JP2012023130A - 樹脂封止型半導体装置の形成方法 - Google Patents

樹脂封止型半導体装置の形成方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2012023130A
JP2012023130A JP2010158725A JP2010158725A JP2012023130A JP 2012023130 A JP2012023130 A JP 2012023130A JP 2010158725 A JP2010158725 A JP 2010158725A JP 2010158725 A JP2010158725 A JP 2010158725A JP 2012023130 A JP2012023130 A JP 2012023130A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
semiconductor device
resin
resin material
pressing pin
sealing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2010158725A
Other languages
English (en)
Inventor
Kazuo Kayano
和夫 榧野
Koji Okamoto
好司 岡本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toyota Industries Corp
Original Assignee
Toyota Industries Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toyota Industries Corp filed Critical Toyota Industries Corp
Priority to JP2010158725A priority Critical patent/JP2012023130A/ja
Publication of JP2012023130A publication Critical patent/JP2012023130A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Encapsulation Of And Coatings For Semiconductor Or Solid State Devices (AREA)

Abstract

【課題】半導体装置に至るクラックの発生を防止しつつ半導体装置を樹脂封止することができる樹脂封止型半導体装置の形成方法を提供する。
【解決手段】半導体装置10と押さえピン43との間において、半導体装置10と当接する部分には封止樹脂と同じ材質の第1の樹脂材44を配するとともに押さえピン43と当接する部分には封止樹脂よりも融点の高い第2の樹脂材45を配した状態で、押さえピン43で半導体装置10を押圧する。キャビティ50に封止樹脂を注入して、第1の樹脂材44を封止樹脂と一体化した状態で半導体装置10を封止する。
【選択図】図2

Description

本発明は、樹脂封止型半導体装置の形成方法に関するものである。
樹脂封止型半導体装置の形成方法が特許文献1に開示されており、樹脂封止の際にフレームの一部側面に絶縁物の板を形成し、成形金型内で絶縁物の板面をピンで支持することにより、ピンで押さえた部分は絶縁板でフレーム面がカバーされていることにより、後でのポッティング作業が不要となる。つまり、モールド後にピンの押さえ部が露出するのを防止すべく樹脂をポッティングしてカバーする作業を不要にすることができる。
特開平1−135032号公報
ところが、封止用の樹脂材と、絶縁板を構成する樹脂材の熱膨張性の違いにより封止用の樹脂材と絶縁板との界面にクラックが入る虞があり、この場合、該クラックは封止対象の半導体装置に至ってしまう。
本発明は、このような背景の下になされたものであり、その目的は、半導体装置に至るクラックの発生を防止しつつ半導体装置を樹脂封止することができる樹脂封止型半導体装置の形成方法を提供することにある。
請求項1に記載の発明では、金型のキャビティに配置した半導体装置を押さえピンで押圧しながら前記半導体装置を樹脂で封止する樹脂封止型半導体装置の形成方法において、前記半導体装置と前記押さえピンとの間において、前記半導体装置と当接する部分には封止樹脂と同じ材質の第1の樹脂材を配するとともに前記押さえピンと当接する部分には封止樹脂よりも融点の高い第2の樹脂材を配した状態で、前記押さえピンで前記半導体装置を押圧する第1工程と、前記キャビティに封止樹脂を注入して、前記第1の樹脂材を封止樹脂と一体化した状態で前記半導体装置を封止する第2工程と、を有することを要旨とする。
請求項1に記載の発明によれば、第1工程において、半導体装置と押さえピンとの間において、半導体装置と当接する部分には封止樹脂と同じ材質の第1の樹脂材を配するとともに押さえピンと当接する部分には封止樹脂よりも融点の高い第2の樹脂材を配した状態で、押さえピンで半導体装置が押圧される。このとき、第1の樹脂材と押さえピンとの間には第2の樹脂材が介在されているので、押さえピンからの熱により第1の樹脂材が溶けることなく押さえピンで半導体装置を押圧することができる。
そして、第2工程において、キャビティに封止樹脂が注入されて、第1の樹脂材を封止樹脂と一体化した状態で半導体装置が封止される。よって、第1の樹脂材を封止樹脂と一体化した状態で半導体装置が封止されているので、押さえピンを抜いた後のピン穴から半導体装置が露出することが防止される。また、第1の樹脂材を封止樹脂と一体化した状態で半導体装置が封止されるので、半導体装置に至るクラックの発生を防止しつつ半導体装置を樹脂封止することができる。
請求項2に記載の発明は、請求項1に記載の樹脂封止型半導体装置の形成方法において、前記第2の樹脂材は、前記押さえピンの先端部に被せられる有蓋筒状をなすことを要旨とする。
請求項2に記載の発明によれば、押さえピンの先端部に第2の樹脂材を容易に配置することができる。
請求項3に記載のように、請求項1に記載の樹脂封止型半導体装置の形成方法において、前記第2の樹脂材は、前記押さえピンの先端面に配置され、柱状をなす構成としてもよい。ここで、「柱状」とは、厚さが非常に薄いものも含む。
本発明によれば、半導体装置に至るクラックの発生を防止しつつ半導体装置を樹脂封止することができる。
(a)は実施形態における半導体装置の平面図、(b)は半導体装置の正面図。 (a)は実施形態における半導体モジュールの形成工程を説明するための形成装置の平面図、(b)は(a)のA−A線での縦断面図。 (a)は実施形態における半導体モジュールの形成工程を説明するための形成装置の平面図、(b)は(a)のA−A線での縦断面図。 (a)は実施形態における半導体モジュールの平面図、(b)は(a)のA−A線での縦断面図。 (a)は別例における半導体モジュールの形成工程を説明するための形成装置の平面図、(b)は(a)のA−A線での縦断面図。 (a)は別例における半導体モジュールの形成工程を説明するための形成装置の平面図、(b)は(a)のA−A線での縦断面図。
以下、本発明を具体化した一実施形態を図面に従って説明する。
図1には、実施形態における半導体装置10を示す。図1において、四角形のアルミ板11における上面中央部には四角形の絶縁シート12が配置されている。絶縁シート12は樹脂よりなる。絶縁シート12の上面中央部には四角形のヒートスプレッダ13が配置されている。ヒートスプレッダ13は銅板よりなる。ヒートスプレッダ13の上面中央部には半導体素子(チップ)14がはんだ付けされている。このようにして、アルミ板11の上に、絶縁シート12を介して、上面に半導体素子14をはんだ付けしたヒートスプレッダ13が配置され、これにより、半導体装置10が構成されている。
この半導体装置10が樹脂で封止されて図4に示す半導体モジュール20が構成される。つまり、図4には、樹脂封止型半導体装置としての半導体モジュール20を示し、半導体モジュール20は半導体装置10を封止樹脂30でモールドすることにより構成されている。
図4において、半導体素子14、ヒートスプレッダ13、絶縁シート12およびアルミ板11は封止樹脂30にてモールドされている。ただし、アルミ板11の下面は露出している。そして、半導体素子14は通電により発熱し、その熱はヒートスプレッダ13に伝わるとともに、ヒートスプレッダ13から絶縁シート12を介してアルミ板11に伝わり、アルミ板11の下面から大気に逃がされる。
次に、半導体モジュール20の形成方法について説明する。
図2に示すように、樹脂封止用の金型40として、下金型41と上金型42を具備している。
下金型41には上面に開口する凹部41aが形成されている。また、上金型42には下面に開口する凹部42aが形成されている。そして、下金型41の上に上金型42が配置される。この状態において、下金型41の凹部41aと上金型42の凹部42aとによりキャビティ50が区画されている。キャビティ50に半導体装置10が配置され、この状態で封止樹脂が注入されることになる。
下金型41の凹部41aの底面には四角形状をなす凹部41bが形成されている。凹部41b内にアルミ板11が嵌合され、アルミ板11を位置決めした状態で配置することができるようになっている。アルミ板11の上には絶縁シート12が仮付けした状態で配置される。絶縁シート12の上にはヒートスプレッダ13が上面に半導体素子14をはんだ付けした状態で載置される。
上金型42には円形の貫通孔42bが4つ形成されており、4つの貫通孔42bはヒートスプレッダ13の上面での四隅に対応する位置において上下に貫通している。各貫通孔42bには、それぞれ円柱状の押さえピン43が配置され、押さえピン43は貫通孔42b内を摺動可能に支持されている。押さえピン43は、本体部43aと該本体部43aに比べ縮径された先端部43bとからなる。押さえピン43は、図示しない付勢部材により下方に付勢されており、キャビティ50に配置された半導体装置10を押さえピン43で押圧することができるようになっている。
金型40(下金型41、上金型42)は予め予備加熱されるようになっている。そして、樹脂を封止する際において下金型41、上金型42および押さえピン43は例えば170℃に加熱されている。
各押さえピン43で、半導体装置10のヒートスプレッダ13の四隅を、ヒートスプレッダ13と押さえピン43との間において第1の樹脂材44と第2の樹脂材45を配した状態で押圧する。
第1の樹脂材44は、封止樹脂30と同じ材質であり、第1の樹脂材44の融点は例えば150℃である。第1の樹脂材44は、半導体装置10と押さえピン43との間に配設され、下面が半導体装置10と当接している。本実施形態では、円柱状をなし、下面がヒートスプレッダ13と当接している。
第2の樹脂材45は、封止樹脂30よりも融点が高く、第2の樹脂材45の融点は例えば200℃である。第2の樹脂材45は、第1の樹脂材44と押さえピン43との間に設けられ、第1の樹脂材44および押さえピン43と当接している。本実施形態では、第2の樹脂材45は、有蓋円筒状をなし、押さえピン43の先端部43bに被せられている。なお、第2の樹脂材45の外径と押さえピン43の本体部43aの外径とは同一寸法となっている。
ここで、樹脂封止対象の半導体装置10は冷えている。また、下金型41、上金型42および押さえピン43は、例えば170℃に加熱され、第1の樹脂材44の融点は例えば150℃であるが、押さえピン43と第1の樹脂材44との間には、融点が例えば200℃の第2の樹脂材45が介在されているので、第2の樹脂材45が断熱材として機能して第1の樹脂材44が押さえピン43の熱によって溶けることはない。
このように、半導体装置10と押さえピン43との間において、半導体装置10と当接する部分には、封止樹脂30と同じ材質の第1の樹脂材44を配するとともに、押さえピン43と当接する部分には、封止樹脂30よりも融点の高い第2の樹脂材45を配し、この状態で、押さえピン43で半導体装置10を押圧する。よって、押さえピン43でヒートスプレッダ13の上面を支持して半導体装置10と金型40(下金型41と上金型42)の内面との間隔を一定に保持することができる。
この状態から、図3に示すように、ゲート(図示略)を通して、溶融した封止樹脂30をキャビティ50に注入する。このとき、注入する封止樹脂30の温度は、例えば、170℃になっている。そして、図2の第1の樹脂材44は、注入された封止樹脂30と接触すると溶け、封止樹脂30と一体化される。また、封止樹脂30を注入するまでは押さえピン43によりヒートスプレッダ13を押圧し、封止樹脂30が注入されると注入樹脂圧力でヒートスプレッダ13を押圧する。
このように、キャビティ50に封止樹脂30を注入して、第1の樹脂材44を封止樹脂30と一体化した状態で半導体装置10を封止する。
そして、封止樹脂30を硬化した後、下金型41と上金型42を分離して、図4の半導体モジュール20を取り出す。
図4の半導体モジュール20において、封止樹脂30には押さえピン43を抜いた後のピン穴31が形成される。また、ピン穴31の底部には第2の樹脂材45が残る。
ここで、第2の樹脂材45とヒートスプレッダ13との間に第1の樹脂材44が無く、第2の樹脂材45と封止樹脂30がヒートスプレッダ13と接する場合、第2の樹脂材45と封止樹脂30の界面に第2の樹脂材45と封止樹脂30の熱膨張性の違いによる剥離(クラック)が発生すると、この剥離(クラック)はヒートスプレッダ13に至ってしまう。その結果、封止を完全に行うことができず気密性や液密性を確保することが難しくなる。
本実施形態においては、1種類の樹脂材(封止樹脂30および封止樹脂30と一体化される第1の樹脂材44)のみで半導体装置10を覆う構成のため、第2の樹脂材45と封止樹脂30の界面に剥離(クラック)が発生したとしても、この界面剥離(クラック)はヒートスプレッダ13に至らない。これにより、封止を完全に行うことができ、気密性や液密性を確保することができる。
以上のごとく本実施形態によれば、以下のような効果を得ることができる。
(1)金型のキャビティ50に配置した半導体装置10を押さえピン43で押圧しながら半導体装置10を樹脂で封止する樹脂封止型半導体装置の形成方法として次のようにした。図2に示すように、半導体装置10と押さえピン43との間において、半導体装置10と当接する部分には封止樹脂30と同じ材質の第1の樹脂材44を配するとともに押さえピン43と当接する部分には封止樹脂30よりも融点の高い第2の樹脂材45を配した状態で、押さえピン43で半導体装置10を押圧する(第1工程)。そして、図3に示すように、キャビティ50に封止樹脂30を注入して、第1の樹脂材44を封止樹脂30と一体化した状態で半導体装置10を封止する(第2工程)。
よって、図2の第1の樹脂材44と押さえピン43との間には第2の樹脂材45が介在されているので、押さえピン43からの熱により第1の樹脂材44が溶けることなく押さえピン43で半導体装置10を押圧することができる。また、図4に示す金型から外した状態において、第1の樹脂材44を封止樹脂30と一体化した状態で半導体装置10が封止されているので、押さえピン43を抜いた後のピン穴31から半導体装置10が露出することが防止される。さらに、第1の樹脂材44を封止樹脂30と一体化した状態で半導体装置10が封止されるので、半導体装置10に至るクラックの発生を防止しつつ半導体装置10を樹脂封止することができる。
(2)第2の樹脂材45は、押さえピン43の先端部に被せられる有蓋筒状をなすので、押さえピン43の先端部に第2の樹脂材45を容易に配置することができる。
実施形態は前記に限定されるものではなく、例えば、次のように具体化してもよい。
・図2の第2の樹脂材45に代わり、図5に示すように、円柱状の押さえピン46の先端面に、円柱状の第2の樹脂材47を配置し、第2の樹脂材47の下の第1の樹脂材44を封止樹脂30の注入により図6に示すように封止樹脂30と一体化するようにしてもよい。なお、柱状の第2の樹脂材47について、厚さが非常に薄いもの(例えば板状)であってもよい。
10…半導体装置、11…アルミ板、12…絶縁シート、13…ヒートスプレッダ、14…半導体素子、20…半導体モジュール、30…封止樹脂、40…金型、43…押さえピン、44…第1の樹脂材、45…第2の樹脂材、46…押さえピン、47…第2の樹脂材、50…キャビティ。

Claims (3)

  1. 金型のキャビティに配置した半導体装置を押さえピンで押圧しながら前記半導体装置を樹脂で封止する樹脂封止型半導体装置の形成方法において、
    前記半導体装置と前記押さえピンとの間において、前記半導体装置と当接する部分には封止樹脂と同じ材質の第1の樹脂材を配するとともに前記押さえピンと当接する部分には封止樹脂よりも融点の高い第2の樹脂材を配した状態で、前記押さえピンで前記半導体装置を押圧する第1工程と、
    前記キャビティに封止樹脂を注入して、前記第1の樹脂材を封止樹脂と一体化した状態で前記半導体装置を封止する第2工程と、
    を有することを特徴とする樹脂封止型半導体装置の形成方法。
  2. 前記第2の樹脂材は、前記押さえピンの先端部に被せられる有蓋筒状をなすことを特徴とする請求項1に記載の樹脂封止型半導体装置の形成方法。
  3. 前記第2の樹脂材は、前記押さえピンの先端面に配置され、柱状をなすことを特徴とする請求項1に記載の樹脂封止型半導体装置の形成方法。
JP2010158725A 2010-07-13 2010-07-13 樹脂封止型半導体装置の形成方法 Pending JP2012023130A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010158725A JP2012023130A (ja) 2010-07-13 2010-07-13 樹脂封止型半導体装置の形成方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010158725A JP2012023130A (ja) 2010-07-13 2010-07-13 樹脂封止型半導体装置の形成方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2012023130A true JP2012023130A (ja) 2012-02-02

Family

ID=45777172

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2010158725A Pending JP2012023130A (ja) 2010-07-13 2010-07-13 樹脂封止型半導体装置の形成方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2012023130A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015225874A (ja) * 2014-05-26 2015-12-14 アサヒ・エンジニアリング株式会社 半導体装置の樹脂成形装置及び半導体装置の樹脂成形方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015225874A (ja) * 2014-05-26 2015-12-14 アサヒ・エンジニアリング株式会社 半導体装置の樹脂成形装置及び半導体装置の樹脂成形方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6249892B2 (ja) 半導体装置の製造方法
KR101928681B1 (ko) 전력용 반도체 장치 및 그 제조 방법
JP2008004570A (ja) 樹脂封止型半導体装置の製造方法、樹脂封止型半導体装置の製造装置、および樹脂封止型半導体装置
US20020017738A1 (en) Resin sealing method and resin sealing apparatus
JP5873678B2 (ja) Ledパッケージ用基板の製造方法、および、ledパッケージの製造方法
JP2004216558A (ja) 電子部品の樹脂封止成形方法及び装置
TWI445139B (zh) 晶片封裝結構、晶片封裝模具與晶片封裝製程
US8409885B2 (en) Method for packaging light emitting diode
JP6231459B2 (ja) 半導体デバイスの製造方法
US9911628B2 (en) Semiconductor device leadframe
JP2012023130A (ja) 樹脂封止型半導体装置の形成方法
JP4376247B2 (ja) 半導体装置の製造方法
JP2011187819A (ja) 樹脂封止型パワーモジュールおよびその製造方法
JP6237919B2 (ja) リードフレーム、半導体装置の製造方法
JP2004153045A (ja) 電子部品の樹脂封止成形方法及び金型
KR101835787B1 (ko) 반도체 패키지 제조용 금형 장치
US20210175141A1 (en) Semiconductor device and method for manufacturing semiconductor device
JP2015188006A (ja) 中空パッケージの製造方法および中空パッケージ
KR101089801B1 (ko) 반도체 패키지 제조용 금형 장치
US9190350B2 (en) Semiconductor device leadframe
US20160133808A1 (en) Method of producing an optoelectronic component
JP6062760B2 (ja) 樹脂封止金型および樹脂封止方法
JP6182951B2 (ja) 半導体装置およびその製造方法
JP2005081695A (ja) 樹脂成形用金型
JP2015173170A (ja) 樹脂封止金型およびそれを用いた半導体装置の製造方法