JP2012083517A - 液晶装置および投射型表示装置 - Google Patents

Abstract

【課題】所定の機能を担う遮光層を設けた場合でも、第１基板と第２基板との間に設けたシール材を第２基板からの光照射により確実に硬化させることができるととともに、当該遮光層が十分な機能を発揮する液晶装置、および投射型表示装置を提供すること。
【課題手段】液晶装置１００において、シール材１０７は、第１基板１０の画素領域１０ａより外側に形成されている。第２基板２０では、シール材１０７と画素領域１０ａとに挟まれた領域に、見切りとして機能する遮光層１０８が設けられている。シール材１０７と重なる領域には遮光性のシール内標示１９が設けられているが、かかるシール内標示１９は、第１基板１０側に設けられている。第２基板２０には、液晶装置１００の製品名等の属性を示す遮光性の標示が設けられているが、かかる遮光性の標示は、遮光層１０８が形成されている領域内に、遮光膜１０６によって遮光層内標示２９として設けられている。
【選択図】図９

Description

本発明は、一対の基板間に液晶が保持された液晶装置、および当該液晶装置をライトバルブとして用いた投射型表示装置に関するものである。

液晶装置は、一方面側に複数の画素電極が配列して構成される画素領域が設けられた第１基板と、共通電位が印加される共通電極が設けられた第２基板とがシール材によって貼り合わされ、第１基板と第２基板との間においてシール材で囲まれた領域内には液晶層が保持されている。かかる液晶装置は、直視型表示装置や投射型表示装置のライトバルブとして用いられている。なお、画素電極および共通電極の双方が第１基板に形成されることがある。

このような液晶装置を製造するにあたって、第１基板と第２基板との貼り合わせに光硬化性のシール材を用いた場合、シール材は、第１基板の側あるいは第２基板の側から照射された光を受けて硬化する。その際、光を照射する側の基板に遮光膜が形成されていると、シール材の硬化が妨げられるので、シール材から液晶層に不純物が溶出する等の問題が発生する。

そこで、第１基板に設けた遮光層に微少な抜き部分を設け、その干渉光でシール材を硬化させる技術が提案されている（特許文献１参照）。

また、第２基板に設けた遮光層に抜き部分を設け、抜き部分から漏れてきた光でシール材を硬化させる技術が提案されている（特許文献２、３参照）。

特開平１０−２６８３２６号公報 特開２００７−６５０３７号公報 特開２００７−３０４２７３号公報

しかしながら、特許文献１〜３に記載の技術のように、遮光層に設けた抜き部分を通過した光を利用してシール材を硬化させる構成では、シール材の硬化に必要な光量を十分に確保できないため、シール材を完全に硬化させるのが困難であるという問題点がある。また、特許文献１〜３に記載の技術のように、遮光層に設けた抜き部分を通過した光を利用してシール材を硬化させる構成では、抜き部分を透過する光量を確保するのに大きな抜き部分を設けた場合、導電層として利用される遮光層や、表示領域を規定する見切りとして利用される遮光層の機能が損なわれるという問題点がある。

以上の問題点に鑑みて、本発明の課題は、所定の機能を担う遮光層を設けた場合でも、第１基板と第２基板との間に設けたシール材を第２基板からの光照射により確実に硬化させることができるととともに、当該遮光層が十分な機能を発揮する液晶装置、および当該液晶装置を備えた投射型表示装置を提供することにある。

上記課題を解決するために、本発明に係る液晶装置は、一方面側に複数の画素電極が配列して構成される画素領域が設けられた第１基板と、該第１基板の一方面側に対向する透光性の第２基板と、前記画素領域より外側領域で前記第１基板と前記第２基板とを貼り合わせるシール材と、前記第１基板と前記第２基板との間において前記シール材により囲まれた領域に保持された液晶層と、前記第２基板の前記第１基板と対向する一方面側において前記画素領域と前記シール材とに挟まれた領域に設けられた遮光層と、前記第１基板の一方面側において前記シール材と重なる領域に前記第２基板側から視認可能に形成された遮光性のシール内標示と、を有することを特徴とする。

本発明において、シール材は、第１基板の画素領域より外側に形成されているとともに、第２基板では、シール材と画素領域とに挟まれた領域に、見切りとして機能する遮光層が設けられている。このため、シール材と第２基板側の遮光層とは重なっていない。また、シール材と重なる領域には遮光性のシール内標示が設けられているが、かかるシール内標示は、第１基板側に設けられている。このため、第１基板と第２基板との間に設けられたシール材に対して第２基板側から光照射を行ってシール材を硬化させる際、第２基板の側からシール材に向かう光が第２基板側の遮光層や第１基板側のシール内標示によって遮られることがない。それ故、所定の機能を担う遮光部分（第２基板側の遮光層や第１基板側のシール内標示）を設けた場合でも、第１基板と第２基板との間に設けたシール材を第２基板からの光照射により確実に硬化させることができる。また、第２基板側の遮光層や第１基板側のシール内標示に透光性の抜き部分を設ける必要がないので、遮光層やシール内標示は所定の機能を十分に果たす。

本発明では、前記第２基板の一方面側において前記遮光層が形成された領域内には、当該遮光層と反射率が相違する遮光膜により前記第２基板の他方面側から視認可能に形成された遮光層内標示が設けられていることが好ましい。本発明では、遮光層が形成された領域内に遮光層内標示を設けるが、遮光層内標示は、遮光層が形成された領域内において遮光層と反射率が相違する遮光膜からなる。このため、遮光層では光の漏れが発生しないので、遮光層は、見切りとしての機能を好適に果たす。

本発明の別の形態に係る液晶装置は、一方面側に複数の画素電極が配列して構成される画素領域が設けられた第１基板と、該第１基板の前記一方面側に対向する透光性の第２基板と、前記画素領域より外側領域で前記第１基板と前記第２基板とを貼り合わせたシール材と、前記第１基板と前記第２基板との間において前記シール材により囲まれた領域に保持された液晶層と、前記第２基板の前記第１基板と対向する一方面側において前記画素領域と前記シール材とに挟まれた領域に設けられた遮光層と、前記第２基板の一方面側において前記遮光層が形成された領域内に、当該遮光層と反射率が相違する遮光膜により前記第２基板の他方面側から視認可能に形成された遮光層内標示と、を有していることを特徴とする。

本発明において、シール材は、第１基板の画素領域より外側に形成されているとともに、第２基板では、シール材と画素領域とに挟まれた領域に、見切りとして機能する遮光層が設けられている。このため、シール材と第２基板側の遮光層とは重なっていない。このため、第１基板と第２基板との間に設けられたシール材に対して第２基板側から光照射を行ってシール材を硬化させる際、第２基板の側からシール材に向かう光が第２基板側の遮光層によって遮られることがない。また、遮光層には、遮光層と反射率が相違する遮光膜により遮光層内標示が構成されているため、遮光層には透光性の抜き部分が存在しない。このため、遮光層に遮光層内標示を設けた場合でも、遮光層での光の漏れが発生しない。

本発明において、前記シール内標示は、例えば、前記シール材の位置および前記シール材の幅寸法のうちの少なくとも一方を示すシール材認識用標示である。かかる構成によれば、シール材の位置およびシール材の幅寸法を確実に設定することができる。

本発明において、前記遮光層内標示は、例えば、液晶装置の属性を示すロゴタイプである。かかる構成によれば、ロゴタイプを確実に視認することができる。

本発明において、前記遮光層内標示は、該遮光層内標示と同一形状の抜き部分が部分的に設けられた前記遮光層の上層側に前記抜き部分を埋めるように前記遮光膜が形成されてなる構成を採用することができる。

本発明において、前記遮光層内標示は、例えば、該遮光層内標示と同一形状に設けられた前記遮光膜の上層側に前記遮光層が形成されてなる。

本発明に係る液晶装置は、例えば、投射型表示装置のライトバルブや直視型表示装置として用いられる。本発明に係る液晶装置を投射型表示装置に用いる場合、投射型表示装置には、前記液晶装置に供給される光を出射する光源部と、前記液晶装置によって変調された光を投射する投射光学系と、が設けられる。

本発明を適用した液晶装置の電気的構成を示すブロック図である。 本発明の実施の形態１に係る液晶装置に用いた液晶パネルの説明図である。 本発明の実施の形態１に係る液晶装置の画素の説明図である。 本発明の実施の形態１に係る液晶装置に用いた各基板の説明図である。 本発明の実施の形態１に係る液晶装置に設けたシール内標示の構成等を示す断面図である。 本発明の実施の形態１に係る液晶装置の製造工程を示す説明図である。 本発明の実施の形態２に係る液晶装置に用いた液晶パネルの説明図である。 本発明の実施の形態２に係る液晶装置に用いた各基板の説明図である。 本発明の実施の形態２に係る液晶装置に設けたシール内標示および遮光層内標示の構成等を示す断面図である。 本発明の実施の形態３に係る液晶装置に用いた液晶パネルの説明図である。 本発明の実施の形態３に係る液晶装置に用いた各基板の説明図である。 本発明の実施の形態３に係る液晶装置に設けた遮光層内標示の構成等を示す断面図である。 本発明の実施の形態２、３の変形例に係る液晶装置に設けた遮光層内標示の構成等を示す断面図である。 本発明を適用した液晶装置を用いた投射型表示装置の概略構成図である。

図面を参照して、本発明の実施の形態を説明する。なお、以下の説明で参照する図においては、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材毎に縮尺を異ならしめてある。

［実施の形態１］
（全体構成）
図１は、本発明を適用した液晶装置の電気的構成を示すブロック図である。図１において、液晶装置１００は、ＴＮ（Twisted Nematic）モードやＶＡ（Vertical Alignment）モードの液晶パネル１００ｐを有しており、液晶パネル１００ｐは、その中央領域に複数の画素１００ａがマトリクス状に配列された画素領域１０ａ（画像表示領域）を備えている。液晶パネル１００ｐにおいて、後述する第１基板１０（図２等を参照）では、画素領域１０ａの内側で複数本のデータ線６ａおよび複数本の走査線３ａが縦横に延びており、それらの交点に対応する位置に画素１００ａが構成されている。複数の画素１００ａの各々には、電界効果型トランジスターからなる画素トランジスター３０、および後述する画素電極９ａが形成されている。画素トランジスター３０のソースにはデータ線６ａが電気的に接続され、画素トランジスター３０のゲートには走査線３ａが電気的に接続され、画素トランジスター３０のドレインには、画素電極９ａが電気的に接続されている。

第１基板１０において、画素領域１０ａより外周側には走査線駆動回路１０４やデータ線駆動回路１０１が設けられている。データ線駆動回路１０１は各データ線６ａに電気的に接続しており、画像処理回路から供給される画像信号を各データ線６ａに順次供給する。走査線駆動回路１０４は、各走査線３ａに電気的に接続しており、走査信号を各走査線３ａに順次供給する。

各画素１００ａにおいて、画素電極９ａは、後述する第２基板２０（図２等を参照）に形成された共通電極と液晶層を介して対向し、液晶容量５０ａを構成している。また、各画素１００ａには、液晶容量５０ａで保持される画像信号の変動を防ぐために、液晶容量５０ａと並列に保持容量５５が付加されている。本形態では、保持容量５５を構成するために、複数の画素１００ａに跨って走査線３ａと並行して延びた容量線５ｂが形成されている。本形態において、容量線５ｂは、共通電位Ｖcomが印加された共通電位線５ｃに導通している。

（液晶パネル１００ｐおよび第１基板１０の構成）
図２は、本発明の実施の形態１に係る液晶装置１００に用いた液晶パネル１００ｐの説明図であり、図２（ａ）、（ｂ）は各々、本発明を適用した液晶装置１００の液晶パネル１００ｐを各構成要素と共に第２基板の側から見た平面図、およびそのＨ−Ｈ′断面図である。

図２（ａ）、（ｂ）に示すように、液晶パネル１００ｐでは、第１基板１０と第２基板２０とが所定の隙間を介してシール材１０７によって貼り合わされており、シール材１０７は第２基板２０の外縁に沿うように枠状に設けられている。シール材１０７は、光硬化樹脂や熱硬化性樹脂等からなる接着剤であり、両基板間の距離を所定値とするためのグラスファイバー、あるいはガラスビーズ等のギャップ材が配合されている。

かかる構成の液晶パネル１００ｐにおいて、第１基板１０および第２基板２０はいずれも四角形であり、液晶パネル１００ｐの略中央には、図１を参照して説明した画素領域１０ａが四角形の領域として設けられている。かかる形状に対応して、シール材１０７も略四角形に設けられ、シール材１０７の内周縁と画素領域１０ａの外周縁との間には、略四角形の周辺領域１０ｂが額縁状に設けられている。第１基板１０において、画素領域１０ａの外側では、第１基板１０の一辺に沿ってデータ線駆動回路１０１および複数の端子１０２が形成されており、この一辺に隣接する他の辺に沿って走査線駆動回路１０４が形成されている。なお、端子１０２には、フレキシブル配線基板（図示せず）が接続されており、第１基板１０には、フレキシブル配線基板を介して各種電位や各種信号が入力される。

詳しくは後述するが、第１基板１０の一方側の基板面において、画素領域１０ａには、図１を参照して説明した画素トランジスター３０、および画素トランジスター３０に電気的に接続する画素電極９ａがマトリクス状に形成されており、かかる画素電極９ａの上層側には配向膜１６が形成されている。

また、第１基板１０の一方側の基板面において、周辺領域１０ｂには、画素電極９ａと同時形成されたダミー画素電極９ｂ（図２（ｂ）参照）が形成されている。ダミー画素電極９ｂについては、ダミーの画素トランジスターと電気的に接続された構成、ダミーの画素トランジスターが設けられずに配線に直接、電気的に接続された構成、あるいは電位が印加されていないフロート状態にある構成が採用される。かかるダミー画素電極９ｂは、第１基板１０において配向膜１６が形成される面を研磨により平坦化する際、画素領域１０ａと周辺領域１０ｂとの高さ位置を圧縮し、配向膜１６が形成される面を平坦面にするのに寄与する。また、ダミー画素電極９ｂを所定の電位に設定すれば、画素領域１０ａの外周側端部での液晶分子の配向の乱れを防止することができる。

第２基板２０において第１基板１０と対向する一方面側には透光性の共通電極２１が形成されており、共通電極２１の上層には配向膜２６が形成されている。共通電極２１は、第２基板２０の略全面あるいは複数の帯状電極として複数の画素１００ａに跨って形成されている。また、第２基板２０において第１基板１０と対向する一方面側には、共通電極２１の下層側に遮光層１０８が形成されている。本形態において、遮光層１０８は、画素領域１０ａの外周縁に沿って延在する額縁状に形成されており、見切りとして機能する。ここで、遮光層１０８の外周縁は、シール材１０７の内周縁との間に隙間を隔てた位置にあり、遮光層１０８とシール材１０７とは重なっていない。なお、第２基板２０において、遮光層１０８は、隣り合う画素電極９ａにより挟まれた領域と重なる領域等にも形成されることがある。

このように構成した液晶パネル１００ｐにおいて、第１基板１０には、シール材１０７より外側において第２基板２０の角部分と重なる領域に、第１基板１０と第２基板２０との間で電気的導通をとるための基板間導通用電極１０９が形成されている。かかる基板間導通用電極１０９には、導電粒子を含んだ基板間導通材１０９ａが配置されており、第２基板２０の共通電極２１は、基板間導通材１０９ａおよび基板間導通用電極１０９を介して、第１基板１０側に電気的に接続されている。このため、共通電極２１は、第１基板１０の側から共通電位Ｖcomが印加されている。

シール材１０７は、略同一の幅寸法をもって第２基板２０の外周縁に沿って設けられている。このため、シール材１０７は、略四角形である。但し、シール材１０７は、第２基板２０の角部分と重なる領域では基板間導通用電極１０９を避けて内側を通るように設けられており、シール材１０７の角部分は略円弧状である。

ここで、シール材１０７の４つの辺部分の各々には、シール材１０７と重なるようにシール内標示１９が形成されている。かかるシール内標示１９の構成は、図４および図５を参照して後述する。

かかる構成の液晶装置１００において、画素電極９ａおよび共通電極２１を透光性導電膜により形成すると、透過型の液晶装置を構成することができる。これに対して、共通電極２１を透光性導電膜により形成し、画素電極９ａを反射性導電膜により形成すると、反射型の液晶装置を構成することができる。液晶装置１００が反射型である場合、第２基板２０の側から入射した光が第１基板１０の側の基板で反射して出射される間に変調されて画像を表示する。液晶装置１００が透過型である場合、第１基板１０および第２基板２０のうち、一方側の基板から入射した光が他方側の基板を透過して出射される間に変調されて画像を表示する。

液晶装置１００は、モバイルコンピューター、携帯電話機等といった電子機器のカラー表示装置として用いることができ、この場合、第２基板２０には、カラーフィルター（図示せず）や保護膜が形成される。また、液晶装置１００では、使用する液晶層５０の種類や、ノーマリホワイトモード／ノーマリブラックモードの別に応じて、偏光フィルム、位相差フィルム、偏光板等が液晶パネル１００ｐに対して所定の向きに配置される。さらに、液晶装置１００は、後述する投射型表示装置（液晶プロジェクター）において、ＲＧＢ用のライトバルブとして用いることができる。この場合、ＲＧＢ用の各液晶装置１００の各々には、ＲＧＢ色分解用のダイクロイックミラーを介して分解された各色の光が投射光として各々入射されることになるので、カラーフィルターは形成されない。

本形態において、液晶装置１００が、後述する投射型表示装置においてＲＧＢ用のライトバルブとして用いられる透過型の液晶装置であって、第２基板２０から入射した光が第１基板１０を透過して出射される場合を中心に説明する。また、本形態において、液晶装置１００は、液晶層５０として、誘電異方性が負のネマチック液晶化合物を用いたＶＡモードの液晶パネル１００ｐを備えている場合を中心に説明する。

（画素の具体的構成）
図３は、本発明の実施の形態１に係る液晶装置１００の画素の説明図であり、図３（ａ）、（ｂ）は各々、本発明を適用した液晶装置１００に用いた第１基板１０において隣り合う画素の平面図、および図３（ａ）のＦ−Ｆ′線に相当する位置で液晶装置１００を切断したときの断面図である。なお、図３（ａ）では、半導体層１ａは細くて短い点線で示し、走査線３ａは太い実線で示し、データ線６ａおよびそれと同時形成された薄膜は一点鎖線で示し、容量線５ｂは二点鎖線で示し、画素電極９ａは太くて長い破線で示し、下電極層４ａは細い実線で示してある。

図３（ａ）に示すように、第１基板１０上には、複数の画素１００ａの各々に矩形状の画素電極９ａが形成されており、各画素電極９ａの縦横の境界に各々沿ってデータ線６ａおよび走査線３ａが形成されている。データ線６ａおよび走査線３ａは各々、直線的に延びており、データ線６ａと走査線３ａとが交差する領域に画素トランジスター３０が形成されている。第１基板１０上には、走査線３ａと重なるように容量線５ｂが形成されている。本形態において、容量線５ｂは、走査線３ａと重なるように直線的に延びた主線部分と、データ線６ａと走査線３ａとの交差部分でデータ線６ａに重なるように延びた副線部分とを備えている。

図３（ａ）、（ｂ）に示すように、第１基板１０は、石英基板やガラス基板等の透光性の基板本体１０ｗの液晶層５０側の表面（一方面側）に形成された画素電極９ａ、画素スイッチング用の画素トランジスター３０、および配向膜１６を主体として構成されており、第２基板２０は、石英基板やガラス基板等の透光性の基板本体２０ｗ、その液晶層５０側の表面（第１基板１０と対向する一方面側）に形成された共通電極２１、および配向膜２６を主体として構成されている。

第１基板１０において、複数の画素１００ａの各々には、半導体層１ａを備えた画素トランジスター３０が形成されている。半導体層１ａは、走査線３ａの一部からなるゲート電極３ｃに対してゲート絶縁層２を介して対向するチャネル領域１ｇと、ソース領域１ｂと、ドレイン領域１ｃとを備えており、ソース領域１ｂおよびドレイン領域１ｃは各々、低濃度領域および高濃度領域を備えている。半導体層１ａは、例えば、基板本体１０ｗ上に、シリコン酸化膜等からなる透光性の下地絶縁膜１２上に形成された多結晶シリコン膜等によって構成され、ゲート絶縁層２は、ＣＶＤ法等により形成されたシリコン酸化膜やシリコン窒化膜からなる。また、ゲート絶縁層２は、半導体層１ａを熱酸化してなるシリコン酸化膜と、ＣＶＤ法等により形成されたシリコン酸化膜やシリコン窒化膜との２層構造を有する場合もある。走査線３ａには、導電性のポリシリコン膜、金属シリサイド膜、あるいは金属膜が用いられる。

走査線３ａの上層側にはシリコン酸化膜等からなる透光性の第１層間絶縁膜４１が形成されており、第１層間絶縁膜４１の上層には下電極層４ａが形成されている。下電極層４ａは、走査線３ａとデータ線６ａとの交差する位置を基点として走査線３ａおよびデータ線６ａに沿って延出する略Ｌ字型に形成されている。下電極層４ａは、導電性のポリシリコン膜、金属シリサイド膜、あるいは金属膜等からなり、コンタクトホール７ｃを介してドレイン領域１ｃに電気的に接続されている。

下電極層４ａの上層側には、シリコン窒化膜等からなる透光性の誘電体層４２が形成されている。誘電体層４２の上層側には、誘電体層４２を介して下電極層４ａと対向するように容量線５ｂ（上電極層）が形成され、かかる容量線５ｂ、誘電体層４２および下電極層４ａによって、保持容量５５が形成されている。容量線５ｂは、導電性のポリシリコン膜、金属シリサイド膜、あるいは金属膜等からなる。ここで、下電極層４ａ、誘電体層４２および容量線５ｂ（上電極層）は、画素トランジスター３０の上層側に形成され、画素トランジスター３０に対して平面視で重なっている。このため、保持容量５５は、画素トランジスター３０の上層側に形成され、少なくとも画素トランジスター３０に対して平面視で重なっている。

容量線５ｂの上層側には、シリコン酸化膜等からなる透光性の第２層間絶縁膜４３が形成され、第２層間絶縁膜４３の上層にはデータ線６ａおよびドレイン電極６ｂが形成されている。データ線６ａはコンタクトホール７ａを介してソース領域１ｂに電気的に接続している。ドレイン電極６ｂはコンタクトホール７ｂを介して下電極層４ａに電気的に接続し、下電極層４ａを介してドレイン領域１ｃに電気的に接続している。データ線６ａおよびドレイン電極６ｂは、導電性のポリシリコン膜、金属シリサイド膜、あるいは金属膜等からなる。

データ線６ａおよびドレイン電極６ｂの上層側には、シリコン酸化膜等からなる透光性の第３層間絶縁膜４４が形成されている。第３層間絶縁膜４４には、ドレイン電極６ｂへ通じるコンタクトホール７ｄが形成されている第３層間絶縁膜４４の上層には、金属酸化物層としてのＩＴＯ（Indium Tin Oxide）膜等の透光性導電膜からなる画素電極９ａが形成されており、画素電極９ａは、コンタクトホール７ｄを介してドレイン電極６ｂに電気的に接続されている。本形態において、第３層間絶縁膜４４の表面は平坦面になっている。

ここで、第３層間絶縁膜４４の表面には、図２（ｂ）を参照して説明したダミー画素電極９ｂ（図３には図示せず）が形成されており、かかるダミー画素電極９ｂは、画素電極９ａと同時形成された透光性導電膜からなる。

画素電極９ａの表面には配向膜１６が形成されている。配向膜１６は、ポリイミド等の樹脂膜、あるいはシリコン酸化膜等の斜方蒸着膜からなる。本形態において、配向膜１６は、ＳｉＯ_X（ｘ＜２）、ＳｉＯ₂、ＴｉＯ₂、ＭｇＯ、Ａｌ₂Ｏ₃、Ｉｎ₂Ｏ₃、Ｓｂ₂Ｏ₃、Ｔａ₂Ｏ₅等の斜方蒸着膜からなる無機配向膜（垂直配向膜）であり、配向膜１６と画素電極９ａとの層間にはシリコン酸化膜やシリコン窒化膜等の透光性の保護膜１７が形成されている。保護膜１７は、表面が平坦面になっており、画素電極９ａの間に形成された凹部を埋めている。従って、配向膜１６は、保護膜１７の平坦な表面に形成されている。

第２基板２０では、石英基板やガラス基板等の透光性の基板本体２０ｗの液晶層５０側の表面（第１基板１０に対向する側の面）に、ＩＴＯ膜等の透光性導電膜からなる共通電極２１が形成されており、かかる共通電極２１を覆うように配向膜２６が形成されている。配向膜２６は、配向膜１６と同様、ポリイミド等の樹脂膜、あるいはシリコン酸化膜等の斜方蒸着膜からなる。本形態において、配向膜２６は、ＳｉＯ_X（ｘ＜２）、ＳｉＯ₂、ＴｉＯ₂、ＭｇＯ、Ａｌ₂Ｏ₃、Ｉｎ₂Ｏ₃、Ｓｂ₂Ｏ₃、Ｔａ₂Ｏ₅等の斜方蒸着膜からなる無機配向膜（垂直配向膜）であり、配向膜２６と共通電極２１との層間にシリコン酸化膜やシリコン窒化膜等の保護膜２７が形成されている。保護膜２７は、表面が平坦面になっており、かかる平坦面上に配向膜２６が形成されている。かかる配向膜１６、２６は、液晶層５０に用いた誘電異方性が負のネマチック液晶化合物を垂直配向させ、液晶パネル１００ｐは、ノーマリブラックのＶＡモードとして動作する。

なお、図１および図２を参照して説明したデータ線駆動回路１０１および走査線駆動回路１０４には、Ｎチャネル型の駆動用トランジスターとＰチャネル型の駆動用トランジスターとを備えた相補型トランジスター回路等が構成されている。ここで、駆動用トランジスターは、画素トランジスター３０の製造工程の一部を利用して形成されたものである。このため、第１基板１０においてデータ線駆動回路１０１および走査線駆動回路１０４が形成されている領域も、図３（ｂ）に示す断面構成と略同様な断面構成を有している。

また、層間絶縁膜４４上には、図２に示す端子１０２が形成されており、かかる端子は、画素電極９ａを形成した後、あるいは画素電極９ａを形成する前に形成されたアルミニウム膜等の金属膜からなる。

（シール内標示１９等の構成）
図４は、本発明の実施の形態１に係る液晶装置１００に用いた各基板の説明図であり、図４（ａ）、（ｂ）は各々、第１基板を第２基板の側から見た平面図、および第２基板を第１基板が位置する側とは反対側（他方面側）から見た平面図である。図５は、本発明の実施の形態１に係る液晶装置１００に設けたシール内標示１９の構成等を示す断面図である。

図２、図４および図５に示すように、本形態の液晶装置１００は、第１基板１０と第２基板２０とは、画素領域１０ａを外側で囲むように枠状に形成されたシール材１０７で貼り合わされており、かかるシール材１０７と画素領域１０ａとの間に、見切りとして機能する額縁状の遮光層１０８が設けられている。本形態において、遮光層１０８は、第２基板２０の一方面側に形成された遮光膜からなり、かかる遮光膜としては、Ｔｉ（チタン）、Ｃｒ（クロム）、Ｗ（タングステン）、Ｔａ（タンタル）、Ｍｏ（モリブデン）、Ｐｄ（パラジウム）等の金属膜やそれらの金属化合物を例示することができる。また、遮光層１０８を構成する遮光膜としては、樹脂ブラックと称せられるカーボン含有樹脂を用いることができる。また、シール材１０７は、アクリル樹脂系、エポキシ樹脂系、アクリル変性樹脂系、エポキシ変性樹脂系等の光硬化性接着材（光硬化性接着材）からなり、シール材１０７は、図２（ｂ）に示すように、第２基板２０側から照射された光Ｌ0により硬化してなる。

また、本形態の液晶装置１００において、シール材１０７の４つの辺部分の各々には、シール材１０７と重なるようにシール内標示１９が形成されている。かかるシール内標示１９は、所定パターンに遮光材料を配置した構成を有しており、本形態において、シール内標示１９は、シール材１０７の延在方向に沿って延在するストライプ状の遮光膜１９ａと、遮光膜１９ａが形成されていないスペース部分１９ｂとが交互にシール材１０７の幅方向に複数組、配置された形態になっている。また、遮光膜１９ａおよびスペース部分１９ｂは、例えば５０μｍの幅寸法をもって形成されており、遮光膜１９ａおよびスペース部分１９ｂは１００μｍピッチで形成されている。また、シール内標示１９は、図４（ａ）および図５に示すように、第１基板１０の一方面側において少なくとも一部がシール材１０７と重なるように設けられている。このため、シール内標示１９は、シール材１０７の位置およびシール材１０７の幅寸法のうちの少なくとも一方を示すシール材認識用標示として機能する。本形態において、シール内標示１９は、シール材１０７の位置およびシール材１０７の幅寸法の双方を示すシール材認識用標示として機能する。

ここで、シール内標示１９は、図５に示すように、第１基板１０の第３層間絶縁膜４４の表面に端子１０２（図２参照）と同時形成されたアルミニウム膜からなり、シール内標示１９より上層側には遮光膜が存在しない。従って、シール内標示１９は、第２基板２０の側から視認可能である。

（液晶装置１００の製造方法）
図６は、本発明の実施の形態１に係る液晶装置１００の製造工程を示す説明図である。図１に示す液晶装置１００を製造するには、図２および図６に示すように、第１基板１０に対して画素電極９ａ等の形成工程Ｓ１を行った後、印刷法やスピンコート等により配向膜１６を形成する配向膜形成工程Ｓ２を行う。次に、配向膜１６がポリイミド樹脂膜からなる場合には、第１基板１０の配向膜１６に対するラビング工程Ｓ３を行う。

次に、第１基板１０にシール材１０７を塗布するシール印刷工程Ｓ４を行う。かかるシール材１０７の塗布は、ノズルからシール材を突出しながら、ノズルと第１基板１０とを相対移動させて、シール材１０７を矩形枠状に描画する。かかるシール材１０７の塗布が終了した後、シール材１０７とシール内標示１９（シール認識用標示）とを対比し、シール材１０７の位置およびシール材１０７の幅寸法が規格内か否かを検査する。なお、シール材１０７は、第２基板２０の側に塗布してもよく、この場合、シール材１０７の位置およびシール材１０７の幅寸法が規格内か否かの検査は、後述する重ね合わせ工程Ｓ２１の後に行う。

一方、第２基板２０に対しては、共通電極２１等の形成工程Ｓ１１を行った後、印刷法やスピンコート等により配向膜２６を形成する配向膜形成工程Ｓ１２を行う。次に、配向膜２６がポリイミド樹脂膜からなる場合には、第２基板２０の配向膜２６に対するラビング工程Ｓ１３を行う。

次に、重ね合わせ工程Ｓ２１においては、シール材１０７を間に挟んで第１基板１０と第２基板２０とを重ね合わせる。そして、再度、シール材１０７の幅寸法が規格内か否かを検査する。

次に、シール硬化工程Ｓ２２においてシール材１０７を硬化させる。かかるシール硬化工程では、図２（ｂ）に示すように、第２基板２０側からＵＶ光等の光Ｌ0を照射してシール材１０７を硬化させる。

次に、液晶封入工程Ｓ２３では、シール材１０７の途切れ部分からシール材１０７の内側に液晶を注入した後、途切れ部分を封止材１０５で封止する。なお、第１基板１０にシール材１０７を形成した後、シール材１０７の内側に液晶を滴下し、その後、シール材１０７を間に挟んで第１基板１０と第２基板２０とを重ね合わせた後、シール材１０７を硬化させることもある。かかる方法の場合、シール材１０７に対しては、途切れ部分や封止材１０５を設ける必要がない。

かかる方法により、液晶装置１００を製造する場合、第１基板１０および第２基板２０の一方あるいは双方に大型基板を用い、大型のパネル構造体を形成した後、単品サイズの液晶パネル１００ｐに切断することもある。

（本形態の主な効果）
以上説明したように、本形態の液晶装置１００において、シール材１０７は、第１基板１０の画素領域１０ａより外側に形成されているとともに、第２基板２０では、シール材１０７と画素領域１０ａとに挟まれた領域に、見切りとして機能する遮光層１０８が設けられている。このため、シール材１０７と第２基板２０側の遮光層１０８とは重なっていない。また、シール材１０７と重なる領域には遮光性のシール内標示１９が設けられているが、かかるシール内標示１９は、第１基板１０側に設けられている。このため、第１基板１０と第２基板２０との間に設けられたシール材１０７に対して第２基板２０側から光照射を行ってシール材１０７を硬化させる際、第２基板２０の側からシール材１０７に向かう光が第２基板２０側の遮光層１０８や第１基板１０側のシール内標示１９によって遮られることがない。それ故、液晶装置１００に所定の機能を担う遮光部分（第２基板２０側の遮光層１０８や第１基板１０側のシール内標示１９）を設けた場合でも、第１基板１０と第２基板２０との間に設けたシール材１０７を第２基板２０からの光照射により確実に硬化させることができる。また、第２基板２０側の遮光層１０８や第１基板１０側のシール内標示１９に透光性の抜き部分を設ける必要がないので、遮光層１０８やシール内標示１９は所定の機能を十分に果たす。

［実施の形態２］
図７は、本発明の実施の形態２に係る液晶装置１００に用いた液晶パネル１００ｐの説明図であり、図７（ａ）、（ｂ）は各々、本発明を適用した液晶装置１００の液晶パネル１００ｐを各構成要素と共に第２基板の側から見た平面図、およびそのＨ−Ｈ′断面図である。図８は、本発明の実施の形態２に係る液晶装置１００に用いた各基板の説明図であり、図８（ａ）、（ｂ）は各々、第１基板１０を第２基板２０の側から見た平面図、および第２基板２０を第１基板１０が位置する側とは反対側（他方面側）から見た平面図である。図９は、本発明の実施の形態２に係る液晶装置１００に設けたシール内標示１９および遮光層内標示の構成等を示す断面図である。なお、本形態の基本的な構成は実施の形態１と略同様であるため、共通する部分には同一の符号を付してそれらの説明を省略する。

図７および図８に示すように、本形態の液晶装置１００も、実施の形態１と同様、第１基板１０と第２基板２０とは、画素領域１０ａを外側で囲むように枠状に形成されたシール材１０７で貼り合わされており、かかるシール材１０７と画素領域１０ａとの間に見切りとして機能する額縁状の遮光層１０８が設けられている。本形態において、遮光層１０８は、第２基板２０の一方面側に形成された遮光膜からなり、かかる遮光膜としては、Ｔｉ（チタン）、Ｃｒ（クロム）、Ｗ（タングステン）、Ｔａ（タンタル）、Ｍｏ（モリブデン）、Ｐｄ（パラジウム）等の金属膜やそれらの金属化合物を例示することができる。また、遮光層１０８を構成する遮光膜としては、樹脂ブラックと称せられるカーボン含有樹脂を用いることができる。また、シール材１０７は、アクリル樹脂系、エポキシ樹脂系、アクリル変性樹脂系、エポキシ変性樹脂系等の光硬化性接着材（光硬化性接着材）からなり、シール材１０７は、図２（ｂ）に示すように、第２基板２０側から照射された光Ｌ0により硬化してなる。

また、本形態の液晶装置１００においても、実施の形態１と同様、シール材１０７の４つの辺部分の各々には、シール材１０７と重なるようにシール内標示１９が形成されている。かかるシール内標示１９は、所定パターンに遮光材料を配置した構成を有しており、本形態において、シール内標示１９は、シール材１０７の延在方向に沿って延在するストライプ状の遮光膜１９ａと、遮光膜１９ａが形成されていないスペース部分１９ｂが交互にシール材１０７の幅方向に配置された形態になっている。このため、シール内標示１９は、シール材１０７の位置およびシール材１０７の幅寸法のうちの少なくとも一方を示すシール材認識用標示として機能する。かかるシール内標示１９は、実施の形態１と同様、第１基板１０の一方面側において少なくとも一部がシール材１０７と重なるように設けられている。かかる構成のシール内標示１９は、図９に示すように、第１基板１０の第３層間絶縁膜４４の表面に端子１０２（図２参照）と同時形成されたアルミニウム膜からなり、シール内標示１９より上層側には遮光膜が存在しない。従って、シール内標示１９は、第２基板２０の側から視認可能である。

また、本形態の液晶装置１００では、遮光層１０８が形成されている領域内には遮光層内標示２９が形成されている。本形態において、遮光層内標示２９は、遮光層１０８の４つの辺部分の１つに形成されている。本形態において、遮光層内標示２９は、文字、数字、記号等が配列されたロゴタイプであり、液晶装置１００の製品名、品番、機種等といった属性を示している。

ここで、遮光層内標示２９は、第２基板２０の一方面側において、遮光層１０８と反射率が相違する遮光膜１０６により形成されており、第２基板２０において第１基板１０と対向する一方面側とは反対の他方面側から視認可能に形成されている。より具体的には、図９に示すように、遮光層内標示２９は、遮光層内標示２９と同一形状の抜き部分１０８ａが部分的に設けられた遮光層１０９の上層側に抜き部分１０８ａを埋めるように遮光膜１０６が形成されてなる。このため、遮光層１０８の形成領域内に遮光層内標示２９が形成されていても、遮光層１０８の遮光性が損なわれないので、遮光層１０８は光漏れのない見切りとして機能する。なお、遮光層１０９と遮光膜１０６との反射率を相違させるにあたっては、Ｔｉ（チタン）、Ｃｒ（クロム）、Ｗ（タングステン）、Ｔａ（タンタル）、Ｍｏ（モリブデン）、Ｐｄ（パラジウム）等の金属膜やそれらの金属化合物、カーボン含有樹脂等の遮光性材料のうち、反射率が相違する材料を任意に組み合わせて用いればよい。

以上説明したように、本形態の液晶装置１００において、シール材１０７は、第１基板１０の画素領域１０ａより外側に形成されているとともに、第２基板２０では、シール材１０７と画素領域１０ａとに挟まれた領域に、見切りとして機能する遮光層１０８が設けられている。このため、シール材１０７と第２基板２０側の遮光層１０８とは重なっていない。また、シール材１０７と重なる領域には遮光性のシール内標示１９が設けられているが、かかるシール内標示１９は、第１基板１０側に設けられている。さらに、第２基板２０には、液晶装置１００の製品名、品番、機種等といった属性を示す遮光性の標示が設けられているが、かかる遮光性の標示は、遮光層１０８が形成されている領域内に遮光層内標示２９として設けられている。このため、第１基板１０と第２基板２０との間に設けられたシール材１０７に対して第２基板２０側から光照射を行ってシール材１０７を硬化させる際、第２基板２０の側からシール材１０７に向かう光が第２基板２０側の遮光層１０８、第２基板２０側の遮光層内標示２９、第１基板１０側のシール内標示１９によって遮られることがない。それ故、液晶装置１００に所定の機能を担う遮光部分（第２基板２０側の遮光層１０８、第２基板２０側の遮光層内標示２９、第１基板１０側のシール内標示１９）を設けた場合でも、第１基板１０と第２基板２０との間に設けたシール材１０７を第２基板２０からの光照射により確実に硬化させることができる。また、第２基板２０側の遮光層１０８や第１基板１０側のシール内標示１９に透光性の抜き部分を設ける必要がないので、遮光層１０８やシール内標示１９は所定の機能を十分に果たす。

［実施の形態３］
図１０は、本発明の実施の形態３に係る液晶装置１００に用いた液晶パネル１００ｐの説明図であり、図１０（ａ）、（ｂ）は各々、本発明を適用した液晶装置１００の液晶パネル１００ｐを各構成要素と共に第２基板の側から見た平面図、およびそのＨ−Ｈ′断面図である。図１１は、本発明の実施の形態３に係る液晶装置１００に用いた各基板の説明図であり、図１１（ａ）、（ｂ）は各々、第１基板１０を第２基板２０の側から見た平面図、および第２基板２０を第１基板１０が位置する側とは反対側（他方面側）から見た平面図である。図１２は、本発明の実施の形態３に係る液晶装置１００に設けた遮光層内標示２９の構成等を示す断面図である。なお、本形態の基本的な構成は実施の形態１、２と略同様であるため、共通する部分には同一の符号を付してそれらの説明を省略する。

図１０および図１１に示すように、本形態の液晶装置１００も、実施の形態１と同様、第１基板１０と第２基板２０とは、画素領域１０ａを外側で囲むように枠状に形成されたシール材１０７で貼り合わされており、かかるシール材１０７と画素領域１０ａとの間には、見切りとして機能する額縁状の遮光層１０８が設けられている。本形態において、遮光層１０８は、第２基板２０の一方面側に形成された遮光膜からなり、かかる遮光膜としては、Ｔｉ（チタン）、Ｃｒ（クロム）、Ｗ（タングステン）、Ｔａ（タンタル）、Ｍｏ（モリブデン）、Ｐｄ（パラジウム）等の金属膜やそれらの金属化合物を例示することができる。また、遮光層１０８を構成する遮光膜としては、樹脂ブラックと称せられるカーボン含有樹脂を用いることができる。また、シール材１０７は、アクリル樹脂系、エポキシ樹脂系、アクリル変性樹脂系、エポキシ変性樹脂系等の光硬化性接着材（光硬化性接着材）からなり、シール材１０７は、図２（ｂ）に示すように、第２基板２０側から照射された光Ｌ0により硬化してなる。

また、本形態の液晶装置１００においても、実施の形態２と同様、遮光層１０８が形成されている領域内には遮光層内標示２９が形成されている。本形態において、遮光層内標示２９は、遮光層１０８の４つの辺部分の１つに形成されている。本形態において、遮光層内標示２９は、文字、数字、記号等が配列されたロゴタイプであり、液晶装置１００の製品名、品番、機種等といった属性を示している。

ここで、遮光層内標示２９は、第２基板２０の一方面側において、遮光層１０８と反射率が相違する遮光膜１０６により形成されており、第２基板２０において第１基板１０と対向する一方面側とは反対の他方面側から視認可能に形成されている。より具体的には、図１２に示すように、遮光層内標示２９は、遮光層内標示２９と同一形状の抜き部分１０８ａが部分的に設けられた遮光層１０９の上層側に抜き部分１０８ａを埋めるように遮光膜１０６が形成されてなる。このため、遮光層１０８の形成領域内に遮光層内標示２９が形成されていても、遮光層１０８の遮光性が損なわれないので、遮光層１０８は光漏れのない見切りとして機能する。なお、遮光層１０９と遮光膜１０６との反射率を相違させるにあたっては、Ｔｉ（チタン）、Ｃｒ（クロム）、Ｗ（タングステン）、Ｔａ（タンタル）、Ｍｏ（モリブデン）、Ｐｄ（パラジウム）等の金属膜やそれらの金属化合物、カーボン含有樹脂等の遮光性材料のうち、反射率が相違する材料を任意に組み合わせて用いればよい。

以上説明したように、本形態の液晶装置１００において、シール材１０７は、第１基板１０の画素領域１０ａより外側に形成されているとともに、第２基板２０では、シール材１０７と画素領域１０ａとに挟まれた領域に、見切りとして機能する遮光層１０８が設けられている。このため、シール材１０７と第２基板２０側の遮光層１０８とは重なっていない。また、第２基板２０には、液晶装置１００の製品名、品番、機種等といった属性を示す遮光性の標示が設けられているが、かかる遮光性の標示は、遮光層１０８が形成されている領域内に遮光層内標示２９として設けられている。このため、第１基板１０と第２基板２０との間に設けられたシール材１０７に対して第２基板２０側から光照射を行ってシール材１０７を硬化させる際、第２基板２０の側からシール材１０７に向かう光が第２基板２０側の遮光層１０８や、第２基板２０側の遮光層内標示２９によって遮られることがない。それ故、液晶装置１００に所定の機能を担う遮光部分（第２基板２０側の遮光層１０８、第２基板２０側の遮光層内標示２９）を設けた場合でも、第１基板１０と第２基板２０との間に設けたシール材１０７を第２基板２０からの光照射により確実に硬化させることができる。また、第２基板２０側の遮光層１０８に透光性の抜き部分を設ける必要がないので、遮光層１０８は所定の機能を十分に果たす。

［実施の形態２、３の変形例］
図１３は、本発明の実施の形態２、３の変形例に係る液晶装置１００に設けた遮光層内標示２９の構成等を示す断面図である。なお、本形態の基本的な構成は実施の形態１、２と略同様であるため、共通する部分には同一の符号を付してそれらの説明を省略する。

上記実施の形態２、３では、遮光層内標示２９（ロゴタイプ）を構成するにあたって、遮光層内標示２９と同一形状の抜き部分１０８ａが部分的に設けられた遮光層１０９の上層側に遮光膜１０６が形成した。これに対して、本形態では、遮光層内標示２９（ロゴタイプ）と同一形状にパターニング形成された遮光膜１０６の上層に遮光層１０９が形成されている。本形態でも遮光膜１０６と遮光層１０９とは反射率が相違する遮光膜からなる。

かかる構成を採用した場合も、実施の形態２、３と同様、遮光層１０８の形成領域内に遮光層内標示２９が形成されていても、遮光層１０８の遮光性が損なわれないので、遮光層１０８は光漏れのない見切りとして機能する。

［実施の形態１、２の変形例］
上記実施の形態１、２では、シール内標示１９（シール材認識用標示）を構成するにあたって、第３層間絶縁膜４４の表面に形成されたアルミニウム膜を用いたが、第２基板２０の側から視認可能であれば、第３層間絶縁膜４４より下層側に形成された配線と同時形成された金属膜等を用いてもよい。また、シール内標示１９（シール材認識用標示）については、アルミニウム膜に限らず、他の遮光膜を利用してもよい。

［他の実施の形態］
上記実施の形態では、透過型の液晶装置１００を例示したが、反射型の液晶装置１００に本発明を適用してもよく、この場合、画素電極９ａに用いた反射性導電膜によって、シール内標示１９（シール材認識用標示）を形成してもよい。

［電子機器への搭載例］
上述した実施形態に係る液晶装置１００を適用した電子機器について説明する。図１４は、本発明を適用した液晶装置１００を用いた投射型表示装置の概略構成図であり、図１４（ａ）、（ｂ）は各々、透過型の液晶装置１００を用いた投射型表示装置の説明図、および反射型の液晶装置１００を用いた投射型表示装置の説明図である。

（投射型表示装置の第１例）
図１４（ａ）に示す投射型表示装置１１０は、観察者側に設けられたスクリーン１１１に光を照射し、このスクリーン１１１で反射した光を観察する、いわゆる投影型の投射型表示装置である。投射型表示装置１１０は、光源１１２を備えた光源部１３０と、ダイクロイックミラー１１３、１１４と、液晶ライトバルブ１１５〜１１７（液晶装置１００）と、投射光学系１１８と、クロスダイクロイックプリズム１１９と、リレー系１２０とを備えている。

光源１１２は、赤色光、緑色光及び青色光を含む光を供給する超高圧水銀ランプで構成されている。ダイクロイックミラー１１３は、光源１１２からの赤色光を透過させると共に緑色光及び青色光を反射する構成となっている。また、ダイクロイックミラー１１４は、ダイクロイックミラー１１３で反射された緑色光及び青色光のうち青色光を透過させると共に緑色光を反射する構成となっている。このように、ダイクロイックミラー１１３、１１４は、光源１１２から出射した光を赤色光と緑色光と青色光とに分離する色分離光学系を構成する。

ここで、ダイクロイックミラー１１３と光源１１２との間には、インテグレーター１２１及び偏光変換素子１２２が光源１１２から順に配置されている。インテグレーター１２１は、光源１１２から照射された光の照度分布を均一化する構成となっている。また、偏光変換素子１２２は、光源１１２からの光を例えばｓ偏光のような特定の振動方向を有する偏光にする構成となっている。

液晶ライトバルブ１１５は、ダイクロイックミラー１１３を透過して反射ミラー１２３で反射した赤色光を画像信号に応じて変調する透過型の液晶装置１００である。液晶ライトバルブ１１５は、λ／２位相差板１１５ａ、第１偏光板１１５ｂ、液晶パネル１１５ｃ及び第２偏光板１１５ｄを備えている。ここで、液晶ライトバルブ１１５に入射する赤色光は、ダイクロイックミラー１１３を透過しても光の偏光は変化しないことから、ｓ偏光のままである。

λ／２位相差板１１５ａは、液晶ライトバルブ１１５に入射したｓ偏光をｐ偏光に変換する光学素子である。また、第１偏光板１１５ｂは、ｓ偏光を遮断してｐ偏光を透過させる偏光板である。そして、液晶パネル１１５ｃは、ｐ偏光を画像信号に応じた変調によってｓ偏光（中間調であれば円偏光又は楕円偏光）に変換する構成となっている。さらに、第２偏光板１１５ｄは、ｐ偏光を遮断してｓ偏光を透過させる偏光板である。したがって、液晶ライトバルブ１１５は、画像信号に応じて赤色光を変調し、変調した赤色光をクロスダイクロイックプリズム１１９に向けて射出する構成となっている。

なお、λ／２位相差板１１５ａ及び第１偏光板１１５ｂは、偏光を変換させない透光性のガラス板１１５ｅに接した状態で配置されており、λ／２位相差板１１５ａ及び第１偏光板１１５ｂが発熱によって歪むのを回避することができる。

液晶ライトバルブ１１６は、ダイクロイックミラー１１３で反射した後にダイクロイックミラー１１４で反射した緑色光を画像信号に応じて変調する透過型の液晶装置１００である。そして、液晶ライトバルブ１１６は、液晶ライトバルブ１１５と同様に、第１偏光板１１６ｂ、液晶パネル１１６ｃ及び第２偏光板１１６ｄを備えている。液晶ライトバルブ１１６に入射する緑色光は、ダイクロイックミラー１１３、１１４で反射されて入射するｓ偏光である。第１偏光板１１６ｂは、ｐ偏光を遮断してｓ偏光を透過させる偏光板である。また、液晶パネル１１６ｃは、ｓ偏光を画像信号に応じた変調によってｐ偏光（中間調であれば円偏光又は楕円偏光）に変換する構成となっている。そして、第２偏光板１１６ｄは、ｓ偏光を遮断してｐ偏光を透過させる偏光板である。したがって、液晶ライトバルブ１１６は、画像信号に応じて緑色光を変調し、変調した緑色光をクロスダイクロイックプリズム１１９に向けて射出する構成となっている。

液晶ライトバルブ１１７は、ダイクロイックミラー１１３で反射し、ダイクロイックミラー１１４を透過した後でリレー系１２０を経た青色光を画像信号に応じて変調する透過型の液晶装置１００である。そして、液晶ライトバルブ１１７は、液晶ライトバルブ１１５、１１６と同様に、λ／２位相差板１１７ａ、第１偏光板１１７ｂ、液晶パネル１１７ｃ及び第２偏光板１１７ｄを備えている。ここで、液晶ライトバルブ１１７に入射する青色光は、ダイクロイックミラー１１３で反射してダイクロイックミラー１１４を透過した後にリレー系１２０の後述する２つの反射ミラー１２５ａ、１２５ｂで反射することから、ｓ偏光となっている。

λ／２位相差板１１７ａは、液晶ライトバルブ１１７に入射したｓ偏光をｐ偏光に変換する光学素子である。また、第１偏光板１１７ｂは、ｓ偏光を遮断してｐ偏光を透過させる偏光板である。そして、液晶パネル１１７ｃは、ｐ偏光を画像信号に応じた変調によってｓ偏光（中間調であれば円偏光又は楕円偏光）に変換する構成となっている。さらに、第２偏光板１１７ｄは、ｐ偏光を遮断してｓ偏光を透過させる偏光板である。したがって、液晶ライトバルブ１１７は、画像信号に応じて青色光を変調し、変調した青色光をクロスダイクロイックプリズム１１９に向けて射出する構成となっている。なお、λ／２位相差板１１７ａ及び第１偏光板１１７ｂは、ガラス板１１７ｅに接した状態で配置されている。

リレー系１２０は、リレーレンズ１２４ａ、１２４ｂと反射ミラー１２５ａ、１２５ｂとを備えている。リレーレンズ１２４ａ、１２４ｂは、青色光の光路が長いことによる光損失を防止するために設けられている。ここで、リレーレンズ１２４ａは、ダイクロイックミラー１１４と反射ミラー１２５ａとの間に配置されている。また、リレーレンズ１２４ｂは、反射ミラー１２５ａ、１２５ｂの間に配置されている。反射ミラー１２５ａは、ダイクロイックミラー１１４を透過してリレーレンズ１２４ａから出射した青色光をリレーレンズ１２４ｂに向けて反射するように配置されている。また、反射ミラー１２５ｂは、リレーレンズ１２４ｂから出射した青色光を液晶ライトバルブ１１７に向けて反射するように配置されている。

クロスダイクロイックプリズム１１９は、２つのダイクロイック膜１１９ａ、１１９ｂをＸ字型に直交配置した色合成光学系である。ダイクロイック膜１１９ａは青色光を反射して緑色光を透過する膜であり、ダイクロイック膜１１９ｂは赤色光を反射して緑色光を透過する膜である。したがって、クロスダイクロイックプリズム１１９は、液晶ライトバルブ１１５〜１１７のそれぞれで変調された赤色光と緑色光と青色光とを合成し、投射光学系１１８に向けて射出するように構成されている。

なお、液晶ライトバルブ１１５、１１７からクロスダイクロイックプリズム１１９に入射する光はｓ偏光であり、液晶ライトバルブ１１６からクロスダイクロイックプリズム１１９に入射する光はｐ偏光である。このようにクロスダイクロイックプリズム１１９に入射する光を異なる種類の偏光としていることで、クロスダイクロイックプリズム１１９において各液晶ライトバルブ１１５〜１１７から入射する光を合成できる。ここで、一般に、ダイクロイック膜１１９ａ、１１９ｂはｓ偏光の反射特性に優れている。このため、ダイクロイック膜１１９ａ、１１９ｂで反射される赤色光及び青色光をｓ偏光とし、ダイクロイック膜１１９ａ、１１９ｂを透過する緑色光をｐ偏光としている。投射光学系１１８は、投影レンズ（図示略）を有しており、クロスダイクロイックプリズム１１９で合成された光をスクリーン１１１に投射するように構成されている。

（投射型表示装置の第２例）
図１４（ｂ）に示す投射型表示装置１０００において、光源部８９０は、システム光軸Ｌに沿って光源８１０、インテグレーターレンズ８２０および偏光変換素子８３０が配置された偏光照明装置８００を有している。また、光源部８９０は、システム光軸Ｌに沿って、偏光照明装置８００から出射されたＳ偏光光束をＳ偏光光束反射面８４１により反射させる偏光ビームスプリッター８４０と、偏光ビームスプリッター８４０のＳ偏光光束反射面８４１から反射された光のうち、青色光（Ｂ）の成分を分離するダイクロイックミラー８４２と、青色光が分離された後の光束のうち、赤色光（Ｒ）の成分を反射させて分離するダイクロイックミラー８４３とを有している。

また、投射型表示装置１０００は、各色光が入射する３つの反射型の液晶装置１００（液晶装置１００Ｒ、１００Ｇ、１００Ｂ）を備えており、光源部８９０は、３つの液晶装置１００（液晶装置１００Ｒ、１００Ｇ、１００Ｂ）に所定の色光を供給する。

かかる投射型表示装置１０００においては、３つの液晶装置１００Ｒ、１００Ｇ、１００Ｂにて変調された光をダイクロイックミラー８４２、８４３、および偏光ビームスプリッター８４０にて合成した後、この合成光を投射光学系８５０によってスクリーン８６０等の被投射部材に投射する。

（他の投射型表示装置）
なお、投射型表示装置については、光源部として、各色の光を出射するＬＥＤ光源等を用い、かかるＬＥＤ光源から出射された色光を各々、別の液晶装置に供給するように構成してもよい。

（他の電子機器）
本発明を適用した液晶装置１００については、上記の電子機器の他にも、携帯電話機、情報携帯端末（ＰＤＡ：Personal Digital Assistants）、デジタルカメラ、液晶テレビ、カーナビゲーション装置、テレビ電話、ＰＯＳ端末、タッチパネルを備えた機器等の電子機器において直視型表示装置として用いてもよい。

９ａ・・画素電極、９ｂ・・ダミー画素電極、１０・・第１基板、１０ａ・・画素領域、１９・・シール内標示、２０・・第２基板、２１・・共通電極、２９・・遮光層内標示、５０・・液晶層、１０６・・遮光膜、１０７・・シール材、１０８・・遮光層、１１０、１０００・・投射型表示装置

Claims (8)

1. 一方面側に複数の画素電極が配列して構成される画素領域が設けられた第１基板と、
   該第１基板の一方面側に対向する透光性の第２基板と、
   前記画素領域より外側領域で前記第１基板と前記第２基板とを貼り合わせるシール材と、
   前記第１基板と前記第２基板との間において前記シール材により囲まれた領域に保持された液晶層と、
   前記第２基板の前記第１基板と対向する一方面側において前記画素領域と前記シール材とに挟まれた領域に設けられた遮光層と、
   前記第１基板の一方面側において前記シール材と重なる領域に、前記第２基板側から視認可能に形成された遮光性のシール内標示と、
   を有することを特徴とする液晶装置。
2. 前記第２基板の一方面側において前記遮光層が形成された領域内には、当該遮光層と反射率が相違する遮光膜により前記第２基板の他方面側から視認可能に形成された遮光層内標示が設けられていることを特徴とする請求項１に記載の液晶装置。
3. 一方面側に画素電極が配列する画素領域が設けられた第１基板と、
   該第１基板の前記一方面側に対向する透光性の第２基板と、
   前記画素領域より外側領域で前記第１基板と前記第２基板とを貼り合わせたシール材と、
   前記第１基板と前記第２基板との間において前記シール材により囲まれた領域に保持された液晶層と、
   前記第２基板の前記第１基板と対向する一方面側において前記画素領域と前記シール材とに挟まれた領域に設けられた遮光層と、
   前記第２基板の一方面側において前記遮光層が形成された領域内に、当該遮光層と反射率が相違する遮光膜により前記第２基板の他方面側から視認可能に形成された遮光層内標示と、
   を有していることを特徴とする液晶装置。
4. 前記シール内標示は、前記シール材の位置および前記シール材の幅寸法のうちの少なくとも一方を示すシール材認識用標示であることを特徴とする請求項１または２に記載の液晶装置。
5. 前記遮光層内標示は、液晶装置の属性を示すロゴタイプであることを特徴とする請求項２または３に記載の液晶装置。
6. 前記遮光層内標示は、該遮光層内標示と同一形状の抜き部分が部分的に設けられた前記遮光層の上層側に前記抜き部分を埋めるように前記遮光膜が形成されてなることを特徴とする請求項２、３または５に記載の液晶装置。
7. 前記遮光層内標示は、該遮光層内標示と同一形状に設けられた前記遮光膜の上層側に前記遮光層が形成されてなることを特徴とする請求項２、３または５に記載の液晶装置。
8. 請求項１乃至７の何れか一項に記載の液晶装置を備えた投射型表示装置であって、
   前記液晶装置に供給される光を出射する光源部と、
   前記液晶装置によって変調された光を投射する投射光学系と、
   を有していることを特徴とする投射型表示装置。