JP2012049471A5 - - Google Patents
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しかし、従来のインプリント装置では、インプリント処理で使用される樹脂の気化ガスやパターン欠陥を減少するためにパターン面周囲の空気と置換されるヘリウム等の気体がインプリント装置の外部に漏洩することがあった。本発明は、インプリント処理がなされる空間内の気体のインプリント装置外への流出とインプリント装置外のパーティクルの前記空間内への流入とを低減するのに有利なインプリント装置の提供を例示的目的とする。
本発明によれば、例えば、インプリント処理がなされる空間内の気体のインプリント装置外への流出とインプリント装置外のパーティクルの前記空間内への流入とを低減するのに有利なインプリント装置を提供することができる。
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