JP2012074496A - 真空処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】被処理基板をロック室に搬送する大気搬送装置を収容した大気搬送室106と、第1の真空処理装置を備え、前記ロック室にある被処理基板を前記第1の処理装置に搬入、搬出する第1の搬送装置を備えた第1の真空搬送室104と、第2の真空処理装置を備え、処理基板を前記第2の処理装置に搬入、搬出する第2の搬送装置を備えた第2の真空搬送室111と、第1の真空搬送室と第2の真空搬送室の間で被処理基板を受け渡しするための搬送中継室112と、前記第1および第2の真空搬送室にガスを供給するとともに、前記処理室、第1および第2の真空搬送室、および搬送中継室のガスを排気するガス供給系を備え、前記真空搬送室のガス圧は、真空処理室および搬送中継室よりも高く設定する。
【選択図】図1
Description
102 真空側ブロック
103 真空処理装置
104 真空搬送室
105 ロック装置
106 筐体
107 カセット台
108 真空搬送ロボット
109 真空搬送ロボット
110 大気搬送ロボット
111 真空搬送室
112 真空搬送中継室
120 バルブ
121 ドライポンプ
122 バルブ
123 配管
124 パージライン
125 未処理ウエハ
126 処理済みウエハ
201 アーム
202 アーム
Claims (4)
- 大気雰囲気中で被処理基板をロック室に搬送する大気搬送装置を収容した大気搬送室と、
第1の真空処理装置を備え、前記ロック室にある被処理基板を前記第1の処理装置に搬入し、処理の終了した被処理基板を搬出する第1の真空搬送装置を備えた第1の真空搬送室と、
第2の真空処理装置を備え、処理基板を前記第2の処理装置に搬入し、処理の終了した被処理基板を搬出する第2の真空搬送装置を収容した第2の真空搬送室と、
第1の真空搬送室と第2の真空搬送室を接続するとともに第1の真空搬送装置と第2の搬送装置間で被処理基板を受け渡しするための載置台を備えた搬送中継室と、
前記第1および第2の真空搬送室にガスを供給するとともに、前記処理室、第1および第2の真空搬送室、および搬送中継室のガスを排気するガス供給系を備え、
前記真空搬送室のガス圧は、真空処理室および搬送中継室よりも高く設定することを特徴とする真空処理装置。 - 請求項1記載の真空処理装置において、
第一の真空搬送装置が備える真空処理装置の数は第2の真空搬送装置が備える真空処理装置の数よりも小であることを特徴とする真空処理装置。 - 大気雰囲気中で被処理基板をロック室に搬送する大気搬送装置を収容した大気搬送室と、
第1の真空処理装置を備え、前記ロック室にある被処理基板を前記第1の処理装置に搬入し、処理の終了した被処理基板を搬出する第1の真空搬送装置を備えた第1の真空搬送室と、
第2の真空処理装置を備え、処理基板を前記第2の処理装置に搬入し、処理の終了した被処理基板を搬出する第2の真空搬送装置を収容した第2の真空搬送室と、
第1の真空搬送室と第2の真空搬送室を接続するとともに第1の真空搬送装置と第2の搬送装置間で被処理基板を受け渡しするための載置台を備えた搬送中継室と、
前記処理室、第1および第2の真空搬送室、および搬送中継室のガスを排気するガス排気系と、装置全体を制御する制御装置を備えた真空処理装置の運転方法において、
前記制御装置は、前記真空搬送室のガス圧を、真空処理室および搬送中継室よりも高く設定するとともに、
真空処理室とこれが連結された他の真空搬送室との間を区画するバルブを開放する前に、前記真空処理室と他の真空処理室が連通しないように、それぞれの真空処理室のウエハが搬送される通路上に配置されたゲートを開閉するバルブの閉塞の確認を指令して、これが確認された後に前記真空処理室を密封しているバルブを開放することを特徴とする真空処理装置の運転方法。 - 請求項3記載の真空処理装置において、
第一の真空搬送装置が備える真空処理装置の数は第2の真空搬送装置が備える真空処理装置の数よりも小であることを特徴とする真空処理装置の運転方法。
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