JP2012057975A - 流量測定装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】副通路内にセンサ素子を有する流量測定装置において、流速向上による整流効果と汚損対策の両方を満足することができる流体測定装置を提供する。
【解決手段】副通路10を形成するハウジングの副通路壁面のうちセンサ素子8と対向する側の対向壁面10dには、流れ方向Faに沿ってセンサ素子8に近づくに従って、センサ素子8の表面に接近するように傾斜した傾斜面11aを有した突出部11を形成する。傾斜面11aは、センサ素子8の上流に流れる流体の流れFaを絞るように、センサ素子8の表面から突出部11の側に剥離渦Fcを形成する。
【選択図】図4

Description

本発明は、副通路内に流体の流量を検知するセンサ素子を備えた流量測定装置に係り、特に自動車エンジンの吸気管内の吸気量を測定するのに好適な流量測定装置に関する。
空気流量を計測する流量測定装置としては、発熱抵抗体を加熱制御し発熱抵抗体の放熱量によって流量を計測するものや、発熱抵抗体を加熱制御し発熱抵抗体の近傍に配置した感温抵抗体の温度変化によって流量を計測するものなどが知られている。
そして、主通路に配置された副通路内に発熱抵抗体(以下センサ素子)を配置することで流量を測定する装置として使用される。一般的に計測精度の向上を目的として空気流量の特性ばらつきを低減するためには、副通路内に設置されたセンサ素子に対向する通路壁面を上流から下流にかけて序々に狭める(縮流させる)ような絞り形状を用いることが知られている。これによりセンサ素子付近の流速を向上し、流れを整流することが可能となる。
例えば、特許文献1には、副通路内にセンサ素子が配置され且つセンサ素子に対向する壁面に絞り形状を配置することで流れを整流した技術が開示されている。この技術によれば、センサ素子検知部の段差D、センサ素子の幅L、及び絞りの平均勾配αとしたときに、関係式L>Dαが成立する範囲でセンサ素子に流れる流体(空気)の流れを整流し、これにより実装によるばらつきを抑えることができる。
特開2008−26172号公報
ところで、近年の空気流量の計測においては計測精度の高精度化が求められている。製造工程におけるセンサ素子の実装がばらつくことにより、特性に影響を与えることがある。
しかしながら、例えば特許文献1の技術の場合、上述したように、副通路内に配置されたセンサ素子と対向する壁面絞りの平均勾配をα、センサ素子幅L、基板及びセンサ素子の段差D、としたときに、L>Dα関係により流れを整流し安定した計測を可能とするものであるが、計測部の位置が例えば公差の範囲内でずれた場合、このずれにより、流速分布が変化し(流速が変動し)計測誤差の要因となってしまう。
このばらつき影響を低減するためには更なる流速の向上が望ましく、流速を向上するためには、例えば、壁面絞りを構成する突出部の頂部(絞り最狭部)とセンサ素子との間隔(絞り)を狭くすることが考えられる。しかしながら、この間隔(絞り)の間隔を狭くしすぎてしまうと、副通路部の圧力損失が大きくなって、センサ素子近傍の流速がかえって遅くなってしまう。
また、エンジンの吸入空気計測として流量測定装置を使用する場合はエアクリーナフィルタを通過して飛来した異物が、計測部付近に堆積することがあり、絞りの間隔が狭すぎると、絞りに異物が詰まってしまうことも想定される。
本発明は、このような点に鑑みてなされたものであり、本発明は、副通路内にセンサ素子を有する流量測定装置において、センサ素子の対向する位置に絞り形状を設けた場合であっても、流速向上による整流効果と汚損対策の両方を満足することができる流量測定装置を提供することにある。
前記課題を解決すべく、本発明に係る流量計側装置は、主通路内に、流体の流れる流れ方向に沿って、流体の一部が流入して通過する副通路が形成されたハウジングと、前記流体の流量を検知するセンサ素子を表面に実装すると共に、前記流れ方向に沿って、表面が形成されるように前記副通路内に配置された板状基板と、を少なくとも備えている。前記副通路を形成する前記ハウジングの副通路壁面のうち前記センサ素子と対向する側の対向壁面には、前記流れ方向に沿って前記センサ素子に近づくに従って、前記センサ素子の表面に接近するように傾斜した傾斜面を有した突出部が形成されており、前記傾斜面は、前記流入した流体により、前記センサ素子の上流に流れる流体の流れを絞るように、前記センサ素子の表面から前記突出部の側に剥離渦が形成されるように傾斜していることを特徴とする。
本発明によれば、突出部の傾斜面の終端部(センサ素子に近い端部)の下流側であって、センサ素子の表面から突出部の側に剥離渦が発生するので、センサ素子の上流に流れる流体の流れが絞られ、流体の通過面積(通路断面積)を間接的に小さくすることができる。
このような剥離渦を利用することにより、計測部であるセンサ素子に流れる整流した流体の流速をさらに向上させることができ、計測部において実装のずれが生じたとしても安定した計測を可能とすることができる。
さらに、センサ素子近傍において流体の流速を高めようと、さらにセンサ素子と突出部の間隔をさらに狭めなくてもよいので、この絞りの間隔を十分に確保することができるので、吸入空気中の異物の詰まりを防止でき汚損対策となり得る。
本発明の第1実施形態に係る流量測定装置の模式的全体構成図。 図1に示す流量測定装置のP−P矢視断面図。 図1に示す流量測定装置のQ−Q矢視断面図。 図1に示す流量測定装置の整流効果を説明するための図。 第1実施形態に係る流量測定装置の整流効果を確認するための解析結果であり、(a)は、第1実施形態の実施例に係る解析結果を示した図であり、(b)は、比較例に係る解析結果を示した図。 図1に示す流量測定装置の整流効果を示した図であり、角度αと測定誤差との関係のグラフを示した図。 図1に示す流量測定装置の突出部(絞り形状)において異物が付着した様子を示す図。 図1に示す流量測定装置の突出部(絞り形状)において、異物付着を考慮した角度αと測定誤差との関係のグラフを示した図。 第1実施系形態の図1のP−P矢視断面図に相当する、第2実施形態の流量測定装置の断面図。 図9に示す流量測定装置のセンサ素子近傍の部分的拡大図。 第1実施系形態の図1のQ−Q矢視断面図に相当する、第2実施形態の流量測定装置の断面図。
以下に、図1〜11を参照して、本発明に係る流量測定装置を2つの実施形態により説明する。
〔第1実施形態〕
図1〜図3は本発明の第1実施形態に係る流量測定装置の構成を示す図であり、図1は、本発明の第1実施形態に係る流量測定装置の模式的全体構成図であり、図2は、図1に示す流量測定装置のP−P矢視断面図であり、図3は図1に示す流量測定装置のQ−Q矢視断面図である。
図4は、図1に示す流量測定装置の整流効果を説明するための図、図5は、第1実施形態に係る流量測定装置の整流効果を確認するための解析結果であり、(a)は、第1実施形態の実施例に係る解析結果を示した図であり、(b)は、比較例に係る解析結果を示した図である。
本発明に係る流量測定装置1は、図2に示すように、樹脂成形品によるフレーム部材2及びこのフレーム部材を覆うベース部材3の組立体をハウジング20として備えている。ハウジング20は、組立体とすることにより、主通路6の流体の一部が流れ込み、通過するための副通路10が形成される。このようなハウジング20は、図1に示す吸気管4に形成された挿入穴5に挿入され、下側部分が吸気管4の主通路6内に位置するように、吸気管4に取り付けられている。
ベース部材3には、平板状の回路基板(板状基板)7に電子部品及び配線パターンが形成された回路と、シリコン基板の上に発熱抵抗体であるセンサ素子8が搭載され、これらが、フレーム部材2に重ね合わせて、電源、信号出力用の端子9a、及びガイド9bを備えたコネクタ部9に接続するようになっている。なお、センサ素子8は、発熱抵抗により、主通路6の空気(流体)の流量を検知するための熱式のセンサ素子であり、センサ素子8そのものは、副通路10内に流れる流体(空気)FAを直接的に測定するものである。
吸気管4内を流れる流体の主通路6において、上述したハウジング20を設置することにより、主通路6内の下側部分の位置に、副通路10が形成される。副通路10は、主通路を流れる流体の一部が流入して通過するように、主通路6の流れ方向Fに沿って(主通路と同じ方向)配置されている。副通路10の内部には、回路基板7上に流量計測を行うセンサ素子8が位置するようになっている。
このようにして、流量測定装置1において、ハウジング20は、主通路6内に、流体の流れる流れ方向Fに沿って、流体の一部が流入して通過する副通路10が形成され、回路基板(板状基板)7は、流体の流量を検知するセンサ素子8を表面に沿って実装すると共に、流れ方向Fに沿って、板状基板の表面が形成されるように副通路内に配置されることになる。
本実施形態では、さらに図3に示すような通路形状(絞り形状)を設けたことに、その特徴部分がある。具体的には、副通路10は、図2に記載のようにフレーム部材2とベース部材3を重ね合わせることにより形成されており、ベース部材3に回路基板7は実装されている。
そして、副通路10を形成するハウジング20(具体的にはフレーム部材2)の副通路壁面のうちセンサ素子8と対向する側の対向壁面10dには、台形状の突出部11が、副通路10の幅方向に亘って形成されている。また、突出部11の上流側には、傾斜面11aが形成されており、流れ方向Fに沿ってセンサ素子8に近づくに従って、センサ素子8の表面に接近するように傾斜している。
さらに、図4に示すように、傾斜面11aは、副通路10を流入した流体により、センサ素子8の上流に流れる流体の流れFaを絞るように、センサ素子8の表面8aから突出部11の側に剥離渦Fcが形成されるように傾斜している。
なお、ここでは、突出部11は、センサ素子8の中心に対して、対称な台形の絞り形状となっているが、この剥離渦Fcが形成されるのであれば、この形状に限定するものではない。
また、上述したように、回路基板7は、ベース部材3に実装された構造となっている。センサ素子8は回路基板7の下側に位置して配置されており(図1参照)、流量測定装置1は、主通路6の流体Faの一部が副通路に流入し、センサ素子8の上部を流れる流体の流量を計測するようになっている。
これまでは、副通路10に空気を流すだけでは空気を整流し流速を向上することができないため、センサ素子8の実装されている壁面と反対側壁面(フレーム部材2)に、絞り形状が形成されてきた。しかし、この絞り形状は、この絞り形状そのものに起因して、上流側に流れる流体の流れを絞ること(例えば、上述した特許文献1に記載の関係L>Dαを満たすように絞ること)により、センサ素子8表面において、流体の流れを整流するものであるが、これだけでは、流速の向上としては充分とはいえないため、本実施形態の如き構成にしたものである。
このような構成にすることにより、突出部11の傾斜面11aの終端部(センサ素子に近い端部)11dにより、センサ素子8の表面から突出部11の側に剥離渦Fcが発生するので、センサ素子8の上流に流れる流体の流れFaが絞られる(流体の通過面積を狭める)ことができる。
このような剥離渦Fcを利用することにより、計測部であるセンサ素子8に流れる整流した流体の流速をさらに向上させることができ、計測部において実装のずれが生じたとしても安定した計測を可能とすることができる。
さらに、センサ素子8近傍において流体の流速を高めようと、さらにセンサ素子8と突出部11の間隔Lをさらに狭めなくてもよいので、この絞りの間隔を十分に確保することができるので、吸入空気中の異物の詰まりを防止でき汚損対策となり得る。
そして、このような剥離渦Fcにより、上流に流れる流体の流れFaを絞ることができるのであれば、この傾斜面の詳細な傾斜及び形状は特に限定されるものではない。さらに、発明者らは、汎用流体解析プログラムSTAR-CD(CD-adapco-japan社製)を用いて、熱流体モデルを用いて解析を行い、図5(a)の実施例に示すように、上流に流れる流体の流れFaを絞る剥離渦Fcが形成されることを確認し、さらに実験によりこのことも確認した。また、図5(b)の比較例に示すように、上述する特許文献1に示すような条件で、単に突出部を設けただけでは、上流に流れる流体の流れFaを絞ることができない点も確認した。なお、図5(a)及び(b)の各構成(部分)には、図4に対応する構成と同じ符号を付している。
そして、上記解析により、剥離渦Fcにより、上流に流れる流体の流れFaを絞ることができるより好ましい条件を導き出した。具体的には、図4に示す絞り角度α及び絞り間隔Lを最適化しすることにより、センサ素子8の実装がばらついた場合においても安定して計測が可能となる形状を解析的及び実験的に見出した。ここで、図4に示す絞り角度αとは、傾斜面11aと、流れ方向Fに対して垂直な平面とのなす角であり、絞り間隔Lとは、突出部11の頂部表面11bとセンサ素子8の表面との距離のことである。
具体的には、まず、絞りの間隔Lについては流れを整流し安定した計測を実施する観点から2.0mm以下とすることが好ましい。これは2.0mm超えた場合、たとえ剥離渦が形成されたとしても、絞り形状及び剥離渦で縮流することによる十分な流速(整流効果)が得られず、空気流量の計測誤差影響が大きくなるためである。
そして絞り間隔L2.0mm以下に対して、剥離渦Fcを形成するに最適な絞り角度αは、流れ垂直方向に対して20°以下とすることが好ましい。なお、図5(a)に示す実施例は、絞り角度αは20°以下、絞り間隔Lは2mm以下の場合であり、図5(b)に示す実施例は、絞り角度αは20°超え、絞り間隔Lは2mm以下の場合であり、それぞれにおける測定される流体の流速は、56m/sを想定したものである。なお、内燃機関の吸気管を流れる流体の流速の範囲で解析を行い、本実施形態でいう整流効果が発現されていることを確認した。
そして、実機試験により、複数の絞り角度に選定した流量測定装置を、その角度毎に複数台を準備し、複数の絞り角度と、各絞り角度毎の測定誤差との関係から見出したものである。図6は、本実施形態に係る流量測定装置の整流効果を示した図であり、角度αと測定誤差との関係のグラフを示した図である。
ここで実装のばらつきである誤差Xとはセンサ素子の位置が絞りの位置に対してずれた場合に発生する実空気流量に対する誤差のことである。なお、誤差Xは、20°における誤差の値を1として正規化した値である。図6に示すように、解析結果からもわかるように、絞り角度αが20°以下でばらつき誤差Xが小さくなっている。この要因としては、凸部(絞り)の終端部11dに剥離渦Fcを発生させ、整流Fbのような流れをセンサ素子8の表面に流し、これまでのものに比べて、その流速がさらに向上したからである。これにより実装によるばらつき影響を低減することができたと考えられる。
以下この効果について下記に説明する。絞り形状となる突出部11を、従来のものよりも急激な傾斜となる傾斜面を有する形状とし、突出部(絞り)11の終端部11dに剥離渦Fcを発生させることで、有形の絞り形状はなくても、剥離渦Fcの存在する領域は空気が通過できないので実質の有効断面積は小さくなる。これによりセンサ素子8に流れる流速が向上するため多少センサ素子8の実装の位置がばらついたとしても計測上の影響度が小さくなり安定した計測が可能となる。つまり絞り角度αが小さくなるほど整流の効果があり流量の測定精度を向上することができる。
ところで、実際に吸気系に取り付けて走行した場合、カーボンやダストといった異物の飛来は避けられない。図7は、図1に示す流量測定装置の突出部(絞り形状)において異物が付着した様子を示す図であり、この異物が進入した場合に絞り角度αを急激にする(小さくし過ぎる)と、絞り開始部11cに異物Cが堆積し形状が変わることにより計測部近傍での流速が変わることがあると想定される。実際に異物Cの堆積が空気流量の計測誤差となるが、最もこの影響が小さくなり、測定誤差が飽和する範囲は10°以上となることが下記の実験によりわかった。
具体的には、複数の絞り角度に選定した流量測定装置を準備し、実機試験により、経時劣化に対する変化(誤差)を求めた。
なお、図8は、発明の絞り形状において、異物付着を考慮した角度αと測定誤差との関係のグラフを示した図であり、誤差Xは、10°における誤差の値を1として正規化した値である。
この結果から、汚損の影響が小さい絞り角度は10°以上であり、この角度以上で使用することが実車条件では最適である。そして、汚損による特性影響も含めて絞り角度を最適化すると絞り角度αは10°〜20°の範囲がよりよいといえる。
〔第2実施形態〕
第2実施形態は、センサ素子8が副空気通路中に露出し、回路基板(板状基板)7により、副通路を2分割した点が、第1実施形態と相違する。従って、この相違点について、以下に示す図面において説明し、第1実施形態と同じ部分には、同一の符号を付してその詳細な説明は省略する。
図9は、第1実施系形態の図1のP−P矢視断面図に相当する、第2実施形態の流量測定装置の断面図である。図10は、図9に示す流量測定装置のセンサ素子近傍の部分的拡大図である。
図11は、第1実施系形態の図1のQ−Q矢視断面図に相当する、第2実施形態の流量測定装置の断面図である。
上述したように、図9に示す流量測定装置1’は、樹脂成形品によるフレーム部材2及びこのフレーム部材を覆うベース部材3のハウジング20’であり、ハウジング20’は、図9に示す吸気管4に挿入され、下側部分が主通路6内に位置している。そして副通路10’においてはベース部材3が凹形状となっており回路基板7の両面が副通路10に露出したような形状となっている。
第1実施形態と同様に、ベース部材3には、平板状の回路基板(板状基板)7に電子部品及び配線パターンが形成された回路と、シリコン基板の上に発熱抵抗体であるセンサ素子8が搭載され、これらが、フレーム部材2に重ね合わせて、電源、信号出力用の端子9a、及びガイド9bを備えたコネクタ部9に接続するようになっている。
そして、図10に示すように、副通路10’が形成された部分では、を回路基板7は、副通路10’内において副通路10’を分割する位置に配置されている。すなわち、回路基板7(板状基板)は、副通路10’内を流れる流体を、2つの流れに分流するものである。
また、図10に示すように、回路基板7は、分流した2つの流れのうち、センサ素子8が実装された回路基板7の表面7aの側を流れる副通路10Aの通路断面積S1が、センサ素子8が実装さていない回路基板7の裏面7bの側を流れる副通路10Bの通路断面積S2よりも小さくなるように配置されている。すなわち、図11示すように、センサ素子計測側の距離D1/基板裏面側の距離D2が、1未満となっている。
また、センサ素子8は、回路基板7の下側に位置して配置されており、主通路6の流体Faの一部が副通路10’に流入し、センサ素子8の上部を流れる流体の流量を計測する。なお、フレーム部材2には、第1実施形態と同じように突出部(絞り形状)11が配置されている。
このように、回路基板7により副通路をセンサ素子計測側と基板裏面側に分割することで、副通路10Aの断面積S1よりも断面積の大きい副通路10Bに流体が流れ易くなり、副通路内に侵入した汚損物を副通路11Bにより多く流し、センサ素子8を通過する流体に含まれるダストや汚損物質を低減することができる。これにより、異物に対する対策を実施しかつ計測精度の安定を測ることができる。
以上、本発明の実施形態について詳述したが、本発明は、前記の実施形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載された本発明の精神を逸脱しない範囲で、種々の設計変更を行うことができるものである。
例えば、第1及び第2実施形態では、熱式空気流量計の製造方法を提示したが、この空気流量測定素子が、例えば圧力式の流量測定素子等であってもよく、熱式に限定されるものではなく、例えば、圧力式、超音波式などの空気流量計であってもよい。
1,1’:流量測定装置
2:フレーム部材
3:ベース部材
4:吸気管
5:挿入穴
6:主通路
7:回路基板(板状基板)
8:センサ素子
9:コネクタ部
10,10’:副通路
10A,10B:分割された副通路
10a:上流側開口部
10b:測定用通路
10c:下流側開口部
10d:対向壁面
11:突出部(絞り形状)
11a:傾斜面
11b:頂部表面
11c:開始部
11d:終端部
20,20’:ハウジング
Fa:センサ素子の上流に流れる流体の流れ
Fb:整流
Fc:剥離渦
C:異物
F:流れ方向
α:絞り角度

Claims (4)

  1. 主通路内に、流体の流れる流れ方向に沿って、流体の一部が流入して通過する副通路が形成されたハウジングと、前記流体の流量を検知するセンサ素子を表面に実装すると共に、前記流れ方向に沿って、表面が形成されるように前記副通路内に配置された板状基板と、を少なくとも備えた流量測定装置であって、
    前記副通路を形成する前記ハウジングの副通路壁面のうち前記センサ素子と対向する側の対向壁面には、前記流れ方向に沿って前記センサ素子に近づくに従って、前記センサ素子の表面に接近するように傾斜した傾斜面を有した突出部が形成されており、前記傾斜面は、前記センサ素子の上流に流れる流体の流れを絞るように、前記センサ素子の表面から前記突出部の側に剥離渦が形成されるように傾斜していることを特徴とする流量測定装置。
  2. 前記傾斜面と、前記流れ方向に対して垂直な平面とのなす角は、20°以下であり、前記突出部の頂部表面と前記センサ素子の表面との距離は、2mm以下となっていることを特徴とする請求項1に記載の流量測定装置。
  3. 前記傾斜面と、前記流れ方向に対して垂直な平面とのなす角は、10°以上であることを特徴とする特徴とする請求項1または2に記載の流量測定装置。
  4. 前記板状基板は、前記副通路内を流れる流体を、2つの流れに分流し、かつ、
    該分流した2つの流れのうち、前記センサ素子が実装された前記板状基材の表面側を流れる前記副通路の通路断面積は、前記センサ素子が実装さていない前記板状基材の裏面側を流れる前記副通路の通路断面積よりも小さくなるように配置されていることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の流量測定装置。
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