JP2012006936A - 3−フェニル(チオ)ウラシル類およびジチオウラシル類を製造する方法 - Google Patents

3−フェニル(チオ)ウラシル類およびジチオウラシル類を製造する方法 Download PDF

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カイル,ミヒャエル
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Abstract

【課題】3-フェニル(チオ)ウラシル類およびジチオウラシル類の製造方法の提供。
【解決手段】下記式において、X、X、Ar及びAを有するカルバメート類と、X、R、R及びRを有するエナミン類を反応させる、3-フェニル(チオ)ウラシル類およびジチオウラシル類の製造方法。(式中、X、X、Xは酸素または硫黄を表し、Arはフェニル残基を表し、Aはアミノ残基を表し、R、R及びRは水素等を表す。)
Figure 2012006936

【選択図】なし

Description

本発明は式I:
Figure 2012006936
[式中、
R1は水素、C1〜C6-アルキル、C1〜C4-シアノアルキル、C1〜C6-ハロアルキル、C3〜C8-シクロアルキル、C2〜C6-アルケニル、C2〜C6-ハロアルケニル、C3〜C6-アルキニル、C3〜C6-ハロアルキニル、フェニル-C1〜C4-アルキルまたはアミノであり、
R2およびR3はそれぞれ独立して水素、C1〜C6-アルキル、C1〜C6-ハロアルキル、C3〜C8-シクロアルキル、C2〜C6-アルケニル、C2〜C6-ハロアルケニル、C3〜C6-アルキニルまたはC3〜C6-ハロアルキニルであり;
X1、X2およびX3はそれぞれ独立して酸素または硫黄であり;
Arは部分的にまた全てハロゲン化されていてもよいおよび/またはシアノ、C1〜C4-アルキルもしくはC1〜C4-ハロアルキルからなる群より選択される1〜3つの基を保持してもよいフェニルであり、そして
Aは一級もしくは二級アミンから誘導される基またはNH2である]
の3-フェニル(チオ)ウラシル類およびジチオウラシル類を製造する方法に関する。
ウラシル環に対してメタ位においてフェニル環上に、酸素もしくは硫黄原子を経由してフェニル環と結合するヘテロ環または不飽和エステル、チオエステルまたはアミド基を保持するフェニルウラシル類は特許文献1(WO 04/056785)から公知である。
一般式Iの3-フェニルウラシル類およびその対応するチオ-およびジチオウラシル類は原則として特許文献2(WO 01/83459)から公知である。これらの化合物は特許文献2に記載の教示によって次のA〜Cの方法により製造される。
次のA〜Cの方法において、置換基ArおよびAはそれぞれ、とりわけ先に規定した定義を有し、HalはハロゲンでありそしてQは任意に置換されたヘテロ環である:
方法A:
置換された安息香酸の置換された硫酸ジアミドとのN,N-カルボニルジイミダゾール(CDI)の存在のもとでの縮合またはカルボン酸の酸クロリドへの変換と続いての酸クロリドの硫酸ジアミドとの反応であって、次のスキームA:
Figure 2012006936
による。
この手順の欠点は、使用する安息香酸が前駆体エステルから三臭化ホウ素を用いて対応する塩形成による切断によってのみ得られることである。さらに、硫酸ジアミドとの縮合の収率はわずか16〜45%である。予め製造した酸クロリドを経由する迂回路も、所望のベンゾイル硫酸ジアミドに対してわずかに26%である。
方法B:
次のスキームB:
Figure 2012006936
による、ハロゲン原子のウラシル、チオウラシルまたはジチオウラシル基との置き換え。
方法Bは、最初に使用するハロゲン化芳香族をサンドマイヤー反応により複雑な方法で製造しなければならないという欠点を有する。さらに、さらなるハロゲン置換基がAr上に存在するとハロゲン基に関する反応選択性は不満足である。
方法C:
アニリン化合物のオキサジノンとの反応および得られる3-フェニルウラシルの塩基の存在での続くアルキル化であって、次のスキームC:
Figure 2012006936
による。
最初に使用するオキサジノンを複雑な方式で、すなわち、アミノクロトン酸エステルをジアルキルカルバモイルクロリドと反応させ、続いてオキシ塩化リン、五塩化リンまたは塩化オキサリルを用いて環化することにより製造しなければならないことが不利である。この方法は同様に、使用する出発物質と反応段階が原因となって、経済的に十分競争できない。
WO 04/056785 WO 01/83459
それ故に、本発明の目的は式Iの3-フェニル(チオ)ウラシル類および-ジチオウラシル類を製造する方法であって、高収率と良い純度で式Iの3-フェニル(チオ)ウラシル類および-ジチオウラシル類を得てかつさらに概説した従来技術の欠点を克服する上記方法を提供することにある。
本発明のさらなる目的は、式IIのカルバメート類を製造するための簡単なかつ取扱い容易な方法であって、高収率と良い純度で式IIのカルバメート類を得る上記方法を提供することである。
本発明のさらなる目的は、さらに式IIのカルバメート類を製造する方法を含んでなる式Iの3-フェニル(チオ)ウラシル類および-ジチオウラシル類を製造する方法を提供することである。
本発明者らは、実に意外なことに、この目的が式II:
Figure 2012006936
[式中、置換基X1、X3、ArおよびAはそれぞれ先に定義した通りでありそして
L1は求核置換しうる脱離基である];
のカルバメートを、式IIIのエナミン類:
Figure 2012006936
[式中、置換基X2、R1、R2およびR3はそれぞれ先に定義した通りであり、そして
L2は求核置換しうる脱離基である]
と反応させる方法により達成することを見出した。
本発明はそれ故に、式IIのカルバメート類の式IIIのエナミンとの反応を含んでなる、式Iの3-フェニル(チオ)ウラシル類および-ジチオウラシル類を製造する方法を提供する。
式IIのカルバメート類は、それ自体、従来技術の方法(例えば Houben-Weyl, Methoden der organischen Chemie [Methods of Organic chemistry], E5, 1985, p. 972-980、およびまたVIII, p. 655およびXI part 2, p. 10;J. B. Pressら, J. Het. Chem., 23, 6, 1986, p. 1821-1828;I. Vantheyら, Tetrahedron Lett. 41, 33, 2000, p. 6347-6350;M. Belleyら, Synlett, 2, 2001, p. 222-225)と類似するやり方で、式IV:
Figure 2012006936
[式中、X3、ArおよびAはそれぞれ先に定義した通りである]
のアミン類から、式V:
Figure 2012006936
[式中、X1およびL1はそれぞれ先に定義した通りでありそしてL3は求核置換しうる脱離基である]
の化合物と反応させることにより製造することができる。
従って、本発明による方法は、好ましくは、この経路による式IIのカルバメート類の提供を含むものである。
式IIのカルバメート類は新規であって、本発明による方法の出発物質または中間体として本発明の主題の一部分を同様に形成する。
置換基R1〜R3、ArおよびAの定義においてまたはフェニル環上の基として規定した有機分子部分は、定義ハロゲンの様に、個々のグループメンバーの個々のリストに対する集合用語を構成し、表現Cn〜Cmは分子部分の炭素原子の可能な数を規定する。全ての炭化水素鎖、すなわち全てのアルキル、ハロアルキル、シアノアルキル、シアノアルコキシ、アルコキシ、ハロアルコキシ、アルキルチオ、アルキルスルフィニル、アルキルスルホニル、ジアルキルアミノ、アルキルカルボニル、アルコキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、ジアルキルアミノカルボニル、アルケニル、ハロアルケニル、アルケニルオキシ、ハロアルケニルオキシ、アルキニル、ハロアルキニル、アルキニルオキシ、ハロアルキニルオキシ、アルコキシアルコキシおよびアルキルチオアルコキシ部分は、直鎖または分枝鎖であってもよい。特に断らない限り、ハロゲン化置換基は好ましくは1〜5個の同一のまたは異なるハロゲン原子を保持する。定義ハロゲンはそれぞれの場合に、弗素、塩素、臭素またはヨウ素である。
定義の例としては次が挙げられる:
C1〜C4-アルキル:例えばメチル、エチル、n-プロピル、1-メチルエチル、n-ブチル、1-メチルプロピル、2-メチルプロピルおよび1,1-ジメチルエチル;
C1〜C6-アルキル:先に規定したC1〜C4-アルキル、およびまた、例えば、n-ペンチル、1-メチルブチル、2-メチルブチル、3-メチルブチル、2,2-ジメチルプロピル、1-エチルプロピル、n-ヘキシル、1,1-ジメチルプロピル、1,2-ジメチルプロピル、1-メチルペンチル、2-メチルペンチル、3-メチルペンチル、4-メチルペンチル、1,1-ジメチルブチル、1,2-ジメチルブチル、1,3-ジ-メチルブチル、2,2-ジメチルブチル、2,3-ジメチルブチル、3,3-ジメチルブチル、1-エチルブチル、2-エチルブチル、1,1,2-トリメチルプロピル、1-エチル-1-メチルプロピルおよび1-エチル-3-メチルプロピル;
C1〜C4-アルキルカルボニル:例えばメチルカルボニル、エチルカルボニル、プロピルカルボニル、1-メチルエチルカルボニル、ブチルカルボニル、1-メチルプロピルカルボニル、2-メチルプロピルカルボニルまたは1,1-ジメチルエチルカルボニル;
C3〜C8-シクロアルキルおよびC3〜C8-シクロアルコキシのシクロアルキル部分:例えばシクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチルおよびシクロオクチル;
C3〜C8-シクロアルケニル:例えばシクロプロペン-1-イル、シクロプロペン-2-イル、シクロブテン-1-イル、シクロブテン-2-イル、シクロペンテン-1-イル、シクロペンタ-2-エン-1-イル、シクロペンタ-2,4-ジエン-1-イル、シクロヘキセン-1-イル、シクロヘキサ-2-エン-1-イル、シクロヘキサ-3-エン-1-イル、シクロヘプテン-1-イル、シクロヘプタ2-エン-1-イル、シクロヘプタ3-エン-1-イル、シクロオクテン-1-イル、シクロオクタ-2-エン-1-イル、シクロオクタ-3-エン-1-イル、シクロオクタ-4-エン-1-イル;
3〜6員ヘテロシクリル:飽和、部分的不飽和または芳香族3、4、5または6員ヘテロ環であって、酸素、硫黄、窒素またはNR6基(式中、R6は水素、C1〜C6-アルキル、C3〜C6-アルケニルまたはC3〜C6-アルキニルである)からなる群より選択される1〜4個の同一もしくは異なるヘテロ原子を含み、もし適当であれば、1つもしくは2つのカルボニル基もしくはチオカルボニル基を環員として有してもよくそしてCもしくはNを経由して結合してもよい上記へテロ環:
例えば2-オキシラニル、2-オキセタニル、3-オキセタニル、2-アジリジニル、3-チエタニル、1-アゼチジニル、2-アゼチジニル;
例えばテトラヒドロフラン-2-イル、テトラヒドロフラン-3-イル、テトラヒドロチエン-2-イル、テトラヒドロチエン-3-イル、テトラヒドロピロール-2-イル、テトラヒドロピロール-3-イル、テトラヒドロピラゾール-3-イル、テトラヒドロピラゾール-4-イル、テトラヒドロイソキサゾール-3-イル、テトラヒドロイソキサゾール-4-イル、テトラヒドロイソキサゾール-5-イル、1,2-オキサチオラン-3-イル、1,2-オキサチオラン-4-イル、1,2-オキサチオラン-5-イル、テトラヒドロイソチアゾール-3-イル、テトラヒドロイソチアゾール-4-イル、テトラヒドロイソチアゾール-5-イル、1,2-ジチオラン-3-イル、1,2-ジチオラン-4-イル、テトラヒドロ-2-イル、テトラヒドロ-4-イル、テトラヒドロ-2-イル、テトラヒドロ-4-イル、テトラヒドロ-5-イル、テトラヒドロ-2-イル、テトラヒドロ-4-イル、テトラヒドロ-5-イル、1,3-ジオキソラン-2-イル、1,3-ジオキソラン-4-イル、1,3-オキサチオラン-2-イル、1,3-オキサチオラン-4-イル、1,3-オキサチオラン-5-イル、1,3-ジチオラン-2-イル、1,3-ジチオラン-4-イル、1,3,2-ジオキサチオラン-4-イル;
例えばテトラヒドロピロール-1-イル、テトラヒドロピラゾール-1-イル、テトラヒドロイソキサゾール-2-イル、テトラヒドロイソチアゾール-2-イル、テトラヒドロ-1-イル、テトラヒドロ-3-イル、テトラヒドロ-3-イル;
例えば2,3-ジヒドロフラン-2-イル、2,3-ジヒドロフラン-3-イル、2,5-ジヒドロフラン-2-イル、2,5-ジヒドロフラン-3-イル、4,5-ジヒドロフラン-2-イル、4,5-ジヒドロフラン-3-イル、2,3-ジヒドロチエン-2-イル、2,3-ジヒドロチエン-3-イル、2,5-ジヒドロチエン-2-イル、2,5-ジヒドロチエン-3-イル、4,5-ジヒドロチエン-2-イル、4,5-ジヒドロチエン-3-イル、2,3-ジヒドロ-1H-ピロール-2-イル、2,3-ジヒドロ-1H-ピロール-3-イル、2,5-ジヒドロ-1H-ピロール-2-イル、2,5-ジヒドロ-1H-ピロール-3-イル、4,5-ジヒドロ-1H-ピロール-2-イル、4,5-ジヒドロ-1H-ピロール-3-イル、3,4-ジヒドロ-2H-ピロール-2-イル、3,4-ジヒドロ-2H-ピロール-3-イル、3,4-ジヒドロ-5H-ピロール-2-イル、3,4-ジヒドロ-5H-ピロール-3-イル、4,5-ジヒドロ-1H-ピラゾール-3-イル、4,5-ジヒドロ-1H-ピラゾール-4-イル、4,5-ジヒドロ-1H-ピラゾール-5-イル、2,5-ジヒドロ-1H-ピラゾール-3-イル、2,5-ジヒドロ-1H-ピラゾール-4-イル、2,5-ジヒドロ-1H-ピラゾール-5-イル、4,5-ジヒドロイソキサゾール-3-イル、4,5-ジヒドロイソキサゾール-4-イル、4,5-ジヒドロイソキサゾール-5-イル、2,5-ジヒドロイソキサゾール-3-イル、2,5-ジヒドロイソキサゾール-4-イル、2,5-ジヒドロイソキサゾール-5-イル、2,3-ジヒドロイソキサゾール-3-イル、2,3-ジヒドロイソキサゾール-4-イル、2,3-ジヒドロイソキサゾール-5-イル、4,5-ジヒドロイソチアゾール-3-イル、4,5-ジヒドロイソチアゾール-4-イル、4,5-ジヒドロイソチアゾール-5-イル、2,5-ジヒドロイソチアゾール-3-イル、2,5-ジヒドロイソチアゾール-4-イル、2,5-ジヒドロイソチアゾール-5-イル、2,3-ジヒドロイソチアゾール-3-イル、2,3-ジヒドロイソチアゾール-4-イル、2,3-ジヒドロイソチアゾール-5-イル、Δ3-1,2-ジチオール-3-イル、Δ3-1,2-ジチオール-4-イル、Δ3-1,2-ジチオール-5-イル、4,5-ジヒドロ-1H-イミダゾール-2-イル、4,5-ジヒドロ-1H-イミダゾール-4-イル、4,5-ジヒドロ-1H-イミダゾール-5-イル、2,5-ジヒドロ-1H-イミダゾール-2-イル、2,5-ジヒドロ-1H-イミダゾール-4-イル、2,5-ジヒドロ-1H-イミダゾール-5-イル、2,3-ジヒドロ-1H-イミダゾール-2-イル、2,3-ジヒドロ-1H-イミダゾール-4-イル、4,5-ジヒドロオキサゾール-2-イル、4,5-ジヒドロオキサゾール-4-イル、4,5-ジヒドロオキサゾール-5-イル、2,5-ジヒドロオキサゾール-2-イル、2,5-ジヒドロオキサゾール-4-イル、2,5-ジヒドロオキサゾール-5-イル、2,3-ジヒドロ-オキサゾール-2-イル、2,3-ジヒドロオキサゾール-4-イル、2,3-ジヒドロオキサゾール-5-イル、4,5-ジヒドロチアゾール-2-イル、4,5-ジヒドロチアゾール-4-イル、4,5-ジヒドロチアゾール-5-イル、2,5-ジヒドロチアゾール-2-イル、2,5-ジヒドロチアゾール-4-イル、2,5-ジヒドロチアゾール-5-イル、2,3-ジヒドロチアゾール-2-イル、2,3-ジヒドロチアゾール-4-イル、2,3-ジヒドロチアゾール-5-イル、1,3-ジオキソール-2-イル、1,3-ジオキソール-4-イル、1,3-ジチオール-2-イル、1,3-ジチオール-4-イル、1,3-オキサチオール-2-イル、1,3-オキサチオール-4-イル、1,3-オキサチオール-5-イル、1,2,3-Δ2-オキサジアゾリン-4-イル、1,2,3-Δ2-オキサジアゾリン-5-イル、1,2,4-Δ4-オキサジアゾリン-3-イル、1,2,4-Δ4-オキサジアゾリン-5-イル、1,2,4-Δ2-オキサジアゾリン-3-イル、1,2,4-Δ2-オキサジアゾリン-5-イル、1,2,4-Δ3-オキサジアゾリン-3-イル、1,2,4-Δ3-オキサジアゾリン-5-イル、1,3,4-Δ2-オキサジアゾリン-2-イル、1,3,4-Δ2-オキサジアゾリン-5-イル、1,3,4-Δ3-オキサジアゾリン-2-イル、1,3,4-オキサジアゾリン-2-イル、1,2,4-Δ4-チアジアゾリン-3-イル、1,2,4-Δ4-チアジアゾリン-5-イル、1,2,4-Δ3-チアジアゾリン-3-イル、1,2,4-Δ3-チアジアゾリン-5-イル、1,2,4-Δ2-チアジアゾリン-3-イル、1,2,4-Δ2-チアジアゾリン-5-イル、1,3,4-Δ2-チアジアゾリン-2-イル、1,3,4-Δ2-チアジアゾリン-5-イル、1,3,4-Δ3-チアジアゾリン-2-イル、1,3,4-チアジアゾリン-2-イル、1,2,3-Δ2-トリアゾリン-4-イル、1,2,3-Δ2-トリアゾリン-5-イル、1,2,4-Δ2-トリアゾリン-3-イル、1,2,4-Δ2-トリアゾリン-5-イル、1,2,4-Δ3-トリアゾリン-3-イル、1,2,4-Δ3-トリアゾリン-5-イル、1,2,4-Δ1-トリアゾリン-2-イル、1,2,4-トリアゾリン-3-イル、3H-1,2,4-ジチアゾール-5-イル、2H-1,3,4-ジチアゾール-5-イル、2H-1,3,4-オキサチアゾール-5-イル;
例えば2,3-ジヒドロ-1H-ピロール-1-イル、2,5-ジヒドロ-1H-ピロール-1-イル、4,5-ジヒドロ-1H-ピラゾール-1-イル、2,5-ジヒドロ-1H-ピラゾール-1-イル、2,3-ジヒドロ-1H-ピラゾール-1-イル、2,5-ジヒドロイソキサゾール-2-イル、2,3-ジヒドロイソキサゾール-2-イル、2,5-ジヒドロイソチアゾール-2-イル、2,3-ジヒドロイソキサゾール-2-イル、4,5-ジヒドロ-1H-イミダゾール-1-イル、2,5-ジヒドロ-1H-イミダゾール-1-イル、2,3-ジヒドロ-1H-イミダゾール-1-イル、2,3-ジヒドロオキサゾール-3-イル、2,3-ジヒドロチアゾール-3-イル、1,2,4-Δ4-オキサジアゾリン-2-イル、1,2,4-Δ2-オキサジアゾリン-4-イル、1,2,4-Δ3-オキサジアゾリン-2-イル、1,3,4-Δ2-オキサジアゾリン-4-イル、1,2,4-Δ5-チアジアゾリン-2-イル、1,2,4-Δ3-チアジアゾリン-2-イル、1,2,4-Δ2-チアジアゾリン-4-イル、1,3,4-Δ2-チアジアゾリン-4-イル、1,2,3-Δ2-トリアゾリン-1-イル、1,2,4-Δ2-トリアゾリン-1-イル、1,2,4-Δ2-トリアゾリン-4-イル、1,2,4-Δ3-トリアゾリン-1-イル、1,2,4-Δ1-トリアゾリン-4-イル;
例えば2-フリル、3-フリル、2-チエニル、3-チエニル、ピロール-2-イル、ピロール-3-イル、ピラゾール-3-イル、ピラゾール-4-イル、イソキサゾール-3-イル、イソキサゾール-4-イル、イソキサゾール-5-イル、イソチアゾール-3-イル、イソチアゾール-4-イル、イソチアゾール-5-イル、イミダゾール-2-イル、イミダゾール-4-イル、オキサゾール-2-イル、オキサゾール-4-イル、オキサゾール-5-イル、チアゾール-2-イル、チアゾール-4-イル、チアゾール-5-イル、1,2,3-オキサジアゾール-4-イル、1,2,3-オキサジアゾール-5-イル、1,2,4-オキサジアゾール-3-イル、1,2,4-オキサジアゾール-5-イル、1,3,4-オキサジアゾール-2-イル、1,2,3-チアジアゾール-4-イル、1,2,3-チアジアゾール-5-イル、1,2,4-チアジアゾール-3-イル、1,2,4-チアジアゾール-5-イル、1,3,4-チアジアゾール-2-イル、1,2,3-トリアゾール-4-イル、1,2,4-トリアゾール-3-イル、テトラゾール-5-イル;
例えばピロール-1-イル、ピラゾール-1-イル、イミダゾール-1-イル、1,2,3-トリアゾール-1-イル、1,2,4-トリアゾール-1-イル、テトラゾール-1-イル;
例えばテトラヒドロピラン-2-イル、テトラヒドロピラン-3-イル、テトラヒドロピラン-4-イル、ピペリジン-2-イル、ピペリジン-3-イル、ピペリジン-4-イル、テトラヒドロチオピラン-2-イル、テトラヒドロチオピラン-3-イル、テトラヒドロチオピラン-4-イル、1,3-ジオキサン-2-イル、1,3-ジオキサン-4-イル、1,3-ジオキサン-5-イル、1,4-ジオキサン-2-イル、1,3-ジチアン-2-イル、1,3-ジチアン-4-イル、1,3-ジチアン-5-イル、1,4-ジチアン-2-イル、1,3-オキサチアン-2-イル、1,3-オキサチアン-4-イル、1,3-オキサチアン-5-イル、1,3-オキサチアン-6-イル、1,4-オキサチアン-2-イル、1,4-オキサチアン-3-イル、1,2-ジチアン-3-イル、1,2-ジチアン-4-イル、ヘキサヒドロピリミジン-2-イル、ヘキサヒドロピリミジン-4-イル、ヘキサヒドロピリミジン-5-イル、ヘキサヒドロピラジン-2-イル、ヘキサヒドロピリダジン-3-イル、ヘキサヒドロピリダジン-4-イル、テトラヒドロ-1,3-オキサジン-2-イル、テトラヒドロ-1,3-オキサジン-4-イル、テトラヒドロ-1,3-オキサジン-5-イル、テトラヒドロ-1,3-オキサジン-6-イル、テトラヒドロ-1,3-チアジン-2-イル、テトラヒドロ-1,3-チアジン-4-イル、テトラヒドロ-1,3-チアジン-5-イル、テトラヒドロ-1,3-チアジン-6-イル、テトラヒドロ-1,4-チアジン-2-イル、テトラヒドロ-1,4-チアジン-3-イル、テトラヒドロ-1,4-オキサジン-2-イル、テトラヒドロ-1,4-オキサジン-3-イル、テトラヒドロ-1,2-オキサジン-3-イル、テトラヒドロ-1,2-オキサジン-4-イル、テトラヒドロ-1,2-オキサジン-5-イル、テトラヒドロ-1,2-オキサジン-6-イル;
例えばピペリジン-1-イル、ヘキサヒドロピリミジン-1-イル、ヘキサヒドロピラジン-1-イル、ヘキサヒドロピリダジン-1-イル、テトラヒドロ-1,3-オキサジン-3-イル、テトラヒドロ-1,3-チアジン-3-イル、テトラヒドロ-1,4-チアジン-4-イル、テトラヒドロ-1,4-オキサジン-4-イル、テトラヒドロ-1,2-オキサジン-2-イル;
例えば2H-3,4-ジヒドロピラン-6-イル、2H-3,4-ジヒドロピラン-5-イル、2H-3,4-ジヒドロピラン-4-イル、2H-3,4-ジヒドロピラン-3-イル、2H-3,4-ジヒドロピラン-2-イル、2H-3,4-ジヒドロピラン-6-イル、2H-3,4-ジヒドロチオピラン-5-イル、2H-3,4-ジヒドロチオピラン-4-イル、2H-3,4-ジヒドロピラン-3-イル、2H-3,4-ジヒドロピラン-2-イル、1,2,3,4-テトラヒドロピリジン-6-イル、1,2,3,4-テトラヒドロピリジン-5-イル、1,2,3,4-テトラヒドロピリジン-4-イル、1,2,3,4-テトラヒドロピリジン-3-イル、1,2,3,4-テトラヒドロピリジン-2-イル、2H-5,6-ジヒドロピラン-2-イル、2H-5,6-ジヒドロピラン-3-イル、2H-5,6-ジヒドロピラン-4-イル、2H-5,6-ジヒドロピラン-5-イル、2H-5,6-ジヒドロピラン-6-イル、2H-5,6-ジヒドロチオピラン-2-イル、2H-5,6-ジヒドロチオピラン-3-イル、2H-5,6-ジヒドロチオピラン-4-イル、2H-5,6-ジヒドロチオピラン-5-イル、2H-5,6-ジヒドロチオピラン-6-イル、1,2,5,6-テトラヒドロピリジン-2-イル、1,2,5,6-テトラヒドロピリジン-3-イル、1,2,5,6-テトラヒドロピリジン-4-イル、1,2,5,6-テトラヒドロピリジン-5-イル、1,2,5,6-テトラヒドロピリジン-6-イル、2,3,4,5-テトラヒドロピリジン-2-イル、2,3,4,5-テトラヒドロピリジン-3-イル、2,3,4,5-テトラヒドロピリジン-4-イル、2,3,4,5-テトラヒドロピリジン-5-イル、2,3,4,5-テトラヒドロピリジン-6-イル、4H-ピラン-2-イル、4H-ピラン-3-イル、4H-ピラン-4-イル、4H-チオピラン-2-イル、4H-チオピラン-3-イル、4H-チオピラン-4-イル、1,4-ジヒドロピリジン-2-イル、1,4-ジヒドロピリジン-3-イル、1,4-ジヒドロピリジン-4-イル、2H-ピラン-2-イル、2H-ピラン-3-イル、2H-ピラン-4-イル、2H-ピラン-5-イル、2H-ピラン-6-イル、2H-チオピラン-2-イル、2H-チオピラン-3-イル、2H-チオピラン-4-イル、2H-チオピラン-5-イル、2H-チオピラン-6-イル、1,2-ジヒドロピリジン-2-イル、1,2-ジヒドロピリジン-3-イル、1,2-ジヒドロピリジン-4-イル、1,2-ジヒドロピリジン-5-イル、1,2-ジヒドロピリジン-6-イル、3,4-ジヒドロピリジン-2-イル、3,4-ジヒドロピリジン-3-イル、3,4-ジヒドロピリジン-4-イル、3,4-ジヒドロピリジン-5-イル、3,4-ジヒドロピリジン-6-イル、2,5-ジヒドロピリジン-2-イル、2,5-ジヒドロピリジン-3-イル、2,5-ジヒドロピリジン-4-イル、2,5-ジヒドロピリジン-5-イル、2,5-ジヒドロピリジン-6-イル、2,3-ジヒドロピリジン-2-イル、2,3-ジヒドロピリジン-3-イル、2,3-ジヒドロピリジン-4-イル、2,3-ジヒドロピリジン-5-イル、2,3-ジヒドロピリジン-6-イル、2H-5,6-ジヒドロ-1,2-オキサジン-3-イル、2H-5,6-ジヒドロ-1,2-オキサジン-4-イル、2H-5,6-ジヒドロ-1,2-オキサジン-5-イル、2H-5,6-ジヒドロ-1,2-オキサジン-6-イル、2H-5,6-ジヒドロ-1,2-チアジン-3-イル、2H-5,6-ジヒドロ-1,2-チアジン-4-イル、2H-5,6-ジヒドロ-1,2-チアジン-5-イル、2H-5,6-ジヒドロ-1,2-チアジン-6-イル、4H-5,6-ジヒドロ-1,2-オキサジン-3-イル、4H-5,6-ジヒドロ-1,2-オキサジン-4-イル、4H-5,6-ジヒドロ-1,2-オキサジン-5-イル、4H-5,6-ジヒドロ-1,2-オキサジン-6-イル、4H-5,6-ジヒドロ-1,2-チアジン-3-イル、4H-5,6-ジヒドロ-1,2-チアジン-4-イル、4H-5,6-ジヒドロ-1,2-チアジン-5-イル、4H-5,6-ジヒドロ-1,2-チアジン-6-イル、2H-3,6-ジヒドロ-1,2-オキサジン-3-イル、2H-3,6-ジヒドロ-1,2-オキサジン-4-イル、2H-3,6-ジヒドロ-1,2-オキサジン-5-イル、2H-3,6-ジヒドロ-1,2-オキサジン-6-イル、2H-3,6-ジヒドロ-1,2-チアジン-3-イル、2H-3,6-ジヒドロ-1,2-チアジン-4-イル、2H-3,6-ジヒドロ-1,2-チアジン-5-イル、2H-3,6-ジヒドロ-1,2-チアジン-6-イル、2H-3,4-ジヒドロ-1,2-オキサジン-3-イル、2H-3,4-ジヒドロ-1,2-オキサジン-4-イル、2H-3,4-ジヒドロ-1,2-オキサジン-5-イル、2H-3,4-ジヒドロ-1,2-オキサジン-6-イル、2H-3,4-ジヒドロ-1,2-チアジン-3-イル、2H-3,4-ジヒドロ-1,2-チアジン-4-イル、2H-3,4-ジヒドロ-1,2-チアジン-5-イル、2H-3,4-ジヒドロ-1,2-チアジン-6-イル、2,3,4,5-テトラヒドロピリダジン-3-イル、2,3,4,5-テトラヒドロピリダジン-4-イル、2,3,4,5-テトラヒドロピリダジン-5-イル、2,3,4,5-テトラヒドロピリダジン-6-イル、3,4,5,6-テトラヒドロピリダジン-3-イル、3,4,5,6-テトラヒドロピリダジン-4-イル、1,2,5,6-テトラヒドロピリダジン-3-イル、1,2,5,6-テトラヒドロピリダジン-4-イル、1,2,5,6-テトラヒドロピリダジン-5-イル、1,2,5,6-テトラヒドロピリダジン-6-イル、1,2,3,6-テトラヒドロピリダジン-3-イル、1,2,3,6-テトラヒドロピリダジン-4-イル、4H-5,6-ジヒドロ-1,3-オキサジン-2-イル、4H-5,6-ジヒドロ-1,3-オキサジン-4-イル、4H-5,6-ジヒドロ-1,3-オキサジン-5-イル、4H-5,6-ジヒドロ-1,3-オキサジン-6-イル、4H-5,6-ジヒドロ-1,3-チアジン-2-イル、4H-5,6-ジヒドロ-1,3-チアジン-4-イル、4H-5,6-ジヒドロ-1,3-チアジン-5-イル、4H-5,6-ジヒドロ-1,3-チアジン-6-イル、3,4,5,6-テトラヒドロピリミジン-2-イル、3,4,5,6-テトラヒドロピリミジン-4-イル、3,4,5,6-テトラヒドロピリミジン-5-イル、3,4,5,6-テトラヒドロピリミジン-6-イル、1,2,3,4-テトラヒドロピラジン-2-イル、1,2,3,4-テトラヒドロピラジン-5-イル、1,2,3,4-テトラヒドロピリミジン-2-イル、1,2,3,4-テトラヒドロピリミジン-4-イル、1,2,3,4-テトラヒドロピリミジン-5-イル、1,2,3,4-テトラヒドロピリミジン-6-イル、2,3-ジヒドロ-1,4-チアジン-2-イル、2,3-ジヒドロ-1,4-チアジン-3-イル、2,3-ジヒドロ-1,4-チアジン-5-イル、2,3-ジヒドロ-1,4-チアジン-6-イル、2H-1,2-オキサジン-3-イル、2H-1,2-オキサジン-4-イル、2H-1,2-オキサジン-5-イル、2H-1,2-オキサジン-6-イル、2H-1,2-チアジン-3-イル、2H-1,2-チアジン-4-イル、2H-1,2-チアジン-5-イル、2H-1,2-チアジン-6-イル、4H-1,2-オキサジン-3-イル、4H-1,2-オキサジン-4-イル、4H-1,2-オキサジン-5-イル、4H-1,2-オキサジン-6-イル、4H-1,2-チアジン-3-イル、4H-1,2-チアジン-4-イル、4H-1,2-チアジン-5-イル、4H-1,2-チアジン-6-イル、6H-1,2-オキサジン-3-イル、6H-1,2-オキサジン-4-イル、6H-1,2-オキサジン-5-イル、6H-1,2-オキサジン-6-イル、6H-1,2-チアジン-3-イル、6H-1,2-チアジン-4-イル、6H-1,2-チアジン-5-イル、6H-1,2-チアジン-6-イル、2H-1,3-オキサジン-2-イル、2H-1,3-オキサジン-4-イル、2H-1,3-オキサジン-5-イル、2H-1,3-オキサジン-6-イル、2H-1,3-チアジン-2-イル、2H-1,3-チアジン-4-イル、2H-1,3-チアジン-5-イル、2H-1,3-チアジン-6-イル、4H-1,3-オキサジン-2-イル、4H-1,3-オキサジン-4-イル、4H-1,3-オキサジン-5-イル、4H-1,3-オキサジン-6-イル、4H-1,3-チアジン-2-イル、4H-1,3-チアジン-4-イル、4H-1,3-チアジン-5-イル、4H-1,3-チアジン-6-イル、6H-1,3-オキサジン-2-イル、6H-1,3-オキサジン-4-イル、6H-1,3-オキサジン-5-イル、6H-1,3-オキサジン-6-イル、6H-1,3-チアジン-2-イル、6H-1,3-オキサジン-4-イル、6H-1,3-オキサジン-5-イル、6H-1,3-チアジン-6-イル、2H-1,4-オキサジン-2-イル、2H-1,4-オキサジン-3-イル、2H-1,4-オキサジン-5-イル、2H-1,4-オキサジン-6-イル、2H-1,4-チアジン-2-イル、2H-1,4-チアジン-3-イル、2H-1,4-チアジン-5-イル、2H-1,4-チアジン-6-イル、4H-1,4-オキサジン-2-イル、4H-1,4-オキサジン-3-イル、4H-1,4-チアジン-2-イル、4H-1,4-チアジン-3-イル、1,4-ジヒドロピリダジン-3-イル、1,4-ジヒドロピリダジン-4-イル、1,4-ジヒドロピリダジン-5-イル、1,4-ジヒドロピリダジン-6-イル、1,4-ジヒドロピラジン-2-イル、1,2-ジヒドロピラジン-2-イル、1,2-ジヒドロピラジン-3-イル、1,2-ジヒドロピラジン-5-イル、1,2-ジヒドロピラジン-6-イル、1,4-ジヒドロピリミジン-2-イル、1,4-ジヒドロピリミジン-4-イル、1,4-ジヒドロピリミジン-5-イル、1,4-ジヒドロピリミジン-6-イル、3,4-ジヒドロピリミジン-2-イル、3,4-ジヒドロピリミジン-4-イル、3,4-ジヒドロピリミジン-5-イルまたは3,4-ジヒドロピリミジン-6-イル;
例えば1,2,3,4-テトラヒドロピリジン-1-イル、1,2,5,6-テトラヒドロピリジン-1-イル、1,4-ジヒドロピリジン-1-イル、1,2-ジヒドロピリジン-1-イル、2H-5,6-ジヒドロ-1,2-オキサジン-2-イル、2H-5,6-ジヒドロ-1,2-チアジン-2-イル、2H-3,6-ジヒドロ-1,2-オキサジン-2-イル、2H-3,6-ジヒドロ-1,2-チアジン-2-イル、2H-3,4-ジヒドロ-1,2-オキサジン-2-イル、2H-3,4-ジヒドロ-1,2-チアジン-2-イル、2,3,4,5-テトラヒドロピリダジン-2-イル、1,2,5,6-テトラヒドロピリダジン-1-イル、1,2,5,6-テトラヒドロピリダジン-2-イル、1,2,3,6-テトラヒドロピリダジン-1-イル、3,4,5,6-テトラヒドロピリミジン-3-イル、1,2,3,4-テトラヒドロピラジン-1-イル、1,2,3,4-テトラヒドロピリミジン-1-イル、1,2,3,4-テトラヒドロピリミジン-3-イル、2,3-ジヒドロ-1,4-チアジン-4-イル、2H-1,2-オキサジン-2-イル、2H-1,2-チアジン-2-イル、4H-1,4-オキサジン-4-イル、4H-1,4-チアジン-4-イル、1,4-ジヒドロピリダジン-1-イル、1,4-ジヒドロピラジン-1-イル、1,2-ジヒドロピラジン-1-イル、1,4-ジヒドロピリミジン-1-イルまたは3,4-ジヒドロピリミジン-3-イル;
例えばピリジン-2-イル、ピリジン-3-イル、ピリジン-4-イル、ピリダジン-3-イル、ピリダジン-4-イル、ピリミジン-2-イル、ピリミジン-4-イル、ピリミジン-5-イル、ピラジン-2-イル、1,3,5-トリアジン-2-イル、1,2,4-トリアジン-3-イル、1,2,4-トリアジン-5-イル、1,2,4-トリアジン-6-イル、1,2,4,5-テトラジン-3-イル;
C3〜C6-アルケニル:例えば1-プロペニル、2-プロペニル、1-メチルエテニル、1-ブテニル、2-ブテニル、3-ブテニル、1-メチル-1-プロペニル、2-メチル-1-プロペニル、1-メチル-2-プロペニル、2-メチル-2-プロペニル、1-ペンテニル、2-ペンテニル、3-ペンテニル、4-ペンテニル、1-メチル-1-ブテニル、2-メチル-1-ブテニル、3-メチル-1-ブテニル、1-メチル-2-ブテニル、2-メチル-2-ブテニル、3-メチル-2-ブテニル、1-メチル-3-ブテニル、2-メチル-3-ブテニル、3-メチル-3-ブテニル、1,1-ジメチル-2-プロペニル、1,2-ジメチル-1-プロペニル、1,2-ジメチル-2-プロペニル、1-エチル-1-プロペニル、1-エチル-2-プロペニル、1-ヘキセニル、2-ヘキセニル、3-ヘキセニル、4-ヘキセニル、5-ヘキセニル、1-メチル-1-ペンテニル、2-メチル-1-ペンテニル、3-メチル-1-ペンテニル、4-メチル-1-ペンテニル、1-メチル-2-ペンテニル、2-メチル-2-ペンテニル、3-メチル-2-ペンテニル、4-メチル-2-ペンテニル、1-メチル-3-ペンテニル、2-メチル-3-ペンテニル、3-メチル-3-ペンテニル、4-メチル-3-ペンテニル、1-メチル-4-ペンテニル、2-メチル-4-ペンテニル、3-メチル-4-ペンテニル、4-メチル-4-ペンテニル、1,1-ジメチル-2-ブテニル、1,1-ジメチル-3-ブテニル、1,2-ジメチル-1-ブテニル、1,2-ジメチル-2-ブテニル、1,2-ジメチル-3-ブテニル、1,3-ジメチル-1-ブテニル、1,3-ジメチル-2-ブテニル、1,3-ジメチル-3-ブテニル、2,2-ジメチル-3-ブテニル、2,3-ジメチル-1-ブテニル、2,3-ジメチル-2-ブテニル、2,3-ジメチル-3-ブテニル、3,3-ジメチル-1-ブテニル、3,3-ジメチル-2-ブテニル、1-エチル-1-ブテニル、1-エチル-2-ブテニル、1-エチル-3-ブテニル、2-エチル-1-ブテニル、2-エチル-2-ブテニル、2-エチル-3-ブテニル、1,1,2-トリメチル-2-プロペニル、1-エチル-1-メチル-2-プロペニル、1-エチル-2-メチル-1-プロペニルおよび1-エチル-2-メチル-2-プロペニル;
C2〜C6-アルケニル:先に規定したC3〜C6-アルケニルおよびまたエテニル;
C3〜C6-アルキニル:例えば1-プロピニル、2-プロピニル、1-ブチニル、2-ブチニル、3-ブチニル、1-メチル-2-プロピニル、1-ペンチニル、2-ペンチニル、3-ペンチニル、4-ペンチニル、1-メチル-2-ブチニル、1-メチル-3-ブチニル、2-メチル-3-ブチニル、3-メチル-1-ブチニル、1,1-ジメチル-2-プロピニル、1-エチル-2-プロピニル、1-ヘキシニル、2-ヘキシニル、3-ヘキシニル、4-ヘキシニル、5-ヘキシニル、1-メチル-2-ペンチニル、1-メチル-3-ペンチニル、1-メチル-4-ペンチニル、2-メチル-3-ペンチニル、2-メチル-4-ペンチニル、3-メチル-1-ペンチニル、3-メチル-4-ペンチニル、4-メチル-1-ペンチニル、4-メチル-2-ペンチニル、1,1-ジメチル-2-ブチニル、1,1-ジメチル-3-ブチニル、1,2-ジメチル-3-ブチニル、2,2-ジメチル-3-ブチニル、3,3-ジメチル-1-ブチニル、1-エチル-2-ブチニル、1-エチル-3-ブチニル、2-エチル-3-ブチニルおよび1-エチル-1-メチル-2-プロピニル;
C2〜C6-アルキニル:先に規定したC3〜C6-アルキニルおよびまたエチニル;
C1〜C4-ハロアルキル:弗素、塩素、臭素および/またはヨウ素により部分的にまた全て置換されている先に規定したC1〜C4-アルキル基、すなわち、例えば、クロロメチル、ジクロロメチル、トリクロロメチル、フルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、クロロフルオロメチル、ジクロロフルオロメチル、クロロジフルオロメチル、2-フルオロエチル、2-クロロエチル、2-ブロモエチル、2-ヨードエチル、2,2-ジフルオロエチル、2,2,2-トリフルオロエチル、2-クロロ-2-フルオロエチル、2-クロロ-2,2-ジフルオロエチル、2,2-ジクロロ-2-フルオロエチル、2,2,2-トリクロロエチル、ペンタフルオロエチル、2-フルオロプロピル、3-フルオロプロピル、2,2-ジフルオロプロピル、2,3-ジフルオロプロピル、2-クロロプロピル、3-クロロプロピル、2,3-ジクロロプロピル、2-ブロモプロピル、3-ブロモプロピル、3,3,3-トリフルオロプロピル、3,3,3-トリクロロプロピル、2,2,3,3,3-ペンタフルオロプロピル、ヘプタフルオロプロピル、1-(フルオロメチル)-2-フルオロエチル、1-(クロロメチル)-2-クロロエチル、1-(ブロモメチル)-2-ブロモエチル、4-フルオロブチル、4-クロロブチル、4-ブロモブチルおよびノナフルオロブチル;
C1〜C6-ハロアルキル:先に規定したC1〜C4-ハロアルキル、およびまた、例えば、5-フルオロペンチル、5-クロロペンチル、5-ブロモペンチル、5-ヨードペンチル、ウンデカフルオロペンチル、6-フルオロヘキシル、6-クロロヘキシル、6-ブロモヘキシル、6-ヨードヘキシルおよびドデカフルオロヘキシル;
C2〜C6-ハロアルケニルおよびまたC2〜C6-ハロアルケニルオキシのハロアルケニル部分:弗素、塩素、臭素 および/または ヨウ素により部分的にまた全て置換されている先に規定したC2〜C6-アルケニル基、例えば2-クロロビニル、2-クロロアリル、3-クロロアリル、2,3-ジクロロアリル、3,3-ジクロロアリル、2,3,3-トリクロロアリル、2,3-ジクロロブタ-2-エニル、2-ブロモビニル、2-ブロモアリル、3-ブロモアリル、2,3-ジブロモアリル、3,3-ジブロモアリル、2,3,3-トリブロモアリルまたは2,3-ジブロモブタ-2-エニル;
C3〜C6-ハロアルキニルおよびC3〜C6-ハロアルキニルオキシのハロアルキニル部分:弗素、塩素、臭素および/またはヨウ素により部分的にまた全て置換されている先に規定したC3〜C6-アルキニル基、例えば1,1-ジフルオロプロパ-2-イン-1-イル、3-ヨードプロパ-2-イン-1-イル、4-フルオロブタ-2-イン-1-イル、4-クロロブタ-2-イン-1-イル、1,1-ジフルオロブタ-2-イン-1-イル、4-ヨードブタ-3-イン-1-イル、5-フルオロペンタ-3-イン-1-イル、5-ヨードペンタ-4-イン-1-イル、6-フルオロヘキサ-4-イン-1-イルまたは6-ヨードヘキサ-5-イン-1-イル;
C1〜C4-シアノアルキル:例えばシアノメチル、1-シアノエタ-1-イル、2-シアノエタ-1-イル、1-シアノプロパ-1-イル、2-シアノプロパ-1-イル、3-シアノプロパ-1-イル、1-シアノプロパ-2-イル、2-シアノプロパ-2-イル、1-シアノブタ-1-イル、2-シアノブタ-1-イル、3-シアノブタ-1-イル、4-シアノブタ-1-イル、1-シアノブタ-2-イル、2-シアノブタ-2-イル、1-シアノブタ-3-イル、2-シアノブタ-3-イル、1-シアノ-2-メチルプロパ-3-イル、2-シアノ-2-メチルプロパ-3-イル、3-シアノ-2-メチルプロパ-3-イルおよび2-シアノメチルプロパ-2-イル;
C1〜C6-シアノアルキルおよびC1〜C6-シアノアルコキシのシアノアルキル部分:先に規定したC1〜C4-シアノアルキルおよびまた5-シアノペンチル、6-シアノヘキシル;
C1〜C4-アルコキシ、例えばメトキシ、エトキシ、プロポキシ、1-メチルエトキシ、ブトキシ、1-メチルプロポキシ、2-メチルプロポキシおよび1,1-ジメチルエトキシ;
C1〜C6-アルコキシ:先に規定したC1〜C4-アルコキシ、およびまた、例えば、ペントキシ、1-メチルブトキシ、2-メチルブトキシ、3-メトキシlブトキシ、1,1-ジメチルプロポキシ、1,2-ジ-メチルプロポキシ、2,2-ジメチルプロポキシ、1-エチルプロポキシ、ヘキスオキシ、1-メチルペントキシ、2-メチルペントキシ、3-メチルペントキシ、4-メチルペントキシ、1,1-ジメチルブトキシ,1,2-ジ-メチルブトキシ、1,3-ジメチルブトキシ、2,2-ジメチルブトキシ、2,3-ジメチルブトキシ、3,3-ジメチルブトキシ、1-エチルブトキシ、2-エチルブトキシ、1,1,2-トリメチルプロポキシ、1,2,2-トリ-メチルプロポキシ、1-エチル-1-メチルプロポキシおよび1-エチル-2-メチルプロポキシ;
C2〜C6-アルケニルオキシ:例えばエテン-1-イルオキシ、エテン-2-イルオキシ、プロパ-1-エン-1-イルオキシ、プロパ-2-エン-1-イルオキシ、1-メチルエテニルオキシ、ブテン-1-イルオキシ、ブテン-2-イルオキシ、ブテン-3-イルオキシ、1-メチルプロパ-1-エン-1-イルオキシ、2-メチルプロパ-1-エン-1-イルオキシ、1-メチルプロパ-2-エン-1-イルオキシ、2-メチルプロパ-2-エン-1-イルオキシ、ペンテン-1-イルオキシ、ペンテン-2-イルオキシ、ペンテン-3-イルオキシ、ペンテン-4-イルオキシ、1-メチルブタ-1-エン-1-イルオキシ、2-メチルブタ-1-エン-1-イルオキシ、3-メチルブタ-1-エン-1-イルオキシ、1-メチルブタ-2-エン-1-イルオキシ、2-メチルブタ-2-エン-1-イルオキシ、3-メチルブタ-2-エン-1-イルオキシ、1-メチルブタ-3-エン-1-イルオキシ、2-メチルブタ-3-エン-1-イルオキシ、3-メチルブタ-3-エン-1-イルオキシ、1,1-ジメチルプロパ-2-エン-1-イルオキシ、1,2-ジメチルプロパ-1-エン-1-イルオキシ、1,2-ジメチル-プロパ-2-エン-1-イルオキシ、1-エチルプロパ-1-エン-2-イルオキシ、1-エチルプロパ-2-エン-1-イルオキシ、ヘキサ-1-エン-1-イルオキシ、ヘキサ-2-エン-1-イルオキシ、ヘキサ-3-エン-1-イルオキシ、ヘキサ-4-エン-1-イルオキシ、ヘキサ-5-エン-1-イルオキシ、1-メチルペンタ-1-エン-1-イルオキシ、2-メチルペンタ-1-エン-1-イルオキシ、3-メチルペンタ-1-エン-1-イルオキシ、4-メチルペンタ-1-エン-1-イルオキシ、1-メチルペンタ-2-エン-1-イルオキシ、2-メチルペンタ-2-エン-1-イルオキシ、3-メチルペンタ-2-エン-1-イルオキシ、4-メチルペンタ-2-エン-1-イルオキシ、1-メチルペンタ-3-エン-1-イルオキシ、2-メチルペンタ-3-エン-1-イルオキシ、3-メチルペンタ-3-エン-1-イルオキシ、4-メチルペンタ-3-エン-1-イルオキシ、1-メチルペンタ-4-エン-1-イルオキシ、2-メチルペンタ-4-エン-1-イルオキシ、3-メチルペンタ-4-エン-1-イルオキシ、4-メチルペンタ-4-エン-1-イルオキシ、1,1-ジメチルブタ-2-エン-1-イルオキシ、1,1-ジメチルブタ-3-エン-1-イルオキシ、1,2-ジメチルブタ-1-エン-1-イルオキシ、1,2-ジメチルブタ-2-エン-1-イルオキシ、1,2-ジメチルブタ-3-エン-1-イルオキシ、1,3-ジメチルブタ-1-エン-1-イルオキシ、1,3-ジメチルブタ-2-エン-1-イルオキシ、1,3-ジメチルブタ-3-エン-1-イルオキシ、2,2-ジメチルブタ-3-エン-1-イルオキシ、2,3-ジメチルブタ-1-エン-1-イルオキシ、2,3-ジメチルブタ-2-エン-1-イルオキシ、2,3-ジメチルブタ-3-エン-1-イルオキシ、3,3-ジメチルブタ-1-エン-1-イルオキシ、3,3-ジメチルブタ-2-エン-1-イルオキシ、1-エチルブタ-1-エン-1-イルオキシ、1-エチルブタ-2-エン-1-イルオキシ、1-エチルブタ-3-エン-1-イルオキシ、2-エチルブタ-1-エン-1-イルオキシ、2-エチルブタ-2-エン-1-イルオキシ、2-エチルブタ-3-エン-1-イルオキシ、1,1,2-トリメチルプロパ-2-エン-1-イルオキシ、1-エチル-1-メチルプロパ-2-エン-1-イルオキシ、1-エチル-2-メチルプロパ-1-エン-1-イルオキシおよび1-エチル-2-メチルプロパ-2-エン-1-イルオキシ;
C3〜C6-アルキニルオキシ:例えばプロパ-1-イン-1-イルオキシ、プロパ-2-イン-1-イルオキシ、ブタ-1-イン-1-イルオキシ、ブタ-1-イン-3-イルオキシ、ブタ-1-イン-4-イルオキシ、ブタ-2-イン-1-イルオキシ、ペンタ-1-イン-1-イルオキシ、ペンタ-1-イン-3-イルオキシ、ペンタ-1-イン-4-イルオキシ、ペンタ-1-イン-5-イルオキシ、ペンタ-2-イン-1-イルオキシ、ペンタ-2-イン-4-イルオキシ、ペンタ-2-イン-5-イルオキシ、3-メチルブタ-1-イン-3-イルオキシ、3-メチルブタ-1-イン-4-イルオキシ、ヘキサ-1-イン-1-イルオキシ、ヘキサ-1-イン-3-イルオキシ、ヘキサ-1-イン-4-イルオキシ、ヘキサ-1-イン-5-イルオキシ、ヘキサ-1-イン-6-イルオキシ、ヘキサ-2-イン-1-イルオキシ、ヘキサ-2-イン-4-イルオキシ、ヘキサ-2-イン-5-イルオキシ、ヘキサ-2-イン-6-イルオキシ、ヘキサ-3-イン-1-イルオキシ、ヘキサ-3-イン-2-イルオキシ、3-メチルペンタ-1-イン-1-イルオキシ、3-メチルペンタ-1-イン-3-イルオキシ、3-メチルペンタ-1-イン-4-イルオキシ、3-メチルペンタ-1-イン-5-イルオキシ、4-メチルペンタ-1-イン-1-イルオキシ、4-メチルペンタ-2-イン-4-イルオキシおよび4-メチルペンタ-2-イン-5-イルオキシ;
C1〜C4-ハロアルコキシ:弗素、塩素、臭素および/またはヨウ素により部分的にまた全て置換されている先に規定したC1〜C4-アルコキシ基、すなわち、例えば、フルオロメトキシ、ジフルオロメトキシ、トリフルオロメトキシ、クロロジフルオロメトキシ、ブロモジフルオロメトキシ、2-フルオロエトキシ、2-クロロエトキシ、2-ブロモメトキシ、2-ヨードエトキシ、2,2-ジフルオロエトキシ、2,2,2-トリフルオロエトキシ、2-クロロ-2-フルオロエトキシ、2-クロロ-2,2-ジフルオロエトキシ、2,2-ジクロロ-2-フルオロエトキシ、2,2,2-トリクロロエトキシ、ペンタフルオロエトキシ、2-フルオロプロポキシ、3-フルオロプロポキシ、2-クロロプロポキシ、3-クロロプロポキシ、2-ブロモプロポキシ、3-ブロモプロポキシ、2,2-ジフルオロプロポキシ、2,3-ジフルオロプロポキシ、2,3-ジクロロプロポキシ、3,3,3-トリフルオロプロポキシ、3,3,3-トリクロロ-プロポキシ、2,2,3,3,3-ペンタフルオロプロポキシ、ヘプタフルオロプロポキシ、1-(フルオロメチル)-2-フルオロエトキシ、1-(クロロメチル)-2-クロロエトキシ、1-(ブロモメチル)-2-ブロモエトキシ、4-フルオロブトキシ、4-クロロブトキシ、4-ブロモブトキシおよびノナフルオロブトキシ;
C1〜C6-ハロアルコキシ:先に規定したC1〜C4-ハロアルコキシ、およびまた、例えば、5-フルオロペントキシ、5-クロロペントキシ、5-ブロモペントキシ、5-ヨードペントキシ、ウンデカフルオロペントキシ、6-フルオロヘキソキシ、6-クロロヘキソキシ、6-ブロモヘキソキシ、6-ヨードヘキソキシおよびドデカフルオロヘキソキシ;
C1〜C4-アルコキシ-C2〜C4-アルコキシ:C1〜C4-アルコキシにより置換されている先に規定したC2〜C4-アルコキシ、すなわち、例えば、2-(メトキシ)エトキシ、2-(エトキシ)エトキシ、2-(プロポキシ)エトキシ、2-(1-メチルエトキシ)エトキシ、2-(ブトキシ)エトキシ、2-(1-メチルプロポキシ)エトキシ、2-(2-メチルプロポキシ)エトキシ、2-(1,1-ジメチルエトキシ)エトキシ、2-(メトキシ)プロポキシ、2-(エトキシ)プロポキシ、2-(プロポキシ)プロポキシ、2-(1-メチルエトキシ)プロポキシ、2-(ブトキシ)-プロポキシ、2-(1-メチルプロポキシ)プロポキシ、2-(2-メチルプロポキシ)プロポキシ、2-(1,1-ジメチルエトキシ)プロポキシ、3-(メトキシ)プロポキシ、3-(エトキシ)プロポキシ、3-(プロポキシ)-プロポキシ、3-(1-メチルエトキシ)プロポキシ、3-(ブトキシ)プロポキシ、3-(1-メチルプロポキシ)-プロポキシ、3-(2-メチルプロポキシ)プロポキシ、3-(1,1-ジメチルエトキシ)プロポキシ、2-(メトキシ)ブトキシ、2-(エトキシ)ブトキシ、2-(プロポキシ)ブトキシ、2-(1-メチルエトキシ)ブトキシ、2-(ブトキシ)ブトキシ、2-(1-メチルプロポキシ)ブトキシ、2-(2-メチルプロポキシ)ブトキシ、2-(1,1-ジメチルエトキシ)ブトキシ、3-(メトキシ)ブトキシ、3-(エトキシ)ブトキシ、3-(プロポキシ)ブトキシ、3-(1-メチルエトキシ)ブトキシ、3-(ブトキシ)ブトキシ、3-(1-メチルプロポキシ)ブトキシ、3-(2-メチルプロポキシ)ブトキシ、3-(1,1-ジメチルエトキシ)ブトキシ、4-(メトキシ)ブトキシ、4-(エトキシ)ブトキシ、4-(プロポキシ)ブトキシ、4-(1-メチルエトキシ)ブトキシ、4-(ブトキシ)ブトキシ、4-(1-メチルプロポキシ)ブトキシ、4-(2-メチルプロポキシ)ブトキシおよび4-(1,1-ジメチル-エトキシ)ブトキシ;
C1〜C4-アルコキシカルボニル:例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、1-メチルエトキシカルボニル、ブトキシカルボニル、1-メチルプロポキシ-カルボニル、2-メチルプロポキシカルボニルまたは1,1-ジメチルエトキシカルボニル;
C1〜C4-アルキルチオ:例えばメチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、1-メチルエチルチオ、ブチルチオ、1-メチルプロピルチオ、2-メチルプロピルチオおよび1,1-ジメチルエチルチオ;
C1〜C6-アルキルチオ:先に規定したC1〜C4-アルキルチオ 、およびまた、例えば、ペンチルチオ、1-メチルブチルチオ、2-メチルブチルチオ、3-メチルブチルチオ、2,2-ジメチルプロピルチオ、1-エチルプロピルチオ、ヘキシルチオ、1,1-ジメチルプロピルチオ、1,2-ジメチルプロピルチオ、1-メチルペンチルチオ、2-メチルペンチルチオ、3-メチルペンチルチオ、4-メチルペンチルチオ、1,1-ジメチルブチルチオ、1,2-ジメチルブチルチオ、1,3-ジメチル-ブチルチオ、2,2-ジメチルブチルチオ、2,3-ジメチルブチルチオ、3,3-ジメチルブチルチオ、1-エチルブチルチオ、2-エチルブチルチオ、1,1,2-トリメチルプロピルチオ、1,2,2-トリメチルプロピルチオ、1-エチル-1-メチルプロピルチオおよび1-エチル-2-メチルプロピルチオ;
C1〜C4-アルキルスルフィニル(C1〜C4-アルキル-S(=O)-):例えばメチルスルフィニル、エチルスルフィニル、プロピルスルフィニル、1-メチルエチルスルフィニル、ブチルスルフィニル、1-メチルプロピルスルフィニル、2-メチル-プロピルスルフィニル、1,1-ジメチルエチルスルフィニル;
C1〜C4-アルキルスルホニル(C1〜C4-アルキル-S(=O)2-):例えばメチルスルホニル、エチルスルホニル、プロピルスルホニル、1-メチルエチルスルホニル、ブチルスルホニル、1-メチルプロピルスルホニル、2-メチルプロピルスルホニル、1,1-ジメチルエチルスルホニル;
C1〜C4-アルキルアミノ:例えばメチルアミノ、エチルアミノ、プロピルアミノ、1-メチルエチルアミノ、ブチルアミノ、1-メチルプロピルアミノ、2-メチルプロピルアミノ、1,1-ジメチルエチルアミノ;
ジ-(C1〜C4-アルキル)アミノ:例えばN,N-ジメチルアミノ、N,N-ジエチルアミノ、N,N-ジプロピルアミノ、N,N-ジ-(1-メチルエチル)アミノ、N,N-ジブチルアミノ、N,N-ジ-(1-メチルプロピル)アミノ、N,N-ジ-(2-メチルプロピル)アミノ、N,N-ジ-(1,1-ジメチルエチル)アミノ、N-エチル-N-メチルアミノ、N-メチル-N-プロピルアミノ、N-メチル-N-(1-メチルエチル)アミノ、N-ブチル-N-メチルアミノ、N-メチル-N-(1-メチルプロピル)アミノ、N-メチル-N-(2-メチルプロピル)アミノ、N-(1,1-ジメチルエチル)-N-メチルアミノ、N-エチル-N-プロピルアミノ、N-エチル-N-(1-メチルエチル)アミノ、N-ブチル-N-エチルアミノ、N-エチル-N-(1-メチルプロピル)アミノ、N-エチル-N-(2-メチルプロピル)アミノ、N-エチル-N-(1,1-ジメチルエチル)アミノ、N-(1-メチルエチル)-N-プロピルアミノ、N-ブチル-N-プロピルアミノ、N-(1-メチルプロピル)-N-プロピルアミノ、N-(2-メチルプロピル)-N-プロピルアミノ、N-(1,1-ジメチルエチル)-N-プロピルアミノ、N-ブチル-N-(1-メチルエチル)アミノ、N-(1-メチルエチル)-N-(1-メチルプロピル)アミノ、N-(1-メチルエチル)-N-(2-メチルプロピル)アミノ、N-(1,1-ジメチルエチル)-N-(1-メチルエチル)アミノ、N-ブチル-N-(1-メチルプロピル)アミノ、N-ブチル-N-(2-メチルプロピル)アミノ、N-ブチル-N-(1,1-ジメチルエチル)アミノ、N-(1-メチルプロピル)-N-(2-メチルプロピル)アミノ、N-(1,1-ジメチルエチル)-N-(1-メチルプロピル)アミノおよびN-(1,1-ジメチルエチル)-N-(2-メチルプロピル)アミノ;
(C1〜C4-アルキルアミノ)カルボニル:例えばメチルアミノカルボニル、エチルアミノカルボニル、プロピルアミノカルボニル、1-メチルエチルアミノカルボニル、ブチルアミノカルボニル、1-メチルプロピルアミノカルボニル、2-メチルプロピルアミノカルボニルまたは1,1-ジメチルエチルアミノカルボニル;
ジ-(C1〜C4)-アルキルアミノカルボニル:例えばN,N-ジメチルアミノカルボニル、N,N-ジエチルアミノカルボニル、N,N-ジ-(1-メチルエチル)アミノカルボニル、N,N-ジプロピルアミノ-カルボニル、N,N-ジブチルアミノカルボニル、N,N-ジ-(1-メチルプロピル)アミノカルボニル、N,N-ジ-(2-メチルプロピル)アミノカルボニル、N,N-ジ-(1,1-ジメチルエチル)アミノカルボニル、N-エチル-N-メチルアミノカルボニル、N-メチル-N-プロピルアミノカルボニル、N-メチル-N-(1-メチルエチル)アミノカルボニル、N-ブチル-N-メチルアミノカルボニル、N-メチル-N-(1-メチルプロピル)アミノカルボニル、N-メチル-N-(2-メチルプロピル)アミノカルボニル、N-(1,1-ジメチルエチル)-N-メチルアミノカルボニル、N-エチル-N-プロピルアミノカルボニル、N-エチル-N-(1-メチルエチル)アミノカルボニル、N-ブチル-N-エチルアミノカルボニル、N-エチル-N-(1-メチルプロピル)アミノカルボニル、N-エチル-N-(2-メチルプロピル)アミノカルボニル、N-エチル-N-(1,1-ジメチルエチル)アミノカルボニル、N-(1-メチルエチル)-N-プロピルアミノカルボニル、N-ブチル-N-プロピルアミノカルボニル、N-(1-メチルプロピル)-N-プロピルアミノカルボニル、N-(2-メチルプロピル)-N-プロピルアミノカルボニル、N-(1,1-ジメチルエチル)-N-プロピルアミノカルボニル、N-ブチル-N-(1-メチルエチル)アミノカルボニル、N-(1-メチルエチル)-N-(1-メチルプロピル)アミノカルボニル、N-(1-メチルエチル)-N-(2-メチルプロピル)アミノカルボニル、N-(1,1-ジメチルエチル)-N-(1-メチルエチル)アミノカルボニル、N-ブチル-N-(1-メチルプロピル)アミノカルボニル、N-ブチル-N-(2-メチルプロピル)アミノカルボニル、N-ブチル-N-(1,1-ジメチルエチル)アミノカルボニル、N-(1-メチルプロピル)-N-(2-メチルプロピル)アミノカルボニル、N-(1,1-ジメチルエチル)-N-(1-メチルプロピル)アミノカルボニルまたはN-(1,1-ジメチルエチル)-N-(2-メチルプロピル)アミノカルボニル。
全てのフェニル環は好ましくは無置換であるかまたは1〜3個のハロゲン原子および/または1つのニトロ基、1つのシアノ基および/または1つもしくは2つのメチル、トリフルオロメチル、メトキシまたはトリフルオロメトキシ置換基を保持する。
本発明による方法の特に好ましい実施形態においては、置換基R1、R2およびR3はそれぞれ単独にまたは組合わせて次の通り定義される:
R1は水素、C1〜C6-アルキル、C1〜C4-シアノアルキル、C1〜C6-ハロアルキル、C3〜C8-シクロアルキル、C2〜C6-アルケニル、C2〜C6-ハロアルケニル、C3〜C6-アルキニル、C3〜C6-ハロアルキニルまたはフェニル-C1〜C4-アルキル、
非常に好ましくは水素またはC1〜C4-アルキル、
より好ましくは水素、メチルまたはエチル、
とりわけ好ましくはメチルであり、
同様に好ましくは水素、アミノまたはC1〜C4-アルキル、
より好ましくは水素、アミノ、メチルまたはエチル、
とりわけ好ましくはアミノまたはメチルであり;
同様に好ましくは水素、アミノまたはC1〜C4-アルキル、
より好ましくは水素またはアミノ、
とりわけ好ましくは水素であり;
R2は水素、C1〜C4-アルキルまたはC1〜C4-ハロアルキル、
より好ましくは水素、メチル、ジフルオロメチルまたはトリフルオロメチル、
とりわけ好ましくはトリフルオロメチルであり;
R3は水素またはC1〜C4-アルキル、
より好ましくは水素である。
本発明による方法のさらなる好ましい実施形態においては、X1、X2およびX3はそれぞれ酸素である。
規定したAr基は、好ましくは一般式Ar-1:
Figure 2012006936
[式中、*はArのC(X3)基(ここでXは好ましくは酸素である)との結合を表わし;
**はArの直接隣接する窒素原子との結合を表わし;そして
Ra、Rb、RcおよびRdはそれぞれ独立して水素、ハロゲン、シアノまたはC1〜C4-ハロアルキルである]
の基である。
本発明による方法の特に好ましい実施形態においては、置換基Ra、Rb、RcおよびRdはそれぞれ単独にまたは組合わせて次の通り定義される:
Raは水素、ハロゲンまたはシアノ、
とりわけ好ましくは水素、弗素、塩素またはシアノ、
非常に好ましくは水素、塩素またはシアノ、
並外れて好ましくは水素または塩素であり、
Rbは水素であり、
Rcは水素またはハロゲン、
とりわけ好ましくは水素、弗素または塩素、
非常に好ましくは水素または弗素、
並外れて好ましくは弗素であり;
Rdは水素である。
一級または二級アミンから誘導される規定されたA基は、一般的に式-NR4R5の基であり、ここで置換基R4およびR5はそれぞれ独立して次の通り定義される:
R4、R5は、
水素、C1〜C6-アルキル、C2〜C6-アルケニルまたはC2〜C6-アルキニル、
[ここで、記載した最後3つの基は、CN、NO2、C1〜C4-アルコキシ、C1〜C4-アルキルチオ、ホルミル、C1〜C4-アルキルカルボニル、C1〜C4-アルコキシカルボニル、(C1〜C4-アルキルアミノ)カルボニル、(C1〜C4-ジアルキルアミノ)カルボニル、C1〜C4-アルキルスルフィニル、C1〜C4-アルキルスルホニル、C3〜C8-シクロアルキル、3〜6員のヘテロシクリル(該ヘテロシクリルは酸素、硫黄、窒素およびNR6基から選択される1〜4個のヘテロ原子を有し、ここでR6は水素、C1〜C6-アルキル、C3〜C6-アルケニルまたはC3〜C6-アルキニルである);またはフェニル(該フェニルは部分的にまた全てハロゲン化されていてもよくおよび/またはシアノ、ニトロ、C1〜C4-アルキル、C1〜C4-フルオロアルキル、C1〜C4-アルコキシ、(C1〜C4-アルキル)アミノ、(C1〜C4-ジアルキル)アミノ、トリフルオロメチルスルホニル、ホルミルまたはC1〜C4-アルキルオキシカルボニルからなる群より選択される1〜3つの置換基を保持してもよい)からなる群より選択される基により置換されていてもよい];
C1〜C6-ハロアルキル、C2〜C6-ハロアルケニル、C3〜C6-ハロアルキニル;
C3〜C8-シクロアルキル、C3〜C8-シクロアルケニル、3〜6員のヘテロシクリル(該ヘテロシクリルは酸素、硫黄、窒素およびNR6基から選択される1〜4個のヘテロ原子を有し、ここでR6は水素、C1〜C6-アルキル、C3〜C6-アルケニルまたはC3〜C6-アルキニルである);
フェニルまたはナフチル;
[ここで、記載した最後の5つの基、C3〜C8-シクロアルキル、C3〜C8-シクロアルケニル、3〜6員のヘテロシクリル、フェニルおよびナフチルはそれら自体が部分的にまた全てハロゲン化されていてもよくおよび/またはシアノ、ニトロ、C1〜C4-アルキル、C1〜C4-フルオロアルキル、C1〜C4-アルコキシ、(C1〜C4-アルキル)アミノ、(C1〜C4-ジアルキル)アミノ、トリフルオロメチルスルホニル、ホルミル、C1〜C4-アルキルオキシカルボニルまたはフェノキシからなる群より選択される1〜3つの置換基を保持してもよい]であるか;または
R4とR5は一緒に、飽和または部分的に不飽和な5〜6員の窒素ヘテロ環を形成し、該窒素へテロ環は1つもしくは2つのカルボニル基、チオカルボニル基および/またはO、S、NおよびNR6基(ここでR6は水素、C1〜C6-アルキル、C3〜C6-アルケニルまたはC3〜C6-アルキニルであってそれら自体がC1〜C4-アルキル、C1〜C4-アルコキシおよび/またはC1〜C4-ハロアルキルにより置換されていてもよい)から選択される1つもしくは2つのさらなるヘテロ原子を環員として有してもよい。
本発明による方法に対しては、Aが式-NR4R5の基であるときに特に有利であることが見出されていて、その場合、置換基R4およびR5はそれぞれ独立して、水素またはC1〜C6-アルキル[該C1〜C6-アルキルは、ハロゲン、シアノ、C3〜C8-シクロアルキル、C1〜C4-アルコキシ、C1〜C4-アルキルチオ、C1〜C4-アルコキシカルボニル、フェニル(該フェニルはハロゲンまたはC1〜C4-アルコキシからなる群より選択される1〜3つの基を保持してもよい);フリル、チエニルおよび1,3-ジオキシラニル;好ましくはハロゲン、シアノおよびC1〜C4-アルコキシからなる群より選択される置換基;非常に好ましくはハロゲンにより置換されていてもよい]である。
ある好ましい本発明の実施形態においては、Aは式-NR4R5(式中、置換基R4およびR5はそれぞれ独立して水素またはC1〜C6-アルキルである)の基である。
特に本発明の実施形態においては、Aは式-NR4R5
[式中、R4は水素、C1〜C6-アルキル、C1〜C6-ハロアルキル、C2〜C6-アルケニルまたはC2〜C6-アルキニル、
とりわけ好ましくは水素またはC1〜C6-アルキル、
非常に好ましくはC1〜C6-アルキル、
より好ましくはメチルであり;そして
R5はC1〜C6-アルキル、C1〜C4-ハロアルキル、C3〜C8-シクロアルキルまたはフェニル、
とりわけ好ましくはC1〜C6-アルキル、
非常に好ましくはC1〜C4-アルキルである]の基である。
本発明の方法の工程は、回分式でまたは連続式でそれに好適な反応容器内にて行うことができる。
回分式操作において、典型的には攪拌槽と攪拌反応器を使用する。これらは一般に反応熱を除去するための好適な熱交換器または冷却ジャケットを備えている。
本発明の反応工程は、同様に連続式でそれに好適な反応器内で、例えば攪拌槽、攪拌槽列および管式反応器中で行い、中でも好ましいのは逆混合の少ない反応器である。
溶媒または希釈剤の量は一般的に、反応混合物が反応中に流動性を保つように選択する。
式Iの3-フェニル(チオ)ウラシル類および-ジチオウラシル類は式IIのカルバメートを式IIIのエナミンと反応させることにより製造する:
Figure 2012006936
置換基X1、X2、X3、R1、R2、R3およびまたArおよびAはそれぞれ先に定義した通りであり、そしてとりわけ好ましくは本明細書で好ましいと定義した通りである。
L1は求核置換しうる脱離基、好ましくはC1〜C6-アルコキシまたはC1〜C6-アルキルチオ、より好ましくはC1〜C6-アルコキシである。
L2は求核置換しうる脱離基;好ましくはC1〜C6-アルコキシ、C1〜C6-ハロアルコキシ、C1〜C4-アルコキシ〜C2〜C4-アルコキシ、C1〜C4-アルキルチオ-C2〜C4-アルコキシ、C2〜C6-アルケニルオキシ、C2〜C6-ハロアルケニルオキシ、C3〜C6-アルキニルオキシ、C3〜C6-ハロアルキニルオキシ、C3〜C8-シクロアルキルオキシ、C1〜C6-シアノアルコキシまたはベンジルオキシ(該ベンジルオキシはそれ自体、フェニル環上で部分的にまた全てハロゲン化されていてもよくおよび/またはシアノ、ニトロ、C1〜C4-アルキル、C1〜C4-アルコキシおよびC1〜C4-アルキルチオからなる群より選択される1〜3つの基により置換されていてもよい);
好ましくはC1〜C6-アルコキシ、C1〜C6-ハロアルコキシ、C1〜C4-アルコキシ〜C2〜C4-アルコキシ、C2〜C6-アルケニルオキシ、C2〜C6-ハロアルケニルオキシ、C3〜C6-アルキニルオキシまたはC3〜C6-ハロアルキニルオキシ;
非常に好ましくはC1〜C6-アルコキシ、C1〜C4-アルコキシ〜C2〜C4-アルコキシ、C2〜C6-アルケニルオキシまたはC3〜C6-アルキニルオキシ;
並外れて好ましくはC1〜C6-アルコキシである。
この式IIのカルバメート類の式IIIのエナミン類との反応は、典型的には、室温を越える温度、例えば25℃〜200℃、好ましくは90℃〜190℃、より好ましくは100℃〜140℃にて不活性な有機溶媒中で塩基の存在のもとで行う(例えば、WO99/31091を参照)。
反応圧力は、本発明による方法を成功させるためにそれほど重要でなく、例えば500mbar〜10barであってもよい。好ましくは、反応を標準圧力、すなわち0.9〜1.2barで行う。
必要な反応時間は一般的に1〜24時間、そして特に2〜8時間である。
反応は原則として無溶媒で行うことができる。しかし、式IIのカルバメート類を式IIIのエナミン類と有機溶媒中で反応させることが好ましい。原則として、式IIのカルバメート類および式IIIのエナミン類を反応条件下で少なくとも部分的にそして好ましくは完全に溶解することができる全ての溶媒が好適である。好ましい溶媒は極性プロトン溶媒である。
好適な溶媒は脂肪族炭化水素、例えば、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサンおよびC5〜C8-アルカンの混合物、芳香族炭化水素、例えばトルエン、o-、m-およびp-キシレン、ハロゲン化炭化水素、例えば塩化メチレン、クロロホルムおよびクロロベンゼン、エーテル類、例えばジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、tert-ブチルメチルエーテル、ジオキサン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、アニソールおよびテトラヒドロフラン、ニトリル、例えばアセトニトリルおよびプロピオニトリル、アルコール、例えばメタノール、エタノール、n-プロパノール、イソプロパノール、n-ブタノールおよびtert-ブタノール、カルボン酸エステル、例えば酢酸ブチル、およびまたジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアルデヒド、ジメチルアセトアミドおよびN-メチルピロリドン;より好ましくはジメチルホルムアルデヒド、ジメチルアセトアミドおよびN-メチルピロリドンである。
上記溶媒の混合物を使用することも可能である。
有用な塩基は一般的に、無機化合物、例えばアルカリ金属およびアルカリ土類金属水酸化物、例えば水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムおよびカルシウム水酸化物、アルカリ金属およびアルカリ土類金属酸化物、例えば酸化リチウム、酸化ナトリウム、酸化カルシウムおよび酸化マグネシウム、アルカリ金属およびアルカリ土類金属水素化物、例えば水素化リチウム、水素化ナトリウム、水素化カリウムおよび水素化カルシウム、アルカリ金属アミド、例えばリチウムアミド、ナトリウムアミドおよびカリウムアミド、アルカリ金属およびアルカリ土類金属炭酸塩、例えば炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸カルシウムおよび炭酸セシウム、およびまたアルカリ金属炭酸水素塩、例えば炭酸水素ナトリウム、有機金属化合物、とりわけアルキルアルカリ金属、例えばメチルリチウム、ブチルリチウムおよびフェニルリチウム、アルカリ金属およびアルカリ土類金属アルコキシド、例えばリチウムメトキシド、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムエトキシド、カリウムtert-ブトキシド、カリウムtert-ペントキシドおよびジメトキシマグネシウム、およびまた有機塩基、例えば三級アミン類、例えばトリメチルアミン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミンおよびN-メチルピペリジン、ピリジン、置換されたピリジン、例えばコリジン、ルチジンおよび4-ジメチルアミノピリジン、およびまた二環式アミン類である。特に好ましいのはアルカリ金属およびアルカリ土類金属水酸化物、アルカリ金属およびアルカリ土類金属炭酸塩ならびにまたアルカリ金属およびアルカリ土類金属アルコキシドである。
塩基は一般的に過剰に、より好ましくは式IIのカルバメートを基準として1.1〜3当量を使用し、そして塩基を溶媒として使用してもよい。ある時間にわたって塩基の埋め合わせを加えることも有利である。
塩基はカルバメートIIを基準として、好ましくは1.1〜2.4当量で、非常に好ましくは2.2〜2.4当量で、より好ましくは2.3当量で使用する。
反応物は一般的に等モル量でお互いと反応させる。一成分を他の成分を基準として過剰に使用することが有利でありうる。好ましいのは、化合物をII:IIIのモル比で1.5:1〜1:1.5、より好ましくは1:1〜1:1.2、とりわけ好ましくは1:1で使用することである。
好ましいのは、とりわけ化合物L1-HおよびL2-HがメタノールまたはエタノールなどのC1〜C4-アルカノールであるとき、式IIのカルバメート類の式IIIのエナミン類との反応の過程で生成する化合物L1-HおよびL2-Hを反応中に部分的に除去することである。この目的で反応を、公知の方法で、化合物L1-HおよびL2-Hが、もし適当であれば、反応混合物から溶媒との共沸蒸留物として留出する温度および圧力にて実施しうる。もし適当であれば、新しい溶媒を混合物中に導入して補うか、または化合物L1-HおよびL2-Hとともに留出した溶媒を、化合物L1-HおよびL2-Hが留出欠乏した後に反応物中にリサイクルしてもよい。
これらの理由で、使用する溶媒の沸点が、反応で生成する化合物L1-HおよびL2-Hの沸点(それぞれ大気圧にて)より少なくとも10℃、特に少なくとも30℃高いことが有利である。
適当なのは、式IIのカルバメート類の式IIIのエナミン類との反応を、少なくとも1つの蒸留または精留装置、例えば蒸留塔を備えた装置で実施することであり、上記装置は、最初に化合物L1-HおよびL2-Hを、もし適当であれば、溶媒と一緒に留出させ、そして化合物L1-HおよびL2-Hとともに留出したいずれかの溶媒を同時に除去しかつリサイクルすることができる。
反応のために、化合物IIとIIIをいずれの所望のやり方でお互いに接触させてもよく、すなわち反応物と塩基を反応容器中に別々に、同時にまたは逐次に導入して反応させてもよい。例えば、化合物IIとIIIを最初に反応容器に、もし適当であれば、所望の溶媒とともに供給し、次いで所望の反応条件に導いてもよい。しかし化合物IIおよびIIIの大部分または全てを、もし適当であれば、溶媒中で、反応条件下にて反応容器中に導入することも可能である。
本発明のある好ましい実施形態においては、式IIのカルバメート類の大部分、特に少なくとも80%そしてより好ましくは全てまたは実質的に全て(>95%)を最初に供給し、そして式IIIのエナミンの大部分、特に少なくとも80%そしてより好ましくは全てまたは実質的に全て(>95%)を、反応条件下で反応の過程において、例えば0.5〜20時間そして特に1〜10時間の時間にわたり、それに加える。この目的で、式IIIのエナミン類を好ましくは溶媒中に溶解しうる。
本発明のさらなる好ましい実施形態においては、化合物IIとIIIを最初に供給し、次いで塩基の大部分、特に少なくとも80%そしてより好ましくは全てまたは実質的に全て(>95%)をそれに加える。反応は、もし適当であればさらなる塩基を計量して加えることにより完了させることができる。
式Iの3-フェニル(チオ)ウラシル類および-ジチオウラシル類を、公知のやり方で反応混合物から単離することができる。
反応を溶媒中で行うとき、反応混合物は一般的に濃縮および/または冷却しうるしおよび/または沈殿剤を加えうる。好適な沈殿剤は、式Iの3-フェニル(チオ)ウラシル類および-ジチオウラシル類が少なくとも25℃より低い温度で、溶解するとしても僅かしか溶解しない溶媒である。これらとしては、特に脂肪族および脂環族炭化水素、例えばペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、石油エーテル、トルエンなどが挙げられる。沈降または結晶化の後に、さらなる精製を行うことができる。反応を、好ましいとしたようにアルコール、特にメタノールもしくはエタノール中で、またはアルキルベンゼン中で行う場合、一般的に沈殿剤を加える必要はない。
仕上げのために、反応混合物のpHを無機酸、例えば塩酸または硫酸を用いてpH<7に調節することも有利である。特に、反応混合物のpHが終期に<2である場合、有利である。
式Iの3-フェニル(チオ)ウラシル類および-ジチオウラシル類を製造するために必要な式IIIのエナミン類は文献(例えば A. Lutz, A.およびS. Trotto, J. of Heterocyclic Chem. 1972, 9, 3, 513-522)に開示されていて、その引用文献に従って製造することができる。
特に、この経路により式I.A.1:
Figure 2012006936
[式中、RbおよびRdはそれぞれ水素である]
の3-フェニルウラシル類は、対応する式II.A.1:
Figure 2012006936
[式中、RbおよびRdはそれぞれ水素である]
のカルバメート類を式III:
Figure 2012006936
[式中、X2は酸素である]
のエナミン類と反応させることにより製造することができる。
Figure 2012006936
L1は求核置換しうる脱離基、
好ましくはC1〜C6-アルコキシまたはC1〜C6-アルキルチオ、
より好ましくはC1〜C6-アルコキシ、
とりわけ好ましくはC1〜C4-アルコキシ、
非常に好ましくはメトキシまたはエトキシであり;
L2は求核置換しうる脱離基;
好ましくはC1〜C6-アルコキシ、C1〜C6-ハロアルコキシ、C1〜C4-アルコキシ〜C2〜C4-アルコキシ、C1〜C4-アルキルチオ〜C2C4-アルコキシ、C2〜C6-アルケニルオキシ、C2〜C6-ハロアルケニルオキシ、C3〜C6-アルキニルオキシ、C3〜C6-ハロアルキニルオキシ、C3〜C8-シクロアルキルオキシ、C1〜C6-シアノアルコキシまたはベンジルオキシ(該ベンジルオキシはそれ自体、フェニル環上で部分的にまた全てハロゲン化されていてもよくおよび/またはシアノ、ニトロ、C1〜C4-アルキル、C1〜C4-アルコキシおよびC1〜C4-アルキルチオからなる群より選択される1〜3つの基により置換されていてもよい);
好ましくはC1〜C6-アルコキシ、C1〜C6-ハロアルコキシ、C1〜C4-アルコキシ〜C2〜C4-アルコキシ、C2〜C6-アルケニルオキシ、C2〜C6-ハロアルケニルオキシ、C3〜C6-アルキニルオキシまたはC3〜C6-ハロアルキニルオキシ;
非常に好ましくはC1〜C6-アルコキシ、C1〜C4-アルコキシ〜C2〜C4-アルコキシ、C2〜C6-アルケニルオキシまたはC3〜C6-アルキニルオキシ;
並外れて好ましくはC1〜C6-アルコキシである。
好ましいのは、とりわけ式I.A.1[式中、RbおよびRd=水素]の3-フェニルウラシル類の製造であり、ここで置換基R1、R2、R3、Ra、Rc、およびまたR4およびR5はそれぞれ単独でまたはお互いに組合わせて、次の通り定義される:
R1は水素、C1〜C6-アルキル、C1〜C4-シアノアルキル、C1〜C6-ハロアルキル、C3〜C8-シクロアルキル、C2〜C6-アルケニル、C2〜C6-ハロアルケニル、C3〜C6-アルキニル、C3〜C6-ハロアルキニルまたはフェニル-C1〜C4-アルキル;
非常に好ましくは水素またはC1〜C4-アルキル、
より好ましくは水素、メチルまたはエチル、
とりわけ好ましくはメチル;
同様に好ましくは水素、アミノまたはC1〜C4-アルキル、
より好ましくは水素、アミノ、メチルまたはエチル、
とりわけ好ましくはアミノまたはメチル;
同様に好ましくは水素、アミノまたはC1〜C4-アルキル、
より好ましくは水素またはアミノ、
とりわけ好ましくは水素であり;
R2は水素、C1〜C4-アルキルまたはC1〜C4-ハロアルキル、
より好ましくは水素、メチル、ジフルオロメチルまたはトリフルオロメチル、
とりわけ好ましくはトリフルオロメチルであり;
R3は水素またはC1〜C4-アルキル、
より好ましくは水素であり;
Raは水素、ハロゲンまたはシアノ、
とりわけ好ましくは水素、弗素、塩素またはシアノ、
非常に好ましくは水素、塩素またはシアノ、
並外れて好ましくは水素または塩素、
非常に並外れて好ましくは水素であり;
Rcは水素またはハロゲン、
とりわけ好ましくは水素、弗素または塩素、
非常に好ましくは水素または弗素、
並外れて好ましくは弗素であり;
R4およびR5はそれぞれ独立して
水素またはC1〜C6-アルキル(該C1〜C6-アルキルはハロゲン、シアノおよびC1〜C4-アルコキシからなる群より選択される置換基、好ましくはハロゲンにより置換されていてもよい)であり;
とりわけ好ましくは
R4は水素、C1〜C6-アルキル、C2〜C6-アルケニルまたはC2〜C6-アルキニル、
非常に好ましくは水素またはC1〜C6-アルキル、
より好ましくはC1〜C4-アルキル、
並外れて好ましくはメチルであり;そして
R5はC1〜C6-アルキル、C3〜C8-シクロアルキルまたはフェニル、
非常に好ましくはC1〜C6-アルキル、
より好ましくはC1〜C4-アルキルである。
特に、式I[式中、R1はC1〜C6-アルキル、C1〜C4-シアノアルキル、C1〜C6-ハロアルキル、C3〜C8-シクロアルキル、C2〜C6-アルケニル、C2〜C6-ハロアルケニル、C3〜C6-アルキニル、C3〜C6-ハロアルキニル、フェニル-C1〜C4-アルキルまたはアミノである]の3-フェニル(チオ)ウラシル類および-ジチオウラシル類は、式II:
Figure 2012006936
[式中、置換基X1、X3、ArおよびAはそれぞれ先に定義した通りでありそしてL1は求核置換しうる脱離基である]のカルバメート類を、式IIIa:
Figure 2012006936
[式中、R1aは水素であり、置換基X2、R2およびR3はそれぞれ先に定義した通りでありそしてL2は求核置換しうる脱離基である]のエナミン類と反応させることにより製造し;そして
次いで得られる式I[式中、R1は水素である]の3-フェニル(チオ)ウラシルおよび-ジチオウラシルを式VI:
Figure 2012006936
[式中、R1bはC1〜C6-アルキル、C1〜C4-シアノアルキル、C1〜C6-ハロアルキル、C3〜C8-シクロアルキル、C2〜C6-アルケニル、C2〜C6-ハロアルケニル、C3〜C6-アルキニル、C3〜C6-ハロアルキニルまたはフェニル-C1〜C4-アルキルであり;そして
L4は求核置換しうる脱離基である]のアルキル化剤と反応させて式I[式中、R1はC1〜C6-アルキル、C1〜C4-シアノアルキル、C1〜C6-ハロアルキル、C3〜C8-シクロアルキル、C2〜C6-アルケニル、C2〜C6-ハロアルケニル、C3〜C6-アルキニル、C3〜C6-ハロアルキニルまたはフェニル-C1〜C4-アルキルである]の3-フェニル(チオ)ウラシル類および-ジチオウラシル類を得るか;
または
式 VII:
Figure 2012006936
[式中、L5は求核置換しうる脱離基である]のアミノ化剤と反応させて式I[式中、R1はNH2である]の3-フェニル(チオ)ウラシル類および-ジチオウラシル類を得ることができる。
式I[式中、R1は水素である]の3-フェニル(チオ)ウラシル類および-ジチオウラシル類を製造するためには、上記の反応条件、とりわけ、好ましいと先に記載した反応条件を適用する。
式VIのアルキル化剤中のL4は、求核置換しうる脱離基、
好ましくはハロゲン、硫酸水素、C1〜C6-アルキル硫酸、硫酸、C1〜C6-アルキル-スルホニルオキシ、C1〜C6-ハロアルキルスルホニルオキシまたはフェニルスルホニルオキシ(該フェニル環は任意にハロゲン、ニトロ、C1〜C6-アルキルまたはC1〜C6-ハロアルキルにより単または多置換されている)、
より好ましくはハロゲン、硫酸水素、C1〜C6-アルキルスルホニルオキシ、C1〜C6-ハロ-アルキルスルホニルオキシ、フェニルスルホニルオキシ、p-トルエンスルホニルオキシ、p-クロロフェニルスルホニルオキシ、p-ブロモフェニルスルホニルオキシまたはp-ニトロフェニルスルホニルオキシ、
とりわけ好ましくは塩素、メチルスルホニルオキシ、トリフルオロメチルスルホニルオキシまたはフェニルスルホニルオキシである。
式VIIのアミノ化剤中のL5は、求核置換しうる脱離基、
好ましくはハロゲン、硫酸水素、C1〜C6-アルキルスルホニルオキシ、C1〜C6-ハロアルキルスルホニルオキシ、フェニルスルホニルオキシまたはフェニルオキシ(該フェニル環は任意にハロゲン、ニトロ、C1〜C6-アルキルまたはC1〜C6-ハロアルキルにより単または多置換されている)、
より好ましくはハロゲン、硫酸水素、C1〜C6-アルキルスルホニルオキシ、C1〜C6-ハロ-アルキルスルホニルオキシ、フェニルスルホニルオキシ、p-トルエンスルホニルオキシ、p-クロロフェニル-スルホニルオキシ、p-ブロモフェニルスルホニルオキシまたはp-ニトロフェニルスルホニルオキシ、
とりわけ好ましくは塩素、メチルスルホニルオキシ、トリフルオロメチルスルホニルオキシまたはフェニルスルホニルオキシである。
化合物I[式中、R1=水素]をアルキル化またはアミノ化する方法は実に意外であった、というのは対応するN-アルキルスルホンアミドまたはN-アルキルスルホンアミドの混合物またはN-アルキル-置換された(チオ)ウラシル類もしくはジチオウラシル類が生成すると予想していたからである。硫酸ジアミドは塩基の存在のもとで簡単なやり方で硫酸ジエステルまたは芳香族スルホン酸エステルを用いてアルキル化されることは公知である;例えば、R. Sowada, J. Prakt. Chem. 25, 88 (1964)を参照されたい。三置換硫酸ジアミドの場合、四置換硫酸ジアミドの生成が公知である;B. Unterhalt, E. Seebach, Arch. Pharm. 314, 51 (1981)を参照されたい。同様にアミド官能基が既にアシル基を保持する硫酸ジアミドをアルキル化することができる;K.C.C. Bancroftら, J. Heterocycl. Chem. 15, 1521 (1978); A. Martinexら, Bioorg. Med. Chem. Lett. 9 (21), 3133 (1999)を参照されたい。当業者は従って、スルファミド側鎖のアルキル化が容易であるので、スルホンアミド窒素原子上のアルキル化または少なくともジアルキル化生成物が優先すると予想したであろう。
化合物Iの無置換(チオ)ウラシル窒素原子上のN-アルキル化は、ウラシル類についてそれ自体公知のやり方で、化合物I[式中、R1=水素]をアルキル化剤R1-L4(VI)と反応させることにより、例えばUS4,943,309(そのアルキル化についての開示は本明細書に参照によりその全てが組み入れられる)に記載の通り巧く行く。
好ましいアルキル化剤は、C1〜C4-アルキルハロゲン化物、ジ-C1〜C4-アルキル硫酸、C1〜C4-アルキルフェニルスルホン酸(ここで該フェニル基は任意にハロゲン、ニトロまたはC1〜C6-アルキルにより単または二置換されている)である。特に好ましいアルキル化剤は、メチル化剤またはエチル化剤、例えばジメチル硫酸、ジエチル硫酸、ヨウ化メチル、ヨウ化エチル、臭化メチル、塩化メチル、臭化エチル、塩化エチル、C1〜C6-アルキルスルホン酸メチルまたはエチル、または上記フェニルスルホン酸のメチルまたはエチルエステルである。非常に特に好ましいメチル化剤はジメチル硫酸である。
本発明による方法において、アルキル化剤は、化合物Iを基準として等モル量でまたは化学量論量もしくは化学量論を超える量で使用してもよい。典型的には、化合物Iを基準として少なく等モル量のアルキル化剤 VIを使用する。化合物I[式中、R1=水素]をアルキル化剤VIに対して使用するモル比は、化合物Iのアルキル化剤VIに対する比として1:1〜1:3、好ましくは1:1〜1:1.3である。
典型的には、アルキル化は塩基の存在のもとで実施する。有用な塩基は原則として、ラクタム窒素原子を脱プロトン化することができる全ての化合物である。好適な塩基は、例えば、IIをIIIと反応させることによる化合物Iの製造に関わって記載した塩基である。塩基は好ましくは、アルカリ金属およびアルカリ土類金属水酸化物、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウムおよび水酸化リチウム、アルカリ金属およびアルカリ土類金属酸化物、例えば酸化カルシウム、アルカリ金属およびアルカリ土類金属炭酸塩、例えば炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム塩、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸亜鉛または炭酸バリウムから選択される。本発明による方法の特に好ましい実施形態においては、使用する塩基は水酸化ナトリウムまたは炭酸カリウムである。
塩基は、化合物Iを基準として化学量論量未満、化学量論量もしくは超化学量論量で使用してもよい。好ましいのは、化合物Iを基準として少なく等モル量の塩基を使用する。塩基の量は一般的に化合物Iの1モルを基準として1.3モルを越えないであろう。
化合物I[式中、R1=水素]の式VIのアルキル化剤との反応は溶媒の存在のもとで有利に行われる。温度範囲に応じて、これらの反応に用いる溶媒は、脂肪族、脂環族または芳香族炭化水素、例えばペンタン、ヘキサン、シクロペンタン、シクロヘキサン、トルエン、キシレン、塩素化脂肪族および芳香族炭化水素、例えばジクロロメタン、トリクロロメタン、1,2-ジクロロエタン、1,1,2,2-テトラクロロエタン、クロロベンゼン、1,2-、1,3-または1,4-ジクロロベンゼン、クロロトルエン、ジクロロトルエン、開鎖ジアルキルエーテル類、例えばジエチルエーテル、ジ-n-プロピルエーテル、ジ-n-イソプロピルエーテル、メチルtert-ブチルエーテル、環状エーテル類、例えばテトラヒドロフラン、1,4-ジオキサン、アニソール、グリコールエーテル類、例えばジメチルグリコールエーテル、ジエチレングリコールエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、C1〜C4-アルコール、例えばメタノール、エタノール、n-プロパノール、イソプロパノール、n-ブタノール、ケトン、例えばアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソプロピルケトン、メチルイソブチルケトン、ブタノン、炭酸塩、例えば炭酸ジエチルおよび炭酸エチレン、N,N-ジアルキルアミド、例えばN,N-ジメチルホルムアルデヒドまたはN,N-ジメチルアセトアミド、N-アルキルラクタム、例えばN-メチルピロリドン、スルホキシド、例えばジメチルスルホキシド、テトラアルキル尿素、例えばテトラメチル尿素、テトラエチル尿素、テトラブチル尿素、ジメチルエチレン尿素、ジメチルプロピレン尿素、またはこれらの溶媒の混合物である。好ましい溶媒はN,N-ジメチルホルムアルデヒド、N-メチルピロリドン、アセトン、ジクロロメタン、テトラヒドロフラン、トルエンまたはこれらの溶媒の混合物である。
化合物Iのアルキル化は、好ましくは-5℃〜100℃の温度で、好ましくは0℃〜80℃の温度でそしてとりわけ20℃〜50℃の温度で実施する。反応時間は、当業者が薄層クロマトグラフィまたはHPLCなどのそれ自体馴染みのあるやり方で決定することができる。
化合物I、アルキル化剤VIおよび塩基は別々に、同時にまたは逐次加えることができる。
有利な方法として、化合物I[式中、R1≠水素]を製造するための多段法を、ワンポット反応として行うこともできる。式IIのカルバメート類の式III[式中、R1=水素]のエナミンとの過剰の塩基の存在のもとでの反応において、ウラシル塩が最初生成し、次いで単離または精製することなく、式VIのアルキル化剤と反応する。その後、反応を規定した温度範囲内で完了まで行う。
本発明による方法の他の変法においてはまた、反応を、好ましくは四級アンモニウム塩またはホスホニウム塩などの相間移動触媒の存在のもとで水性多相系で行うこともできる。好適な四級アンモニウム塩としては、テトラアルキル(C1〜C18)アンモニウム塩化物、臭化物、フッ化物またはテトラフルオロホウ酸塩、例えば塩化テトラエチルアンモニウム、臭化テトラブチルアンモニウム、ヨウ化テトラブチルアンモニウム、テトラフルオロホウ酸=テトラブチルアンモニウム、N-ベンジルトリアルキル(C1〜C18)アンモニウム塩化物、臭化物またはフッ化物、例えば塩化ベンジルトリエチルアンモニウム、好ましくは臭化テトラブチルアンモニウムまたはヨウ化テトラブチルアンモニウムが挙げられる。好適なホスホニウム塩は、例えばテトラフェニルホスホニウム塩化物または臭化物、テトラアルキル(C1〜C18)ホスホニウム塩化物または臭化物、例えば臭化テトラブチルホスホニウムである。一般的に、相間移動触媒は、化合物I[式中、R1=水素]を基準として、20mol%以下、好ましくは1〜15mol%、そして特に2〜12mol%の量で使用される。
多相系は、水相と少なくとも1つの有機液相を含む。さらに、反応の過程で固相も存在してよい。水相は好ましくはアルカリ金属またはアルカリ土類金属水酸化物または炭酸塩の水溶液である。好適なアルカリ金属またはアルカリ土類金属水酸化物または炭酸塩については先の記載を参照されたい。特に好ましいのは、アルカリ金属またはアルカリ土類金属水酸化物、とりわけ水酸化ナトリウムを用いることである。有機相に対する有用な溶媒は好ましくは脂肪族、脂環族または芳香族、任意にハロゲン化炭化水素、環状または開鎖エーテル類またはそれらの混合物であり、脂肪族、脂環族または芳香族、任意にハロゲン化炭化水素、環状または開鎖エーテル類については先の記載を参照されたい。本発明による方法のある好ましい実施形態においては、多相系は水相として水酸化ナトリウム水溶液および有機相としてトルエンおよびテトラヒドロフランまたはジクロロメタンおよびテトラヒドロフランから成る。
多相系を用いるとき、例えば、最初に上記有機溶媒の1つまたは溶媒混合物中の化合物Iを供給することが可能である。その後、塩基、アルキル化剤VIおよび相関移動触媒の水溶液を、攪拌しながら加え、次いで規定した温度範囲内で反応が完了するまで進める。
反応は、標準圧力、減圧または加圧のもとで、もし適当であれば、不活性ガス下で、連続式にまたは回分式で実施することができる。
特に、この経路により、式I.A.1:
Figure 2012006936
[式中、R1はC1〜C6-アルキル、C1〜C4-シアノアルキル、C1〜C6-ハロアルキル、C3〜C8-シクロアルキル、C2〜C6-アルケニル、C2〜C6-ハロアルケニル、C3〜C6-アルキニル、C3〜C6-ハロアルキニルまたはフェニル-C1〜C4-アルキルであり;そして
RbおよびRdは水素である]
の3-フェニルウラシル類を得ることが可能であり、
対応する式II.A.1:
Figure 2012006936
[式中、RbおよびRdはそれぞれ水素である]
のカルバメート類を式III:
Figure 2012006936
[式中、R1は水素であり;そしてX2は酸素である]
のエナミン類と反応させ、
そして
次いでこうして生成した式I.A.1の3-フェニルウラシル
[式中、R1、RbおよびRdはそれぞれ水素である]
を式VI:
Figure 2012006936
[式中、R1はC1〜C6-アルキル、C1〜C4-シアノアルキル、C1〜C6-ハロアルキル、C3〜C8-シクロアルキル、C2〜C6-アルケニル、C2〜C6-ハロアルケニル、C3〜C6-アルキニル、C3〜C6-ハロアルキニルまたはフェニル-C1〜C4-アルキル、そして
L4は求核置換しうる脱離基、
好ましくは、先に好ましいと規定された定義である]
のアルキル化剤を用いてアルキル化して、式I.A.1
[式中、R1はC1〜C6-アルキル、C1〜C4-シアノアルキル、C1〜C6-ハロアルキル、C3〜C8-シクロアルキル、C2〜C6-アルケニル、C2〜C6-ハロアルケニル、C3〜C6-アルキニル、C3〜C6-ハロアルキニルまたはフェニル-C1〜C4-アルキルであり;そして
RbおよびRdはそれぞれ水素である]
の3-フェニルウラシル類を得る。
Figure 2012006936
L1は求核置換しうる脱離基、
好ましくはC1〜C6-アルコキシまたはC1〜C6-アルキルチオ、
より好ましくはC1〜C6-アルコキシ、
とりわけ好ましくはC1〜C4-アルコキシ、
非常に好ましくはメトキシまたはエトキシであり;
L2は求核置換しうる脱離基;
好ましくはC1〜C6-アルコキシ、C1〜C6-ハロアルコキシ、C1〜C4-アルコキシ〜C2〜C4-アルコキシ、C1〜C4-アルキルチオ〜C2C4-アルコキシ、C2〜C6-アルケニルオキシ、C2〜C6-ハロアルケニルオキシ、C3〜C6-アルキニルオキシ、C3〜C6-ハロアルキニルオキシ、C3〜C8-シクロアルキルオキシ、C1〜C6-シアノアルコキシまたはベンジルオキシ(該ベンジルオキシはそれ自体、フェニル環上で部分的にまた全てハロゲン化されていてもよくおよび/またはシアノ、ニトロ、C1〜C4-アルキル、C1〜C4-アルコキシおよびC1〜C4-アルキルチオからなる群より選択される1〜3つの基により置換されていてもよい);
好ましくはC1〜C6-アルコキシ、C1〜C6-ハロアルコキシ、C1〜C4-アルコキシ〜C2〜C4-アルコキシ、C2〜C6-アルケニルオキシ、C2〜C6-ハロアルケニルオキシ、C3〜C6-アルキニルオキシまたはC3〜C6-ハロアルキニルオキシ;
非常に好ましくはC1〜C6-アルコキシ、C1〜C4-アルコキシ〜C2〜C4-アルコキシ、C2〜C6-アルケニルオキシまたはC3〜C6-アルキニルオキシ;
並外れて好ましくはC1〜C6-アルコキシである。
好ましいのは、とりわけ式I.A.1[式中、RbおよびRd=水素]の3-フェニルウラシル類の製造であり、ここで置換基R1、R2、R3、Ra、Rc、およびまたR4およびR5はそれぞれ単独でまたはお互いに組合わせて、次の通り定義される:
R1はC1〜C6-アルキル、C1〜C4-シアノアルキル、C1〜C6-ハロアルキル、C3〜C8-シクロアルキル、C2〜C6-アルケニル、C2〜C6-ハロアルケニル、C3〜C6-アルキニル、C3〜C6-ハロアルキニルまたはフェニル-C1〜C4-アルキル;
非常に好ましくはC1〜C4-アルキル、
より好ましくはメチルまたはエチル、
とりわけ好ましくはメチルであり;
R2は水素、C1〜C4-アルキルまたはC1〜C4-ハロアルキル、
より好ましくは水素、メチル、ジフルオロメチルまたはトリフルオロメチル、
とりわけ好ましくはトリフルオロメチルであり;
R3は水素またはC1〜C4-アルキル、
より好ましくは水素であり;
Raは水素、ハロゲンまたはシアノ、
とりわけ好ましくは水素、弗素、塩素またはシアノ、
非常に好ましくは水素、塩素またはシアノ、
並外れて好ましくは水素または塩素、
非常に並外れて好ましくは水素であり;
Rcは水素またはハロゲン、
とりわけ好ましくは水素、弗素または塩素、
非常に好ましくは水素または弗素、
並外れて好ましくは弗素であり;
R4およびR5はそれぞれ独立して
水素またはC1〜C6-アルキル(該C1〜C6-アルキルはハロゲン、シアノおよびC1〜C4-アルコキシからなる群より選択される置換基、好ましくはハロゲンにより置換されていてもよい)であり;
とりわけ好ましくは
R4は水素、C1〜C6-アルキル、C2〜C6-アルケニルまたはC2〜C6-アルキニル、
非常に好ましくは水素またはC1〜C6-アルキル、
より好ましくはC1〜C4-アルキル、
並外れて好ましくはメチルであり;そして
R5はC1〜C6-アルキル、C3〜C8-シクロアルキルまたはフェニル、
非常に好ましくはC1〜C6-アルキル、
より好ましくはC1〜C4-アルキルである。
(チオ)ウラシル環またはジチオウラシル環上のアミノ基の導入は、実に意外なことに、ウラシル窒素上のアミノ基を導入する公知の方法に基づいて成功する。かかる手順は、例えばその求電子アミノ化についての開示の全てが、参照により本明細書にが組み入れられるDE 196 52431に記載されている。好適な式VIIのアミノ化剤としては、1-アミノオキシ-2,4-ジニトロ-ベンゼンまたはO-メシチレンスルホニルヒドロキシルアミンが挙げられる。
もし適当であれば、反応は塩基の存在のもとで行う。有用な塩基には、全ての慣用の無機または有機塩基が含まれる。好適な塩基は、例えば、IIをIIIと反応させることによる化合物Iの製造に関わって記載した塩基である。好ましい塩基は、アルカリ金属アルコキシド、とりわけリチウム、ナトリウムまたはカリウムアルコキシド、例えばナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、リチウムエトキシド、カリウムメトキシド、カリウムエトキシド、カリウムtert-ブトキシド、ナトリウムtert-ブトキシド、ナトリウムイソプロポキシド、カリウムtert-ペントキシド、アルカリ金属水素化物、例えば水素化ナトリウム、水素化カリウム、アルカリ金属炭酸塩、例えば炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウムまたは三級アミン類、とりわけアミジン塩基、例えば1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ-7-エンである。一般的に化合物 I[式中、R1 = 水素]と塩基はほぼ等モル量で用いる
化合物I[式中、R1=水素]の式VIIのアミノ化剤との反応は一般的に不活性有機溶媒または溶媒混合物中で行う。この目的に好ましい溶媒は、ニトリル、例えばアセトニトリル、プロピオニトリルまたはブチロニトリル、ケトン、例えばアセトンおよびメチルエチルケトン、炭酸エステル、例えば炭酸ジメチル、炭酸ジエチルおよび炭酸エチレン、およびまたアミド、例えばN,N-ジメチルホルムアルデヒド、N,N-ジメチルアセトアミドおよびN-メチルピロリドンである。また塩基性である有機溶媒、例えば上述の三級アミン類、例えばトリアルキルアミンおよびピリジン化合物も好適である。
一般的に反応は0〜80℃、好ましくは10〜60℃の温度で実施しうる。この目的のために、化合物I[式中、R1=水素]と式 VIIのアミノ化剤は一般的にほぼ等モル量で反応させる。しかし、成分の1つを比較的大過剰で用いることも可能であり、その場合、過剰量は好ましくは、不足して存在する成分を基準として50mol%を超えない。
標的生成物Iを得るための反応混合物の仕上げは、この目的のための慣用の方法により行うことができる。一般的に、使用する溶媒は慣用の方法により、例えば蒸留により除去しうる。次いで標的化合物Iを水混和性有機溶媒中に移し取って混合物を得て、いずれかの不純物は任意に酸性化した水を用いて抽出し、上記混合物を乾燥し、そして溶媒を減圧下で除去することができる。さらに精製するために、慣用の方法、例えば晶析、沈降またはクロマトグラフィを利用することができる。二相系を用いる場合、仕上げは一般的に抽出により行う。
式Iの化合物[式中、X1、X2またはX3基の1つ、またはX1、X2およびX3基はそれぞれ酸素である]は一般式Iの化合物[式中、X1、X2またはX3基の1つ、またはX1、X2およびX3基、はそれぞれ硫黄である]に、硫化剤を用いて処理する公知の方法により転化することができる。好適な硫化剤の例は、有機リン硫化物、例えばローソン試薬、有機スズ硫化物またはリン(V)硫化物(J. March、Advanced Organic Synthesis、第2版、Wiley Interscience 1985、p. 794およびその引用文献も参照されたい)である。反応は溶媒中でまたは無溶媒で実施することができる。好適な溶媒は上述した不活性溶媒、およびまた塩基性溶媒、例えばピリジンおよび比較しうる溶媒である。反応に必要な温度は一般的に室温より高くそして特に50〜200℃である。エナミンIIIのイソチオシアナートII[式中、X1基は硫黄である]との反応を行うと、対応する2-チオキソウラシル類[式中、X1=硫黄]が直接得られる。
式Iの3-フェニル(チオ)ウラシル類および-ジチオウラシル類を製造するために必要な式IIのカルバメート類は、式IVのアミンを式Vの化合物と反応させて得ることができる。
Figure 2012006936
置換基X1、X3、Ar、AおよびL1は先に定義した通りであり、とりわけ 好ましくは本明細書において好ましいと定義した通りである。
L3は求核置換しうる脱離基、
好ましくは塩素またはC1〜C6-アルコキシ;
より好ましくは塩素である。
式IVのアミン類を式Vの化合物と、典型的には-10℃〜160℃、好ましくは0℃〜130℃、非常に好ましくは25℃〜130℃の温度で、不活性有機溶媒中にて、もし適当であれば、塩基の存在のもとで反応させる(例えば、Houben-Weyl, Methoden der organischen Chemie, E5, 1985, p.972-980、およびまたVIII, p.655およびXI Part 2, p.10)。
反応圧力は、本発明による方法を成功させる上であまり重要でなく、例えば500mbar〜10barであってもよい。好ましくは、反応を標準圧力、すなわち0.9〜1.2barで行う。
必要な反応時間は一般的に1〜24時間、そして特に2〜8時間である。
反応は原則として無溶媒で行うことができる。しかし、式IVのアミン類を式Vの化合物と有機溶媒中で反応させるのが好ましい。原則として、化合物IVとVを反応条件下で少なくとも部分的にそして好ましくは完全に溶解することができる全ての溶媒が好適である。
好適な溶媒は脂肪族炭化水素、例えばペンタン、ヘキサン、シクロヘキサンおよびC5〜C8-アルカンの混合物、芳香族炭化水素、例えばトルエン、o-、m-およびp-キシレン、ハロゲン化炭化水素、例えば塩化メチレン、クロロホルムおよびクロロベンゼン、エーテル類、例えばジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、tert-ブチルメチルエーテル、ジオキサン、アニソールおよびテトラヒドロフラン、カルボン酸エステル、例えば酢酸ブチル、より好ましくはハロゲン化炭化水素およびエーテル類である。
上記溶媒の混合物を使用することも可能である。
式IVのアミン類の式Vの化合物との反応は塩基の存在のもとで行うことはできるが、塩基を用いることは必須でない。
有用な塩基は一般的に、無機化合物、例えばアルカリ金属およびアルカリ土類金属水酸化物、例えば水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムおよびカルシウム水酸化物、アルカリ金属アミド、例えばリチウムアミド、ナトリウムアミドおよびカリウムアミド、アルカリ金属およびアルカリ土類金属炭酸塩、例えば炭酸リチウム、炭酸カリウムおよび炭酸カルシウム、およびまたアルカリ金属炭酸水素塩、例えば炭酸水素ナトリウム、およびまたアルカリ金属およびアルカリ土類金属アルコキシド、例えばナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムエトキシド、カリウムtert-ブトキシド、カリウムtert-ペントキシドおよびジメトキシマグネシウム、およびまた有機塩基、例えば三級アミン類、例えばトリメチルアミン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、N-メチルピペリジンおよびN-メチルホルホリン、ピリジン、置換されたピリジン類、例えばピコリン、コリジン、ルチジンおよび4-ジメチルアミノピリジン、およびまた二環式アミン類である。特に好ましいのはトリエチルアミン、ピリジンおよびピコリンなどの有機塩基である。
塩基は一般的に、当モル量で用いるが、塩基はまた触媒量で、過剰でまたは、もし適当であれば、溶媒として用いることができる。
本発明による方法の好ましい変法においては、式IVのアミン類を塩基不在のもとで式Vの化合物と反応させる。
この好ましい反応の変法がもつ利点のいくつかは、反応終了後の複雑な仕上げを省いて、3-フェニル(チオ)ウラシル類および-ジチオウラシル類I、好ましくは3-フェニルウラシル類I.A.1を得るためのさらなるカルバメート類IIの反応を行う準備ができることであり、その場合、上記カルバメートIIの塩素化も、もし適当であれば、ワンポット反応として行うことができるしまたは溶媒交換を1回しか必要としない。
反応物は一般的にお互いに等モル量で反応させる。VをIVに基づいて過剰に用いることが有利でありうる。好ましいのは、化合物をIV:Vのモル比にて1.6:1〜1:1.6、特に1:1.4〜1:1で用いることである。
好ましいのは、とりわけ化合物L3-HがC1〜C4-アルカノール、例えばメタノールまたはエタノールである場合、式IVのアミン類の式Vの化合物との反応で生成する化合物L3-Hを少なくとも80%の程度で反応混合物から反応中に除去することである。
この目的で反応を、公知の方法で、化合物L3-Hが、もし適当であれば、反応混合物から溶媒との共沸蒸留物として留出する温度および圧力にて実施しうる。もし適当であれば、新しい溶媒を反応物中に導入して補うか、またはもし適当であれば、化合物L3-Hが留出欠乏した後に、化合物L3-Hとともに留出した溶媒を反応物中にリサイクルしてもよい。
これらの理由で、使用する溶媒の沸点は反応で生成する化合物L3-Hの沸点(それぞれ標準圧力にて)より少なくとも10℃、特に少なくとも30℃高いことが有利である。
適当なのは、式IVのアミン類の式Vの化合物との反応を、少なくとも1つの蒸留または精留装置、例えば蒸留塔を備えた装置で実施することであり、上記装置は、最初に化合物L3-Hを、もし適当であれば、溶媒と一緒に留出させ、そして化合物L3-Hとともに留出したいずれかの溶媒を同時に除去しかつリサイクルすることができる。
反応のために、式IVのアミン類を式Vの化合物および、もし適当であれば、塩基といずれかの所望のやり方でお互いに接触させる、すなわち反応物および、もし適当であれば、塩基を反応容器中に別々に、同時にまたは逐次に導入して反応させることができる。例えば、アミン類IVと化合物Vを最初に反応容器に、もし適当であれば、所望の溶媒とともに供給し、次いで所望の反応条件に導いてもよい。
しかしまた、アミンIVおよび化合物Vの大部分または全てを、もし適当であれば、溶媒中で、反応条件下にて反応容器中に導入することも可能である。
特に好ましい実施形態においては、アミンIVを最初に供給して、次いで、もし適当であれば、塩基そしてその後に化合物Vを加える。
特に好ましい本発明の実施形態においては、式IVのアミン類の大部分、特に少なくとも80%そしてより好ましくは全てまたは実質的に全て(>95%)を最初に供給し、そして式Vの化合物の大部分、特に少なくとも80%そしてより好ましくは全てまたは実質的に全て(>95%)を、反応条件下で反応の過程において、例えば0.5〜20時間そして特に1〜10時間の時間にわたり、それに加える。この目的で、式Vの化合物を好ましくは溶媒中に溶解しうる。もし適当であれば、式Vの化合物を加えた後に、ある特定の連続反応時間、例えば1〜10時間、特に2〜5時間を与える。
式IIのカルバメート類は公知の方法で仕上げかつ単離することができる。
特に、この経路により式II.A.1:
Figure 2012006936
[式中、RbおよびRdはそれぞれ水素である]
のカルバメート類は、対応する式IV.A.1:
Figure 2012006936
[式中、RbおよびRdはそれぞれ水素である]
のアミン類を化合物V:
Figure 2012006936
[式中、X1は酸素である]
と反応させることにより製造することができる。
Figure 2012006936
L3は求核置換しうる脱離基、
好ましくは塩素またはC1〜C6-アルコキシ;
より好ましくは塩素である。
好ましいのは、とりわけ、式II.A.1[式中、RbおよびRd=水素]のカルバメート類の製造であり、その場合、置換基L1、Ra、RcおよびまたR4およびR5はそれぞれ単独でかつまたお互いに組合わせて次の通り定義される:
L1は求核置換しうる脱離基、
好ましくはC1〜C6-アルコキシまたはC1〜C6-アルキルチオ、
より好ましくはC1〜C6-アルコキシ、
とりわけ好ましくはC1〜C4-アルコキシ、
非常に好ましくはメトキシまたはエトキシであり;
Raは水素、ハロゲンまたはシアノ、
とりわけ好ましくは水素、弗素、塩素またはシアノ、
非常に好ましくは水素、塩素またはシアノ、
並外れて好ましくは水素または塩素、
非常に並外れて好ましくは水素であり;
Rcは水素またはハロゲン、
とりわけ好ましくは水素、弗素または塩素、
非常に好ましくは水素または弗素、
並外れて好ましくは弗素であり;
R4およびR5はそれぞれ独立して
水素またはC1〜C6-アルキル(該C1〜C6-アルキルは順にハロゲン、シアノおよびC1〜C4-アルコキシからなる群より選択される置換基、好ましくはハロゲンにより置換されていてもよい)であり;
とりわけ好ましくは
R4は水素、C1〜C6-アルキル、C2〜C6-アルケニルまたはC2〜C6-アルキニル、
非常に好ましくは水素またはC1〜C6-アルキル、
より好ましくはC1〜C4-アルキル、
並外れて好ましくはメチルであり;そして
R5はC1〜C6-アルキル、C3〜C8-シクロアルキルまたはフェニル、
非常に好ましくはC1〜C6-アルキル、
より好ましくはC1〜C4-アルキルである。
式IIのカルバメート類を製造するために必要な式IVのアミン類は文献(例えば WO 04/039768)に開示されているかまたは引用文献に従って製造することができる。
式IIのカルバメート類を製造するために必要な式Vの化合物は文献(例えば Houben-Weyl, Methoden der organischen Chemie, E4, 1983, p. 6-17)に開示されているかまたは市場より購入するかまたは引用文献に従って製造することができる。
この経路により製造した式IIのカルバメート類を、次いで、もし所望であれば、中間段階においてAr基上でハロゲン化し、その後に式IIIのエナミン類と反応させてもよい。
この経路により製造した式IIのカルバメート類をさらなる工程において、Ar基上で、好ましくは、塩素化または臭素化して、非常に好ましくは塩素化してもよい。
ハロゲン化は典型的には、0℃〜100℃、好ましくは20℃〜70℃の温度で、不活性有機溶媒中で、もし適当であれば、触媒の存在のもとで実施する(例えばBuehler、Peason、Survey of Organic Synthesis、Interscience Publishers 1970、p. 392-404)。
反応圧力は、本発明による方法を成功させるためにそれほど重要でなく、例えば500mbar〜10barであってもよい。好ましくは、反応を標準圧力、すなわち0.9〜1.2barで行う。
必要な反応時間は一般的に1〜24時間、そして特に3〜12時間である。
反応は原則として無溶媒で行うことができる。しかし、式Vのカルバメート類をハロゲン化剤と有機溶媒中で反応させることが好ましい。原則として、化合物Vを反応条件下で少なくとも部分的にそして好ましくは完全に溶解することができる全ての溶媒が好適である。
好適な溶媒は、脂肪族炭化水素、例えばペンタン、ヘキサン、シクロヘキサンおよびC5〜C8-アルカンの混合物、ハロゲン化炭化水素、例えば塩化メチレン、クロロホルム、ブチル塩化物およびクロロベンゼン、エーテル類、例えばジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、tert-ブチルメチルエーテル、ジオキサン、アニソールおよびテトラヒドロフラン、ニトリル、例えばアセトニトリルおよびプロピオニトリル、ケトン、例えばアセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトンおよびtert-ブチルメチルケトン、カルボン酸、例えば蟻酸または酢酸、エステル、例えば酢酸ブチルまたは炭酸ジメチル、およびまた塩化スルフリル、より好ましくはハロゲン化炭化水素および塩化スルフリルである。
上記溶媒の混合物を使用することも可能である。
ハロゲン化に必要なハロゲン化剤は文献(例えばBuehler, Peason, Survey of Organic Synthesis, Interscience Publishers 1970, p. 392-404)に開示されているかまたは引用文献に従い製造することができる。
利用しうるハロゲン化剤の例は、塩素、N-クロロスクシンイミド、SO2Cl2、HCl/H2O2、1,3-ジクロロ-5,5-ジメチルヒダントイン、臭素、N-ブロモスクシンイミド、HBr/H2O2または1,3-ジブロモ-5,5-ジメチルヒダントインである。
式IIのカルバメート類のハロゲン化は、選択したハロゲン化剤に応じて、触媒の存在のもとで行うことができる。利用しうる触媒の例は、ルイス酸、例えば 三フッ化ホウ素、三塩化アルミニウム、塩化鉄(III)、塩化スズ(IV)、塩化チタン(IV)および塩化亜鉛(II)である。
ハロゲン化剤は一般的に等モル量を用いるが、不足して、過剰に、または、もし適当であれば、溶媒として用いてもよい。
ハロゲン化した式IIのカルバメート類は公知のやり方で仕上げることができる。
好適な塩基を加えることにより、反応で生成した副産物をハロゲン化剤から部分的にまた全て除去することが有利でありうる。
特に、この方法で、パラ-塩素化した式II.A.1[式中、Ra=塩素、そしてRbおよびRd=水素]のカルバメート類を、対応する式II.A.1のカルバメート類[式中、Ra、RbおよびRd=水素]を塩素化することにより製造することができる。
Figure 2012006936
好ましいのは、とりわけ式II.A.1のカルバメート類[式中、Ra、RbおよびRd=水素]の塩素化であり、その場合、置換基L1、RcおよびまたR4およびR5はそれぞれ単独でおよびまたお互いに組合わせて次の通り定義される:
L1は求核置換しうる脱離基、
好ましくはC1〜C6-アルコキシまたはC1〜C6-アルキルチオ、
より好ましくはC1〜C6-アルコキシ、
とりわけ好ましくはC1〜C4-アルコキシ、
非常に好ましくはメトキシまたはエトキシであり;
Rcは水素またはハロゲン、
とりわけ好ましくは水素、弗素または塩素、
非常に好ましくは水素または弗素、
並外れて好ましくは弗素であり;
R4およびR5はそれぞれ独立して
水素またはC1〜C6-アルキル(該C1〜C6-アルキルは順にハロゲン、シアノおよびC1〜C4-アルコキシからなる群より選択される置換基、好ましくはハロゲンにより置換されていてもよい)であり;
とりわけ好ましくは
R4は水素、C1〜C6-アルキル、C2〜C6-アルケニルまたはC2〜C6-アルキニル、
非常に好ましくは水素またはC1〜C6-アルキル、
より好ましくはC1〜C4-アルキル、
並外れて好ましくはメチルであり;そして
R5はC1〜C6-アルキル、C3〜C8-シクロアルキルまたはフェニル、
非常に好ましくはC1〜C6-アルキル、
より好ましくはC1〜C4-アルキルである。
本明細書に記載した式IVのアミン類の式Vの化合物との反応は式IIのカルバメート類を高収率で与える。
それ故に、さらなる好ましい実施形態は式IVのアミン類を第1工程で式Vの化合物と反応させて式IIのカルバメート類を得て、そして次に式IIのカルバメート類を単離することなく、式IIIのエナミン類と反応させて式Iの3-フェニル(チオ)ウラシル類および-ジチオウラシル類を得る方法に関する。この目的にとって、式IIのカルバメートを製造するために用いる溶媒の一部分または全てを除去し、そして他の溶媒により置換えることが有利でありうる。しかし、式IIのカルバメート類の式IIIのエナミン類との反応は、特に式IIのカルバメートを製造するための溶媒中で行いうる。
次の本発明による方法の工程はとりわけ好ましい方法であり、その優先性はそれぞれの個々の工程および全体の方法の両方に適用される。次の工程の好ましい実施形態は先に規定した通りである。
本発明による方法の一実施形態においては、式I.A.1[式中、R1はC1〜C6-アルキル、C1〜C4-シアノアルキル、C1〜C6-ハロアルキル、C3〜C8-シクロアルキル、C2〜C6-アルケニル、C2〜C6-ハロアルケニル、C3〜C6-アルキニル、C3〜C6-ハロアルキニルまたはフェニル-C1〜C4-アルキルであり;そしてRbおよびRdはそれぞれ水素である]の3-フェニルウラシル類を製造することが;
対応する式II.A.1[式中、Raは塩素でありそしてRbおよびRdはそれぞれ水素である]のカルバメートを式III[式中、R1は水素であり;そしてX2は酸素である]のエナミン類と反応させ、
次いでこうして生成した式I.A.1[式中、Raは塩素でありそしてR1、RbおよびRdはそれぞれ水素である]の3-フェニルウラシルを、式VI[式中、R1はC1〜C6-アルキル、C1〜C4-シアノアルキル、C1〜C6-ハロアルキル、C3〜C8-シクロアルキル、C2〜C6-アルケニル、C2〜C6-ハロアルケニル、C3〜C6-アルキニル、C3〜C6-ハロアルキニルまたはフェニル-C1〜C4-アルキルであり、そしてL4は求核置換しうる脱離基である]のアルキル化剤を用いてアルキル化して、
式I.A.1[式中、R1はC1〜C6-アルキル、C1〜C4-シアノアルキル、C1〜C6-ハロアルキル、C3〜C8-シクロアルキル、C2〜C6-アルケニル、C2〜C6-ハロアルケニル、C3〜C6-アルキニル、C3〜C6-ハロアルキニルまたはフェニル-C1〜C4-アルキルであり;そしてRbおよびRdはそれぞれ水素である]の3-フェニルウラシル類を製造することにより可能である。
本発明による方法のさらなる実施形態においては、式I.A.1[式中、R1はC1〜C6-アルキル、C1〜C4-シアノアルキル、C1〜C6-ハロアルキル、C3〜C8-シクロアルキル、C2〜C6-アルケニル、C2〜C6-ハロアルケニル、C3〜C6-アルキニル、C3〜C6-ハロアルキニルまたはフェニル-C1〜C4-アルキルであり;そしてRbおよびRdはそれぞれ水素である]の3-フェニルウラシル類を製造することが、
対応する式II.A.1[式中、Raは塩素でありそしてRbおよびRdはそれぞれ水素である]のカルバメート類を
式III[式中、R1はC1〜C6-アルキル、C1〜C4-シアノアルキル、C1〜C6-ハロアルキル、C3〜C8-シクロアルキル、C2〜C6-アルケニル、C2〜C6-ハロアルケニル、C3〜C6-アルキニル、C3〜C6-ハロアルキニルまたはフェニル-C1〜C4-アルキルであり、そしてX2は酸素である]のエナミン類と反応させることにより可能である。
本発明による方法のさらなる実施形態においては、式I.A.1[式中、R1はC1〜C6-アルキル、C1〜C4-シアノアルキル、C1〜C6-ハロアルキル、C3〜C8-シクロアルキル、C2〜C6-アルケニル、C2〜C6-ハロアルケニル、C3〜C6-アルキニル、C3〜C6-ハロアルキニルまたはフェニル-C1〜C4-アルキルであり;そしてRbおよびRdはそれぞれ水素である]の3-フェニルウラシル類を製造することが、
式II.A.1[式中、Ra、RbおよびRd=水素]のカルバメート類を塩素化してパラ-塩素化した式II.A.1[式中、Ra=塩素そしてRbおよびRd=水素]のカルバメート類を得て、
次いでこれを式III[式中、R1は水素であり;そしてX2は酸素である]のエナミン類と反応させ、
次いでこうして生成した式I.A.1[式中、Raは塩素でありそしてR1、RbおよびRdはそれぞれ水素である]の3-フェニルウラシルを式VI[式中、R1はC1〜C6-アルキル、C1〜C4-シアノアルキル、C1〜C6-ハロアルキル、C3〜C8-シクロアルキル、C2〜C6-アルケニル、C2〜C6-ハロアルケニル、C3〜C6-アルキニル、C3〜C6-ハロアルキニルまたはフェニル-C1〜C4-アルキルであり、そしてL4は求核置換しうる脱離基である]のアルキル化剤を用いてアルキル化して、式I.A.1[式中、R1はC1〜C6-アルキル、C1〜C4-シアノアルキル、C1〜C6-ハロアルキル、C3〜C8-シクロアルキル、C2〜C6-アルケニル、C2〜C6-ハロアルケニル、C3〜C6-アルキニル、C3〜C6-ハロアルキニルまたはフェニル-C1〜C4-アルキルであり;そしてRbおよびRdはそれぞれ水素である]の3-フェニルウラシル類を得ることにより可能である。
本発明による方法のさらなる実施形態においては、式I.A.1[式中、
R1はC1〜C6-アルキル、C1〜C4-シアノアルキル、C1〜C6-ハロアルキル、C3〜C8-シクロアルキル、C2〜C6-アルケニル、C2〜C6-ハロアルケニル、C3〜C6-アルキニル、C3〜C6-ハロアルキニルまたはフェニル-C1〜C4-アルキルであり;そしてRbおよびRdはそれぞれ水素である]の3-フェニルウラシル類を製造することが、
式II.A.1[式中、Ra、RbおよびRd=水素]のカルバメート類を塩素化してパラ-塩素化した式II.A.1[式中、Ra=塩素そしてRbおよびRd=水素]のカルバメート類を得て、
次いでこれを式III[式中、R1はC1〜C6-アルキル、C1〜C4-シアノアルキル、C1〜C6-ハロアルキル、C3〜C8-シクロアルキル、C2〜C6-アルケニル、C2〜C6-ハロアルケニル、C3〜C6-アルキニル、C3〜C6-ハロアルキニルまたはフェニル-C1〜C4-アルキルであり、そしてX2は酸素である]のエナミン類と反応させることにより可能である。
本発明による方法のさらなる実施形態においては、式I.A.1[式中、R1はC1〜C6-アルキル、C1〜C4-シアノアルキル、C1〜C6-ハロアルキル、C3〜C8-シクロアルキル、C2〜C6-アルケニル、C2〜C6-ハロアルケニル、C3〜C6-アルキニル、C3〜C6-ハロアルキニルまたはフェニル-C1〜C4-アルキルであり;そしてRbおよびRdはそれぞれ水素である]の3-フェニルウラシル類を製造することが、
対応する式IV.A.1[式中、Ra、RbおよびRdはそれぞれ水素である]のアミン類を化合物V[式中、X1は酸素である]と反応させて;
次いでこうして得た式II.A.1[式中、Ra、RbおよびRd=水素]のカルバメート類を塩素化してパラ-塩素化した式II.A.1[式中、Ra=塩素そしてRbおよびRd=水素]のカルバメート類を得て、
次いでこれを式III[式中、R1は水素であり;そしてX2は酸素である]のエナミン類と反応させ、
そして次いでこうして生成した式I.A.1[式中、Raは塩素でありそしてR1、RbおよびRdはそれぞれ水素である]の3-フェニルウラシルを式VI[式中、R1はC1〜C6-アルキル、C1〜C4-シアノアルキル、C1〜C6-ハロアルキル、C3〜C8-シクロアルキル、C2〜C6-アルケニル、C2〜C6-ハロアルケニル、C3〜C6-アルキニル、C3〜C6-ハロアルキニルまたはフェニル-C1〜C4-アルキルであり、そしてL4は求核置換しうる脱離基である]のアルキル化剤を用いてアルキル化して式I.A.1[式中、R1はC1〜C6-アルキル、C1〜C4-シアノアルキル、C1〜C6-ハロアルキル、C3〜C8-シクロアルキル、C2〜C6-アルケニル、C2〜C6-ハロアルケニル、C3〜C6-アルキニル、C3〜C6-ハロアルキニルまたはフェニル-C1〜C4-アルキルであり;そしてRbおよびRdはそれぞれ水素である]の3-フェニルウラシル類を得ることにより可能である。
本発明による方法のさらなる実施形態においては、式I.A.1[式中、R1はC1〜C6-アルキル、C1〜C4-シアノアルキル、C1〜C6-ハロアルキル、C3〜C8-シクロアルキル、C2〜C6-アルケニル、C2〜C6-ハロアルケニル、C3〜C6-アルキニル、C3〜C6-ハロアルキニルまたはフェニル-C1〜C4-アルキルであり;そしてRbおよびRdはそれぞれ水素である]の3-フェニルウラシル類を製造することが、
対応する式IV.A.1[式中、Ra、RbおよびRdはそれぞれ水素である]のアミン類を化合物V[式中、X1は酸素である]と反応させて;
次いでこうして得た式II.A.1[式中、Ra、RbおよびRd=水素]のカルバメート類を塩素化してパラ-塩素化した式II.A.1[式中、Ra=塩素そしてRbおよびRd=水素]のカルバメート類を得て、
次いでこれを式III[式中、R1はC1〜C6-アルキル、C1〜C4-シアノアルキル、C1〜C6-ハロアルキル、C3〜C8-シクロアルキル、C2〜C6-アルケニル、C2〜C6-ハロアルケニル、C3〜C6-アルキニル、C3〜C6-ハロアルキニルまたはフェニル-C1〜C4-アルキルであり、そしてX2は酸素である]のエナミン類と反応させることにより可能である。
本発明による方法のさらなる実施形態においては、式I.A.1[式中、R1はC1〜C6-アルキル、C1〜C4-シアノアルキル、C1〜C6-ハロアルキル、C3〜C8-シクロアルキル、C2〜C6-アルケニル、C2〜C6-ハロアルケニル、C3〜C6-アルキニル、C3〜C6-ハロアルキニルまたはフェニル-C1〜C4-アルキルであり;そしてRbおよびRdはそれぞれ水素である]の3-フェニルウラシル類を製造することが、
対応する式IV.A.1[式中、Ra=塩素、そしてRbおよびRdはそれぞれ水素である]のアミン類を化合物V[式中、X1は酸素である]と反応させて;
次いでこうして得た式II.A.1[式中、Ra=塩素、そして、RbおよびRd=水素]のカルバメート類を式III[式中、R1は水素であり;そしてX2は酸素である]のエナミン類と反応させ、
そして次いでこうして生成した式I.A.1[式中、Raは塩素でありそしてR1、RbおよびRdはそれぞれ水素である]の3-フェニルウラシルを式VI[式中、R1はC1〜C6-アルキル、C1〜C4-シアノアルキル、C1〜C6-ハロアルキル、C3〜C8-シクロアルキル、C2〜C6-アルケニル、C2〜C6-ハロアルケニル、C3〜C6-アルキニル、C3〜C6-ハロアルキニルまたはフェニル-C1〜C4-アルキルであり、そしてL4は求核置換しうる脱離基である]のアルキル化剤を用いてアルキル化して式I.A.1[式中、R1はC1〜C6-アルキル、C1〜C4-シアノアルキル、C1〜C6-ハロアルキル、C3〜C8-シクロアルキル、C2〜C6-アルケニル、C2〜C6-ハロアルケニル、C3〜C6-アルキニル、C3〜C6-ハロアルキニルまたはフェニル-C1〜C4-アルキルであり;そしてRbおよびRdはそれぞれ水素である]の3-フェニルウラシル類を得ることにより可能である。
本発明による方法のさらなる実施形態においては、式I.A.1[式中、R1はC1〜C6-アルキル、C1〜C4-シアノアルキル、C1〜C6-ハロアルキル、C3〜C8-シクロアルキル、C2〜C6-アルケニル、C2〜C6-ハロアルケニル、C3〜C6-アルキニル、C3〜C6-ハロアルキニルまたはフェニル-C1〜C4-アルキルであり;そしてRbおよびRdはそれぞれ水素である]の3-フェニルウラシル類を製造することが、
対応する式IV.A.1[式中、Ra=塩素そしてRbおよびRdはそれぞれ水素である]のアミン類を化合物V[式中、X1は酸素である]と反応させて;
次いでこうして得た式II.A.1[式中、Ra=塩素そしてRbおよびRd=水素]のカルバメート類を式III[式中、R1はC1〜C6-アルキル、C1〜C4-シアノアルキル、C1〜C6-ハロアルキル、C3〜C8-シクロアルキル、C2〜C6-アルケニル、C2〜C6-ハロアルケニル、C3〜C6-アルキニル、C3〜C6-ハロアルキニルまたはフェニル-C1〜C4-アルキルであり、そしてX2は酸素である]のエナミン類と反応させることにより可能である。
本発明による方法のさらなる実施形態においては、式I.A.1[式中、R1、RbおよびRdはそれぞれ水素である]の3-フェニルウラシル類を製造することが
対応する式IV.A.1[式中、Ra=塩素、そしてRbおよびRdはそれぞれ水素である]のアミン類を化合物V[式中、X1は酸素である]と反応させ;
次いで生成した式II.A.1[式中、Raは塩素でありそしてRbおよびRdはそれぞれ水素である]のカルバメート類を式III[式中、R1は水素である]のエナミン類と反応させることにより可能である。
本発明による方法は、初めて式II:
Figure 2012006936
[式中、X1およびX3ならびにまたArおよびAはそれぞれ先に定義した通りであり、そしてL1は求核置換しうる脱離基、好ましくはC1〜C6-アルコキシまたはC1〜C6-アルキルチオ、より好ましくはC1〜C6-アルコキシである]のカルバメート類の製造を可能にする。
これらの化合物は新規でありかつ同様に本発明の主題事項の一部分を形成する。
式IIのカルバメート類のなかでも、好ましいのは式II.A(=X1およびX3がそれぞれ酸素でありかつArがAr-1である式IIのカルバメート類):
Figure 2012006936
[式中、置換基Ra、Rb、RcおよびRdならびにまたAおよびL1はそれぞれ先に定義した通りである]
のカルバメート類である。
非常に特に好ましいのは式II.A.1のカルバメート類(=X1およびX3はそれぞれ酸素であり、ArはAr-1でありそしてAはNR4R5である、式IIのカルバメート類):
Figure 2012006936
[式中、置換基Ra、Rb、RcおよびRdならびにまたR4、R5およびL1は先に定義した通りである]
である。
式II.A.1のカルバメート類のなかでも、好ましいのは
特に置換基L1、Ra、Rb、RcおよびRdおよびまたR4およびR5がそれぞれ単独でまたは組合わせて、次の通り定義されるものである:
L1は求核置換しうる脱離基、
好ましくはC1〜C6-アルコキシまたはC1〜C6-アルキルチオ、
より好ましくはC1〜C6-アルコキシ、
とりわけ好ましくはC1〜C4-アルコキシ、
非常に好ましくはメトキシまたはエトキシであり;
Raは水素、ハロゲンまたはシアノ、
とりわけ好ましくは水素、弗素、塩素またはシアノ、
非常に好ましくは水素、塩素またはシアノ、
並外れて好ましくは水素または塩素であり;
Rbは水素であり;
Rcは水素またはハロゲン、
とりわけ好ましくは水素、弗素、または塩素、
非常に好ましくは水素または弗素、
並外れて好ましくは弗素であり;
Rdは水素であり;
R4およびR5はそれぞれ独立して
水素またはC1〜C6-アルキル(該C1〜C6-アルキルはそれ自体、ハロゲン、シアノおよびC1〜C4-アルコキシからなる群より選択される置換基、好ましくはハロゲンにより置換されていてもよい)であり;
とりわけ好ましくは
R4は水素、C1〜C6-アルキル、C2〜C6-アルケニルまたはC2〜C6-アルキニル、
非常に好ましくは水素またはC1〜C6-アルキル、
より好ましくはC1〜C4-アルキル、
並外れて好ましくはメチルでありそして
R5はC1〜C6-アルキル、C3〜C8-シクロアルキルまたはフェニル、
非常に好ましくはC1〜C6-アルキル、
より好ましくはC1〜C4-アルキルである。
並外れて好ましいのは、式II.A.1.aのカルバメート類(L1=メトキシ、X1、X3=酸素、Ar=Ar-1(ここでRbおよびRd=水素そしてRc=弗素である)、そしてA=NR4R5である式IIのカルバメート類に対応する)、とりわけ表1の式II.A.1.a.1〜のII.A.1.a.60のカルバメート類であり、置換基Ra、R4およびR5の定義が本発明の化合物にとってお互いに組合わせてだけでなくそれぞれの場合に単独で見られる特別な役割を演じる。
Figure 2012006936
Figure 2012006936
Figure 2012006936
等しく並外れて好ましいのは式II.A.1.bのカルバメート類、とりわけ式II.A.1.b.1〜II.A.1.b.60の化合物であり、これらはL1がエトキシであることが、対応する式II.A.1.a.1〜II.A.1.a.60の化合物と異なる。
Figure 2012006936
等しく並外れて好ましいのは式II.A.1.cのカルバメート類、とりわけ式II.A.1.c.1〜II.A.1.c.60の化合物であり、これらはL1がn-プロピルオキシであることが、対応する式II.A.1.a.1〜II.A.1.a.60の化合物と異なる。
Figure 2012006936
等しく並外れて好ましいのは式II.A.1.dのカルバメート類、とりわけ式II.A.1.d.1〜II.A.1.d.60の化合物であり、これらはL1がイソプロピルオキシであることが、対応する式II.A.1.a.1〜II.A.1.a.60の化合物と異なる。
Figure 2012006936
等しく並外れて好ましいのは式II.A.1.eのカルバメート類、とりわけ式II.A.1.e.1〜II.A.1.e.60の化合物であり、これらはL1がsec-ブチルオキシであることが、対応する式II.A.1.a.1〜II.A.1.a.60の化合物と異なる。
Figure 2012006936
等しく並外れて好ましいのは式II.A.1.fのカルバメート類、とりわけ式II.A.1.f.1〜II.A.1.f.60の化合物であり、これらはL1がイソブチルオキシであることが、対応する式II.A.1.a.1〜II.A.1.a.60の化合物と異なる。
Figure 2012006936
等しく並外れて好ましいのは式II.A.1.gのカルバメート類、とりわけ式II.A.1.g.1〜II.A.1.g.60の化合物であり、これらはL1がtert-ブチルオキシであることが、対応する式II.A.1.a.1〜II.A.1.a.60の化合物と異なる。
Figure 2012006936
等しく並外れて好ましいのは式II.A.1.hのカルバメート類、とりわけ式II.A.1.h.1〜II.A.1.h.60の化合物であり、これらはL1がメチルチオであることが、対応する式II.A.1.a.1〜II.A.1.a.60の化合物と異なる。
Figure 2012006936
等しく並外れて好ましいのは式II.A.1.iのカルバメート類、とりわけ式II.A.1.i.1〜II.A.1.i.60の化合物であり、これらはL1がエチルチオであることが、対応する式II.A.1.a.1〜II.A.1.a.60の化合物と異なる。
Figure 2012006936
合成実施例
以下の実施例は本発明を説明する役割を果たす。
式IIのカルバメート類の製造
実施例1.1:
N-{4-フルオロ-3-[(エトキシカルボニル)アミノ]ベンゾイル}-N'-イソプロピル-N'-メチルスルファミド(化合物II.A.1.b.15)
Figure 2012006936
実施例1.1.a
14.13g(0.179mol)のピリジンを滴状で室温にて41.0g(0.138mol)のN-(4-フルオロ-3-アミノベンゾイル)-N'-イソプロピル-N'-メチルスルファミドの塩化メチレン中の溶液に加え、次いで該混合物を0〜5℃に冷却した。この温度にて、塩化メチレン中の19.83g(0.183mol)のクロロギ酸エチルを小分けして加え、次いで該混合物を60分間攪拌した。反応混合物を加水分解し、そして除去した有機相をH2Oと10%塩酸を用いて抽出した。その後、有機相を洗浄しかつ乾燥し、そして溶媒を除去した。標題化合物47.9g(理論値の96%)を得た(融点:142-144℃)。
1H NMR (500 MHz, d-DMSO) δ[ppm] = 11.9 (s, 1H), 9.50 (s, 1H), 8.30 (d, 1H), 7.65-7.70 (m, 1H), 7.35 (t, 1H), 4.10-4.25 (m, 3H), 2.90 (s, 3H), 1.28 (t, 3H), 1.10 (d, 6H).
実施例1.1.aと類似したやり方で、次の実施例1.1.b〜1.1.eを行った。
実施例1.1.b
6.10g(0.020mol)のN-(4-フルオロ-3-アミノベンゾイル)-N'-イソプロピル-N'-メチルスルファミド、
3.87g(0.041mol)のピコリン
2.97g(0.027mol)のクロロギ酸エチルを用いて、
6.1g(理論値の95%)の標題化合物を得た。
実施例1.1.c
6.00g(0.020mol)のN-(4-フルオロ-3-アミノベンゾイル)-N'-イソプロピル-N'-メチルスルファミド、
2.47g(0.062mol)のNaOH、
2.97g(0.027mol)のクロロギ酸エチルを用いて、
6.4g(理論値の95%)の標題化合物を得た。
実施例1.1.d
6.00g(0.020mol)のN-(4-フルオロ-3-アミノベンゾイル)-N'-イソプロピル-N'-メチルスルファミド
3.72g(0.027mol)のK2CO3
3.00g(0.027mol)のクロロギ酸エチルを用いて、
6.0g(理論値の76%)の標題化合物を得た。
実施例1.1.e
5.90g(0.020mol)のN-(4-フルオロ-3-アミノベンゾイル)-N'-イソプロピル-N'-メチルスルファミド
2.47g(0.062mol)のトリエチルアミン
0.24g(0.062mol)のジメチルアミノピリジン(DMAP)
2.89g(0.027mol)のクロロギ酸エチルを用いて、
6.1g(理論値の52%)の標題化合物を得た。
実施例1.1.f
134.7g(1.22mol)のクロロギ酸エチルを小分けして115〜125℃にて300.0g(0.897mol)のN-(4-フルオロ-3-アミノベンゾイル)-N'-イソプロピル-N'-メチルスルファミドのクロロベンゼン中の溶液に加え、次いでその混合物を125℃にて2h攪拌した。その後、溶媒と過剰のクロロギ酸エチルを除去した。
312.8g(理論値の96%)の標題化合物を得た。
実施例1.2
N-{6-クロロ-4-フルオロ-3-[(エトキシカルボニル)アミノ]ベンゾイル}-N'-イソプロピル-N'-メチルスルファミド(化合物II.A.1.b.45)
Figure 2012006936
57.7g(0.729mol)のピリジンを滴状で室温にて200.0g(0.565mol)のN-(6-クロロ-4-フルオロ-3-アミノベンゾイル)-N'-イソプロピル-N'-メチルスルファミドの塩化メチレン中の溶液に加え、次いでその混合物0〜5℃に冷却した。次いで、塩化メチレン中の80.99g(0.746mol)のクロロギ酸エチルを小分けして加え、その混合物を60分間攪拌して放置した。次いで、反応混合物を加水分解し、そして除去した有機相をH2Oと10%塩酸を用いて抽出した。その後、有機相を洗浄しかつ乾燥し、そして溶媒を除去した。
156.4g(理論値の86%)の標題化合物を得た。
1H NMR (400 MHz, CDCl3): δ = 8.70 (s, 1 H), 8.45 (d, 1 H), 7.20 (d, 1 H), 6.90 (s, 1H) 4.20-4.40 [m, 3 H), 3.00 (s, 3H), 1.35 (t, 3H), 1.20 (d, 6H).
実施例1.3
N-{4-フルオロ-3-[(メトキシカルボニル)アミノ]ベンゾイル}-N'-イソプロピル-N'-メチルスルファミド(化合物II.A.1.a.15)
Figure 2012006936
5.52g(0.057mol)のクロロギ酸メチルを小分けして115〜125℃にて12.50g(0.042mol)のN-(4-フルオロ-3-アミノベンゾイル)-N'-イソプロピル-N'-メチルスルファミドのクロロベンゼン中の溶液に加え、次いでその混合物を125℃にて2時間攪拌した。次いで、溶媒と過剰のクロロギ酸メチルを除去した。14.9g(理論値の99%)の標題化合物を得た。
1H NMR (500 MHz, CDCl3): δ = 9.25 (s, 1 H), 8.55 (d, 1 H), 7.55-7.60 (m, 1 H), 7.15 (t, 1 H), 6.95 (s, 1 H) 4.20-4.30 (m, 1 H), 3.00 (s, 3 H), 2.95 (s, 3 H), 1.18 ppm (d, 6 H).
実施例1.4
N-{4-フルオロ-3-[(フェノキシカルボニル)アミノ]ベンゾイル}-N'-イソプロピル-N'-メチルスルファミド
Figure 2012006936
6.69g(0.057mol)のクロロギ酸フェニルを小分けして115〜125℃にて12.50g(0.042mol)のN-(4-フルオロ-3-アミノベンゾイル)-N'-イソプロピル-N'-メチルスルファミドのクロロベンゼン中の溶液に加え、次いでその混合物を125℃にて2時間攪拌した。次いで、溶媒と過剰のクロロギ酸フェニルを除去した。17.7g(理論値の98%)の標題化合物を得た。
1H NMR (500 MHz, CDCl3): δ = 9.05 (s, 1 H), 8.55 (d, 1 H), 7.55-7.60 (m, 1 H), 7.25-7.40 (m, 7 H), 4.20-4.30 (m, 1 H), 3.00 (s, 3 H), 1.20 ppm (d, 6 H).
実施例1.5
N-{4-フルオロ-3-[(n-ブチルオキシカルボニル)アミノ]ベンゾイル}-N'-イソプロピル-N'-メチルスルファミド
Figure 2012006936
7.36g(0.053mol)のn-クロロギ酸ブチルを小分けして115〜125℃にて12.50g(0.042mol)のN-(4-フルオロ-3-アミノベンゾイル)-N'-イソプロピル-N'-メチルスルファミドのクロロベンゼン中の溶液に加え、次いでその混合物を125℃にて2時間攪拌した。次いで、溶媒と過剰のn-クロロギ酸ブチルを除去した。18.0g(理論値の93%)の標題化合物を得た。
1H NMR (500 MHz, CDCl3): δ = 9.15 (s, 1 H), 8.55 (d, 1 H), 7.55-7.60 (m, 1 H), 7.15 (t, 1 H), 6.95 (s, 1 H), 4.20-4.35 (m, 3 H), 3.00 (s, 3 H), 2.95 (s, 3 H), 1.60 (q, 2 H), 1.35 (q, 2 H), 1.18 ppm (6 H), 0.95 (t, 3 H).
実施例1.6
N-{4-フルオロ-3-[(イソプロピルオキシカルボニル)アミノ]ベンゾイル}-N'-イソプロピル-N'-メチルスルファミド(化合物II.A.1.d.15)
Figure 2012006936
83gのトルエン中のクロロギ酸イソプロピル1M溶液(0.097molのクロロギ酸イソプロピルに対応する)を小分けして115〜125℃にて12.50g(0.042mol)のN-(4-フルオロ-3-アミノベンゾイル)-N'-イソプロピル-N'-メチルスルファミドのトルエン中の溶液に加え、次いでその混合物を125℃にて2時間攪拌した。次いで、溶媒と過剰のクロロギ酸イソプロピルを除去した。16.1g(理論値の97%)の標題化合物を得た。
1H NMR (500 MHz, CDCl3): δ = 9.10 (s, 1 H), 8.55 (d, 1 H), 7.55-7.60 (m, 1 H), 7.10 (t, 1 H), 6.90 (s, 1 H) 4.95-5.10 (m, 1 H), 4.20-4.30 (m, 1 H), 2.95 (s, 3 H), 1.35 (d, 6 H), 1.18 ppm (d, 6 H).
塩素化された式IIのカルバメート類の製造
実施例2.1:
N-{2-クロロ-4-フルオロ-5-[(エトキシカルボニル)アミノ]ベンゾイル}-N'-イソプロピル-N'-メチルスルファミド(化合物 II.A.1.b.45)
Figure 2012006936
実施例2.1.a
クロロベンゼン中に懸濁した150g(0.407mol)のN-(3-[(エトキシカルボニル)アミノ]-4-フルオロベンゾイル)-N'-イソプロピル-N'-メチルスルファミドを反応容器中で減圧下(内部温度<100℃)にて濃縮した。その後、真空を破壊してその懸濁液を65℃に冷却した。その後、760g(5.517mol)の塩化スルフリルを小分けして加え、その過程で温度は50℃に保った。その後、その混合物をさらに16h攪拌した。次いで過剰の塩化スルフリルを蒸留により除去した。蒸留残留物にクロロベンゼンおよび水を加えて混合し室温に冷却し、そしてこうして得た懸濁液のpHをpH=5に2N水酸化ナトリウム溶液を用いて調節した。その後、生成物を濾過して取り出し、洗浄しかつ乾燥した。
126.5g(理論値の75%)の標題化合物を得た(m.p.:98-100℃)。
実施例2.1.b
40g(0.11mol)のN-{3-[(エトキシカルボニル)アミノ]-4-フルオロベンゾイル}-N'-イソプロピル-N'-メチルスルファミドを179.3g(1.33mol)の塩化スルフリルに加えて40℃にて10時間攪拌した。その後、過剰の塩化スルフリルおよびクロロベンゼンを蒸留により除去した。残留物に、75℃にて攪拌しながら、最初にトルエン、次いで水を加えて混合した。80〜85℃にてpHをpH=4に、2N水酸化ナトリウム溶液を用いて調節し、その混合物を攪拌しながら20℃に冷却した。沈降した生成物を濾過して取り出し、洗浄しかつ乾燥した。33g(理論値の71%)の標題化合物を得た(融点:98-100℃)。
実施例2.2:
N-{2-クロロ-4-フルオロ-5-[(メトキシカルボニル)アミノ]ベンゾイル}-N'-イソプロピル-N'-メチルスルファミド(化合物II.A.1.b.45)
Figure 2012006936
クロロベンゼン中に懸濁した40g(0.112mol)のN-(3-[(メトキシカルボニル)アミノ]-4-フルオロベンゾイル}-N'-イソプロピル-N'-メチルスルファミドを反応容器中で減圧下にて濃縮した。次いで真空を破壊し、懸濁液を65℃に冷却した。その後、197g(1.430mol)の塩化スルフリルを小分けして加え、その過程で温度を50℃に保った。その後、その混合物をさらに16時間攪拌した。次いで過剰の塩化スルフリルを蒸留により除去した。蒸留残留物にクロロベンゼンおよび水を加えて混合し、そして室温に冷却し、そして、こうして得た懸濁液のpHをpH=5に、2N水酸化ナトリウム溶液を用いて調節した。次いで生成物を濾過して取り出し、洗浄しかつ乾燥した。14.6g(理論値の34%)の標題化合物を得た。
1H NMR (500 MHz, d-DMSO): δ = 11.1 (s, 1 H), 9.80 (s, 1 H), 7.90-7.95 (m, 1 H), 7.60-7.70 (m, 1 H), 4.25-4.30 (m, 1 H), 3.80 (s, 3 H), 2.85 (s, 3 H), 1.15 (d, 6 H).
式Iのフェニル(チオ)ウラシル類および-ジチオウラシル類の製造
実施例3.1:
2-クロロ-5-[3,6-ジヒドロ-2,6-ジオキソ-4-(トリフルオロメチル)-1(2H)-ピリミジニル]-4-フルオロ-N-{[メチル(1-メチルエチル)アミノ]スルホニル}ベンズアミド
Figure 2012006936
実施例3.1.a
9.13g(0.049mol)の3-アミノ-4,4,4-トリフルオロ-2-ブテン酸エチルを最初にDMF中に室温にて供給した。12.84g(0.059mol)のカリウムメトキシド溶液(メタノール中に32%)を加えて、その混合物をさらに30分間攪拌したまま放置した。その後、20g(0.049mol)のN-(2-クロロ-4-フルオロ-5-[(エトキシカルボニル)アミノ]-ベンゾイル)-N'-イソプロピル-N'-メチルスルファミドを加えた。反応混合物を加熱して十分なアルコールを蒸留除去すると119℃に達した。アルコールを蒸留除去する一方、次いで11.75g(0.054mol)のカリウムメトキシド溶液(メタノール中に32%)を小分けして数時間内に加えた。仕上げのために、冷却しながら反応混合物を滴状で希塩酸に加えて、その終りにpHは<2であった。沈降した生成物を濾過して取り出し、洗浄しかつ乾燥した。22.5g(理論値の92.7%)の標題化合物を得た[融点238℃(分解)]。
実施例3.1.b
1.2g(6.8mmol)の3-アミノ-4,4,4-トリフルオロ-2-ブテン酸エチルを最初にDMF中に室温にて供給した。1.9g(13.7mmol)の炭酸カリウムを加えて、その混合物を50℃にて1時間、攪拌したまま放置した。その後、2.4g(5.7mmol)のN-(2-クロロ-4-フルオロ-5-[(エトキシカルボニル)アミノ]ベンゾイル)-N'-イソプロピル-N'-メチルスルファミドを加え、温度を120℃に上げ、そしてその混合物をさらに4.5時間攪拌した。仕上げのために、冷却しながら反応混合物を滴状で希塩酸に加えて、その終りにpHは<2であった。沈降した生成物を濾過して取り出し、洗浄しかつ乾燥した。2.3g(理論値の73%)の標題化合物を得た。
実施例3.2:
2-クロロ-5-[3,6-ジヒドロ-3-メチル-2,6-ジオキソ-4-(トリフルオロメチル)-1(2H)-ピリミジニル]-4-フルオロ-N-[[メチル-(1-メチルエチル)アミノ]スルホニル]ベンズアミド
Figure 2012006936
1.14g(9.04mmol)のジメチル硫酸および0.283g(2.055mmol)のK2CO3を、80mlのN,N-ジメチルホルムアルデヒド中の2.0g(4.11mmol)の2-クロロ-5-[3,6-ジヒドロ-2,6-ジオキソ-4-(トリフルオロメチル)-1(2H)ピリミジニル-4-フルオロ-N-[[メチル(1-メチルエチル)アミノ]スルホニル]ベンズアミド(実施例3.1から得た)に加え、次いでその混合物を25℃にて16時間攪拌した。その後、N,N-ジメチルホルムアルデヒドを30℃でかつ減圧にて蒸留除去し、そして残留物をほぼ250mlの酢酸エチル中に移し取った。反応混合物を10%HClを用いて酸性化し、次いで2回水を用いて抽出した。有機相をMgSO4上で乾燥して溶媒を蒸留除去して1.95gの粗生成物を得た。1H NMRおよびHPLCによると、目的生成物の純度は77%(73%の収率に対応する)であった。精製するために、0.92gのこの粗生成物をシリカゲル(28x4.5cmカラム)上のクロマトグラフィで9/1〜1/1シクロヘキサン/酢酸エチルを用いて処理して4画分を得た。第3画分(0.58g;59%単離収率に対応する)は所望の生成物を純粋な形態で含有した。
1H NMR データ (DMSO-d6) δ (ppm): 12.2 (NH), 7.8 (d, 1 H), 7.7 (d, 1 H), 6.6 (s, 1 H), 4.1 (sept, 1 H), 3.5 (s, 3 H), 3.3 (s, 3 H), 2.9 (s, 3 H), 1.2 (d, 6 H)
実施例3.3:
2-クロロ-5-[3,6-ジヒドロ-3-メチル-2,6-ジオキソ-4-(トリフルオロメチル)-1(2H)-ピリミジニル]-4-フルオロ-N-[[メチル-(1-メチルエチル)アミノ]スルホニル]ベンズアミド
Figure 2012006936
12.45g(0.024mol)の2-クロロ-5-[3,6-ジヒドロ-2,6-ジオキソ-4-(トリフルオロメチル)-1(2H)ピリミジニル-4-フルオロ-N-[[メチル(1-メチルエチル)アミノ]スルホニル]ベンズアミド(93.9%純度)(実施例3.1から)を、25℃にて135gのトルエンおよび27gのテトラヒドロフランの溶媒混合物に加え、次いで、その混合物を57.5gの水中の2.3g(0.0288mol)の水酸化ナトリウム(50%)の溶液に加えて混合した。0.77g(0.0024mol)の臭化テトラブチルアンモニウムおよび3.69g(0.0293mol)のジメチル硫酸をその反応混合物に加えた。二相反応混合物を25℃にて23時間強く攪拌した。
次いで水相を除去して有機相を2回それぞれ100mlの水を用いて洗浄した。組合わせた有機相を乾燥させた後に溶媒を減圧下で蒸留除去すると、13.8 gの粗生成物を得て、これは定量HPLCによると、77.5%程度の標題化合物を含有した(88.9%の収率に対応する)。
実施例3.4:
2-クロロ-5-[3,6-ジヒドロ-3-メチル-2,6-ジオキソ-4-(トリフルオロメチル)-1(2H)-ピリミジニル]-4-フルオロ-N-[[メチル-(1-メチルエチル)アミノ]スルホニル]ベンズアミド
Figure 2012006936
5g(10.3mmol)の2-クロロ-5-[3,6-ジヒドロ-2,6-ジオキソ-4-(トリフルオロメチル)-1(2H)ピリミジニル-4-フルオロ-N-[[メチル(1-メチルエチル)アミノ]スルホニル]ベンズアミド(実施例3.1から得た)を250mlのジクロロメタンおよび125mlのテトラヒドロフランの溶媒混合物に加え、次いで375mlの水中の0.411g(10.3mmol)のNaOHの溶液に加えて混合した。0.38g(1.03mmol)のヨウ化テトラブチルアンモニウムおよび1.36g(10.8mmol)の硫酸ジメチルその反応混合物に加え、そしてその二相混合物を1000rpmにて14時間攪拌した。
水相を除去し、有機相を減圧下で濃縮して乾燥した。シリカゲル上のクロマトグラフィ精製を実施例3.2に記載したやり方で行って4画分を得た。
溶媒を除去してしまった後に、第1画分は0.54gの混合物を含有し、これは1H NMRによると、90%程度の所望の目的生成物から成り、第2画分2は2.4gの目的生成物(純度>95%)を含有した(両画分に基づく収率:56%)。

Claims (13)

  1. 式I:
    Figure 2012006936
    [式中、
    R1は水素、C1〜C6-アルキル、C1〜C4-シアノアルキル、C1〜C6-ハロアルキル、C3〜C8-シクロアルキル、C2〜C6-アルケニル、C2〜C6-ハロアルケニル、C3〜C6-アルキニル、C3〜C6-ハロアルキニル、フェニル-C1〜C4-アルキルまたはアミノであり、
    R2およびR3はそれぞれ独立して水素、C1〜C6-アルキル、C1〜C6-ハロアルキル、C3〜C8-シクロアルキル、C2〜C6-アルケニル、C2〜C6-ハロアルケニル、C3〜C6-アルキニルまたはC3〜C6-ハロアルキニルであり;
    X1、X2およびX3はそれぞれ独立して酸素または硫黄であり;
    Arは部分的にまた全てハロゲン化されていてもよいおよび/またはシアノ、C1〜C4-アルキルもしくはC1〜C4-ハロアルキルからなる群より選択される1〜3つの基を保持してもよいフェニルであり、そして
    Aは-NR4R5基であり、R4およびR5はそれぞれ独立して水素またはC1〜C6-アルキルである]
    の3-フェニル(チオ)ウラシル類およびジチオウラシル類を製造する方法であって、
    式II:
    Figure 2012006936
    [式中、置換基X1、X3、ArおよびAはそれぞれ先に定義した通りでありそして
    L1はC1〜C6-アルコキシまたはC1〜C6-アルキルチオである]
    のカルバメートを、式III:
    Figure 2012006936
    [式中、置換基X2、R1、R2およびR3はそれぞれ先に定義した通りであり、そしてL2はC1〜C6-アルコキシ、C1〜C6-ハロアルコキシ、C1〜C4-アルコキシ〜C2〜C4-アルコキシ、C1〜C4-アルキルチオ-C2〜C4-アルコキシ、C2〜C6-アルケニルオキシ、C2〜C6-ハロアルケニルオキシ、C3〜C6-アルキニルオキシ、C3〜C6-ハロアルキニルオキシ、C3〜C8-シクロアルキルオキシ、C1〜C6-シアノアルコキシまたはベンジルオキシ(該ベンジルオキシはそれ自体、フェニル環上で部分的にまた全てハロゲン化されていてもよくおよび/またはシアノ、ニトロ、C1〜C4-アルキル、C1〜C4-アルコキシおよびC1〜C4-アルキルチオからなる群の1〜3つの基により置換されていてもよい)である]
    のエナミン類と、式IIのカルバメートに基づいて過剰の塩基の存在下で反応させる工程を含んでなる上記方法。
  2. R1が水素またはC1〜C4-アルキルである、請求項1に記載の式Iの3-フェニル(チオ)ウラシル類および-ジチオウラシル類を製造する方法。
  3. R2が水素、C1〜C4-アルキルまたはC1〜C4-ハロアルキルである、請求項1および2に記載の式Iの3-フェニル(チオ)ウラシル類および-ジチオウラシル類を製造する方法。
  4. R3が水素またはC1〜C4-アルキルである、請求項1〜3に記載の式Iの3-フェニル(チオ)ウラシル類および-ジチオウラシル類を製造する方法。
  5. X1、X2およびX3がそれぞれ酸素である、請求項1〜4に記載の式Iの3-フェニル(チオ)ウラシル類および-ジチオウラシル類を製造する方法。
  6. Arが一般式Ar-1:
    Figure 2012006936
    [式中、
    *はArのC(X3)基との結合を表わし;
    **はArの直接隣接する窒素原子との結合を表わし;そして
    Ra及びRcはそれぞれ独立して水素、ハロゲン、シアノまたはC1〜C4-ハロアルキルであり;そして、
    RbおよびRdは互いに水素である。]
    の基である、請求項1〜5に記載の方法。
  7. A基は-NR4R5基であり、その場合、置換基R4およびR5はそれぞれ独立して水素またはC1〜C6-アルキルであり、上記C1〜C6-アルキルはそれ自体がハロゲン、シアノ、C3〜C8-シクロアルキル、C1〜C4-アルコキシ、C1〜C4-アルキルチオ、C1〜C4-アルコキシカルボニル、フェニル(該フェニルはそれ自体がハロゲンまたはC1〜C4-アルコキシからなる群より選択される1〜3つの置換基を保持してもよい)、フリル、チエニルおよび1,3-ジオキシラニルからなる群より選択される置換基により置換されていてもよい、請求項1〜6に記載の方法。
  8. 式IV:
    Figure 2012006936
    [式中、X3、ArおよびAは請求項Iのもとで定義された通りである]
    のアミン類を式V:
    Figure 2012006936
    [式中、X1およびL1はそれぞれ請求項Iのもとで定義された通りであり、そしてL3は塩素又はC1〜C6-アルコキシである]
    の化合物と反応させることにより式IIのカルバメート類を製造することを特徴とする、請求項1〜7に記載の式Iの3-フェニル(チオ)ウラシル類および-ジチオウラシル類を製造する方法。
  9. 式IIのカルバメート類をハロゲン化剤を用いて中間段階においてAr基上でハロゲン化することを特徴とする、請求項1〜8に記載の式Iの3-フェニル(チオ)ウラシル類および-ジチオウラシル類を製造する方法。
  10. 式II:
    Figure 2012006936
    [式中、X1、X3、Ar、AおよびL1はそれぞれ請求項1に定義した通りである]
    のカルバメート。
  11. 請求項1記載の式I:
    Figure 2012006936
    [式中、R1はC1〜C6-アルキル、C1〜C4-シアノアルキル、C1〜C6-ハロアルキル、C3〜C8-シクロアルキル、C2〜C6-アルケニル、C2〜C6-ハロアルケニル、C3〜C6-アルキニル、C3〜C6-ハロアルキニル、フェニル-C1〜C4-アルキルまたはアミノであり;そして置換基R2、R3、X1、X2、X3、ArおよびAはそれぞれ請求項1〜7に定義した通りである]
    の3-フェニル(チオ)ウラシル類および-ジチオウラシル類を製造する方法であって、
    式II:
    Figure 2012006936
    [式中、置換基X1、X3、ArおよびAはそれぞれ先に定義した通りでありそしてL1はC1〜C6-アルコキシ又はC1〜C4-アルキルチオである]のカルバメート類を式III:
    Figure 2012006936
    [式中、R1は水素であり、置換基X2、R2およびR3はそれぞれ先に定義した通りでありそしてL2は求核置換しうる脱離基である]
    のエナミン類と反応させ、次いで得られる式I[式中、R1は水素である]の3-フェニル(チオ)ウラシルおよび-ジチオウラシルを、
    式VI:
    Figure 2012006936
    [式中、R1はC1〜C6-アルキル、C1〜C4-シアノアルキル、C1〜C6-ハロアルキル、C3〜C8-シクロアルキル、C2〜C6-アルケニル、C2〜C6-ハロアルケニル、C3〜C6-アルキニル、C3〜C6-ハロアルキニルまたはフェニル-C1〜C4-アルキルであり;そしてL4はハロゲン、硫酸水素、C1〜C6-アルキル硫酸、硫酸、C1〜C6-アルキル-スルホニルオキシ、C1〜C6-ハロアルキルスルホニルオキシまたはフェニルスルホニルオキシ(該フェニル環は任意にハロゲン、ニトロ、C1〜C6-アルキルまたはC1〜C6-ハロアルキルにより単または多置換されている)である]のアルキル化剤を反応させて、式I[式中、R1はC1〜C6-アルキル、C1〜C4-シアノアルキル、C1〜C6-ハロアルキル、C3〜C8-シクロアルキル、C2〜C6-アルケニル、C2〜C6-ハロアルケニル、C3〜C6-アルキニル、C3〜C6-ハロアルキニルまたはフェニル-C1〜C4-アルキルである]の3-フェニル(チオ)ウラシル類および-ジチオウラシル類を得るか;または
    式VII:
    Figure 2012006936
    [式中、L5はハロゲン、硫酸水素、C1〜C6-アルキルスルホニルオキシ、C1〜C6-ハロアルキルスルホニルオキシ、フェニルスルホニルオキシまたはフェニルオキシ(該フェニル環は任意にハロゲン、ニトロ、C1〜C6-アルキルまたはC1〜C6-ハロアルキルにより単または多置換されている)である]
    のアミノ化剤と反応させて、式Iの3-フェニル(チオ)ウラシル類および-ジチオウラシル類[式中、R1はNH2である]を得る工程を含んでなる上記方法。
  12. R1がC1〜C6-アルキルまたはアミノである、請求項11に記載の式Iの3-フェニル(チオ)ウラシル類および-ジチオウラシル類を製造する方法。
  13. R1がC1〜C6-アルキルである、請求項11に記載の式Iの3-フェニル(チオ)ウラシル類および-ジチオウラシル類を製造する方法。
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Families Citing this family (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
AU2005266622B8 (en) * 2004-07-22 2011-05-19 Basf Aktiengesellschaft Method for the production of 3-phenyl(thio)uracils and dithiouracils
EA201100377A1 (ru) 2005-12-01 2011-08-30 Басф Се Способ получения сульфонамидов
AR063306A1 (es) * 2006-10-13 2009-01-21 Basf Ag Forma cristalina de 2-cloro-5-[3,6-dihidro-3-metil-2,6-dioxo-4-(trifluorometil)-1-(2h)-pirimidinil]-4-fluoro-n-[[metil(1-metiletil)amino]sulfonil]benzamida
EP2079714B1 (de) * 2006-10-13 2012-09-26 Basf Se Hydrate des 2-chlor-5-ý3,6-dihydro-3-methyl-2,6-dioxo-4-(trifluormethyl)-1-(2h)-pyrimidinyl¨-4-fluor-n-ýýmethyl-(1-methylethyl)amino¨sulfonyl¨benzamids
CN101821233B (zh) * 2007-10-12 2016-06-29 巴斯夫欧洲公司 生产磺酸二酰胺的方法
CN103130727B (zh) * 2013-02-27 2015-07-08 江苏省农用激素工程技术研究中心有限公司 苯嘧磺草胺中间体的制备方法
CA3210637A1 (en) 2021-03-04 2022-09-09 Michael Grabarnick Solid forms of saflufenacil-sodium and saflufenacil-potassium, process of preparation and use thereof
US20240217915A1 (en) 2021-03-26 2024-07-04 Adama Agan Ltd. Preparation of 2-chloro-4-fluoro-5-nitrobenzoic acid
CN115246791A (zh) * 2021-04-26 2022-10-28 四川奥兰多化工有限公司 一种合成6-三氟甲基尿嘧啶的方法及其中间体
CA3228537A1 (en) 2021-08-09 2023-02-16 Adama Agan Ltd. A new process of saflufenacil production using novel intermediates
CN114478326B (zh) * 2022-01-21 2023-10-03 安徽宁亿泰科技有限公司 一种苯嘧磺草胺关键中间体的合成方法
WO2023198484A1 (en) 2022-04-12 2023-10-19 BASF Agro B.V. Improved process for recovering n,n-dimethylformamide (dmf) from an aqueous process stream
EP4306508A1 (en) 2022-07-14 2024-01-17 BASF Agro B.V. Improved process for recovering n,n-dimethylformamide (dmf) from an aqueous process stream
WO2024047648A1 (en) 2022-08-31 2024-03-07 Adama Agan Ltd. Preparation of 2-chloro-4-fluoro-5-nitrobenzoic acid

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4860613B2 (ja) * 2004-07-22 2012-01-25 ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア 3−フェニル(チオ)ウラシル類およびジチオウラシル類を製造する方法

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02501388A (ja) * 1987-09-23 1990-05-17 チバ ― ガイギー アクチエンゲゼルシャフト 複素環式化合物
DE19632005A1 (de) 1996-08-08 1998-02-12 Bayer Ag Substituierte p-Trifluormethylphenyluracile
DE19755926A1 (de) 1997-12-17 1999-06-24 Basf Ag Herbizide 3-(Benzazol-4-yl)pyrimidindion-Derivate
DE60139107D1 (en) * 2000-05-04 2009-08-13 Basf Se Substituierte phenyl-sulfamoyl-carboxamide
WO2003097589A1 (de) 2002-05-16 2003-11-27 Basf Aktiengesellschaft Verfahren zur herstellung von sulfamidsäurehalogeniden
AU2003287972B2 (en) * 2002-10-30 2010-04-22 Basf Aktiengesellschaft Bifunctional phenyliso(thio)cyanates; method and intermediate products for the production thereof
ITMI20022758A1 (it) 2002-12-23 2004-06-24 Isagro Ricerca Srl Nuovi uracili ad attivita' erbicida.

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4860613B2 (ja) * 2004-07-22 2012-01-25 ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア 3−フェニル(チオ)ウラシル類およびジチオウラシル類を製造する方法

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