JP2012080054A - 面発光型半導体レーザ及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】半導体基板と、この半導体基板の上方に形成された下部ミラー層と、この下部ミラー層の上方に形成された活性層と、この活性層の上方に形成された酸化層を含む上部ミラー層と、が積層され、高さ方向における所定の位置から上面にかけて一部がメサ型に形成された共振器と、上記共振器のメサ型箇所の側面と、当該共振器の非メサ型箇所の上面と、を覆う絶縁層と、上記上部ミラー層の上面と、上記半導体基板の下面と、にそれぞれ配線された各電極と、を備える。そして、上記共振器の上記メサ型箇所の側面に形成された上記絶縁層の一部の厚みが、当該メサ型箇所の高さ方向に沿って一様に、他の箇所よりも厚く形成されている。
【選択図】図2
Description
上記半導体基板と、この半導体基板の上方に形成された下部ミラー層と、この下部ミラー層の上方に形成された活性層と、この活性層の上方に形成された酸化層を含む上部ミラー層と、が積層され、高さ方向における所定の位置から上面にかけて一部がメサ型に形成された共振器と、
上記共振器のメサ型箇所の側面と、当該共振器の非メサ型箇所の上面と、を覆う絶縁層と、
上記上部ミラー層の上面と、上記半導体基板の下面と、にそれぞれ配線された各電極と、を備え、
上記共振器の上記メサ型箇所の側面に形成された上記絶縁層の一部の厚みが、当該メサ型箇所の高さ方向に沿って一様に、他の箇所よりも厚く形成されている、
という構成をとる。
上記共振器の上記メサ型箇所の側面に形成された上記絶縁層のうち、当該共振器の上記メサ型箇所の中心を通り相互に直交する4方向のうちの特定の方向に位置する箇所の厚みが、他の方向に位置する箇所よりも厚く形成されている、
という構成をとる。
上記共振器の上記メサ型箇所の側面に形成された上記絶縁層は、所定の高さ位置における外周と内周とが偏心して形成されている、
という構成をとる。
上記共振器の前記メサ型箇所の側面に形成された上記絶縁層のうち、他の箇所よりも厚みが厚く形成された箇所の厚みが、上記非メサ型箇所の表面に形成された上記絶縁層よりも厚く形成されている、
という構成をとる。
上記半導体基板の上方に、下部ミラー層と、活性層となる層と、酸化層となる層を含む上部ミラー層と、を順に積層して、その高さ方向における所定の位置から上面にかけて一部がメサ型となるようその周囲を除去し、上記活性層と上記酸化層とを形成して共振器を形成する工程と、
上記共振器のメサ型箇所の側面と、当該共振器の非メサ型箇所の上面と、を覆う絶縁層を形成する工程と、
上記上部ミラー層の上面と、上記半導体基板の下面と、にそれぞれ配線された各電極を形成する工程と、を有し、
上記絶縁層を形成する工程は、上記共振器の前記メサ型箇所の側面を覆う上記絶縁層の一部の厚みが、当該メサ型箇所の高さ方向に沿って一様に、他の箇所よりも厚く形成する、
という構成をとる。
上記半導体基板の上方に、下部ミラー層と、活性層となる層と、酸化層となる層を含む上部ミラー層と、を順に積層して、その高さ方向における所定の位置から上面にかけて一部がメサ型となるようその周囲を除去し、上記活性層と上記酸化層とを形成して共振器を形成する工程と、
上記共振器のメサ型箇所の側面と、当該共振器の非メサ型箇所の上面と、を覆う絶縁層を形成する工程と、
上記上部ミラー層の上面と、上記半導体基板の下面と、にそれぞれ配線された各電極を形成する工程と、を有し、
上記絶縁層を形成する工程は、上記共振器の上記メサ型箇所が形成された後に、当該共振器の積層面を蒸着材料面あるいはターゲット面に対して非平行に配置した状態で蒸着あるいはスパッタリングを行うことにより、上記絶縁層を形成する、
という構成をとる。
本発明の第1の実施形態を、図1乃至図12を参照して説明する。図1乃至図3は、面発光型半導体レーザの構成を示す図であり、図4は、その効果を説明するための図である。図5は、面発光型半導体レーザの製造方法を示すフローチャートであり、図6乃至図12は、面発光型半導体レーザの各製造工程を示す図である。
本実施形態における面発光型半導体レーザ1は、半導体基板11の基板面に対して垂直方向にレーザ光Lを出射するものである。その構成を、図1乃至図3を参照して説明する。なお、図1は、面発光半導体レーザ1の上面図であり、図2は図1のA−A’断面図、図3は図1のB−B’断面図を示している。
次に、上述した構成の面発光型半導体レーザ1の製造方法を、図5のフローチャート、及び、図6乃至図11の各工程の様子を示す図を参照して説明する。
次に、本発明の第2の実施形態を、図13乃至図16を参照して説明する。図13乃至図14は、本実施形態における面発光型半導体レーザの構成を示す側方断面図である。図15乃至図16は、本実施形態における面発光型半導体レーザの変形例の構成を示す側方断面図である。
10A 平面部
10B メサ型部
11 半導体基板
12 下部ミラー層
13 活性層
13’ 活性領域
14 上部ミラー層
15 AlAs層
15’ 酸化層
16A 平面絶縁層
16B 側面絶縁層
17A 下部電極
17B 上部電極
17C 電極パッド
Claims (9)
- 半導体基板の基板面に対して垂直な方向にレーザ光を出射する面発光型半導体レーザであって、
前記半導体基板と、この半導体基板の上方に形成された下部ミラー層と、この下部ミラー層の上方に形成された活性層と、この活性層の上方に形成された酸化層を含む上部ミラー層と、が積層され、高さ方向における所定の位置から上面にかけて一部がメサ型に形成された共振器と、
前記共振器のメサ型箇所の側面と、当該共振器の非メサ型箇所の上面と、を覆う絶縁層と、
前記上部ミラー層の上面と、前記半導体基板の下面と、にそれぞれ配線された各電極と、を備え、
前記共振器の前記メサ型箇所の側面に形成された前記絶縁層の一部の厚みが、当該メサ型箇所の高さ方向に沿って一様に、他の箇所よりも厚く形成されている、
面発光型半導体レーザ。 - 請求項1に記載の面発光型半導体レーザであって、
前記共振器の前記メサ型箇所の側面に形成された前記絶縁層のうち、当該共振器の前記メサ型箇所の中心を通り相互に直交する4方向のうちの特定の方向に位置する箇所の厚みが、他の方向に位置する箇所よりも厚く形成されている、
面発光型半導体レーザ。 - 請求項1又は2に記載の面発光型半導体レーザであって、
前記共振器の前記メサ型箇所の側面に形成された前記絶縁層は、所定の高さ位置における外周と内周とが偏心して形成されている、
面発光型半導体レーザ。 - 請求項1乃至3のいずれかに記載の面発光型半導体レーザであって、
前記共振器の前記メサ型箇所の側面に形成された前記絶縁層のうち、他の箇所よりも厚みが厚く形成された箇所の厚みが、前記非メサ型箇所の表面に形成された前記絶縁層よりも厚く形成されている、
面発光型半導体レーザ。 - 請求項1乃至4のいずれかに記載の面発光型半導体レーザであって、
前記共振器の前記メサ型箇所は、少なくとも前記活性層を含んで形成されている、
面発光型半導体レーザ。 - 請求項5に記載の面発光型半導体レーザであって、
前記共振器の前記メサ型箇所は、前記下部ミラー層と前記半導体基板の一部とを含んで形成されている、
面発光型半導体レーザ。 - 請求項1乃至6のいずれかに記載の面発光型半導体レーザであって、
前記絶縁層は、前記共振器の前記メサ型箇所が形成された後に、当該共振器の積層面が蒸着材料面あるいはターゲット面に対して非平行に配置された状態で蒸着あるいはスパッタリングが行われたことにより形成されたものである、
面発光型半導体レーザ。 - 半導体基板の基板面に対して垂直な方向にレーザ光を出射する面発光型半導体レーザを製造する方法であって、
前記半導体基板の上方に、下部ミラー層と、活性層となる層と、酸化層となる層を含む上部ミラー層と、を順に積層して、その高さ方向における所定の位置から上面にかけて一部がメサ型となるようその周囲を除去し、前記活性層と前記酸化層とを形成して共振器を形成する工程と、
前記共振器のメサ型箇所の側面と、当該共振器の非メサ型箇所の上面と、を覆う絶縁層を形成する工程と、
前記上部ミラー層の上面と、前記半導体基板の下面と、にそれぞれ配線された各電極を形成する工程と、を有し、
前記絶縁層を形成する工程は、前記共振器の前記メサ型箇所の側面を覆う前記絶縁層の一部の厚みが、当該メサ型箇所の高さ方向に沿って一様に、他の箇所よりも厚く形成する、
面発光型半導体レーザの製造方法。 - 半導体基板の基板面に対して垂直な方向にレーザ光を出射する面発光型半導体レーザを製造する方法であって、
前記半導体基板の上方に、下部ミラー層と、活性層となる層と、酸化層となる層を含む上部ミラー層と、を順に積層して、その高さ方向における所定の位置から上面にかけて一部がメサ型となるようその周囲を除去し、前記活性層と前記酸化層とを形成して共振器を形成する工程と、
前記共振器のメサ型箇所の側面と、当該共振器の非メサ型箇所の上面と、を覆う絶縁層を形成する工程と、
前記上部ミラー層の上面と、前記半導体基板の下面と、にそれぞれ配線された各電極を形成する工程と、を有し、
前記絶縁層を形成する工程は、前記共振器の前記メサ型箇所が形成された後に、当該共振器の積層面を蒸着材料面あるいはターゲット面に対して非平行に配置した状態で蒸着あるいはスパッタリングを行うことにより、前記絶縁層を形成する、
面発光型半導体レーザの製造方法。
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