JP2012049293A - スピン偏極装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】第1オーミック電極107の側の電界印加電極106の側面106aと同一平面上で第2半導体層104に形成された第1側面104aと、第2オーミック電極108の側の電界印加電極106の側面106bと同一平面上で第2半導体層104に形成された第2側面104bと、第1オーミック電極107の側の電界印加電極106の側面106aと同一平面上で第3半導体層105に形成された第3側面105aと、第2オーミック電極108の側の電界印加電極106の側面106bと同一平面上で第3半導体層105に形成された第4側面105bとを備える。
【選択図】 図1A
Description
Claims (3)
- 基板の上に形成された第1半導体層と、
この第1半導体層の上に形成された前記第1半導体層よりバンドギャップエネルギーが小さい第2半導体層と、
この第2半導体層の上に形成された前記第2半導体層よりバンドギャップエネルギーが大きい第3半導体層と、
この第3半導体層の上に形成されて前記第2半導体層に電界を印加する電界印加電極と、
前記基板の平面方向に前記電界印加電極を挟んで配置されて前記第2半導体層に接続する第1オーミック電極および第2オーミック電極と、
前記第1オーミック電極の側の前記電界印加電極の側面と同一平面上で前記第2半導体層に形成された第1側面と、
前記第2オーミック電極の側の前記電界印加電極の側面と同一平面上で前記第2半導体層に形成された第2側面と、
前記第1オーミック電極の側の前記電界印加電極の側面と同一平面上で前記第3半導体層に形成された第3側面と、
前記第2オーミック電極の側の前記電界印加電極の側面と同一平面上で前記第3半導体層に形成された第4側面と、
前記基板と前記第1半導体層との間および前記第3半導体層と前記電界印加電極との間の少なくとも一方に形成された電子供給層と、
前記電界印加電極に対し、前記基板の平面方向において前記第1オーミック電極および前記第2オーミック電極を通る方向に垂直な方向に磁場を印加する磁場印加手段と
を少なくとも備え、
前記第1オーミック電極および前記第2オーミック電極は、前記電界印加電極との間の前記第2半導体層に前記電界印加電極による電界が印加されない領域が形成される範囲に前記電界印加電極と離間して配置され、
前記第2半導体層は、電界が印加されると、前記第2半導体層の層厚方向の中央部にこの両脇より伝導帯端のポテンシャルが高い障壁が形成され、
前記第1側面および前記第2側面は、前記第2半導体層の層厚方向に、前記障壁より前記電界印加電極の側に形成されている
ことを特徴とするスピン偏極装置。 - 請求項1記載のスピン偏極装置において、
前記障壁を介して前記第2半導体層の層厚方向に形成される2つの量子井戸層の間で起こる一方のスピンの電子の共鳴の位相が、πの奇数倍とされている
ことを特徴とするスピン偏極装置。 - 請求項1または2記載のスピン偏極装置において、
前記第2半導体層は、層厚方向の中央部に、前記第2半導体層よりバンドギャップエネルギーの大きい第4半導体層を備え、この第4半導体層が前記障壁となることを特徴とするスピン偏極装置。
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- 2010-08-26 JP JP2010189336A patent/JP2012049293A/ja active Pending
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