JP2012074495A - Semiconductor device - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor device which can improve reliability of packaging though heat stress is applied by approximating a thermal expansion coefficient of the semiconductor device with a thermal expansion coefficient of a mounting board.SOLUTION: A semiconductor device 20 comprises a lead frame 10 including a die pad 15 and a plurality of lead parts 16 disposed around the die pad 15, a semiconductor element 21 loaded on the die pad 15 of the lead frame 10, and bonding wires 22 electrically connecting the lead parts 16 of the lead frame 10 with the semiconductor element 21. The lead frame 10, the semiconductor element 21 and the bonding wires 22 are encapsulated by an encapsulation resin part 23. The encapsulation resin part 23 has the semiconductor element 21, a central region 24 provided around the semiconductor element 21 and a peripheral region 25 provided on the circumference ot the central region 24. A thickness of the central region 24 is thicker than a thickness of the peripheral region 25.

Description

本発明は、半導体装置に係り、とりわけ実装信頼性を向上させることが可能な半導体装置に関する。   The present invention relates to a semiconductor device, and more particularly to a semiconductor device capable of improving mounting reliability.

近年、半導体装置は、高集積化や小型化技術の進歩、電子機器の高性能化と軽薄短小化の傾向から、LSIのASICに代表されるように、ますます高集積化、高機能化が進んできている。このように高集積化、高機能化された半導体装置においては、外部端子(ピン)の総和の増加や更なる多端子(ピン)化が要請されている。   In recent years, semiconductor devices have been increasingly integrated and highly functional, as represented by LSI ASICs, due to advances in high integration and miniaturization technologies, and the trend toward higher performance and lighter and shorter electronic devices. It is going on. In such highly integrated and highly functional semiconductor devices, it is required to increase the total sum of external terminals (pins) and further increase the number of terminals (pins).

このような半導体装置としては、リードフレームにICチップ、LSIチップなどの半導体チップが搭載され、絶縁性樹脂で封止された構造をもつ半導体パッケージがある。このような半導体装置としては、QFN(Quad Flat Non-leaded package)やSON(Small Outline Non-leaded Package)などの薄型で実装面積の小さいタイプのものが知られている。また半田ボールをパッケージの外部端子として備えた表面実装型パッケージであるBGA(Ball Grid Array)と呼ばれる樹脂封止型の半導体装置が量産されている。さらに、BGAの半田ボールに代えてマトリックス状の平面電極からなる外部端子が設けられた表面実装型パッケージとして、LGA(Land Grid Array)と呼ばれる半導体装置が存在する。   As such a semiconductor device, there is a semiconductor package having a structure in which a semiconductor chip such as an IC chip or an LSI chip is mounted on a lead frame and sealed with an insulating resin. As such a semiconductor device, a thin type device having a small mounting area such as a quad flat non-leaded package (QFN) or a small outline non-leaded package (SON) is known. Also, a resin-encapsulated semiconductor device called a BGA (Ball Grid Array), which is a surface mount package having solder balls as external terminals of the package, is mass-produced. Furthermore, there is a semiconductor device called an LGA (Land Grid Array) as a surface mount package provided with external terminals made of matrix-like planar electrodes in place of BGA solder balls.

このような従来の半導体装置として、例えば特許文献1および特許文献2に記載されたものが知られている。   As such a conventional semiconductor device, for example, those described in Patent Document 1 and Patent Document 2 are known.

特許文献1には、リードフレーム外形を円形状にすると共にリードを中央部のダイパッドから放射状に拡げた半導体集積回路装置が開示されている。この特許文献1によれば、ガルウイングリードパッケージとしては高い実装信頼性を得られるが、近年求められているパッケージの薄型化や小型化に対応できていない。   Patent Document 1 discloses a semiconductor integrated circuit device in which a lead frame has a circular outer shape and leads are radially expanded from a central die pad. According to this Patent Document 1, high mounting reliability can be obtained as a gull wing lead package, but it cannot cope with the reduction in thickness and size of a package that has been required in recent years.

また、特許文献2には、チップを6角形以上の多角形(又は円形)にしたものが記載されている。特許文献2によれば、チップを6角形以上の多角形(又は円形)にしているが、このような多角形や円形のチップを製作することは難しいと考えられる。   Patent Document 2 describes a chip having a hexagon or more polygon (or a circle). According to Patent Document 2, the chip is a hexagon or more polygon (or a circle), but it is considered difficult to manufacture such a polygon or a circle.

特開平8−227964号公報JP-A-8-227964 特開平8−138988号公報Japanese Patent Laid-Open No. 8-138898

ところで、近年、例えばリードフレームタイプの小型の半導体装置(QFN、SON、LGA等)において、その実装信頼性を更に向上させることが求められている。とりわけ、半導体装置の熱膨張係数を実装基板の熱膨張係数に近づけることにより、例えば自動車等の高温環境下で使用されて半導体装置に熱ストレスが加わった際の実装信頼性を更に向上させることが望まれている。   Incidentally, in recent years, for example, lead frame type small semiconductor devices (QFN, SON, LGA, etc.) have been required to further improve their mounting reliability. In particular, by making the thermal expansion coefficient of the semiconductor device closer to the thermal expansion coefficient of the mounting substrate, it is possible to further improve the mounting reliability when the semiconductor device is subjected to thermal stress by being used in a high temperature environment such as an automobile. It is desired.

本発明はこのような点を考慮してなされたものであり、半導体装置の熱膨張係数を実装基板の熱膨張係数に近づけることにより、熱ストレスが加わった際の信頼性を向上させることが可能な半導体装置を提供することを目的とする。   The present invention has been made in consideration of such points, and by making the thermal expansion coefficient of the semiconductor device close to the thermal expansion coefficient of the mounting substrate, it is possible to improve the reliability when thermal stress is applied. An object of the present invention is to provide a simple semiconductor device.

本発明は、ダイパッドとダイパッド周囲に配置された複数のリード部とを有するリードフレームと、リードフレームのダイパッド上に載置された半導体素子と、リードフレームのリード部と半導体素子とを電気的に接続する導電部と、リードフレーム、半導体素子、および導電部を封止する封止樹脂部とを備え、封止樹脂部は、半導体素子および半導体素子周囲に設けられた中央領域と、中央領域周縁に位置する周縁領域とを有し、中央領域の厚みは、周縁領域の厚みより厚いことを特徴とする半導体装置である。   The present invention relates to a lead frame having a die pad and a plurality of lead portions arranged around the die pad, a semiconductor element placed on the die pad of the lead frame, and a lead portion of the lead frame and the semiconductor element electrically A conductive portion to be connected; a lead frame; a semiconductor element; and a sealing resin portion for sealing the conductive portion. The sealing resin portion includes a central area provided around the semiconductor element and the semiconductor element, and a peripheral edge of the central area. The semiconductor device is characterized in that the thickness of the central region is larger than the thickness of the peripheral region.

本発明は、各リード部は、ダイパッドから外方へ放射状に延びる帯形状を有するとともに、それぞれ外方へ露出する外部端子を有し、複数のリード部の外部端子は、平面から見て少なくとも1つの円周上に配置されていることを特徴とする半導体装置である。   According to the present invention, each lead portion has a strip shape extending radially outward from the die pad and has an external terminal exposed outward, and the external terminals of the plurality of lead portions are at least one when viewed from a plane. The semiconductor device is arranged on two circumferences.

本発明は、各リード部は2つの外部端子を有し、一方の外部端子は、各リード部の表面側に設けられた上部端子からなり、他方の外部端子は、各リード部の裏面側に設けられた下部端子からなることを特徴とする半導体装置である。   According to the present invention, each lead part has two external terminals, one external terminal is composed of an upper terminal provided on the front side of each lead part, and the other external terminal is on the back side of each lead part. A semiconductor device comprising a lower terminal provided.

本発明は、各リード部の内部端子と下部端子との間に、段部が形成されていることを特徴とする半導体装置である。   The present invention is a semiconductor device characterized in that a step portion is formed between an internal terminal and a lower terminal of each lead portion.

本発明は、少なくとも1つのリード部の上部端子に、はんだボールが設けられていることを特徴とする半導体装置である。   The present invention is a semiconductor device characterized in that a solder ball is provided on an upper terminal of at least one lead portion.

本発明は、少なくとも1つのリード部の上部端子に、放熱フィンが搭載されていることを特徴とする半導体装置である。   The present invention is a semiconductor device characterized in that a radiation fin is mounted on an upper terminal of at least one lead portion.

本発明は、少なくとも1つのリード部の上部端子に、電子部品が搭載されていることを特徴とする半導体装置である。   The present invention is a semiconductor device in which an electronic component is mounted on an upper terminal of at least one lead portion.

本発明は、封止樹脂部の周縁領域において、各リード部が表面側に露出していることを特徴とする半導体装置である。   The present invention is a semiconductor device characterized in that each lead portion is exposed to the surface side in the peripheral region of the sealing resin portion.

本発明は、封止樹脂部の中央領域は、截頭円錐状、円柱状、多角柱状、截頭多角錐状、またはドーム状の形状からなることを特徴とする半導体装置である。   The present invention is the semiconductor device characterized in that the central region of the sealing resin portion has a truncated cone shape, a columnar shape, a polygonal column shape, a truncated polygonal pyramid shape, or a dome shape.

本発明は、ダイパッドは、表面側から見て円形状となっていることを特徴とする半導体装置である。   The present invention is the semiconductor device characterized in that the die pad has a circular shape when viewed from the surface side.

本発明は、ダイパッドは、裏面側から見て円形状となっていることを特徴とする半導体装置である。   The present invention is the semiconductor device characterized in that the die pad has a circular shape when viewed from the back side.

本発明は、ダイパッドの表面の形状と裏面の形状とが互いに異なることを特徴とする半導体装置である。   The present invention is a semiconductor device characterized in that the shape of the front surface and the shape of the back surface of the die pad are different from each other.

本発明は、ダイパッドに、外部端子を有する吊りリードが連結されていることを特徴とする半導体装置である。   The present invention is a semiconductor device characterized in that a suspension lead having an external terminal is connected to a die pad.

本発明は、吊りリードの表面および裏面に、それぞれ封止樹脂部が入り込む凹部が形成され、吊りリードの表面の凹部と裏面の凹部との配置位置は、平面から見て相違することを特徴とする半導体装置である。   The present invention is characterized in that a recess into which the sealing resin portion enters is formed on the front surface and the back surface of the suspension lead, respectively, and the arrangement positions of the recesses on the surface and the back surface of the suspension lead are different from each other when viewed from the plane. It is a semiconductor device.

本発明は、ダイパッドの裏面は、封止樹脂部の外方に露出していることを特徴とする半導体装置である。   The present invention is the semiconductor device characterized in that the back surface of the die pad is exposed to the outside of the sealing resin portion.

本発明は、ダイパッドの裏面は、封止樹脂部の外方に露出しないことを特徴とする半導体装置である。   The present invention is the semiconductor device characterized in that the back surface of the die pad is not exposed to the outside of the sealing resin portion.

本発明は、ダイパッドの表面は、各リード部の表面より裏面側に位置することを特徴とする半導体装置である。   The present invention is the semiconductor device characterized in that the surface of the die pad is positioned on the back side from the surface of each lead portion.

本発明は、ダイパッドの表面周縁に沿ってフランジが設けられていることを特徴とする半導体装置である。   The present invention is a semiconductor device characterized in that a flange is provided along the surface periphery of the die pad.

本発明によれば、封止樹脂部の中央領域の厚みを周縁領域より厚くすることにより、周縁領域の厚みを薄くし、熱膨張係数が相対的に低い封止樹脂部の体積を減らしている。このことにより、半導体装置全体の熱膨張係数を実装基板の熱膨張係数に近づけることができ、半導体装置を実装する際あるいは半導体装置を実装した後、半導体装置に熱が加わった際における、半導体装置の信頼性を向上させることができる。   According to the present invention, by making the thickness of the central region of the sealing resin portion thicker than the peripheral region, the thickness of the peripheral region is reduced and the volume of the sealing resin portion having a relatively low thermal expansion coefficient is reduced. . As a result, the thermal expansion coefficient of the entire semiconductor device can be brought close to the thermal expansion coefficient of the mounting substrate, and the semiconductor device when the semiconductor device is heated when the semiconductor device is mounted or after the semiconductor device is mounted. Reliability can be improved.

本発明の一実施の形態による半導体装置を示す斜視図。1 is a perspective view showing a semiconductor device according to an embodiment of the present invention. 本発明の一実施の形態による半導体装置を示す断面図(図1のII−II線断面図)。Sectional drawing which shows the semiconductor device by one embodiment of this invention (II-II sectional view taken on the line of FIG. 1). 本発明の一実施の形態による半導体装置を示す平面図であって、リード部の表面より上側の部分を省略して示す図。FIG. 3 is a plan view showing the semiconductor device according to the embodiment of the present invention, in which a portion above the surface of the lead portion is omitted. 本発明の一実施の形態による半導体装置を示す裏面図。1 is a back view showing a semiconductor device according to an embodiment of the present invention. 本発明の一実施の形態による半導体装置を示す断面図。1 is a cross-sectional view illustrating a semiconductor device according to an embodiment of the present invention. 本発明の一実施の形態による半導体装置を示す断面図。1 is a cross-sectional view illustrating a semiconductor device according to an embodiment of the present invention. リードフレームの製造方法を示す断面図。Sectional drawing which shows the manufacturing method of a lead frame. 半導体装置の製造方法を示す断面図。Sectional drawing which shows the manufacturing method of a semiconductor device. 本発明の一実施の形態による半導体装置が実装基板上に実装されている状態を示す断面図。Sectional drawing which shows the state in which the semiconductor device by one embodiment of this invention is mounted on the mounting board | substrate. 本発明の変形例による半導体装置を示す斜視図。The perspective view which shows the semiconductor device by the modification of this invention. 本発明の変形例による半導体装置を示す断面図(図10のXI−XI線断面図)。Sectional drawing which shows the semiconductor device by the modification of this invention (XI-XI sectional view taken on the line of FIG. 10). 本発明の変形例による半導体装置を示す斜視図。The perspective view which shows the semiconductor device by the modification of this invention. 本発明の変形例による半導体装置を示す断面図(図12のXIII−XIII線断面図)。Sectional drawing which shows the semiconductor device by the modification of this invention (XIII-XIII sectional view taken on the line of FIG. 12). 本発明の変形例による半導体装置を示す斜視図。The perspective view which shows the semiconductor device by the modification of this invention. 本発明の変形例による半導体装置を示す断面図(図14のXV−XV線断面図)。Sectional drawing which shows the semiconductor device by the modification of this invention (XV-XV sectional view taken on the line of FIG. 14). 本発明の変形例による半導体装置を示す斜視図。The perspective view which shows the semiconductor device by the modification of this invention. 本発明の変形例による半導体装置を示す断面図(図16のXVII−XVII線断面図)。Sectional drawing which shows the semiconductor device by the modification of this invention (XVII-XVII sectional view taken on the line of FIG. 16). 本発明の変形例による半導体装置を示す斜視図。The perspective view which shows the semiconductor device by the modification of this invention. 本発明の変形例による半導体装置を示す断面図(図18のXIX−XIX線断面図)。Sectional drawing which shows the semiconductor device by the modification of this invention (XIX-XIX sectional view taken on the line of FIG. 18). 本発明の変形例による半導体装置を示す断面図。Sectional drawing which shows the semiconductor device by the modification of this invention. 本発明の変形例による半導体装置を示す断面図。Sectional drawing which shows the semiconductor device by the modification of this invention. 本発明の変形例による半導体装置を示す平面図であって、リード部の表面より上側の部分を省略して示す図。FIG. 9 is a plan view showing a semiconductor device according to a modification of the present invention, in which a portion above the surface of the lead portion is omitted. 本発明の変形例による半導体装置を示す平面図であって、リード部の表面より上側の部分を省略して示す図。FIG. 9 is a plan view showing a semiconductor device according to a modification of the present invention, in which a portion above the surface of the lead portion is omitted. 本発明の変形例による半導体装置を示す平面図であって、リード部の表面より上側の部分を省略して示す図。FIG. 9 is a plan view showing a semiconductor device according to a modification of the present invention, in which a portion above the surface of the lead portion is omitted. 吊りリードの変形例を示す平面図。The top view which shows the modification of a suspension lead. 本発明の変形例による半導体装置を示す断面図。Sectional drawing which shows the semiconductor device by the modification of this invention. 本発明の変形例による半導体装置を示す断面図。Sectional drawing which shows the semiconductor device by the modification of this invention. 本発明の変形例による半導体装置を示す断面図。Sectional drawing which shows the semiconductor device by the modification of this invention. 本発明の変形例による半導体装置を示す断面図。Sectional drawing which shows the semiconductor device by the modification of this invention. 本発明の変形例による半導体装置を示す断面図。Sectional drawing which shows the semiconductor device by the modification of this invention. 本発明の変形例による半導体装置を示す断面図。Sectional drawing which shows the semiconductor device by the modification of this invention. 本発明の変形例による半導体装置を示す断面図。Sectional drawing which shows the semiconductor device by the modification of this invention.

以下、本発明の一実施の形態について、図1乃至図9を参照して説明する。   Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.

半導体装置の構成
まず、図1乃至図6により、本発明の一実施の形態について説明する。図1乃至図6は、本発明の一実施の形態による半導体装置を示す図である。なお、図1においては、便宜上、リード部の本数を実際より少なく表示している(図10、図12、図14、図16、および図18についても同様)。
Configuration of Semiconductor Device First, an embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 6 are diagrams showing a semiconductor device according to an embodiment of the present invention. In FIG. 1, for the sake of convenience, the number of lead portions is less than the actual number (the same applies to FIGS. 10, 12, 14, 16, and 18).

図1乃至図4に示すように、半導体装置20は、ダイパッド15とダイパッド15の周囲に配置された複数のリード部16とを有するリードフレーム10と、リードフレーム10のダイパッド15上に載置された半導体素子21と、リードフレーム10のリード部16と半導体素子21とを電気的に接続する複数のボンディングワイヤ(導電部)22とを備えている。また、リードフレーム10、半導体素子21、およびボンディングワイヤ22は、封止樹脂部23によって樹脂封止されている。なお、半導体装置20は、平面から見て矩形形状を有している。   As shown in FIGS. 1 to 4, the semiconductor device 20 is mounted on a lead frame 10 having a die pad 15 and a plurality of lead portions 16 arranged around the die pad 15, and the die pad 15 of the lead frame 10. The semiconductor element 21 and a plurality of bonding wires (conductive parts) 22 that electrically connect the lead part 16 of the lead frame 10 and the semiconductor element 21 are provided. Further, the lead frame 10, the semiconductor element 21, and the bonding wire 22 are resin-sealed by a sealing resin portion 23. The semiconductor device 20 has a rectangular shape when viewed from the plane.

封止樹脂部23は、半導体素子21および半導体素子21周囲に設けられた中央領域24と、中央領域24周縁に位置する周縁領域25とを有している。このうち、中央領域24は、周縁領域25から見て表面側に突出しており、中央領域24の厚みは、周縁領域25の厚みより厚くなっている。一方、周縁領域25の表面は、各リード部16の表面16aと同一平面上にある。すなわち周縁領域25において、各リード部16が表面側に露出している。このように封止樹脂部23は、全体としてハット状(帽子状)に形成されている。   The sealing resin portion 23 has a semiconductor element 21, a central region 24 provided around the semiconductor element 21, and a peripheral region 25 located on the periphery of the central region 24. Among these, the central region 24 projects to the surface side when viewed from the peripheral region 25, and the thickness of the central region 24 is thicker than the peripheral region 25. On the other hand, the surface of the peripheral region 25 is on the same plane as the surface 16 a of each lead portion 16. That is, in the peripheral region 25, each lead portion 16 is exposed on the surface side. Thus, the sealing resin part 23 is formed in a hat shape (cap shape) as a whole.

また、図1に示すように、封止樹脂部23の中央領域24は、截頭円錐状からなっている。すなわち中央領域24の表面(上面)は平坦面となっており、中央領域24の側面は傾斜したテーパー形状となっている。このように中央領域24の側面をテーパー形状とすることにより、中央領域24と周縁領域25との間に生じる熱膨張係数が徐々に変化していくため、中央領域24と周縁領域25との間で熱膨張係数が急激に変化することを緩和することができる。なお、封止樹脂部23としては、シリコーン樹脂やエポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂、あるいはPPS樹脂等の熱可塑性樹脂を用いることができる。   Moreover, as shown in FIG. 1, the center area | region 24 of the sealing resin part 23 consists of frustoconical shape. That is, the surface (upper surface) of the central region 24 is a flat surface, and the side surface of the central region 24 has an inclined tapered shape. Since the side surface of the central region 24 is tapered as described above, the coefficient of thermal expansion generated between the central region 24 and the peripheral region 25 gradually changes. Thus, it is possible to mitigate the rapid change of the thermal expansion coefficient. As the sealing resin portion 23, a thermosetting resin such as a silicone resin or an epoxy resin, or a thermoplastic resin such as a PPS resin can be used.

一方、リードフレーム10は、全体として銅、銅合金、42合金(Ni42%のFe合金)等の金属材料からなっている。リードフレーム10のダイパッド15およびリード部16は、上述した金属材料からなる1枚の金属基板を用いて、例えばエッチング加工により各々形成されたものである。   On the other hand, the lead frame 10 is made of a metal material such as copper, copper alloy, 42 alloy (Ni 42% Fe alloy) as a whole. The die pad 15 and the lead portion 16 of the lead frame 10 are each formed by, for example, etching processing using one metal substrate made of the above-described metal material.

図1および図4に示すように、ダイパッド15は、表面側から見て円形状となるとともに、裏面側から見ても円形状となっている。また、図2に示すように、ダイパッド15の裏面15bは、その全体が封止樹脂部23の外方に露出している。一方、ダイパッド15の表面15aは、半導体素子21の載置面となっており、封止樹脂部23の中央領域24内に完全に覆われている。   As shown in FIGS. 1 and 4, the die pad 15 has a circular shape when viewed from the front surface side, and also has a circular shape when viewed from the back surface side. As shown in FIG. 2, the entire back surface 15 b of the die pad 15 is exposed outside the sealing resin portion 23. On the other hand, the surface 15 a of the die pad 15 is a mounting surface of the semiconductor element 21 and is completely covered in the central region 24 of the sealing resin portion 23.

また、各リード部16は、ダイパッド15から外方へ向けて放射状に延びる帯形状を有しており、隣接するリード部16同士は互いに電気的に絶縁されている。また、各リード部16は、ボンディングワイヤ22が接続される内部端子17と、内部端子17の周方向外側に設けられ、それぞれ外方へ露出する外部端子18とを有している。この場合、各リード部16は、それぞれ外部端子18を2つ有している。すなわち各リード部16は、各リード部16の表面側に設けられた上部端子18aと、各リード部16の裏面側に設けられた下部端子18bとを有している。   Each lead portion 16 has a strip shape extending radially outward from the die pad 15, and the adjacent lead portions 16 are electrically insulated from each other. Each lead portion 16 has an internal terminal 17 to which the bonding wire 22 is connected, and an external terminal 18 provided on the outer side in the circumferential direction of the internal terminal 17 and exposed to the outside. In this case, each lead portion 16 has two external terminals 18. That is, each lead portion 16 has an upper terminal 18 a provided on the front surface side of each lead portion 16 and a lower terminal 18 b provided on the back surface side of each lead portion 16.

図5および図6に示すように、これら各外部端子18(上部端子18aおよび下部端子18b)には、それぞれはんだボール41を設けることができる。図5は、上部端子18a上にはんだボール41を設けた例を示しており、図6は、下部端子18b上にはんだボール41を設けた例を示している。なお、図5のように、上部端子18a上にはんだボール41を設ける場合、各はんだボール41の高さは、中央領域24の高さ(リード部16の表面16aからの高さ)より高くすることが好ましい。本実施の形態において、上述したように、封止樹脂部23の中央領域24の厚みが、周縁領域25の厚みより厚くなっている。これにより、はんだボール41を周縁領域25上の上部端子18aに設けることができ、この結果、はんだボール41を含めた半導体装置20全体の厚みを薄くすることができる。   As shown in FIGS. 5 and 6, each of the external terminals 18 (upper terminal 18 a and lower terminal 18 b) can be provided with a solder ball 41. FIG. 5 shows an example in which the solder ball 41 is provided on the upper terminal 18a, and FIG. 6 shows an example in which the solder ball 41 is provided on the lower terminal 18b. As shown in FIG. 5, when the solder balls 41 are provided on the upper terminals 18a, the height of each solder ball 41 is higher than the height of the central region 24 (the height from the surface 16a of the lead portion 16). It is preferable. In the present embodiment, as described above, the thickness of the central region 24 of the sealing resin portion 23 is larger than the thickness of the peripheral region 25. Thereby, the solder ball 41 can be provided on the upper terminal 18 a on the peripheral region 25, and as a result, the thickness of the entire semiconductor device 20 including the solder ball 41 can be reduced.

また、図3および図4に示すように、複数のリード部16の外部端子18(上部端子18aおよび下部端子18b)は、平面から見て円周上に配置されている。すなわち図3に示すように、各上部端子18aは、2つの円周CおよびCのうちいずれか一方の円周上に配置されており、かつ複数の上部端子18aは千鳥状に配列されている。円周CおよびCは、互いに同心円の関係にあり、その径は円周Cの方が大きい。なお、多数の上部端子18aをより密に配置するため、各上部端子18aの形状は、それぞれ円周CおよびCの中心に近づくにつれて幅が狭くなる形状とすることが好ましい。このような上部端子18aの形状としては、例えば図3のような台形形状を挙げることができる。また、同様の理由により、内側の円周Cに配置される上部端子18aの大きさが、外側の円周Cに配置される上部端子18aの大きさよりも小さいことが好ましい。 As shown in FIGS. 3 and 4, the external terminals 18 (upper terminals 18 a and lower terminals 18 b) of the plurality of lead portions 16 are arranged on the circumference as viewed from above. That is, as shown in FIG. 3, the upper terminal 18a, of the two circumference C 1 and C 2 are arranged on one of the circumference, and a plurality of upper terminals 18a are arranged in a staggered manner ing. Circumference C 1 and C 2 are in a concentric relationship with each other, their diameter is larger circumference C 1. In order to arrange a plurality of upper terminal 18a more densely, the shape of each upper terminal 18a is preferably wide as each approach the center of the circle C 1 and C 2 is the narrows shape. Examples of the shape of the upper terminal 18a include a trapezoidal shape as shown in FIG. For the same reason, the size of the upper terminal 18a disposed on the inner side of the circumference C 2 is preferably smaller than the size of the upper terminal 18a disposed on the outside of the circumference C 1.

同様に、図4に示す半導体装置20の裏面において、各下部端子18bは、2つの円周CおよびCのうちいずれか一方の円周上に配置されており、複数の下部端子18bは千鳥状に配列されている。また円周CおよびCは、互いに同心円の関係にあり、その径は円周Cの方が大きい。各下部端子18bの形状についても同様に、それぞれ円周CおよびCの中心に近づくにつれて幅が狭くなる形状とすることが好ましく、内側の円周Cに配置される下部端子18bの大きさが、外側の円周Cに配置される下部端子18bの大きさよりも小さいことが好ましい。なお、外部端子18(上部端子18aおよび下部端子18b)の配置位置はこれに限られるものでなく、例えば、外部端子18(上部端子18aおよび下部端子18b)を1つまたは3つ以上の円周上に配置することも考えられる。 Similarly, the back surface of the semiconductor device 20 shown in FIG. 4, the lower terminal 18b, of the two circumferential C 3 and C 4 are arranged on either on the circumference, a plurality of lower terminal 18b is Arranged in a staggered pattern. Further, the circumferences C 3 and C 4 are concentric with each other, and the diameter of the circumference C 3 is larger. Similarly, the shape of each lower terminal 18b, preferably in the shape in which the width is narrowed toward the center of the circumference C 3 and C 4, respectively, the size of the lower terminal 18b which is disposed inside the circumference C 4 Saga, is preferably smaller than the size of the lower terminal 18b disposed outside of the circumference C 3. The arrangement position of the external terminal 18 (upper terminal 18a and lower terminal 18b) is not limited to this. For example, the external terminal 18 (upper terminal 18a and lower terminal 18b) has one or more circumferences. It is also possible to arrange it above.

一方、図1および図3に示すように、ダイパッド15には、外部端子29を有する吊りリード19が連結されている。この吊りリード19は、ダイパッド15の四隅にそれぞれ設けられており、ダイパッド15から放射状に延びている。吊りリード19の外部端子29は、各吊りリード19の表面側に設けられた上部端子29a(図1および図3参照)と、各吊りリード19の裏面側に設けられた下部端子29b(図4参照)とから構成されている。なお、この外部端子29(上部端子29aおよび下部端子29b)は、例えばグランド(GND)端子として用いることができる。このように構成することにより、吊りリード19および外部端子29を有効に利用することができる。なお、吊りリード19の本数は4本に限られるものではなく、4本以外の数、例えば2本であっても良い。   On the other hand, as shown in FIGS. 1 and 3, a suspension lead 19 having an external terminal 29 is connected to the die pad 15. The suspension leads 19 are respectively provided at the four corners of the die pad 15 and extend radially from the die pad 15. The external terminals 29 of the suspension leads 19 include an upper terminal 29a (see FIGS. 1 and 3) provided on the front side of each suspension lead 19 and a lower terminal 29b (see FIG. 4) provided on the back side of each suspension lead 19. For example). The external terminals 29 (upper terminal 29a and lower terminal 29b) can be used as, for example, a ground (GND) terminal. With this configuration, the suspension lead 19 and the external terminal 29 can be used effectively. Note that the number of the suspension leads 19 is not limited to four, and may be other than four, for example, two.

また図1および図2において、半導体素子21としては、従来一般に用いられている各種半導体素子を使用することが可能である。この半導体素子21は、各々ボンディングワイヤ22が取り付けられる、複数の端子部21aを有している。また、半導体素子21は、例えばダイボンディングペーストにより、ダイパッド15の表面15aに固定されている。   In FIGS. 1 and 2, various semiconductor elements generally used in the past can be used as the semiconductor element 21. The semiconductor element 21 has a plurality of terminal portions 21a to which bonding wires 22 are attached. The semiconductor element 21 is fixed to the surface 15a of the die pad 15 by, for example, die bonding paste.

各ボンディングワイヤ22は、例えば金等の導電性の良い材料からなり、それぞれその一端が半導体素子21の端子部21aに接続されるとともに、その他端がリード部16の内部端子17に接続されている。   Each bonding wire 22 is made of a material having good conductivity, such as gold, and one end thereof is connected to the terminal portion 21 a of the semiconductor element 21 and the other end is connected to the internal terminal 17 of the lead portion 16. .

半導体装置の製造方法
次に、図1乃至図4に示す半導体装置20の製造方法について、図7(a)−(d)および図8(a)−(f)を用いて説明する。なお、以下においては、1枚の金属基板11から複数の半導体装置20を製造する工程について説明するが、これに限らず、1枚の金属基板11から1つの半導体装置20を製造することも可能である。
Method for Manufacturing Semiconductor Device Next, a method for manufacturing the semiconductor device 20 shown in FIGS. 1 to 4 will be described with reference to FIGS. 7 (a)-(d) and FIGS. 8 (a)-(f). In the following, a process of manufacturing a plurality of semiconductor devices 20 from one metal substrate 11 will be described. However, the present invention is not limited to this, and one semiconductor device 20 can be manufactured from one metal substrate 11. It is.

まず図7(a)に示すように、リードフレーム10を構成する金属基板11を準備する。この金属基板11としては、上述のように銅、銅合金、42合金(Ni42%のFe合金)等からなる基板を使用することができる。なお金属基板11は、その両面に対して脱脂等を行い洗浄処理を施したものを使用することが好ましい。   First, as shown in FIG. 7A, a metal substrate 11 constituting the lead frame 10 is prepared. As the metal substrate 11, a substrate made of copper, copper alloy, 42 alloy (Ni 42% Fe alloy) or the like can be used as described above. In addition, it is preferable to use what the metal substrate 11 performed the degreasing | defatting etc. on both surfaces, and performed the washing process.

次に、金属基板11の表裏に感光性レジストを塗布、乾燥し、これを所望のフォトマスクを介して露光した後、現像してエッチング用レジスト層32、33を形成する(図7(b))。なお感光性レジストとしては、従来公知のものを使用することができる。   Next, a photosensitive resist is applied to the front and back surfaces of the metal substrate 11, dried, exposed through a desired photomask, and then developed to form etching resist layers 32 and 33 (FIG. 7B). ). In addition, a conventionally well-known thing can be used as a photosensitive resist.

次に、エッチング用レジスト層32、33を耐腐蝕膜として金属基板11に腐蝕液でエッチングを施す(図7(c))。腐蝕液は、使用する金属基板11の材質に応じて適宜選択することができ、例えば、金属基板11として銅を用いる場合、通常、塩化第二鉄水溶液を使用し、金属基板11の両面からスプレーエッチングにて行うことができる。   Next, the etching resist layers 32 and 33 are used as an anticorrosion film, and the metal substrate 11 is etched with an etching solution (FIG. 7C). The corrosive liquid can be appropriately selected according to the material of the metal substrate 11 to be used. For example, when copper is used as the metal substrate 11, an aqueous ferric chloride solution is usually used and sprayed from both surfaces of the metal substrate 11. It can be performed by etching.

次いで、エッチング用レジスト層32、33を剥離して除去する。このようにして、ダイパッド15と、ダイパッド15周囲に配置された複数のリード部16とを有するリードフレーム10が得られる(図7(d))。   Next, the etching resist layers 32 and 33 are peeled and removed. Thus, the lead frame 10 having the die pad 15 and the plurality of lead portions 16 arranged around the die pad 15 is obtained (FIG. 7D).

このようにして得られたリードフレーム10は、複数のダイパッド15と複数のリード部16とを有する多面付リードフレームからなっている。複数のダイパッド15および複数のリード部16は、タイバー34を介して互いに連結されている(図8(a))。   The lead frame 10 thus obtained is a multi-faced lead frame having a plurality of die pads 15 and a plurality of lead portions 16. The plurality of die pads 15 and the plurality of lead portions 16 are connected to each other through a tie bar 34 (FIG. 8A).

次に、リードフレーム10のダイパッド15の表面15a上に、半導体素子21を搭載する。この場合、ダイボンディングペーストを用いて、半導体素子21をダイパッド15の表面15a上に載置して固定する(ダイアタッチ工程)(図8(b))。   Next, the semiconductor element 21 is mounted on the surface 15 a of the die pad 15 of the lead frame 10. In this case, the semiconductor element 21 is mounted on the surface 15a of the die pad 15 and fixed using a die bonding paste (die attach step) (FIG. 8B).

次に、半導体素子21の各端子部21aと、各リード部16の内部端子17とを、ボンディングワイヤ22によって互いに電気的に接続する(ワイヤボンディング工程)(図8(c))。   Next, each terminal portion 21a of the semiconductor element 21 and the internal terminal 17 of each lead portion 16 are electrically connected to each other by a bonding wire 22 (wire bonding step) (FIG. 8C).

次に、リードフレーム10に対して熱硬化性樹脂または熱可塑性樹脂を金型35を用いて射出成形またはトランスファ成形することにより、封止樹脂部23を形成する(図8(d))。これにより、リードフレーム10、半導体素子21、およびボンディングワイヤ22を封止する。このとき、半導体素子21および半導体素子21周囲に中央領域24が形成され、中央領域24周縁に周縁領域25が形成される。   Next, the sealing resin portion 23 is formed by performing injection molding or transfer molding of a thermosetting resin or thermoplastic resin on the lead frame 10 using the mold 35 (FIG. 8D). As a result, the lead frame 10, the semiconductor element 21, and the bonding wire 22 are sealed. At this time, the central region 24 is formed around the semiconductor element 21 and the semiconductor element 21, and the peripheral region 25 is formed at the periphery of the central region 24.

次に、各半導体素子21間の封止樹脂部23をダイシングすることにより、リードフレーム10を各半導体素子21毎に分離する(図8(e))。この際、まずリードフレーム10をダイシングテープ37上に載置して固定し、その後、例えばダイヤモンド砥石からなるブレード38を回転させながら、各半導体素子21間のリードフレーム10および封止樹脂部23を切断する。   Next, the lead frame 10 is separated for each semiconductor element 21 by dicing the sealing resin portion 23 between the semiconductor elements 21 (FIG. 8E). At this time, the lead frame 10 is first placed and fixed on the dicing tape 37, and then the lead frame 10 and the sealing resin portion 23 between the semiconductor elements 21 are rotated while rotating a blade 38 made of, for example, a diamond grindstone. Disconnect.

このようにして、図1乃至図4に示す半導体装置20を得ることができる(図8(f))。   In this way, the semiconductor device 20 shown in FIGS. 1 to 4 can be obtained (FIG. 8F).

本実施の形態の作用効果
次にこのような構成からなる本実施の形態の作用について、図9を用いて説明する。図9は、本実施の形態による半導体装置が実装基板上に実装されている状態を示す断面図である。
Operation and Effect of the Present Embodiment Next , the operation of the present embodiment having such a configuration will be described with reference to FIG. FIG. 9 is a cross-sectional view showing a state where the semiconductor device according to the present embodiment is mounted on a mounting substrate.

すなわち図9に示すように、本実施の形態による半導体装置20は、実装基板45上に配置して実装される。この場合、半導体装置20は、リード部16の下部端子18bに設けられたはんだボール41と、ダイパッド15の裏面15bに設けられたはんだ部42とにより、実装基板45に対して固定実装される。なお、実装基板45は、主としてガラスエポキシ樹脂からなっている。   That is, as shown in FIG. 9, the semiconductor device 20 according to the present embodiment is arranged and mounted on the mounting substrate 45. In this case, the semiconductor device 20 is fixedly mounted on the mounting substrate 45 by the solder balls 41 provided on the lower terminals 18 b of the lead parts 16 and the solder parts 42 provided on the back surface 15 b of the die pad 15. The mounting substrate 45 is mainly made of glass epoxy resin.

ところで、半導体装置20には、実装基板45にはんだにより実装する際、あるいは実装基板45に実装された後の使用環境により、様々な熱が加わることが考えられる。この場合、半導体装置20全体の熱膨張係数が実装基板45の熱膨張係数と異なると、半導体装置20と実装基板45との熱膨張率の違いによって熱応力が生じる。この結果、とりわけ半導体装置20と実装基板45との間に位置するはんだボール41およびはんだ部42が破損してしまうおそれがある。   By the way, it is conceivable that various heats are applied to the semiconductor device 20 depending on the usage environment after being mounted on the mounting substrate 45 by soldering or after being mounted on the mounting substrate 45. In this case, if the thermal expansion coefficient of the entire semiconductor device 20 is different from the thermal expansion coefficient of the mounting substrate 45, thermal stress is generated due to the difference in thermal expansion coefficient between the semiconductor device 20 and the mounting substrate 45. As a result, the solder balls 41 and the solder portions 42 located between the semiconductor device 20 and the mounting substrate 45 may be damaged.

一般に、リードフレーム10の熱膨張係数は、実装基板45の熱膨張係数に比較的近い。これに対して封止樹脂部23の熱膨張係数は、リードフレーム10の熱膨張係数より小さい。一例として、(これに限定されるものではないが)、銅からなるリードフレーム10、主としてガラスエポキシ樹脂からなる実装基板45、エポキシ樹脂からなる封止樹脂部23の熱膨張係数は、それぞれ約17×10−6(/K)、約16×10−6(/K)、約10×10−6(/K)である。またSiからなる半導体素子21の熱膨張係数は、約3.5×10−6(/K)である。 In general, the thermal expansion coefficient of the lead frame 10 is relatively close to the thermal expansion coefficient of the mounting substrate 45. On the other hand, the thermal expansion coefficient of the sealing resin portion 23 is smaller than the thermal expansion coefficient of the lead frame 10. As an example (although not limited thereto), the thermal expansion coefficients of the lead frame 10 made of copper, the mounting substrate 45 mainly made of glass epoxy resin, and the sealing resin portion 23 made of epoxy resin are about 17 respectively. It is * 10 < -6 > (/ K), about 16 * 10 < -6 > (/ K), and about 10 * 10 < -6 > (/ K). The thermal expansion coefficient of the semiconductor element 21 made of Si is about 3.5 × 10 −6 (/ K).

したがって、半導体装置20に占める封止樹脂部23の割合が大きければ大きいほど、半導体装置20全体の熱膨張係数が実装基板45の熱膨張係数から乖離する傾向がある。これに対して本実施の形態においては、封止樹脂部23の中央領域24の厚みを周縁領域25より厚くする(すなわち周縁領域25を薄くする)ことにより、熱膨張係数が相対的に低い封止樹脂部23の体積を減らしている。このことにより、半導体装置20全体の熱膨張係数を実装基板45の熱膨張係数に近づけることができるので、半導体装置20に熱が加わった際の熱応力を軽減し、実装信頼性を向上させることができる。   Therefore, the larger the proportion of the sealing resin portion 23 in the semiconductor device 20, the more the thermal expansion coefficient of the entire semiconductor device 20 tends to deviate from the thermal expansion coefficient of the mounting substrate 45. On the other hand, in the present embodiment, by making the thickness of the central region 24 of the sealing resin portion 23 thicker than the peripheral region 25 (that is, making the peripheral region 25 thinner), the sealing having a relatively low thermal expansion coefficient. The volume of the stop resin portion 23 is reduced. As a result, the thermal expansion coefficient of the entire semiconductor device 20 can be brought close to the thermal expansion coefficient of the mounting substrate 45, so that thermal stress when heat is applied to the semiconductor device 20 is reduced, and mounting reliability is improved. Can do.

また本実施の形態によれば、複数のリード部16の外部端子18(上部端子18aおよび下部端子18b)は、平面から見て円周上に配置されている。したがって、半導体装置20と実装基板45との熱膨張の相違により生じる熱応力は、各外部端子18に設けられたはんだボール41に対して均等に加わるようになっており、特定のはんだボール41が破損することを防止することができる。   Further, according to the present embodiment, the external terminals 18 (the upper terminals 18a and the lower terminals 18b) of the plurality of lead portions 16 are arranged on the circumference as viewed from above. Therefore, the thermal stress caused by the difference in thermal expansion between the semiconductor device 20 and the mounting substrate 45 is applied evenly to the solder balls 41 provided on the external terminals 18, and the specific solder balls 41 are It can be prevented from being damaged.

また本実施の形態によれば、ダイパッド15の裏面15bは、封止樹脂部23の外方に露出しているので、この裏面15b全体にはんだ部42を設けて、ダイパッド15を実装基板45に取り付けることができる。また、半導体素子21からの熱をダイパッド15の裏面15bから放熱することができる。さらに、ダイパッド15は円形状となっているので、半導体装置20に熱が加わった際、半導体装置20と実装基板45との熱膨張係数の相違による熱応力は、周方向均一に分散する。したがって、ダイパッド15の裏面15bに設けられたはんだ部42のうち特定の部分に熱応力が集中することがなく、はんだ部42の破損を防止することができる。   Further, according to the present embodiment, since the back surface 15b of the die pad 15 is exposed outside the sealing resin portion 23, the solder portion 42 is provided on the entire back surface 15b, and the die pad 15 is attached to the mounting substrate 45. Can be attached. Further, the heat from the semiconductor element 21 can be radiated from the back surface 15 b of the die pad 15. Furthermore, since the die pad 15 has a circular shape, when heat is applied to the semiconductor device 20, thermal stress due to the difference in thermal expansion coefficient between the semiconductor device 20 and the mounting substrate 45 is uniformly distributed in the circumferential direction. Therefore, thermal stress does not concentrate on a specific portion of the solder portion 42 provided on the back surface 15b of the die pad 15, and damage to the solder portion 42 can be prevented.

さらに本実施の形態によれば、封止樹脂部23の周縁領域25において、各リード部16が表面側に露出しており、各リード部16の表面側にも上部端子18aが設けられている。このことにより、上部端子18aだけを用いて半導体装置20の試験を行うことができ、半導体装置20の試験を行う際に下部端子18bを傷付けるおそれがない。さらに、リード部16の表面側にもはんだボール41を設けることができるので、半導体装置20の実装方法が多様化する。さらに、はんだボール41を含む半導体装置20を薄型化することができる。   Furthermore, according to the present embodiment, in the peripheral region 25 of the sealing resin portion 23, each lead portion 16 is exposed on the surface side, and the upper terminal 18a is also provided on the surface side of each lead portion 16. . Thus, the test of the semiconductor device 20 can be performed using only the upper terminal 18a, and there is no possibility of damaging the lower terminal 18b when the test of the semiconductor device 20 is performed. Furthermore, since the solder balls 41 can be provided also on the surface side of the lead portion 16, the mounting method of the semiconductor device 20 is diversified. Furthermore, the semiconductor device 20 including the solder balls 41 can be thinned.

半導体装置の変形例
次に、図10乃至図32により、本発明による半導体装置の各種変形例について説明する。図10乃至図32において、図1乃至図9に示す実施の形態と同一部分には同一の符号を付して詳細な説明は省略する。
Modification of the semiconductor device Next, FIGS. 10 to 32, will be described various modified examples of the semiconductor device according to the present invention. 10 to 32, the same parts as those of the embodiment shown in FIGS. 1 to 9 are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof is omitted.

図10および図11は、本実施の形態の一変形例による半導体装置20Aを示している。すなわち図10は、半導体装置20Aの斜視図であり、図11は、半導体装置20Aの断面図である。図10および図11に示す半導体装置20Aにおいて、図1乃至図9に示す実施の形態と異なり、封止樹脂部23の中央領域24は、円柱状からなっている。すなわち中央領域24の上面が平坦であるとともに、中央領域24の側面はリード部16の表面16aに対して垂直である。このように構成した場合であっても、上述した図1乃至図9に示す実施の形態の効果と略同様の効果を得ることができる。このほか、中央領域24の形状を多角柱形状もしくは截頭多角錐状としても良い。なお、封止樹脂部23のうち、中央領域24と周縁領域25との境界部にかかる部分を、テーパーもしくは丸み形状とすることが好ましい。中央領域24と周縁領域25との間に生じる熱膨張係数が徐々に変化していくため、中央領域24と周縁領域25との間で熱膨張係数が急激に変化することを緩和し、そりを防止すると共に歪の集中をさけることができるからである。   10 and 11 show a semiconductor device 20A according to a modification of the present embodiment. That is, FIG. 10 is a perspective view of the semiconductor device 20A, and FIG. 11 is a cross-sectional view of the semiconductor device 20A. In the semiconductor device 20A shown in FIGS. 10 and 11, unlike the embodiment shown in FIGS. 1 to 9, the central region 24 of the sealing resin portion 23 has a cylindrical shape. That is, the upper surface of the central region 24 is flat, and the side surface of the central region 24 is perpendicular to the surface 16 a of the lead portion 16. Even in the case of such a configuration, it is possible to obtain substantially the same effect as that of the embodiment shown in FIGS. 1 to 9 described above. In addition, the shape of the central region 24 may be a polygonal column shape or a truncated polygonal pyramid shape. In addition, it is preferable that the part concerning the boundary part of the center area | region 24 and the peripheral area | region 25 among the sealing resin parts 23 is made into a taper or round shape. Since the thermal expansion coefficient generated between the central region 24 and the peripheral region 25 is gradually changed, the rapid change of the thermal expansion coefficient between the central region 24 and the peripheral region 25 is alleviated, and the warp is reduced. This is because the distortion can be prevented and concentration of distortion can be avoided.

図12および図13は、他の変形例による半導体装置20Bを示している。すなわち図12は、半導体装置20Bの斜視図であり、図13は、半導体装置20Bの断面図である。図12および図13に示す半導体装置20Bにおいて、図1乃至図9に示す実施の形態と異なり、封止樹脂部23の中央領域24は、ドーム状からなっている。すなわち中央領域24の表面全体が曲面からなっている。この場合、中央領域24の表面が球面の一部分であっても良い。このように構成した場合でも、上述した図1乃至図9に示す実施の形態の効果と略同様の効果を得ることができる。   12 and 13 show a semiconductor device 20B according to another modification. That is, FIG. 12 is a perspective view of the semiconductor device 20B, and FIG. 13 is a cross-sectional view of the semiconductor device 20B. In the semiconductor device 20B shown in FIGS. 12 and 13, unlike the embodiment shown in FIGS. 1 to 9, the central region 24 of the sealing resin portion 23 has a dome shape. That is, the entire surface of the central region 24 is a curved surface. In this case, the surface of the central region 24 may be a part of a spherical surface. Even in such a configuration, it is possible to obtain substantially the same effect as that of the above-described embodiment shown in FIGS.

一方、図14乃至図19は、他の変形例による半導体装置20C、20D、20Eを示している。すなわち図14は、半導体装置20Cの斜視図であり、図15は、半導体装置20Cの断面図である。また図16は、半導体装置20Dの斜視図であり、図17は、半導体装置20Dの断面図である。また図18は、半導体装置20Eの斜視図であり、図19は、半導体装置20Eの断面図である。   On the other hand, FIGS. 14 to 19 show semiconductor devices 20C, 20D, and 20E according to other modifications. 14 is a perspective view of the semiconductor device 20C, and FIG. 15 is a cross-sectional view of the semiconductor device 20C. FIG. 16 is a perspective view of the semiconductor device 20D, and FIG. 17 is a cross-sectional view of the semiconductor device 20D. 18 is a perspective view of the semiconductor device 20E, and FIG. 19 is a cross-sectional view of the semiconductor device 20E.

図14乃至図19において、図1乃至図9に示す実施の形態と異なり、各リード部16の表面側には上部端子18aが設けられておらず、また吊りリード19の表面側にも上部端子29aが設けられていない。さらに、図14乃至図19において、中央領域24の直径は、半導体装置20C、20D、20Eの一辺の長さと同一であるか、または半導体装置20C、20D、20Eの一辺の長さよりわずかに小さくなっている。このように構成することにより、上述した図1乃至図9に示す実施の形態による効果のほか、半導体素子21の大きさに対する半導体装置20C、20D、20E全体の大きさをコンパクトに構成できるという効果が得られる。なお、中央領域24の形状は、図14および図15に示すように截頭円錐状としても良く、図16および図17に示すように円柱状としても良く、あるいは、図18および図19に示すようにドーム状としても良い。   14 to 19, unlike the embodiment shown in FIGS. 1 to 9, the upper terminal 18 a is not provided on the surface side of each lead portion 16, and the upper terminal is also provided on the surface side of the suspension lead 19. 29a is not provided. Further, in FIGS. 14 to 19, the diameter of the central region 24 is the same as the length of one side of the semiconductor devices 20C, 20D, and 20E or slightly smaller than the length of one side of the semiconductor devices 20C, 20D, and 20E. ing. With this configuration, in addition to the effects of the embodiment shown in FIGS. 1 to 9 described above, the overall size of the semiconductor devices 20C, 20D, and 20E with respect to the size of the semiconductor element 21 can be configured compactly. Is obtained. The shape of the central region 24 may be a frustoconical shape as shown in FIGS. 14 and 15, may be a cylindrical shape as shown in FIGS. 16 and 17, or is shown in FIGS. 18 and 19. It is good also as a dome shape.

図20は、さらに他の変形例による半導体装置20Fを示している。図20において、各リード部16の上部端子18aに、接着層51を介して平面環状のリングスティフナ52が接着されている。さらに、このリングスティフナ52上に接着層53を介して放熱フィン54が搭載されている。リングスティフナ52は、例えば銅または42合金から構成することができ、放熱フィン54は、例えばアルミニウムから構成することができる。このような構成により、放熱フィン54を介して半導体素子21からの熱を逃がすことができるため、熱に対する半導体装置20Fの信頼性を更に向上することができる。   FIG. 20 shows a semiconductor device 20F according to still another modification. In FIG. 20, a planar annular ring stiffener 52 is bonded to the upper terminal 18 a of each lead portion 16 via an adhesive layer 51. Further, a heat radiating fin 54 is mounted on the ring stiffener 52 via an adhesive layer 53. The ring stiffener 52 can be made of, for example, copper or a 42 alloy, and the heat radiation fin 54 can be made of, for example, aluminum. With such a configuration, heat from the semiconductor element 21 can be released through the heat radiating fins 54, so that the reliability of the semiconductor device 20F against heat can be further improved.

図21は、他の変形例による半導体装置20Gを示している。図21において、各リード部16の上部端子18aに、はんだ部または導電ペースト部56を介して電子部品57、58が搭載されている。このような電子部品57、58としては、コンデンサ、抵抗素子、およびリングインターポーザ等を挙げることができる。なお、電子部品57、58が同種の電子部品からなっても良く、異種の電子部品からなっても良い。このような構成により、周縁領域25上の空間を利用して、電子部品57、58を配置することができ、半導体装置20Gをコンパクトなものとすることができる。   FIG. 21 shows a semiconductor device 20G according to another modification. In FIG. 21, electronic components 57 and 58 are mounted on the upper terminals 18 a of the lead portions 16 via solder portions or conductive paste portions 56. Examples of such electronic components 57 and 58 include a capacitor, a resistance element, and a ring interposer. The electronic parts 57 and 58 may be made of the same kind of electronic parts or different kinds of electronic parts. With such a configuration, the electronic components 57 and 58 can be arranged using the space on the peripheral region 25, and the semiconductor device 20G can be made compact.

図22および図23は、それぞれ本実施の形態の一変形例による半導体装置20H、20Iを示す平面図であって、リード部16の表面より上側の部分を省略して示す図(図3に対応する図)である。図22および図23に示す半導体装置20H、20Iにおいて、図1乃至図9に示す実施の形態と異なり、ダイパッド15の表面15aの形状と裏面15bの形状とが互いに異なっている。すなわち、図22において、ダイパッド15は、表面15a側から見て円形状であるとともに、裏面15b側から見て矩形形状となっている。また、図23において、ダイパッド15は、表面15a側から見て矩形形状であるとともに、裏面15b側から見て円形状となっている。このように図22および図23に示す構成とした場合、封止樹脂部23がダイパッド15の周囲から中心側に入り込むため、ダイパッド15と封止樹脂部23との密着性を高めることができる。   FIG. 22 and FIG. 23 are plan views showing semiconductor devices 20H and 20I according to a modification of the present embodiment, respectively, and are diagrams in which portions above the surface of the lead portion 16 are omitted (corresponding to FIG. 3). Figure). In the semiconductor devices 20H and 20I shown in FIGS. 22 and 23, the shape of the front surface 15a of the die pad 15 and the shape of the back surface 15b are different from each other in the embodiment shown in FIGS. That is, in FIG. 22, the die pad 15 has a circular shape when viewed from the front surface 15a side and a rectangular shape when viewed from the back surface 15b side. In FIG. 23, the die pad 15 has a rectangular shape when viewed from the front surface 15a side and a circular shape when viewed from the back surface 15b side. 22 and FIG. 23, since the sealing resin portion 23 enters the center side from the periphery of the die pad 15, the adhesion between the die pad 15 and the sealing resin portion 23 can be improved.

図24は、他の変形例による半導体装置20Jを示す平面図であって、リード部16の表面より上側の部分を省略して示す図(図3に対応する図)である。図24に示す半導体装置20Jにおいて、図1乃至図9に示す実施の形態と異なり、各吊りリード19は、それぞれダイパッド15から半導体装置20Jの4辺の中心に向けて延びている。また、各リード部16の表面側には上部端子18aが設けられていない。各リード部16の内部端子17は、2つの円周CおよびCのうちいずれか一方の円周上に配置されている。この場合、半導体装置20Jの4つの角部に吊りリード19を設けていないので、リード部16の本数を増やすことができ、半導体装置20Jの多ピン化を図ることができる。 FIG. 24 is a plan view showing a semiconductor device 20J according to another modification, in which a portion above the surface of the lead portion 16 is omitted (corresponding to FIG. 3). In the semiconductor device 20J shown in FIG. 24, unlike the embodiment shown in FIGS. 1 to 9, each suspension lead 19 extends from the die pad 15 toward the center of the four sides of the semiconductor device 20J. Further, the upper terminal 18 a is not provided on the surface side of each lead portion 16. The internal terminal 17 of each lead portion 16 is disposed on one of the two circumferences C 5 and C 6 . In this case, since the suspension leads 19 are not provided at the four corners of the semiconductor device 20J, the number of the lead portions 16 can be increased, and the number of pins of the semiconductor device 20J can be increased.

図25は、リードフレーム10の吊りリード19の変形例を示す平面図である。図25において、吊りリード19のうち、外部端子29の表面および裏面に、それぞれ封止樹脂部23が入り込む凹部61、62が形成されている。図25に示すように、吊りリード19の表面の凹部61と裏面の凹部62との配置位置は、平面から見て相違しており、互い違いとなっている。これら凹部61、62は、金属基板11を用いてリードフレーム10を作製する際(図7(a)−(d)参照)、それぞれハーフエッチングにより形成される。このような構成により、封止樹脂部23が凹部61、62内に入り込むようになるので、吊りリード19と封止樹脂部23との連結強度を高めることができる。   FIG. 25 is a plan view showing a modification of the suspension lead 19 of the lead frame 10. In FIG. 25, recesses 61 and 62 into which the sealing resin portion 23 enters are formed on the front and back surfaces of the external terminal 29 in the suspension lead 19. As shown in FIG. 25, the arrangement positions of the concave portion 61 on the front surface and the concave portion 62 on the back surface of the suspension lead 19 are different from each other as viewed from the plane, and are alternately arranged. These recesses 61 and 62 are each formed by half etching when the lead frame 10 is manufactured using the metal substrate 11 (see FIGS. 7A to 7D). With such a configuration, the sealing resin portion 23 enters the recesses 61 and 62, so that the connection strength between the suspension lead 19 and the sealing resin portion 23 can be increased.

また、図26および図27は、それぞれ本実施の形態の一変形例による半導体装置20K、20Lを示す断面図である。図26および図27において、図1乃至図9に示す実施の形態と異なり、ダイパッド15の裏面15bは封止樹脂部23の外方に露出しておらず、封止樹脂部23によって完全に覆われている。このようにダイパッド15の裏面15bを封止樹脂部23外方に露出しないようにすることにより、ダイパッド15と封止樹脂部23との密着性を高めることができる。   26 and 27 are cross-sectional views showing semiconductor devices 20K and 20L according to a modification of the present embodiment, respectively. 26 and 27, unlike the embodiment shown in FIGS. 1 to 9, the back surface 15b of the die pad 15 is not exposed outside the sealing resin portion 23 and is completely covered by the sealing resin portion 23. It has been broken. Thus, by preventing the back surface 15b of the die pad 15 from being exposed outside the sealing resin portion 23, the adhesion between the die pad 15 and the sealing resin portion 23 can be enhanced.

図28および図29は、それぞれ他の変形例による半導体装置20M、20Nを示す断面図である。図28および図29において、図1乃至図9に示す実施の形態と比べて、ダイパッド15の厚みが薄くなっている。すなわちダイパッド15の表面15aは、各リード部16の表面16aより裏面側(すなわち低位置)に位置している。一方、ダイパッド15の裏面15bは封止樹脂部23の外方に露出している。このようにダイパッド15の厚みを薄くし、ダイパッド15の表面15aを裏面側に位置させることにより、半導体装置20M、20Nを薄型に構成することができる。   28 and 29 are cross-sectional views showing semiconductor devices 20M and 20N according to other modifications, respectively. 28 and 29, the die pad 15 is thinner than the embodiment shown in FIGS. That is, the surface 15 a of the die pad 15 is located on the back side (that is, the lower position) than the surface 16 a of each lead portion 16. On the other hand, the back surface 15 b of the die pad 15 is exposed outside the sealing resin portion 23. Thus, by reducing the thickness of the die pad 15 and positioning the front surface 15a of the die pad 15 on the back surface side, the semiconductor devices 20M and 20N can be configured to be thin.

図30および図31は、それぞれ他の変形例による半導体装置20P、20Qを示す断面図である。図30および図31において、図1乃至図9に示す実施の形態と異なり、ダイパッド15の表面15a周縁に沿って環状のフランジ47が設けられている。そして半導体素子21は、環状のフランジ47の内側に収容されている。このようにダイパッド15の表面15a周縁にフランジ47を設けたことにより、ダイパッド15のダレや変形を防止することができる。   30 and 31 are cross-sectional views showing semiconductor devices 20P and 20Q according to other modified examples, respectively. 30 and 31, unlike the embodiment shown in FIGS. 1 to 9, an annular flange 47 is provided along the periphery of the surface 15 a of the die pad 15. The semiconductor element 21 is accommodated inside the annular flange 47. By providing the flange 47 on the periphery of the surface 15a of the die pad 15 in this way, it is possible to prevent the die pad 15 from sagging or deforming.

図32は、さらに他の変形例による半導体装置20Rを示す断面図である。図32において、各リード部16の内部端子17と下部端子18bとの間に、段部48が形成されている。このような段部48は、下部端子18bにおけるリード部16の厚みより薄く、かつ内部端子17におけるリード部16の厚みより厚くなっており、各リード部16を2段エッチングすることにより形成することができる。このことにより、下部端子18b近傍におけるリード部16の厚みを厚くすることができ、下部端子18b近傍におけるリード部16の強度を高めることができる。他方、内部端子17近傍においてリード部16の厚みが薄くなっていることにより、内部端子17をファインピッチ化することができる。なお、図32において、ダイパッド15の表面15aは、各リード部16の表面16aより裏面側(すなわち低位置)に位置しており、半導体装置20Rの薄型化が図られている。   FIG. 32 is a cross-sectional view showing a semiconductor device 20R according to still another modification. In FIG. 32, a stepped portion 48 is formed between the internal terminal 17 and the lower terminal 18 b of each lead portion 16. Such a step portion 48 is thinner than the thickness of the lead portion 16 in the lower terminal 18b and thicker than the thickness of the lead portion 16 in the internal terminal 17, and is formed by etching each lead portion 16 in two steps. Can do. Thereby, the thickness of the lead part 16 in the vicinity of the lower terminal 18b can be increased, and the strength of the lead part 16 in the vicinity of the lower terminal 18b can be increased. On the other hand, since the thickness of the lead portion 16 is reduced in the vicinity of the internal terminal 17, the internal terminal 17 can be fine pitched. In FIG. 32, the surface 15a of the die pad 15 is positioned on the back side (that is, the lower position) than the surface 16a of each lead portion 16, and the semiconductor device 20R is made thinner.

なお、上述した図26、図28、図30、および図32に示す半導体装置20K、20M、20P、20Rは、中央領域24の構成が図1乃至図4に示す半導体装置20に対応している。他方、図27、図29、および図31に示す半導体装置20L、20N、20Qは、中央領域24の構成が図10および図11に示す半導体装置20Aに対応している。   The semiconductor devices 20K, 20M, 20P, and 20R shown in FIGS. 26, 28, 30, and 32 described above correspond to the semiconductor device 20 shown in FIGS. 1 to 4 in the configuration of the central region 24. . On the other hand, in the semiconductor devices 20L, 20N, and 20Q shown in FIGS. 27, 29, and 31, the configuration of the central region 24 corresponds to the semiconductor device 20A shown in FIGS.

上記実施の形態および変形例に開示されている複数の構成要素を必要に応じて適宜組み合わせることも可能である。あるいは、上記実施の形態および変形例に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。   It is also possible to appropriately combine a plurality of constituent elements disclosed in the embodiment and the modification examples as necessary. Or you may delete a some component from all the components shown by the said embodiment and modification.

10 リードフレーム
15 ダイパッド
16 リード部
17 内部端子
18 外部端子
18a 上部端子
18b 下部端子
19 吊りリード
20、20A〜20R 半導体装置
21 半導体素子
22 ボンディングワイヤ(導電部)
23 封止樹脂部
24 中央領域
25 周縁領域
29 外部端子
29a 上部端子
29b 下部端子
41 はんだボール
42 はんだ部
45 実装基板
47 フランジ
48 段部
54 放熱フィン
57、58 電子部品
61、62 凹部
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Lead frame 15 Die pad 16 Lead part 17 Internal terminal 18 External terminal 18a Upper terminal 18b Lower terminal 19 Hanging lead 20, 20A-20R Semiconductor device 21 Semiconductor element 22 Bonding wire (conductive part)
23 Sealing resin part 24 Central area 25 Peripheral area 29 External terminal 29a Upper terminal 29b Lower terminal 41 Solder ball 42 Solder part 45 Mounting substrate 47 Flange 48 Step part 54 Radiation fin 57, 58 Electronic component 61, 62 Recessed part

Claims (18)

ダイパッドとダイパッド周囲に配置された複数のリード部とを有するリードフレームと、
リードフレームのダイパッド上に載置された半導体素子と、
リードフレームのリード部と半導体素子とを電気的に接続する導電部と、
リードフレーム、半導体素子、および導電部を封止する封止樹脂部とを備え、
封止樹脂部は、半導体素子および半導体素子周囲に設けられた中央領域と、中央領域周縁に位置する周縁領域とを有し、
中央領域の厚みは、周縁領域の厚みより厚いことを特徴とする半導体装置。
A lead frame having a die pad and a plurality of lead portions disposed around the die pad;
A semiconductor element mounted on a die pad of a lead frame;
A conductive portion that electrically connects the lead portion of the lead frame and the semiconductor element;
A lead frame, a semiconductor element, and a sealing resin portion for sealing the conductive portion;
The sealing resin portion has a semiconductor element and a central region provided around the semiconductor element, and a peripheral region located at the periphery of the central region,
A semiconductor device characterized in that the thickness of the central region is thicker than the thickness of the peripheral region.
各リード部は、ダイパッドから外方へ放射状に延びる帯形状を有するとともに、それぞれ外方へ露出する外部端子を有し、複数のリード部の外部端子は、平面から見て少なくとも1つの円周上に配置されていることを特徴とする請求項1記載の半導体装置。   Each lead portion has a strip shape extending radially outward from the die pad, and has an external terminal exposed to the outside, and the external terminals of the plurality of lead portions are on at least one circumference when viewed from above. The semiconductor device according to claim 1, wherein the semiconductor device is disposed on the substrate. 各リード部は2つの外部端子を有し、一方の外部端子は、各リード部の表面側に設けられた上部端子からなり、他方の外部端子は、各リード部の裏面側に設けられた下部端子からなることを特徴とする請求項2記載の半導体装置。   Each lead part has two external terminals, one external terminal is composed of an upper terminal provided on the front side of each lead part, and the other external terminal is a lower part provided on the back side of each lead part 3. The semiconductor device according to claim 2, comprising a terminal. 各リード部の内部端子と下部端子との間に、段部が形成されていることを特徴とする請求項3記載の半導体装置。   4. The semiconductor device according to claim 3, wherein a step portion is formed between the internal terminal and the lower terminal of each lead portion. 少なくとも1つのリード部の上部端子に、はんだボールが設けられていることを特徴とする請求項3記載の半導体装置。   4. The semiconductor device according to claim 3, wherein a solder ball is provided on an upper terminal of at least one lead portion. 少なくとも1つのリード部の上部端子に、放熱フィンが搭載されていることを特徴とする請求項3記載の半導体装置。   4. The semiconductor device according to claim 3, wherein a radiation fin is mounted on an upper terminal of at least one lead portion. 少なくとも1つのリード部の上部端子に、電子部品が搭載されていることを特徴とする請求項3記載の半導体装置。   4. The semiconductor device according to claim 3, wherein an electronic component is mounted on an upper terminal of at least one lead portion. 封止樹脂部の周縁領域において、各リード部が表面側に露出していることを特徴とする請求項1乃至7のいずれか一項記載の半導体装置。   8. The semiconductor device according to claim 1, wherein each lead portion is exposed to a front surface side in a peripheral region of the sealing resin portion. 9. 封止樹脂部の中央領域は、截頭円錐状、円柱状、多角柱状、截頭多角錐状、またはドーム状の形状からなることを特徴とする請求項1乃至7のいずれか一項記載の半導体装置。   The central region of the sealing resin portion has a truncated cone shape, a columnar shape, a polygonal column shape, a truncated polygonal pyramid shape, or a dome-shaped shape, according to any one of claims 1 to 7. Semiconductor device. ダイパッドは、表面側から見て円形状となっていることを特徴とする請求項1乃至9のいずれか一項記載の半導体装置。   The semiconductor device according to claim 1, wherein the die pad has a circular shape when viewed from the front side. ダイパッドは、裏面側から見て円形状となっていることを特徴とする請求項1乃至10のいずれか一項記載の半導体装置。   The semiconductor device according to claim 1, wherein the die pad has a circular shape when viewed from the back side. ダイパッドの表面の形状と裏面の形状とが互いに異なることを特徴とする請求項10または11記載の半導体装置。   12. The semiconductor device according to claim 10, wherein the shape of the front surface and the shape of the back surface of the die pad are different from each other. ダイパッドに、外部端子を有する吊りリードが連結されていることを特徴とする請求項1乃至12のいずれか一項記載の半導体装置。   The semiconductor device according to claim 1, wherein a suspension lead having an external terminal is connected to the die pad. 吊りリードの表面および裏面に、それぞれ封止樹脂部が入り込む凹部が形成され、吊りリードの表面の凹部と裏面の凹部との配置位置は、平面から見て相違することを特徴とする請求項13記載の半導体装置。   14. A recess into which the sealing resin portion enters is formed on each of the front and back surfaces of the suspension lead, and the arrangement positions of the recesses on the front surface and the rear surface of the suspension lead are different from each other when viewed from above. The semiconductor device described. ダイパッドの裏面は、封止樹脂部の外方に露出していることを特徴とする請求項1乃至14のいずれか一項記載の半導体装置。   15. The semiconductor device according to claim 1, wherein the back surface of the die pad is exposed outside the sealing resin portion. ダイパッドの裏面は、封止樹脂部の外方に露出しないことを特徴とする請求項1乃至114のいずれか一項記載の半導体装置。   The semiconductor device according to claim 1, wherein the back surface of the die pad is not exposed to the outside of the sealing resin portion. ダイパッドの表面は、各リード部の表面より裏面側に位置することを特徴とする請求項1乃至16のいずれか一項記載の半導体装置。   17. The semiconductor device according to claim 1, wherein a surface of the die pad is positioned on a back surface side from a surface of each lead portion. ダイパッドの表面周縁に沿ってフランジが設けられていることを特徴とする請求項1乃至17のいずれか一項記載の半導体装置。   The semiconductor device according to claim 1, wherein a flange is provided along a peripheral surface of the die pad.
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