JP2012023094A5 - - Google Patents
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Description
本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態又は適用例として実現することが可能である。
[適用例1]
本発明の表面加工装置は、被処理物にエッチング液を供給することにより前記被処理物を加工する加工装置であって、
前記被処理物を支持する支持台と、
前記支持台に対して移動可能に設けられ、前記支持台に支持されている前記被処理物に対して前記エッチング液を送出する送出口および前記送出口から送出された前記エッチング液を吸引する吸引口を有するノズルと、を有し、
前記吸引口および前記送出口は、それぞれ、前記ノズルの移動方向に交差する方向に延在する長手形状をなし、前記ノズルの移動方向に並んでいて、
前記吸引口は、前記送出口の前記ノズルの移動方向後方側に配置されていることを特徴とする。
これにより、被処理面のエッチング液が供給されている領域内でのエッチングレートを均一化し、被処理物に対して所望のエッチングを行うことができる表面加工装置を提供することができる。
[適用例1]
本発明の表面加工装置は、被処理物にエッチング液を供給することにより前記被処理物を加工する加工装置であって、
前記被処理物を支持する支持台と、
前記支持台に対して移動可能に設けられ、前記支持台に支持されている前記被処理物に対して前記エッチング液を送出する送出口および前記送出口から送出された前記エッチング液を吸引する吸引口を有するノズルと、を有し、
前記吸引口および前記送出口は、それぞれ、前記ノズルの移動方向に交差する方向に延在する長手形状をなし、前記ノズルの移動方向に並んでいて、
前記吸引口は、前記送出口の前記ノズルの移動方向後方側に配置されていることを特徴とする。
これにより、被処理面のエッチング液が供給されている領域内でのエッチングレートを均一化し、被処理物に対して所望のエッチングを行うことができる表面加工装置を提供することができる。
[適用例2]
本発明の表面加工装置では、前記ノズルの移動速度を制御する移動速度制御部を備えていることが好ましい。
本発明の表面加工装置では、前記ノズルの移動速度を制御する移動速度制御部を備えていることが好ましい。
[適用例3]
本発明の表面加工装置では、前記吸引口および前記送出口は、長手方向の長さが互いに等しいことが好ましい。
これにより、エッチング液が供給された被処理面内の領域に、エッチング液が均一に分布することとなり、領域内のエッチングレートが均一となる。
本発明の表面加工装置では、前記吸引口および前記送出口は、長手方向の長さが互いに等しいことが好ましい。
これにより、エッチング液が供給された被処理面内の領域に、エッチング液が均一に分布することとなり、領域内のエッチングレートが均一となる。
[適用例4]
本発明の表面加工装置では、前記吸引口および前記送出口は、互いに同じ形状をなしていることが好ましい。
これにより、送出口からのエッチング液の送出量と、吸引口からのエッチング液の吸引量とのバランスが良好となり、エッチング液を被処理面上に均一に分散させることができる。
本発明の表面加工装置では、前記吸引口および前記送出口は、互いに同じ形状をなしていることが好ましい。
これにより、送出口からのエッチング液の送出量と、吸引口からのエッチング液の吸引量とのバランスが良好となり、エッチング液を被処理面上に均一に分散させることができる。
[適用例5]
本発明の表面加工装置では、前記吸引口および前記送出口は、それぞれ、長方形状をなしていることが好ましい。
これにより、エッチング液は、送出口の各部位から偏りなく等しい流量で送出され、被処理面に供給された後、吸引口の各部位から偏りなく等しい流量で吸引される。その結果、所定時刻にエッチング液が供給された被処理面内の領域に、エッチング液が均一に分布することとなり、領域内のエッチングレートが均一となる。
本発明の表面加工装置では、前記吸引口および前記送出口は、それぞれ、長方形状をなしていることが好ましい。
これにより、エッチング液は、送出口の各部位から偏りなく等しい流量で送出され、被処理面に供給された後、吸引口の各部位から偏りなく等しい流量で吸引される。その結果、所定時刻にエッチング液が供給された被処理面内の領域に、エッチング液が均一に分布することとなり、領域内のエッチングレートが均一となる。
[適用例6]
本発明の表面加工装置では、前記ノズルは、前記エッチング液を前記送出口から前記吸引口へ案内する案内溝を有していることが好ましい。
これにより、被処理面に供給されたエッチング液をスムーズに吸引口に導くことができる。
本発明の表面加工装置では、前記ノズルは、前記エッチング液を前記送出口から前記吸引口へ案内する案内溝を有していることが好ましい。
これにより、被処理面に供給されたエッチング液をスムーズに吸引口に導くことができる。
[適用例7]
本発明の表面加工装置では、前記案内溝は、前記ノズルの移動方向に延在していることが好ましい。
これにより、被処理面に供給されたエッチング液をよりスムーズに吸引口に導くことができる。
本発明の表面加工装置では、前記案内溝は、前記ノズルの移動方向に延在していることが好ましい。
これにより、被処理面に供給されたエッチング液をよりスムーズに吸引口に導くことができる。
[適用例8]
本発明の表面加工装置では、前記ノズルは、第1の開口および第2の開口を有し、
前記ノズルの移動方向に応じて、前記第1の開口を前記送出口とし前記第2の開口を前記吸引口とする状態と、前記第1の開口を前記吸引口とし前記第2の開口を前記送出口とする状態とを切り替えることができることが好ましい。
これにより、ノズルが一方の開口側に移動する場合、他方の開口側に移動する場合のいずれの場合であっても、被処理面の任意の領域をエッチング液の送出口に遅れて吸引口が通過するため、送出口から送出され被処理面に供給されたエッチング液を吸引口からスムーズに吸引することができる。そのため、より確実に、被処理面に供給されたエッチング液を吸引口から偏りなく均一に吸引することができる。
本発明の表面加工装置では、前記ノズルは、第1の開口および第2の開口を有し、
前記ノズルの移動方向に応じて、前記第1の開口を前記送出口とし前記第2の開口を前記吸引口とする状態と、前記第1の開口を前記吸引口とし前記第2の開口を前記送出口とする状態とを切り替えることができることが好ましい。
これにより、ノズルが一方の開口側に移動する場合、他方の開口側に移動する場合のいずれの場合であっても、被処理面の任意の領域をエッチング液の送出口に遅れて吸引口が通過するため、送出口から送出され被処理面に供給されたエッチング液を吸引口からスムーズに吸引することができる。そのため、より確実に、被処理面に供給されたエッチング液を吸引口から偏りなく均一に吸引することができる。
[適用例9]
本発明の表面加工装置では、前記ノズルは、前記送出口を介して対向配置された1対の前記吸引口を有し、
前記1対の吸引口のうちの前記ノズルの移動方向後方側にある前記吸引口から前記エッチング液を吸引することが好ましい。
これにより、ノズルが一方の吸引口側に移動する場合、他方の吸引口側に移動する場合のいずれの場合であっても、被処理面の任意の領域をエッチング液の送出口に遅れて吸引口が通過するため、送出口から送出され被処理面に供給されたエッチング液を吸引口からスムーズに吸引することができる。そのため、より確実に、被処理面に供給されたエッチング液を吸引口から偏りなく均一に吸引することができる。
本発明の表面加工装置では、前記ノズルは、前記送出口を介して対向配置された1対の前記吸引口を有し、
前記1対の吸引口のうちの前記ノズルの移動方向後方側にある前記吸引口から前記エッチング液を吸引することが好ましい。
これにより、ノズルが一方の吸引口側に移動する場合、他方の吸引口側に移動する場合のいずれの場合であっても、被処理面の任意の領域をエッチング液の送出口に遅れて吸引口が通過するため、送出口から送出され被処理面に供給されたエッチング液を吸引口からスムーズに吸引することができる。そのため、より確実に、被処理面に供給されたエッチング液を吸引口から偏りなく均一に吸引することができる。
[適用例10]
本発明の表面加工装置では、前記1対の吸引口は、前記送出口に対して対称的に設けられており、かつ、互いに同じ形状および大きさをなしていることが好ましい。
これにより、一方の吸引口からエッチング液を吸引する場合と、他方の吸引口からエッチング液を吸引する場合とで、エッチング液の単位時間当たりの吸引量を等しくすることができる。そのため、上記いずれの場合であっても、同じ条件(エッチングレート)で被処理面に対するエッチング処理を行うことができる。
本発明の表面加工装置では、前記1対の吸引口は、前記送出口に対して対称的に設けられており、かつ、互いに同じ形状および大きさをなしていることが好ましい。
これにより、一方の吸引口からエッチング液を吸引する場合と、他方の吸引口からエッチング液を吸引する場合とで、エッチング液の単位時間当たりの吸引量を等しくすることができる。そのため、上記いずれの場合であっても、同じ条件(エッチングレート)で被処理面に対するエッチング処理を行うことができる。
[適用例11]
本発明の表面加工装置では、前記ノズルは、前記吸引口を介して対向配置された1対の前記送出口を有し、
前記1対の送出口のうちの前記ノズルの移動方向先方側にある前記送出口から前記エッチング液を送出することが好ましい。
これにより、ノズルが一方の送出口側に移動する場合、他方の送出口側に移動する場合のいずれの場合であっても、被処理面の任意の領域をエッチング液の送出口に遅れて吸引口が通過するため、送出口から送出され被処理面に供給されたエッチング液を吸引口からスムーズに吸引することができる。そのため、より確実に、被処理面に供給されたエッチング液を吸引口から偏りなく均一に吸引することができる。
本発明の表面加工装置では、前記ノズルは、前記吸引口を介して対向配置された1対の前記送出口を有し、
前記1対の送出口のうちの前記ノズルの移動方向先方側にある前記送出口から前記エッチング液を送出することが好ましい。
これにより、ノズルが一方の送出口側に移動する場合、他方の送出口側に移動する場合のいずれの場合であっても、被処理面の任意の領域をエッチング液の送出口に遅れて吸引口が通過するため、送出口から送出され被処理面に供給されたエッチング液を吸引口からスムーズに吸引することができる。そのため、より確実に、被処理面に供給されたエッチング液を吸引口から偏りなく均一に吸引することができる。
[適用例12]
本発明の表面加工装置では、前記1対の送出口は、前記吸引口に対して対称的に設けられており、かつ、互いに同じ形状および大きさをなしていることが好ましい。
これにより、一方の送出口からエッチング液を送出する場合と、他方の送出口からエッチング液を送出する場合とで、エッチング液の単位時間当たりの送出量を等しくすることができる。そのため、上記いずれの場合であっても、同じ条件(エッチングレート)で被処理面に対するエッチング処理を行うことができる。
[適用例13]
本発明の表面加工装置では、前記ノズルは、前記エッチング液が供給された前記被処理面内の領域に前記エッチング液が均一に分布するように前記吸引口から前記エッチング液を吸引することが好ましい。
本発明の表面加工装置では、前記1対の送出口は、前記吸引口に対して対称的に設けられており、かつ、互いに同じ形状および大きさをなしていることが好ましい。
これにより、一方の送出口からエッチング液を送出する場合と、他方の送出口からエッチング液を送出する場合とで、エッチング液の単位時間当たりの送出量を等しくすることができる。そのため、上記いずれの場合であっても、同じ条件(エッチングレート)で被処理面に対するエッチング処理を行うことができる。
[適用例13]
本発明の表面加工装置では、前記ノズルは、前記エッチング液が供給された前記被処理面内の領域に前記エッチング液が均一に分布するように前記吸引口から前記エッチング液を吸引することが好ましい。
Claims (13)
- 被処理物にエッチング液を供給することにより前記被処理物を加工する加工装置であって、
前記被処理物を支持する支持台と、
前記支持台に対して移動可能に設けられ、前記支持台に支持されている前記被処理物に対して前記エッチング液を送出する送出口および前記送出口から送出された前記エッチング液を吸引する吸引口を有するノズルと、を有し、
前記吸引口および前記送出口は、それぞれ、前記ノズルの移動方向に交差する方向に延在する長手形状をなし、前記ノズルの移動方向に並んでいて、
前記吸引口は、前記送出口の前記ノズルの移動方向後方側に配置されていることを特徴とする表面加工装置。 - 前記ノズルの移動速度を制御する移動速度制御部を備えている請求項1に記載の表面加工装置。
- 前記吸引口および前記送出口は、長手方向の長さが互いに等しいことを特徴とする請求項1または2に記載の表面加工装置。
- 前記吸引口および前記送出口は、互いに同じ形状をなしている請求項1ないし3のいずれか一項に記載の表面加工装置。
- 前記吸引口および前記送出口は、それぞれ、長方形状をなしている請求項4に記載の表面加工装置。
- 前記ノズルは、前記エッチング液を前記送出口から前記吸引口へ案内する案内溝を有している請求項1ないし5のいずれか一項に記載の表面加工装置。
- 前記案内溝は、前記ノズルの移動方向に延在している請求項6に記載の表面加工装置。
- 前記ノズルは、第1の開口および第2の開口を有し、
前記ノズルの移動方向に応じて、前記第1の開口を前記送出口とし前記第2の開口を前記吸引口とする状態と、前記第1の開口を前記吸引口とし前記第2の開口を前記送出口とする状態とを切り替えることができる請求項1ないし7のいずれか一項に記載の表面加工装置。 - 前記ノズルは、前記送出口を介して対向配置された1対の前記吸引口を有し、
前記1対の吸引口のうちの前記ノズルの移動方向後方側にある前記吸引口から前記エッチング液を吸引する請求項1ないし7のいずれか一項に記載の表面加工装置。 - 前記1対の吸引口は、前記送出口に対して対称的に設けられており、かつ、互いに同じ形状および大きさをなしている請求項9に記載の表面加工装置。
- 前記ノズルは、前記吸引口を介して対向配置された1対の前記送出口を有し、
前記1対の送出口のうちの前記ノズルの移動方向先方側にある前記送出口から前記エッチング液を送出する請求項1ないし7のいずれか一項に記載の表面加工装置。 - 前記1対の送出口は、前記吸引口に対して対称的に設けられており、かつ、互いに同じ形状および大きさをなしている請求項11に記載の表面加工装置。
- 前記ノズルは、前記エッチング液が供給された前記被処理面内の領域に前記エッチング液が均一に分布するように前記吸引口から前記エッチング液を吸引する請求項1ないし12のいずれか一項に記載の表面加工装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010157876A JP5598972B2 (ja) | 2010-07-12 | 2010-07-12 | 表面加工装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2010157876A JP5598972B2 (ja) | 2010-07-12 | 2010-07-12 | 表面加工装置 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
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JP2012023094A JP2012023094A (ja) | 2012-02-02 |
JP2012023094A5 true JP2012023094A5 (ja) | 2013-09-05 |
JP5598972B2 JP5598972B2 (ja) | 2014-10-01 |
Family
ID=45777141
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010157876A Expired - Fee Related JP5598972B2 (ja) | 2010-07-12 | 2010-07-12 | 表面加工装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5598972B2 (ja) |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001135568A (ja) * | 1999-11-08 | 2001-05-18 | Canon Inc | 走査型投影露光装置およびデバイス製造方法 |
JP4189279B2 (ja) * | 2003-07-03 | 2008-12-03 | 株式会社東芝 | 基板処理装置 |
KR101345020B1 (ko) * | 2003-08-29 | 2013-12-26 | 가부시키가이샤 니콘 | 액체회수장치, 노광장치, 노광방법 및 디바이스 제조방법 |
JP2006013228A (ja) * | 2004-06-28 | 2006-01-12 | Toshiba Corp | 基板処理方法及び基板処理装置 |
JP5039939B2 (ja) * | 2006-01-24 | 2012-10-03 | 国立大学法人大阪大学 | 表面加工方法及び装置 |
JP2009224366A (ja) * | 2008-03-13 | 2009-10-01 | Sekisui Chem Co Ltd | エッチング装置 |
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2010
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