JP2012049471A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2012049471A5
JP2012049471A5 JP2010192701A JP2010192701A JP2012049471A5 JP 2012049471 A5 JP2012049471 A5 JP 2012049471A5 JP 2010192701 A JP2010192701 A JP 2010192701A JP 2010192701 A JP2010192701 A JP 2010192701A JP 2012049471 A5 JP2012049471 A5 JP 2012049471A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
imprint
imprint apparatus
space
outside
gas
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2010192701A
Other languages
English (en)
Other versions
JP5539113B2 (ja
JP2012049471A (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP2010192701A priority Critical patent/JP5539113B2/ja
Priority claimed from JP2010192701A external-priority patent/JP5539113B2/ja
Publication of JP2012049471A publication Critical patent/JP2012049471A/ja
Publication of JP2012049471A5 publication Critical patent/JP2012049471A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5539113B2 publication Critical patent/JP5539113B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Description

しかし、従来のインプリント装置では、インプリント処理で使用される樹脂の気化ガスやパターン欠陥を減少するためにパターン面周囲の空気と置換されるヘリウム等の気体がインプリント装置の外部に漏洩することがあった。本発明は、インプリント処理がなされる空間内の気体インプリント装置外への流出インプリント装置外のパーティクル前記空間内への流入とを低減するのに有利なインプリント装置の提供を例示的目的とする。
本発明によれば、例えば、インプリント処理がなされる空間内の気体インプリント装置外への流出インプリント装置外のパーティクル前記空間内への流入とを低減するのに有利なインプリント装置を提供することができる。
JP2010192701A 2010-08-30 2010-08-30 インプリント装置及び物品の製造方法 Active JP5539113B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010192701A JP5539113B2 (ja) 2010-08-30 2010-08-30 インプリント装置及び物品の製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010192701A JP5539113B2 (ja) 2010-08-30 2010-08-30 インプリント装置及び物品の製造方法

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2012049471A JP2012049471A (ja) 2012-03-08
JP2012049471A5 true JP2012049471A5 (ja) 2013-10-10
JP5539113B2 JP5539113B2 (ja) 2014-07-02

Family

ID=45903974

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2010192701A Active JP5539113B2 (ja) 2010-08-30 2010-08-30 インプリント装置及び物品の製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5539113B2 (ja)

Families Citing this family (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5864934B2 (ja) * 2011-07-21 2016-02-17 キヤノン株式会社 インプリントシステム及び物品の製造方法
JP6018405B2 (ja) * 2012-04-25 2016-11-02 キヤノン株式会社 インプリント装置、インプリント方法および物品製造方法
JP2014041861A (ja) * 2012-08-21 2014-03-06 Dainippon Printing Co Ltd インプリント装置およびインプリント方法
JP6071330B2 (ja) * 2012-08-27 2017-02-01 川崎重工業株式会社 熱回収用熱交換器、熱回収ユニットおよび燃焼プラント
KR101808474B1 (ko) * 2012-10-04 2017-12-12 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 임프린트 방법
JP6139434B2 (ja) 2013-12-13 2017-05-31 株式会社東芝 インプリント方法
JP6313591B2 (ja) * 2013-12-20 2018-04-18 キヤノン株式会社 インプリント装置、異物除去方法及び物品の製造方法
JP6429573B2 (ja) * 2014-10-03 2018-11-28 キヤノン株式会社 インプリント装置、インプリント方法および物品製造方法
JP6025079B2 (ja) * 2014-10-07 2016-11-16 大日本印刷株式会社 インプリント装置およびその制御方法
JP6525567B2 (ja) 2014-12-02 2019-06-05 キヤノン株式会社 インプリント装置及び物品の製造方法
JP6702672B2 (ja) * 2015-09-03 2020-06-03 キヤノン株式会社 インプリント装置、物品の製造方法及び供給装置
CN117124507A (zh) 2016-08-26 2023-11-28 分子印记公司 制造单片光子器件的方法、光子器件
JP2017120928A (ja) * 2017-03-13 2017-07-06 大日本印刷株式会社 インプリント装置およびインプリント方法
CN114074092B (zh) * 2020-08-21 2023-09-12 深圳中科飞测科技股份有限公司 一种检测设备及检测系统

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6482742B1 (en) * 2000-07-18 2002-11-19 Stephen Y. Chou Fluid pressure imprint lithography
JP4335495B2 (ja) * 2002-03-27 2009-09-30 株式会社日立ハイテクノロジーズ 定圧チャンバ、それを用いた照射装置及び回路パターンの検査装置
JP2006013401A (ja) * 2004-06-29 2006-01-12 Canon Inc 微細加工装置
JP2006116602A (ja) * 2004-09-24 2006-05-11 Bondotekku:Kk 加圧装置の平行調整方法及び装置
JP2007181938A (ja) * 2006-01-04 2007-07-19 Sumitomo Electric Ind Ltd 微細構造転写装置および微細構造転写方法
JP2008091782A (ja) * 2006-10-04 2008-04-17 Toshiba Corp パターン形成用テンプレート、パターン形成方法、及びナノインプリント装置
JP5137635B2 (ja) * 2007-03-16 2013-02-06 キヤノン株式会社 インプリント方法、チップの製造方法及びインプリント装置
NL1036596A1 (nl) * 2008-02-21 2009-08-24 Asml Holding Nv Re-flow and buffer system for immersion lithography.
JP5121549B2 (ja) * 2008-04-21 2013-01-16 株式会社東芝 ナノインプリント方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2012049471A5 (ja)
JP2011514658A5 (ja)
JP2016531005A5 (ja)
JP2015164123A5 (ja)
MX341938B (es) Proceso para producir estructuras de ceramica tubulares.
JP2009532245A5 (ja)
JP2014516397A5 (ja)
PH12016500856A1 (en) Filtration structure
AR077233A1 (es) Pigmentos magneticos
JP2012220381A5 (ja)
GB201211958D0 (en) Multilayer filter gas turbine including a multilayer fitler and process of filtering
HK1171914A1 (en) Moisture-absorbing treated material and manufacturing method therefor
JP2010223942A5 (ja)
JP2010106327A5 (ja)
JP2012212819A5 (ja)
GT200900218A (es) Nuevo proceso de sintesis de la agomelatina.-
JP2014500802A5 (ja)
CN103386660A (zh) 一种铭板的吸附装置
CN203391449U (zh) 一种通气辊
JP2013172811A5 (ja)
JP2011258135A5 (ja)
JP2010199497A5 (ja)
JP2014198594A5 (ja)
TWD143471S1 (zh) 布(八)
CN202715767U (zh) 一种铸造用排气管