、Ｘ線透過窓に形成する保護膜の製造法に物理蒸着等の真空成膜法を使った場合であるが、この場合、製造コストが高くなる。また、Ｘ線透過窓の形状によってはシャドウ効果により必要範囲に均一にムラなく成膜することが困難となる。Ｘ線発生装置が完成した状態での成膜が困難である。 The conventional X-ray generator as described above may cause the following problems.
(1) First, a vacuum film forming method such as physical vapor deposition is used as a method for manufacturing a protective film formed on the X-ray transmission window. In this case, the manufacturing cost increases. Further, depending on the shape of the X-ray transmission window, it becomes difficult to form a film uniformly in a required range without unevenness due to the shadow effect. Film formation in a state where the X-ray generator is completed is difficult.

（２）次に、保護膜の製造法に塗布法を使った場合であるが、この場合、熟練技能が必要である。また、０．１μｍ以下の膜をムラなくかつ無欠陥で形成することは困難である。さらに、一般的に密着度の高い膜が得難いものである。また、一般に塗布後の高温焼成が必要であるため、Ｘ線発生装置が完成した状態での成膜が困難である。   (2) Next, a coating method is used for the production method of the protective film. In this case, skilled skills are required. In addition, it is difficult to form a film having a thickness of 0.1 μm or less without any unevenness. Furthermore, it is generally difficult to obtain a film with high adhesion. Moreover, since high temperature baking after application | coating is generally required, the film-forming in the state which the X-ray generator was completed is difficult.

（３）次に、Ｘ線、特にエネルギが１０ｋＶ以下の軟Ｘ線を使用する場合であるが、この場合、保護膜を、透過率の高い薄膜で形成することが困難である。十分に透過率が高い保護膜を得ようとすると、保護膜に欠陥が生じ、防食性能が損なわれてしまう。   (3) Next, X-rays, particularly soft X-rays with an energy of 10 kV or less are used. In this case, it is difficult to form the protective film with a thin film having high transmittance. If an attempt is made to obtain a protective film having a sufficiently high transmittance, defects occur in the protective film and the anticorrosion performance is impaired.

この発明は以上の点に鑑みなされたもので、その目的は、大気に曝されるＸ線透過窓の腐食を、Ｘ線透過性を損なわず、かつ低コストで低減することができるＸ線発生装置及びＸ線発生装置の製造方法を提供することにある。   The present invention has been made in view of the above points, and an object of the present invention is to generate X-rays that can reduce corrosion of an X-ray transmission window exposed to the atmosphere at a low cost without impairing X-ray permeability. The present invention provides an apparatus and a method for manufacturing an X-ray generation apparatus.

一実施形態に係るＸ線発生装置は、
真空外囲器と、
前記真空外囲器内に設けられたＸ線発生手段と、
前記真空外囲器に接続され、前記真空外囲器を密閉し、ベリリウムで形成され、前記Ｘ線発生手段が発生したＸ線を透過して大気側に放射させるＸ線透過窓と、
前記Ｘ線透過窓の大気に露出する側の表面の少なくとも一部を覆い、前記Ｘ線透過窓と、ベンゾトリアゾール又はその誘導体と、の反応被膜である保護膜と、を備えたことを特徴としている。 An X-ray generator according to an embodiment
A vacuum envelope,
X-ray generation means provided in the vacuum envelope;
An X-ray transmission window connected to the vacuum envelope, sealing the vacuum envelope, formed of beryllium, and transmitting X-rays generated by the X-ray generation means to radiate to the atmosphere side;
Covering at least part of the surface of the X-ray transmission window exposed to the atmosphere, and comprising a protective film that is a reaction film of the X-ray transmission window and benzotriazole or a derivative thereof. Yes.

また、一実施形態に係るＸ線発生装置の製造方法は、
真空外囲器と、前記真空外囲器内に設けられたＸ線発生手段と、前記真空外囲器に接続され、前記真空外囲器を密閉し、ベリリウムで形成され、前記Ｘ線発生手段が発生したＸ線を透過して大気側に放射させるＸ線透過窓と、を備えたＸ線発生装置の製造方法において、
前記Ｘ線透過窓を、ベンゾトリアゾール又はその誘導体を溶媒に溶解させた処理溶液に浸漬し、前記Ｘ線透過窓と、ベンゾトリアゾール又はその誘導体と、の反応被膜であり、前記Ｘ線透過窓の大気に露出する側の表面の少なくとも一部を覆った保護膜を形成する浸漬処理工程と、
前記真空外囲器、Ｘ線発生手段及びＸ線透過窓をモジュールに組立てる工程と、を備えたことを特徴としている。 Moreover, the manufacturing method of the X-ray generator which concerns on one Embodiment is as follows.
A vacuum envelope, X-ray generation means provided in the vacuum envelope, and connected to the vacuum envelope, sealing the vacuum envelope and formed of beryllium, the X-ray generation means In an X-ray generator manufacturing method comprising: an X-ray transmission window that transmits X-rays generated and radiates to the atmosphere side;
The X-ray transmission window is immersed in a treatment solution in which benzotriazole or a derivative thereof is dissolved in a solvent, and is a reaction film of the X-ray transmission window and the benzotriazole or a derivative thereof. An immersion treatment step of forming a protective film covering at least a part of the surface exposed to the atmosphere;
A step of assembling the vacuum envelope, the X-ray generation means and the X-ray transmission window into a module.

図１は、一実施形態に係るＸ線管装置を示す分解断面図である。FIG. 1 is an exploded sectional view showing an X-ray tube apparatus according to an embodiment. 図２は、図１の線ＩＩ−ＩＩに沿った方向から見たＸ線管装置を示す平面図である。FIG. 2 is a plan view showing the X-ray tube device viewed from the direction along line II-II in FIG. 図３は、上記Ｘ線管装置を示す他の分解断面図である。FIG. 3 is another exploded sectional view showing the X-ray tube apparatus. 図４は、上記Ｘ線管装置の一部を示す断面図であり、Ｘ線透過窓及び保護膜を示す図である。FIG. 4 is a cross-sectional view showing a part of the X-ray tube device, showing an X-ray transmission window and a protective film. 図５は、上記実施形態に係るＸ線管装置の保護膜の製造工程を示す概略図である。FIG. 5 is a schematic view showing a manufacturing process of the protective film of the X-ray tube apparatus according to the embodiment. 図６は、図５に続く、上記保護膜の製造工程を示す概略図である。FIG. 6 is a schematic view illustrating the manufacturing process of the protective film following FIG. 図７は、図６に続く、上記保護膜の製造工程を示す概略図である。FIG. 7 is a schematic view illustrating the manufacturing process of the protective film following FIG. 図８は、図７に続く、上記保護膜の製造工程を示す概略図である。FIG. 8 is a schematic view illustrating the manufacturing process of the protective film following FIG.

以下、図面を参照しながら一実施形態に係るＸ線管装置及びＸ線管装置の製造方法について詳細に説明する。
図１、図２及び図３に示すように、Ｘ線管装置は、Ｘ線管１、高電圧コネクタ４００、管部１１、管部１２、押圧機構１３及び押圧機構１４を備えている。図示しないが、Ｘ線管装置は、冷却装置も備えている。冷却装置では、冷却液Ｌの循環装置と言い換えることができる。 Hereinafter, an X-ray tube apparatus and an X-ray tube apparatus manufacturing method according to an embodiment will be described in detail with reference to the drawings.
As shown in FIGS. 1, 2, and 3, the X-ray tube apparatus includes an X-ray tube 1, a high voltage connector 400, a tube portion 11, a tube portion 12, a pressing mechanism 13, and a pressing mechanism 14. Although not shown, the X-ray tube apparatus also includes a cooling device. In the cooling device, it can be rephrased as a circulating device for the coolant L.

固定陽極型のＸ線管１は、陰極１５０と、陽極１６０と、収束電極１７０と、真空外囲器１８０と、高電圧供給端子２１０と、を備えている。
陰極１５０は、電子を放出する電子放出源として陰極フィラメント１５１を含んでいる。収束電極１７０は、筒状に形成され、陰極フィラメント１５１の内側に配置され、陰極フィラメント１５１を固定している。 The fixed anode type X-ray tube 1 includes a cathode 150, an anode 160, a focusing electrode 170, a vacuum envelope 180, and a high voltage supply terminal 210.
The cathode 150 includes a cathode filament 151 as an electron emission source that emits electrons. The focusing electrode 170 is formed in a cylindrical shape, is disposed inside the cathode filament 151, and fixes the cathode filament 151.

陽極１６０は、収束電極１７０の内側に配置されている。陽極１６０は、陰極フィラメント１５１から放出される電子が照射されることによりＸ線を放出する陽極ターゲット１６１と、管部１６２と、底部１６５ａ、底部１６５ｂと、管部１６６と、管部１６７と、を含んでいる。陽極ターゲット１６１及び底部１６５は円盤状に形成されている。管部１６２は、筒状に形成され、一端は陽極ターゲット１６１で液密に閉塞され、他端は底部１６５で液密に閉塞されている。管部１６２は、他端側に、冷却液Ｌの導入口１６３及び排出口１６４を有している。   The anode 160 is disposed inside the focusing electrode 170. The anode 160 includes an anode target 161 that emits X-rays when irradiated with electrons emitted from the cathode filament 151, a tube portion 162, a bottom portion 165a, a bottom portion 165b, a tube portion 166, a tube portion 167, Is included. The anode target 161 and the bottom portion 165 are formed in a disc shape. The tube part 162 is formed in a cylindrical shape, one end is liquid-tightly closed by the anode target 161, and the other end is liquid-tightly closed by the bottom part 165. The pipe portion 162 has an inlet 163 and an outlet 164 for the coolant L on the other end side.

管部１６６は、筒状に形成され、管部１６２の内側に設けられている。管部１６６において、一端は陽極ターゲット１６１に間隔を置いて対向配置され、他端は底部１６５に液密に固定されている。管部１６６の他端側に形成された開口部及び導入口１６３は、筒状の管部１６７で液密に連通されている。
この実施形態において、陽極ターゲット１６１はタングステン合金で形成され、管部１６２、底部１６５ａ、底部１６５ｂは金属としての銅で形成され、管部１６６及び管部１６７は金属としてのステンレス鋼で形成されている。 The tube portion 166 is formed in a cylindrical shape and is provided inside the tube portion 162. In the tube portion 166, one end is disposed to face the anode target 161 with a gap, and the other end is fixed to the bottom portion 165 in a liquid-tight manner. The opening formed on the other end side of the tube portion 166 and the introduction port 163 are in fluid-tight communication with a tubular tube portion 167.
In this embodiment, the anode target 161 is formed of a tungsten alloy, the tube portion 162, the bottom portion 165a, and the bottom portion 165b are formed of copper as a metal, and the tube portion 166 and the tube portion 167 are formed of stainless steel as a metal. Yes.

管部１６７及び管部１６６は、陽極１６０の内部に冷却液Ｌを導入する導入路Ｃ１を形成している。このため、陽極ターゲット１６１に冷却液Ｌを吹き掛けることができる。管部１６２及び管部１６６は、陽極１６０の外部に冷却液Ｌを排出するための排出路Ｃ２を形成している。導入路Ｃ１及び排出路Ｃ２は、冷却液Ｌが流れるＸ線管１の冷却路３を形成している。このため、上記冷却路３を流れる冷却液Ｌにより、陽極ターゲット１６１を直接冷却することができるため、冷却液Ｌには陽極ターゲット１６１から放出される熱のほとんどの部分が伝導される。冷却液Ｌは、絶縁油などの高電圧絶縁性流体のみならず、純水や水系冷却液を使用することができる。   The tube portion 167 and the tube portion 166 form an introduction path C <b> 1 for introducing the coolant L into the anode 160. For this reason, the cooling liquid L can be sprayed on the anode target 161. The tube portion 162 and the tube portion 166 form a discharge path C <b> 2 for discharging the coolant L to the outside of the anode 160. The introduction path C1 and the discharge path C2 form a cooling path 3 of the X-ray tube 1 through which the coolant L flows. For this reason, since the anode target 161 can be directly cooled by the coolant L flowing through the cooling path 3, most of the heat released from the anode target 161 is conducted to the coolant L. As the coolant L, not only high-voltage insulating fluid such as insulating oil but also pure water or water-based coolant can be used.

真空外囲器１８０は、金属外囲器１８１、金属外囲器１８３及び高電圧絶縁部材２００を含んでいる。金属外囲器１８１は、その先端外径が徐々に細くなる筒状で、先端面が平坦に形成されている。   The vacuum envelope 180 includes a metal envelope 181, a metal envelope 183, and a high voltage insulating member 200. The metal envelope 181 has a cylindrical shape in which the outer diameter of the tip gradually decreases, and the tip surface is formed flat.

金属外囲器１８３は、金属で形成されている。金属外囲器１８３は、枠部１８４、筒部１８５、筒部１８６及び枠部１９３を有している。枠部１８４は、内周及び外周が円形である枠状に形成されている。枠部１８４の一端面には金属外囲器１８１が気密に接続されている。   The metal envelope 183 is made of metal. The metal envelope 183 has a frame part 184, a cylinder part 185, a cylinder part 186 and a frame part 193. The frame portion 184 is formed in a frame shape having a circular inner periphery and outer periphery. A metal envelope 181 is hermetically connected to one end surface of the frame portion 184.

筒部１８５は、筒状に形成されている。筒部１８５の一端は枠部１８４の他端面に気密に接続されている。筒部１８６は、筒部１８５より径の大きい筒状に形成され、筒部１８５の外側に位置している。筒部１８６の一端は枠部１８４の他端面に接続されている。筒部１８６の外面の複数個所には平面が形成されている。筒部１８６には、筒部１８６の平面に開口した開口部１８９、開口部１９０及び複数のネジ孔１９１、１９２が形成されている。枠部１９３は、内周が円形であり、外周が四角形である枠状に形成されている。枠部１９３は、筒部１８６の他端に接続されている。枠部１９３には、複数のネジ孔１９４が形成されている。ここでは、枠部１８４、筒部１８５、筒部１８６及び枠部１９３は、一体に形成されている。   The cylinder part 185 is formed in a cylindrical shape. One end of the cylinder portion 185 is airtightly connected to the other end surface of the frame portion 184. The cylinder part 186 is formed in a cylindrical shape having a diameter larger than that of the cylinder part 185, and is located outside the cylinder part 185. One end of the cylindrical portion 186 is connected to the other end surface of the frame portion 184. Flat surfaces are formed at a plurality of locations on the outer surface of the cylindrical portion 186. The tube portion 186 is formed with an opening 189 that opens in the plane of the tube portion 186, an opening 190, and a plurality of screw holes 191 and 192. The frame portion 193 is formed in a frame shape having a circular inner periphery and a rectangular outer periphery. The frame part 193 is connected to the other end of the cylinder part 186. A plurality of screw holes 194 are formed in the frame portion 193. Here, the frame part 184, the cylinder part 185, the cylinder part 186, and the frame part 193 are integrally formed.

高電圧絶縁部材２００は、アルミナ、窒化アルミニウム、ベリリア、窒化珪素等の電気絶縁性セラミクスで形成されている。ここでは、高電圧絶縁部材２００は、アルミナで形成されている。高電圧絶縁部材２００は、柱状に形成され、高電圧絶縁部材２００の一端部の外周面は、筒部１８５の内周面に気密に接続され、固定されている。   The high voltage insulating member 200 is made of an electrically insulating ceramic such as alumina, aluminum nitride, beryllia, silicon nitride. Here, the high voltage insulating member 200 is made of alumina. The high voltage insulating member 200 is formed in a columnar shape, and the outer peripheral surface of one end portion of the high voltage insulating member 200 is airtightly connected and fixed to the inner peripheral surface of the cylindrical portion 185.

高電圧絶縁部材２００には、陰極１５０及び陽極１６０の何れか一方が取り付けられている。この実施形態において、高電圧絶縁部材２００には、陽極１６０が取り付けられている。詳しくは、高電圧絶縁部材２００には管部１６２の他端側及び底部１６５が取り付けられ、高電圧絶縁部材２００は導入口１６３及び排出口１６４を覆っている。   Either the cathode 150 or the anode 160 is attached to the high voltage insulating member 200. In this embodiment, an anode 160 is attached to the high voltage insulating member 200. Specifically, the other end side and the bottom portion 165 of the pipe portion 162 are attached to the high voltage insulating member 200, and the high voltage insulating member 200 covers the inlet 163 and the outlet 164.

真空外囲器１８０は、陰極１５０、陽極１６０及び収束電極１７０を収容している。言い替えると、陰極１５０、陽極１６０及び収束電極１７０は、真空外囲器１８０内に設けられている。   The vacuum envelope 180 contains a cathode 150, an anode 160, and a focusing electrode 170. In other words, the cathode 150, the anode 160, and the focusing electrode 170 are provided in the vacuum envelope 180.

Ｘ線透過窓１８２は、真空外囲器１８０に接続され、真空外囲器１８０を密閉している。詳しくは、Ｘ線透過窓１８２は、金属外囲器１８１の先端面に気密に取り付けられている。Ｘ線透過窓１８２は、陽極ターゲット１６１に対向配置されている。Ｘ線透過窓１８２は、Ｘ線を透過して大気側に放射させるものであり、Ｘ線の減衰が少ない材料としてベリリウム（Ｂｅ）で形成されている。   The X-ray transmission window 182 is connected to the vacuum envelope 180 and seals the vacuum envelope 180. Specifically, the X-ray transmission window 182 is airtightly attached to the tip surface of the metal envelope 181. The X-ray transmission window 182 is disposed to face the anode target 161. The X-ray transmission window 182 transmits X-rays and emits them to the atmosphere side, and is made of beryllium (Be) as a material with little X-ray attenuation.

Ｘ線透過窓１８２で密閉された真空外囲器１８０の内部は、真空状態である。このため、金属外囲器１８１に形成された排気管、又は金属外囲器１８３に形成された排気管、又は高電圧絶縁部材２００に形成された排気孔を通じて真空外囲器１８０内を真空排気した後、上記排気管又は排気孔を封止している。   The inside of the vacuum envelope 180 sealed by the X-ray transmission window 182 is in a vacuum state. Therefore, the vacuum envelope 180 is evacuated through an exhaust pipe formed in the metal envelope 181, an exhaust pipe formed in the metal envelope 183, or an exhaust hole formed in the high voltage insulating member 200. After that, the exhaust pipe or the exhaust hole is sealed.

高電圧供給端子２１０は、高電圧絶縁部材２００に設けられた陰極１５０及び陽極１６０の何れか一方に高電圧を供給するものである。この実施形態において、高電圧供給端子２１０は、底部１６５（陽極１６０）に接続され、陽極１６０に高電圧を供給するものである。   The high voltage supply terminal 210 supplies a high voltage to any one of the cathode 150 and the anode 160 provided on the high voltage insulating member 200. In this embodiment, the high voltage supply terminal 210 is connected to the bottom 165 (anode 160) and supplies a high voltage to the anode 160.

高電圧絶縁部材２００は、高電圧供給端子２１０とともに真空外部に露出した第１端面２０１と、真空外部に露出した第２端面２０２、２０３と、Ｘ線管１の冷却路３を形成する貫通孔２０４、２０５とを有している。この実施の形態において、第１端面２０１は平面である。   The high voltage insulating member 200 includes a first end face 201 exposed to the outside of the vacuum together with the high voltage supply terminal 210, second end faces 202 and 203 exposed to the outside of the vacuum, and a through hole that forms the cooling path 3 of the X-ray tube 1. 204 and 205. In this embodiment, the first end surface 201 is a flat surface.

第２端面２０２は、開口部１８９に対向している。第２端面２０３は、開口部１９０に対向している。この実施形態において、第２端面２０２、２０３は、外部から内部に向かって細くなるテーパ状の凹面である。   The second end surface 202 faces the opening 189. The second end surface 203 faces the opening 190. In this embodiment, the second end surfaces 202 and 203 are tapered concave surfaces that become thinner from the outside toward the inside.

貫通孔２０４、２０５は、高電圧絶縁部材２００の内部に形成されている。貫通孔２０４は、一方が導入口１６３に連通し、他方が第２端面２０２に開口している。貫通孔２０５は、一方が排出口１６４に連通し、他方が第２端面２０３に開口している。貫通孔２０４、２０５には、冷却液Ｌが流れる。   The through holes 204 and 205 are formed inside the high voltage insulating member 200. One of the through holes 204 communicates with the introduction port 163, and the other opens to the second end surface 202. One of the through holes 205 communicates with the discharge port 164 and the other opens to the second end face 203. The coolant L flows through the through holes 204 and 205.

高電圧コネクタ４００は、有底筒状のハウジング４０１と、ハウジング４０１内にその先端が挿入されたケーブル４０２と、ハウジング４０１内に充填され、ケーブル４０２の端子４０２ａをハウジング４０１の開口部側に向けて固定するエポキシ樹脂材製の固定部４０３と、この固定部４０３と高電圧絶縁部材２００の第１端面２０１との間に挿入されたシリコーン樹脂材製のシリコーンプレート４０４と、を備えている。この実施形態において、ケーブル４０２は高電圧ケーブルである。固定部４０３は、電気絶縁材である。シリコーンプレート４０４は、内周及び外周が円形である枠状に形成されている。   The high-voltage connector 400 includes a bottomed cylindrical housing 401, a cable 402 having a tip inserted into the housing 401, and the housing 401 filled, with the terminal 402a of the cable 402 facing the opening side of the housing 401. And a fixing portion 403 made of an epoxy resin material, and a silicone plate 404 made of a silicone resin material inserted between the fixing portion 403 and the first end surface 201 of the high-voltage insulating member 200. In this embodiment, cable 402 is a high voltage cable. The fixing part 403 is an electrical insulating material. The silicone plate 404 is formed in a frame shape having a circular inner periphery and outer periphery.

この実施形態において、高電圧コネクタ４００の電気絶縁材としての固定部４０３は、高電圧絶縁部材２００の第１端面２０１に間接的に密着されている。なお、固定部４０３は、第１端面２０１に直接密着されていても良い。高電圧コネクタ４００は、高電圧供給端子２１０に正の高電圧を与えるものである。   In this embodiment, the fixing portion 403 as an electrical insulating material of the high voltage connector 400 is in intimate contact with the first end surface 201 of the high voltage insulating member 200. Note that the fixing portion 403 may be in direct contact with the first end surface 201. The high voltage connector 400 applies a positive high voltage to the high voltage supply terminal 210.

上記のように構成されたＸ線管１では、次のように用いられる。高電圧コネクタ４００を真空外囲器１８０に取り付ける際に、シリコーンプレート４０４が、それぞれ固定部４０３と、高電圧絶縁部材２００の第１端面２０１とに密着するように押圧する。上記押圧状態を維持するため、図示しないネジは、ハウジング４０１の図示しないネジ孔を通って枠部１９３のネジ孔１９４に締め付けられている。   The X-ray tube 1 configured as described above is used as follows. When the high voltage connector 400 is attached to the vacuum envelope 180, the silicone plate 404 is pressed so as to be in close contact with the fixing portion 403 and the first end surface 201 of the high voltage insulating member 200, respectively. In order to maintain the pressed state, a screw (not shown) is fastened to a screw hole 194 of the frame portion 193 through a screw hole (not shown) of the housing 401.

管部１１は、冷却液Ｌが流れる電気絶縁部材からなるホース１１ａを有している。管部１１は、第２端面２０２に密着される電気絶縁部材１１ｂを有している。この実施の形態において、電気絶縁部材１１ｂはホース１１ａの先端部で形成されている。電気絶縁部材１１ｂの外面は、先端に向かって細くなるテーパ状の凸面である。電気絶縁部材１１ｂが第２端面２０２に密着されることにより、管部１１は、貫通孔２０４に連通される。   The pipe part 11 has a hose 11a made of an electrically insulating member through which the coolant L flows. The tube portion 11 has an electrical insulating member 11 b that is in close contact with the second end surface 202. In this embodiment, the electrical insulating member 11b is formed at the tip of the hose 11a. The outer surface of the electrical insulating member 11b is a tapered convex surface that narrows toward the tip. When the electrical insulating member 11 b is in close contact with the second end surface 202, the tube portion 11 is communicated with the through hole 204.

管部１２は、冷却液Ｌが流れる電気絶縁部材からなるホース１２ａを有している。管部１２は、第２端面２０３に密着される電気絶縁部材１２ｂを有している。この実施の形態において、電気絶縁部材１２ｂはホース１２ａの先端部で形成されている。電気絶縁部材１２ｂの外面は、先端に向かって細くなるテーパ状の凸面である。電気絶縁部材１２ｂが第２端面２０３に密着されることにより、管部１２は、貫通孔２０５に連通される。   The pipe part 12 has a hose 12a made of an electrically insulating member through which the coolant L flows. The tube portion 12 has an electrical insulating member 12 b that is in close contact with the second end surface 203. In this embodiment, the electrical insulating member 12b is formed at the tip of the hose 12a. The outer surface of the electrical insulating member 12b is a tapered convex surface that narrows toward the tip. The tube portion 12 is communicated with the through hole 205 by the electrical insulating member 12b being in close contact with the second end surface 203.

ホース１１ａ、１２ａを形成する材料としては、エチレンプロピレンゴム、シリコーンゴム、フッ素ゴム、ブチルゴム、オレフィン系エラストマー、テフロン（登録商標）、ポリエチレン、ポリウレタンなどを利用することができる。   As a material for forming the hoses 11a and 12a, ethylene propylene rubber, silicone rubber, fluorine rubber, butyl rubber, olefin elastomer, Teflon (registered trademark), polyethylene, polyurethane, and the like can be used.

電気絶縁部材１１ｂの第２端面２０２への密着状態を維持するため、押圧機構１３により、管部１１の電気絶縁部材１１ｂを第２端面２０２に押し付けている。押圧機構１３は、固定部材１３ａと、ネジ１３ｅとを有している。固定部材１３ａは、筒部と、筒部の一端に接続された枠部とが一体となって形成されている。固定部材１３ａの枠部には複数のネジ孔１３ｄが形成されている。固定部材１３ａは、管部１１、ここではホース１１ａに固定されている。そして、ネジ１３ｅは、固定部材１３ａのネジ孔１３ｄを通って金属外囲器１８３のネジ孔１９１に締め付けられている。   In order to maintain the tight contact state of the electrical insulating member 11 b with the second end surface 202, the electrical insulating member 11 b of the tube portion 11 is pressed against the second end surface 202 by the pressing mechanism 13. The pressing mechanism 13 includes a fixing member 13a and a screw 13e. The fixing member 13a is formed integrally with a cylindrical portion and a frame portion connected to one end of the cylindrical portion. A plurality of screw holes 13d are formed in the frame portion of the fixing member 13a. The fixing member 13a is fixed to the pipe portion 11, here the hose 11a. The screw 13e is fastened to the screw hole 191 of the metal envelope 183 through the screw hole 13d of the fixing member 13a.

電気絶縁部材１２ｂの第２端面２０３への密着状態を維持するため、押圧機構１４により、管部１１の電気絶縁部材１２ｂを第２端面２０３に押し付けている。押圧機構１４は、固定部材１４ａと、ネジ１４ｅとを有している。固定部材１４ａは、筒部と、筒部の一端に接続された枠部とが一体となって形成されている。固定部材１４ａの枠部には複数のネジ孔１４ｄが形成されている。固定部材１４ａは、管部１２、ここではホース１２ａに固定されている。そして、ネジ１４ｅは、固定部材１４ａのネジ孔１４ｄを通って金属外囲器１８３のネジ孔１９２に締め付けられている。   In order to maintain the tight contact state of the electrical insulating member 12 b with the second end surface 203, the electrical insulating member 12 b of the tube portion 11 is pressed against the second end surface 203 by the pressing mechanism 14. The pressing mechanism 14 includes a fixing member 14a and a screw 14e. The fixing member 14a is formed integrally with a cylindrical portion and a frame portion connected to one end of the cylindrical portion. A plurality of screw holes 14d are formed in the frame portion of the fixing member 14a. The fixing member 14a is fixed to the pipe portion 12, here the hose 12a. The screw 14e is fastened to the screw hole 192 of the metal envelope 183 through the screw hole 14d of the fixing member 14a.

上記のように構成されたＸ線管装置において、陰極１５０及び収束電極１７０には相対的に負の電圧が印加され、陽極１６０には相対的に正の電圧が印加される。ここでは、陽極ターゲット１６１には、高電圧供給端子２１０、底部１６５及び筒部１６２を介して高電圧コネクタ４００に印加された高電圧が与えられる。陰極１５０及び収束電極１７０は、接地されている。   In the X-ray tube apparatus configured as described above, a relatively negative voltage is applied to the cathode 150 and the focusing electrode 170, and a relatively positive voltage is applied to the anode 160. Here, the high voltage applied to the high voltage connector 400 is applied to the anode target 161 via the high voltage supply terminal 210, the bottom portion 165, and the cylindrical portion 162. The cathode 150 and the focusing electrode 170 are grounded.

管部１１において、一端はＸ線管１に気密に接続され、他端は冷却装置に気密に接続されている。管部１２において、一端はＸ線管１に気密に接続され、他端は冷却装置に気密に接続されている。冷却装置は、熱交換器や循環ポンプを有し、管部１１、１２を介して冷却液ＬをＸ線管１の冷却路３との間で循環させるものである。   In the tube part 11, one end is airtightly connected to the X-ray tube 1, and the other end is airtightly connected to the cooling device. In the tube part 12, one end is airtightly connected to the X-ray tube 1, and the other end is airtightly connected to the cooling device. The cooling device includes a heat exchanger and a circulation pump, and circulates the cooling liquid L between the cooling path 3 of the X-ray tube 1 via the pipe portions 11 and 12.

図４に示すように、Ｘ線透過窓１８２の大気に露出する側の表面は、保護膜Ｆで覆われている。保護膜Ｆは、Ｘ線透過窓１８２と、ベンゾトリアゾール又はその誘導体と、の反応被膜で形成されている。   As shown in FIG. 4, the surface of the X-ray transmission window 182 that is exposed to the atmosphere is covered with a protective film F. The protective film F is formed of a reaction film of an X-ray transmission window 182 and benzotriazole or a derivative thereof.

保護膜Ｆは、ベンゾトリアゾール（ＢＴＡ）又はその誘導体で形成されている。上記誘導体としては、トリトリアゾール（ＴＴＡ）、ナフトトリアゾール（ＮＴＡ）、アルキルベンゾトリアゾール、カルボキシベンゾトリアゾール（ＣＢＴＡ）、ヒドロキシベンゾトリアゾール、５−メチルベンゾトリアゾール（ＭＢＴＡ）、５，６−ジメチルベンゾトリアゾール・一水和塩（ＤＭＢＴＡ）、１−メタンスルフォニルベンゾトリアゾール（ＭＳＢＴＡ）、及び１−（α−クロロアセチル）ベンゾトリアゾール（ＣＡＢＴＡ）の中の少なくとも１つを利用することができる。
上記のようにＸ線管装置が構成されている。 The protective film F is formed of benzotriazole (BTA) or a derivative thereof. Examples of the derivatives include tritriazole (TTA), naphthotriazole (NTA), alkylbenzotriazole, carboxybenzotriazole (CBTA), hydroxybenzotriazole, 5-methylbenzotriazole (MBTA), 5,6-dimethylbenzotriazole, one At least one of hydrated salt (DMBTA), 1-methanesulfonylbenzotriazole (MSBTA), and 1- (α-chloroacetyl) benzotriazole (CABTA) can be utilized.
The X-ray tube device is configured as described above.

次に、上記Ｘ線管装置の製造方法について説明する。
図１及び図３に示すように、まず、陰極１５０と、陽極１６０と、収束電極１７０と、真空外囲器１８０と、高電圧供給端子２１０と、を備えたＸ線管１を用意する。用意したＸ線管１において、真空外囲器１８０には、Ｘ線透過窓１８２が気密に接続され、真空外囲器１８０内は真空排気されている。 Next, a method for manufacturing the X-ray tube apparatus will be described.
As shown in FIGS. 1 and 3, first, an X-ray tube 1 including a cathode 150, an anode 160, a focusing electrode 170, a vacuum envelope 180, and a high voltage supply terminal 210 is prepared. In the prepared X-ray tube 1, an X-ray transmission window 182 is hermetically connected to the vacuum envelope 180, and the inside of the vacuum envelope 180 is evacuated.

図５に示すように、次に、第１製造装置２０を用いた浸漬処理工程に移行する。第１製造装置２０は、ベンゾトリアゾール又はその誘導体を溶媒に溶解させた処理溶液２１を収容する処理溶液槽２２と、処理溶液槽２２に収容された処理溶液２１を加熱するヒータ２３とを備えている。上記溶媒は、水、アルコール又はこれらの混合液である。   Next, as shown in FIG. 5, the process proceeds to an immersion treatment process using the first manufacturing apparatus 20. The first manufacturing apparatus 20 includes a processing solution tank 22 that stores a processing solution 21 in which benzotriazole or a derivative thereof is dissolved in a solvent, and a heater 23 that heats the processing solution 21 stored in the processing solution tank 22. Yes. The solvent is water, alcohol or a mixed solution thereof.

図６に示すように、浸漬処理工程にて、Ｘ線透過窓１８２を、処理溶液２１に、一定期間、浸漬する。ここで、上記一定期間とは、Ｘ線透過窓１８２の表面に、保護膜Ｆが形成されるまでの期間である。これにより、Ｘ線透過窓１８２が、処理溶液２１中のベンゾトリアゾール又はその誘導体と反応し、Ｘ線透過窓１８２の大気に露出する側の表面に、保護膜Ｆが形成される。   As shown in FIG. 6, the X-ray transmission window 182 is immersed in the treatment solution 21 for a certain period in the immersion treatment process. Here, the certain period is a period until the protective film F is formed on the surface of the X-ray transmission window 182. As a result, the X-ray transmission window 182 reacts with benzotriazole or a derivative thereof in the treatment solution 21, and the protective film F is formed on the surface of the X-ray transmission window 182 that is exposed to the atmosphere.

図７に示すように、その後、第２製造装置３０を用いた洗浄工程に移行する。第２製造装置３０は、洗浄液としての純水３１を収容する洗浄液槽３２を備えている。洗浄工程にて、保護膜Ｆが形成された側のＸ線透過窓１８２の表面を純水３１で洗浄する。   As shown in FIG. 7, thereafter, the process proceeds to a cleaning process using the second manufacturing apparatus 30. The 2nd manufacturing apparatus 30 is provided with the washing | cleaning liquid tank 32 which accommodates the pure water 31 as a washing | cleaning liquid. In the cleaning process, the surface of the X-ray transmission window 182 on the side where the protective film F is formed is cleaned with pure water 31.

図８に示すように、続いて、第３製造装置４０を用いた乾燥工程に移行する。第３製造装置４０は、送風機であり、ファン４１を備えている。乾燥工程において、洗浄したＸ線透過窓１８２の表面にファン４１を用いて送風し、Ｘ線透過窓１８２の表面を乾燥させる。   As shown in FIG. 8, the process proceeds to a drying process using the third manufacturing apparatus 40. The third manufacturing apparatus 40 is a blower and includes a fan 41. In the drying process, air is blown to the surface of the cleaned X-ray transmission window 182 using the fan 41 to dry the surface of the X-ray transmission window 182.

図１及び図３に示すように、次いで、保護膜Ｆが形成されたＸ線管１と、高電圧コネクタ４００と、管部１１、１２と、押圧機構１３、１４と、上記冷却装置と用いてモジュールに組立てる。これにより、Ｘ線管装置の製造が終了する。   As shown in FIGS. 1 and 3, the X-ray tube 1 on which the protective film F is formed, the high voltage connector 400, the tube portions 11 and 12, the pressing mechanisms 13 and 14, and the cooling device are then used. Assemble the module. Thereby, the manufacture of the X-ray tube apparatus is completed.

次に、上記Ｘ線管装置の製造方法について詳細に説明する。ここでは、水を溶媒に用いた浸漬法による保護膜Ｆの形成方法と、メタノールの５０％水溶液を溶媒に用いた浸漬法による保護膜Ｆの形成方法と、についてそれぞれ説明する。   Next, a method for manufacturing the X-ray tube apparatus will be described in detail. Here, a method for forming the protective film F by an immersion method using water as a solvent and a method for forming the protective film F by an immersion method using a 50% aqueous solution of methanol as a solvent will be described.

・水を溶媒に用いた浸漬法による保護膜Ｆの形成方法
ベンゾトリアゾールを純水に１ｗｔ％溶解させて処理溶液２１を作製する。続いて、Ｘ線管装置のＸ線透過窓１８２をアセトンにより十分脱脂する。次いで、処理溶液２１を５０℃に加温した状態でＸ線透過窓１８２の大気側の表面を６０分浸漬させることにより、ベンゾトリアゾールとＸ線透過窓１８２（ベリリウム）との反応被膜により保護膜Ｆが形成される。処理溶液２１の温度をより高くするほど、Ｘ線透過窓１８２を処理溶液２１に浸漬する時間を短くすることができる。 -Formation method of the protective film F by the immersion method using water as a solvent 1 wt% of benzotriazole is melt | dissolved in a pure water, and the process solution 21 is produced. Subsequently, the X-ray transmission window 182 of the X-ray tube apparatus is sufficiently degreased with acetone. Next, the surface of the atmosphere side of the X-ray transmission window 182 is immersed for 60 minutes in a state where the treatment solution 21 is heated to 50 ° C., so that a protective film is formed by a reaction film of benzotriazole and the X-ray transmission window 182 (beryllium). F is formed. As the temperature of the processing solution 21 is further increased, the time for immersing the X-ray transmission window 182 in the processing solution 21 can be shortened.

浸漬時間を延長しても保護膜Ｆの厚みは一定値以上には増大しない。形成された保護膜Ｆの外観は紫色の干渉色を呈する。保護膜Ｆの膜厚は５０ｎｍ前後と推測される。保護膜ＦをＡＥＳ分析（オージェ電子分光分析）したところ、構成元素として炭素（Ｃ）、窒素（Ｎ）、酸素（Ｏ）、ベリリウム（Ｂｅ）が検出された。
保護膜Ｆを形成した後、Ｘ線透過窓１８２の浸漬個所を十分に純水で洗浄し、乾燥させる。 Even if the immersion time is extended, the thickness of the protective film F does not increase beyond a certain value. The appearance of the formed protective film F exhibits a purple interference color. The film thickness of the protective film F is estimated to be around 50 nm. As a result of AES analysis (Auger electron spectroscopy analysis) of the protective film F, carbon (C), nitrogen (N), oxygen (O), and beryllium (Be) were detected as constituent elements.
After forming the protective film F, the immersion part of the X-ray transmission window 182 is sufficiently washed with pure water and dried.

・メタノールの５０％水溶液を溶媒に用いた浸漬法による保護膜Ｆの形成方法
ベンゾトリアゾールをメタノールの５０％水溶液に１０ｗｔ％溶解させて処理溶液２１を作製する。続いて、Ｘ線管装置のＸ線透過窓１８２をアセトンにより十分脱脂する。次いで、処理溶液２１を５０℃に加温した状態でＸ線透過窓１８２の大気側の表面を１０分浸漬させることにより、ベンゾトリアゾールとＸ線透過窓１８２（ベリリウム）との反応被膜により保護膜Ｆが形成される。この場合も、処理溶液２１の温度をより高くするほど、Ｘ線透過窓１８２を処理溶液２１に浸漬する時間を短くすることができる。 Method for forming protective film F by dipping method using 50% aqueous solution of methanol as a solvent 10 wt% of benzotriazole is dissolved in 50% aqueous solution of methanol to prepare treatment solution 21. Subsequently, the X-ray transmission window 182 of the X-ray tube apparatus is sufficiently degreased with acetone. Next, the surface of the atmosphere side of the X-ray transmission window 182 is immersed for 10 minutes in a state where the treatment solution 21 is heated to 50 ° C., so that a protective film is formed by a reaction film of benzotriazole and the X-ray transmission window 182 (beryllium). F is formed. Also in this case, the time for immersing the X-ray transmission window 182 in the processing solution 21 can be shortened as the temperature of the processing solution 21 is increased.

浸漬時間を延長しても保護膜Ｆの厚みは一定値以上には増大しない。形成された保護膜Ｆの外観は紫色の干渉色を呈する。保護膜Ｆの膜厚は５０ｎｍ前後と推測される。保護膜ＦをＡＥＳ分析したところ、構成元素としてＣ、Ｎ、Ｏ、Ｂｅが検出された。
保護膜Ｆを形成した後、Ｘ線透過窓１８２の浸漬個所を十分に純水で洗浄し、乾燥させる。 Even if the immersion time is extended, the thickness of the protective film F does not increase beyond a certain value. The appearance of the formed protective film F exhibits a purple interference color. The film thickness of the protective film F is estimated to be around 50 nm. As a result of AES analysis of the protective film F, C, N, O, and Be were detected as constituent elements.
After forming the protective film F, the immersion part of the X-ray transmission window 182 is sufficiently washed with pure water and dried.

以上のように構成された一実施形態に係るＸ線管装置及びＸ線管装置の製造方法によれば、Ｘ線管装置は、陰極１５０と、陽極ターゲット１６１を含んだ陽極１６０と、高電圧絶縁部材２００を含んだ真空外囲器１８０と、Ｘ線透過窓１８２と、高電圧供給端子２１０と、を具備したＸ線管１と、高電圧コネクタ４００と、冷却液Ｌが流れる管部１１、１２と、管部１１、１２に間接的に取り付けられ冷却液Ｌを循環させる冷却装置と、を備えている。   According to the X-ray tube apparatus and the X-ray tube apparatus manufacturing method according to the embodiment configured as described above, the X-ray tube apparatus includes a cathode 150, an anode 160 including an anode target 161, a high voltage, The X-ray tube 1 including the vacuum envelope 180 including the insulating member 200, the X-ray transmission window 182 and the high voltage supply terminal 210, the high voltage connector 400, and the tube portion 11 through which the coolant L flows. , 12 and a cooling device that is indirectly attached to the pipe portions 11 and 12 and circulates the coolant L.

Ｘ線透過窓１８２の大気に露出する側の表面は、保護膜Ｆで覆われている。保護膜Ｆは、Ｘ線透過窓１８２と、ベンゾトリアゾール又はその誘導体と、の反応被膜である。保護膜Ｆが形成されたＸ線透過窓１８２が大気に曝される腐食環境でＸ線管装置を使用する場合においても、Ｘ線透過窓１８２の腐食を抑制することができる。Ｘ線透過窓１８２がベリリウムで形成されている場合であっても、腐食の発生を抑制することができる。このため、長期にわたって信頼性が高く、製品寿命の長いＸ線管装置を得ることができる。   The surface of the X-ray transmission window 182 exposed to the atmosphere is covered with a protective film F. The protective film F is a reaction film of the X-ray transmission window 182 and benzotriazole or a derivative thereof. Even when the X-ray tube apparatus is used in a corrosive environment where the X-ray transmission window 182 with the protective film F formed is exposed to the atmosphere, corrosion of the X-ray transmission window 182 can be suppressed. Even when the X-ray transmission window 182 is made of beryllium, the occurrence of corrosion can be suppressed. For this reason, it is possible to obtain an X-ray tube apparatus that is highly reliable over a long period of time and has a long product life.

Ｘ線透過窓１８２の他の防食被膜（物理蒸着等の真空成膜法による無機／有機コーティング、及び塗布法による無機／有機コーティング）に対し、この実施形態のベンゾトリアゾール又はその誘導体による保護膜Ｆの特に有利な点は、以下に挙げる通りである。   For other anticorrosive coatings (inorganic / organic coatings by vacuum film formation methods such as physical vapor deposition, and inorganic / organic coatings by coating methods) of the X-ray transmission window 182, the protective film F of benzotriazole or its derivative of this embodiment Particularly advantageous points are as follows.

・製造コストが低い。 ・ Production cost is low.

・製造に熟練技能が不要である。 ・ Skilled skills are not required for manufacturing.

・Ｘ線発生装置が完成した状態での成膜が可能である。 -Film formation is possible with the X-ray generator completed.

・Ｘ線、特にエネルギが１０ｋＶ以下の軟Ｘ線の透過率が高い。 -The transmittance of X-rays, especially soft X-rays with an energy of 10 kV or less is high.

・欠陥が少なく、かつ密着性が高いため防食性能に優れる。 ・ Excellent anticorrosion performance due to few defects and high adhesion.

・Ｘ線透過窓１８２の形状の如何にかかわらず必要範囲に均一にムラなく成膜することが可能である。 -It is possible to form a film uniformly in a required range without unevenness regardless of the shape of the X-ray transmission window 182.

また、高電圧絶縁部材２００は、高電圧供給端子２１０とともに真空外部に露出した第１端面２０１と、真空外部に露出した第２端面２０２、２０３と、内部に形成され第２端面２０２、２０３に開口し、Ｘ線管１の冷却路３を形成する貫通孔２０４、２０５と、を有している。高電圧コネクタ４００は、第１端面２０１に間接的に密着された固定部４０３を有し、高電圧供給端子２１０に高電圧を与える。   The high voltage insulating member 200 includes a first end face 201 exposed to the outside of the vacuum together with the high voltage supply terminal 210, second end faces 202 and 203 exposed to the outside of the vacuum, and second end faces 202 and 203 formed inside. Opening holes 204 and 205 that form the cooling path 3 of the X-ray tube 1 are provided. The high voltage connector 400 includes a fixing portion 403 that is in intimate contact with the first end surface 201 and applies a high voltage to the high voltage supply terminal 210.

管部１１は、管部１１の電気絶縁部材１１ｂが第２端面２０２に密着され、貫通孔２０４（冷却路３）に連通されている。管部１２は、管部１２の電気絶縁部材１２ｂが第２端面２０３に密着され、貫通孔２０５（冷却路３）に連通されている。   In the pipe part 11, the electrical insulating member 11 b of the pipe part 11 is in close contact with the second end face 202 and communicated with the through hole 204 (cooling path 3). The pipe portion 12 is in communication with the through hole 205 (cooling path 3), with the electrical insulating member 12b of the pipe portion 12 being in close contact with the second end face 203.

Ｘ線管１の冷却路３は、高電圧絶縁部材２００の内部にも形成され、高電圧絶縁部材２００に設けられた陽極１６０を冷却することができる。この実施の形態において、Ｘ線管１の冷却路３は、陽極１６０の内部にも形成され、陽極ターゲット１６１を直接冷却することができる。   The cooling path 3 of the X-ray tube 1 is also formed inside the high voltage insulating member 200, and can cool the anode 160 provided on the high voltage insulating member 200. In this embodiment, the cooling path 3 of the X-ray tube 1 is also formed inside the anode 160, and the anode target 161 can be directly cooled.

このため、陽極１６０から高電圧絶縁部材２００、固定部（電気絶縁材）４０３、シリコーンプレート４０４への熱伝導を低減することができる。高電圧コネクタ４００の温度を低くすることができ、高電圧コネクタ４００の許容温度を越えた変形を抑制することができるため、高電圧コネクタ４００と、高電圧絶縁部材２００との密着性を維持することができる。これにより、高電圧コネクタ４００と高電圧絶縁部材２００との密着界面に沿った放電の発生を防止することができる。   For this reason, heat conduction from the anode 160 to the high voltage insulating member 200, the fixed portion (electrical insulating material) 403, and the silicone plate 404 can be reduced. Since the temperature of the high voltage connector 400 can be lowered and deformation beyond the allowable temperature of the high voltage connector 400 can be suppressed, the adhesion between the high voltage connector 400 and the high voltage insulating member 200 is maintained. be able to. Thereby, generation | occurrence | production of the discharge along the contact | adherence interface of the high voltage connector 400 and the high voltage insulation member 200 can be prevented.

また、管部１１、１２の全長にわたってホース１１ａ、１２ａ内部の冷却液Ｌが高電気抵抗回路を形成するため、管部１１、１２を絶縁油とともにハウジング内に収容しなくとも電気絶縁性を確保することができる。
上記したことから、大気に曝されるＸ線透過窓１８２の腐食を、Ｘ線透過性を損なわず、かつ低コストで低減することができるＸ線発生装置及びＸ線発生装置の製造方法を得ることができる。 In addition, since the coolant L inside the hoses 11a and 12a forms a high electric resistance circuit over the entire length of the pipe portions 11 and 12, electrical insulation is ensured even if the pipe portions 11 and 12 are not housed in the housing together with insulating oil. can do.
As described above, an X-ray generation apparatus and a method for manufacturing the X-ray generation apparatus that can reduce corrosion of the X-ray transmission window 182 exposed to the atmosphere without reducing X-ray permeability and at low cost are obtained. be able to.

なお、この発明は上記実施の形態そのままに限定されるものではなく、実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化可能である。また、上記実施の形態に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合わせにより、種々の発明を形成できる。例えば、実施形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。
例えば、ＢＴＡの替わりに各種のＢＴＡ誘導体を使用してもＸ線透過窓１８２に保護膜Ｆを同様に形成することができるため、この場合も上述した効果を得ることができる。 Note that the present invention is not limited to the above-described embodiment as it is, and can be embodied by modifying the components without departing from the scope of the invention in the implementation stage. Various inventions can be formed by appropriately combining a plurality of constituent elements disclosed in the embodiments. For example, some components may be deleted from all the components shown in the embodiment.
For example, even if various BTA derivatives are used in place of BTA, the protective film F can be similarly formed on the X-ray transmission window 182, and in this case, the above-described effects can be obtained.

Ｘ線透過窓１８２にベンゾトリアゾール又はその誘導体との反応被膜を形成させる工程は、Ｘ線管の排気工程前に実施しても良い。ただし、排気工程でＸ線透過窓１８２の温度を反応被膜の耐熱温度（約２００℃と推定される）以下に抑えることが必要である。   The step of forming a reaction coating with benzotriazole or a derivative thereof on the X-ray transmission window 182 may be performed before the evacuation step of the X-ray tube. However, it is necessary to suppress the temperature of the X-ray transmission window 182 to be equal to or lower than the heat resistant temperature of the reaction film (estimated to be about 200 ° C.) in the exhaust process.

ベンゾトリアゾール又はその誘導体との反応被膜は、従来の他の防食被膜を形成させた上から形成させても効果がある。従来の防食被膜では微小な欠陥部を有するため、この欠陥部を起点として腐食が進行することが予想される。しかしながら、従来の他の防食被膜を形成させたＸ線透過窓１８２を、ベンゾトリアゾール又はその誘導体を溶媒に溶解させた処理溶液２１に接触させる（浸らせる）だけで、欠陥部の耐食性を確保することができるものである。すなわち、欠陥部においては反応被膜が形成されるため、欠陥部を事後的に修復することができ、欠陥部を起点とするＸ線透過窓１８２の腐食の進行を防止することができる。   The reaction coating with benzotriazole or a derivative thereof is effective even when formed from another conventional anticorrosion coating. Since the conventional anticorrosion coating has a minute defect portion, it is expected that corrosion proceeds from this defect portion as a starting point. However, the corrosion resistance of the defective portion is ensured only by contacting (soaking) the X-ray transmission window 182 on which another conventional anticorrosion coating is formed with the treatment solution 21 in which benzotriazole or a derivative thereof is dissolved in a solvent. It is something that can be done. That is, since a reaction film is formed in the defective portion, the defective portion can be repaired later, and the progress of corrosion of the X-ray transmission window 182 starting from the defective portion can be prevented.

本発明が対象とするＸ線管装置は固定陽極型のＸ線管装置のみならず、回転陽極型のＸ線管装置にも適用することが可能である。また、本発明が対象とするＸ線発生装置はＸ線管装置のみならず、例えばデマンタブル方式の真空装置からなるＸ線管装置にも適用することが可能である。
本発明が上述した実施形態に係るＸ線管装置及びＸ線管装置の製造方法に限定されるものではなく、各種のＸ線発生装置及びＸ線発生装置の製造方法に適用できることは言うまでもない。 The X-ray tube apparatus targeted by the present invention can be applied not only to a fixed anode type X-ray tube apparatus but also to a rotary anode type X-ray tube apparatus. Further, the X-ray generator targeted by the present invention can be applied not only to an X-ray tube apparatus but also to an X-ray tube apparatus including, for example, a detachable vacuum apparatus.
Needless to say, the present invention is not limited to the X-ray tube apparatus and the X-ray tube apparatus manufacturing method according to the above-described embodiment, and can be applied to various X-ray generation apparatuses and X-ray generation apparatus manufacturing methods.

１…Ｘ線管、３…冷却路、１１，１２…管部、１１ａ，１２ａ…ホース、１１ｂ，１２ｂ…電気絶縁部材、１３，１４…押圧機構、２０…第１製造装置、２１…処理溶液、２２…処理溶液槽、２３…ヒータ、３０…第２製造装置、３１…純水、３２…洗浄液槽、４０…第３製造装置、４１…ファン、１５０…陰極、１５１…陰極フィラメント、１６０…陽極、１６１…陽極ターゲット、１８０…真空外囲器、１８２…Ｘ線透過窓、２００…高電圧絶縁部材、２０１…第１端面、２０２，２０３…第２端面、２０４，２０５…貫通孔、２１０…高電圧供給端子、４００…高電圧コネクタ、４０３…固定部、４０４…シリコーンプレート、Ｆ…保護膜、Ｌ…冷却液。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... X-ray tube, 3 ... Cooling path, 11, 12 ... Pipe part, 11a, 12a ... Hose, 11b, 12b ... Electrical insulation member, 13, 14 ... Pressing mechanism, 20 ... 1st manufacturing apparatus, 21 ... Processing solution , 22 ... treatment solution tank, 23 ... heater, 30 ... second manufacturing apparatus, 31 ... pure water, 32 ... cleaning liquid tank, 40 ... third manufacturing apparatus, 41 ... fan, 150 ... cathode, 151 ... cathode filament, 160 ... Anode, 161 ... anode target, 180 ... vacuum envelope, 182 ... X-ray transmission window, 200 ... high voltage insulating member, 201 ... first end face, 202, 203 ... second end face, 204, 205 ... through hole, 210 DESCRIPTION OF SYMBOLS ... High voltage supply terminal, 400 ... High voltage connector, 403 ... Fixed part, 404 ... Silicone plate, F ... Protective film, L ... Coolant.

Claims (8)

真空外囲器と、
前記真空外囲器内に設けられたＸ線発生手段と、
前記真空外囲器に接続され、前記真空外囲器を密閉し、ベリリウムで形成され、前記Ｘ線発生手段が発生したＸ線を透過して大気側に放射させるＸ線透過窓と、
前記Ｘ線透過窓の大気に露出する側の表面の少なくとも一部を覆い、前記Ｘ線透過窓と、ベンゾトリアゾール又はその誘導体と、の反応被膜である保護膜と、を備えたことを特徴とするＸ線発生装置。 A vacuum envelope,
X-ray generation means provided in the vacuum envelope;
An X-ray transmission window connected to the vacuum envelope, sealing the vacuum envelope, formed of beryllium, and transmitting X-rays generated by the X-ray generation means to radiate to the atmosphere side;
The X-ray transmission window covers at least a part of the surface exposed to the atmosphere, and includes a protective film that is a reaction film of the X-ray transmission window and benzotriazole or a derivative thereof. X-ray generator. 前記誘導体は、トリトリアゾール、ナフトトリアゾール、アルキルベンゾトリアゾール、カルボキシベンゾトリアゾール、ヒドロキシベンゾトリアゾール、５−メチルベンゾトリアゾール、５，６−ジメチルベンゾトリアゾール・一水和塩、１−メタンスルフォニルベンゾトリアゾール、及び１−（α−クロロアセチル）ベンゾトリアゾールの中の少なくとも１つであることを特徴とする請求項１に記載のＸ線発生装置。   The derivatives include tritriazole, naphthotriazole, alkylbenzotriazole, carboxybenzotriazole, hydroxybenzotriazole, 5-methylbenzotriazole, 5,6-dimethylbenzotriazole monohydrate, 1-methanesulfonylbenzotriazole, and 1 The X-ray generator according to claim 1, wherein the X-ray generator is at least one of-(α-chloroacetyl) benzotriazole. 真空外囲器と、前記真空外囲器内に設けられたＸ線発生手段と、前記真空外囲器に接続され、前記真空外囲器を密閉し、ベリリウムで形成され、前記Ｘ線発生手段が発生したＸ線を透過して大気側に放射させるＸ線透過窓と、を備えたＸ線発生装置の製造方法において、
前記Ｘ線透過窓を、ベンゾトリアゾール又はその誘導体を溶媒に溶解させた処理溶液に浸漬し、前記Ｘ線透過窓と、ベンゾトリアゾール又はその誘導体と、の反応被膜であり、前記Ｘ線透過窓の大気に露出する側の表面の少なくとも一部を覆った保護膜を形成する浸漬処理工程と、
前記真空外囲器、Ｘ線発生手段及びＸ線透過窓をモジュールに組立てる工程と、を備えたことを特徴とするＸ線発生装置の製造方法。 A vacuum envelope, X-ray generation means provided in the vacuum envelope, and connected to the vacuum envelope, sealing the vacuum envelope and formed of beryllium, the X-ray generation means In an X-ray generator manufacturing method comprising: an X-ray transmission window that transmits X-rays generated and radiates to the atmosphere side;
The X-ray transmission window is immersed in a treatment solution in which benzotriazole or a derivative thereof is dissolved in a solvent, and is a reaction film of the X-ray transmission window and the benzotriazole or a derivative thereof. An immersion treatment step of forming a protective film covering at least a part of the surface exposed to the atmosphere;
And a step of assembling the vacuum envelope, the X-ray generation means and the X-ray transmission window into a module. 前記誘導体は、トリトリアゾール、ナフトトリアゾール、アルキルベンゾトリアゾール、カルボキシベンゾトリアゾール、ヒドロキシベンゾトリアゾール、５−メチルベンゾトリアゾール、５，６−ジメチルベンゾトリアゾール・一水和塩、１−メタンスルフォニルベンゾトリアゾール、及び１−（α−クロロアセチル）ベンゾトリアゾールの中の少なくとも１つであることを特徴とする請求項３に記載のＸ線発生装置の製造方法。   The derivatives include tritriazole, naphthotriazole, alkylbenzotriazole, carboxybenzotriazole, hydroxybenzotriazole, 5-methylbenzotriazole, 5,6-dimethylbenzotriazole monohydrate, 1-methanesulfonylbenzotriazole, and 1 The method for producing an X-ray generator according to claim 3, wherein the production method is at least one of-(α-chloroacetyl) benzotriazole. 前記溶媒は、水、アルコール又はこれらの混合液であることを特徴とする請求項３又は４に記載のＸ線発生装置の製造方法。   The method for manufacturing an X-ray generator according to claim 3 or 4, wherein the solvent is water, alcohol, or a mixture thereof. 前記浸漬処理工程の後に、前記保護膜が形成された側の前記Ｘ線透過窓の表面を純水で洗浄する洗浄工程と、
前記洗浄工程の後に、前記洗浄したＸ線透過窓の表面を乾燥させる乾燥工程と、をさらに備えたことを特徴とする請求項３に記載のＸ線発生装置の製造方法。 A cleaning step of cleaning the surface of the X-ray transmission window on the side where the protective film is formed with pure water after the immersion treatment step;
The method for manufacturing an X-ray generation device according to claim 3, further comprising a drying step of drying the surface of the cleaned X-ray transmission window after the cleaning step. 前記浸漬処理工程は、前記Ｘ線透過窓を前記真空外囲器に接続した後に実施されることを特徴とする請求項３乃至６の何れか１項に記載のＸ線発生装置の製造方法。   The method of manufacturing an X-ray generation device according to claim 3, wherein the immersion treatment step is performed after the X-ray transmission window is connected to the vacuum envelope. 前記浸漬処理工程は、前記真空外囲器内を真空排気した後に実施されることを特徴とする請求項７に記載のＸ線発生装置の製造方法。   The method of manufacturing an X-ray generator according to claim 7, wherein the immersion treatment step is performed after the inside of the vacuum envelope is evacuated.
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