JP2012006036A - 欠陥電極検出装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ワークが箔状のアルミニウム合金からなり、溶接部位から散乱される光波のうち反射光を集光する反射光集光部と、赤外光を集光する赤外光集光部と、各集光部で集光された光波から所定波長の反射光と赤外光とを抽出し電気信号に変換して溶接状態判別処理部に送る各センサ部と、上記各信号を溶接部位が固化されるまでの時間監視する溶接状態判別処理部11とからなる。該溶接状態判別処理部は反射光と赤外光について時間ごとの検出強度を監視する制御・演算手段と、出力手段と、記憶手段とを備え、先ず反射光につき所定の時間2ms経過後の検出強度のピーク値が予め定められた閾値20以上である場合において、赤外光の検出強度のピーク値が予め定められた閾値0.6以上であるときは「顕らかな欠陥」と判別し、上記閾値B未満であるときは「隠れた欠陥」と判別する。
【選択図】図20
Description
このため、充電においては極めて高い精度での電圧制御が必要とされ、また電極製造時の溶着も欠陥のない溶接が必要である。
ア.溶接欠陥の検出
溶接欠陥の検出は、溶接工程終了後、抜き取り検査をして行なっていた。また内部の欠陥、外部の欠陥を把握するには、破壊・目視検査など複数の作業が必要であり高コストであった。
イ.溶接欠陥の解消
溶接欠陥の原因究明はオフライン検査であったため、時間を要していた。また製造工程の下流工程で発見するため、生産ロスが大きいという欠点があった。
ウ.ラインの復旧
溶接欠陥の原因究明は技術者の経験値に基づき溶接条件等の再設定を行うため、ライン復旧までに時間を要する場合があった。
また、請求項1記載の欠陥電極検出装置において、上記反射光につき所定の時間T1経過後の検出強度のピーク値が予め定められた閾値A以上である場合において、赤外光の検出強度のピーク値が予め定められた閾値B以上であるときは「顕らかな欠陥」と判別し、上記閾値B未満であるときは「隠れた欠陥」と判別することを特徴とする。
また、請求項1又は請求項2記載の欠陥電極検出装置において、上記反射光に関する閾値時間T1が「2ms」以降であることを特徴とする。
また、請求項3記載の欠陥電極検出装置において、上記反射光に関する検出強度の閾値Aが「20」であることを特徴とする。
また、請求項3又は請求項4記載の欠陥電極検出装置において、上記赤外光に関する検出強度の閾値Bが「0.6」であることを特徴とする。
また、請求項3又は請求項4記載の欠陥電極検出装置において、上記溶融状態判別処理部は上記赤外光につき検出強度のピーク値が予め定められた閾値B以上である場合において、赤外光立下り時間と反射光立上り時間の差が予め定められた値(絶対値)T2未満であるときは第1異常パターン又は第2異常パターンと判別し、上記値(絶対値)T2以上であるときは第2異常パターン又は第3異常パターンと判別することを特徴とする。
また、請求項3又は請求項4記載の欠陥電極検出装置において、上記溶融状態判別処理部は上記赤外光につき検出強度のピーク値が予め定められた閾値B以上である場合において、赤外光立下り時間と反射光立上り時間の差が予め定められた値(絶対値)T2未満であって、赤外光立上り時間と反射光立上り時間の差が予め定められた値(絶対値)T3以上のときは第1異常パターンと判別し、上記値(絶対値)T3未満のときは第2異常パターンと判別することを特徴とする。
また、請求項3又は請求項4記載の欠陥電極検出装置において、上記溶融状態判別処理部は上記赤外光につき検出強度のピーク値が予め定められた閾値B以上である場合において、赤外光立下り時間と反射光立上り時間の差が予め定められた値(絶対値)T2以上であって、赤外光立上り時間と反射光立上り時間の差が予め定められた値(絶対値)T3以上のときは第2異常パターンと判別し、上記値(絶対値)T3未満のときは第3異常パターンと判別することを特徴とする。
また、請求項1又は請求項2記載の欠陥電極検出装置において、上記各集光部は溶接部位に対し傾斜して設けられることを特徴とする。
また、請求項9記載の欠陥電極検出装置において、上記各集光部の傾斜角度が50度であることを特徴とする。
また可視光波形は溶融部振動状態を捉えた反射光のタイミングとほぼ同期した波形形状の増減が確認できるが、異常信号が検出強度10以下で小さく、良好な溶接時との区別は付き難い(図6(C)、図14(C))。
これらより、反射光は孔あき発生時付近で波形が立ち上がり、可視光、赤外光は孔あき発生時に波形が立ち下がる傾向にあることが判る。
これらにより、溶接欠陥を区分けする。
赤外光波形は溶融部16の熱量、溶融部16の面積の変動を表わしており、孔あき16cが発生すると当然溶融部16は無くなってしまうため波形は大きく下降する。すなわち、孔あき16cが発生するタイミングで赤外光波形は立ち下がる(図21(D)参照)。
これに対し、反射光波形はレーザ散乱光の変動を表わしており、孔あき16cが発生する直前までの溶融部16が安定している時期には、レーザ光2は溶融部16に吸収されているため波形の変動はないが、上板15aに孔あき16cが発生し、溶融していない下板16b表面にレーザ光2が照射されることで、下板16b側からのレーザ散乱光が強くなり、反射光波形が大きく検出される。すなわち、孔あき16cが発生するタイミングで反射光波形は立ち上がることになる。(図21(C)参照)
上記より、孔あき16c発生の瞬間に赤外光は立ち下がり、反射光は立ち上がる傾向となるのである。
赤外光波形は溶融部16の熱量、溶融部16の面積の変動を表わしており、スパッタ16bが飛散した場合、瞬間的に赤外光センサユニット9aの観察面積内に多くの飛散物が存在することになり、その飛散物は溶融部16とほぼ同等の熱を持っているため、結果的に赤外光量が増え、波形は大きく上昇する。すなわち、スパッタ16bが発生するタイミングで赤外光波形は立ち上がる(図21(B))。
これに対し、反射光波形はスパッタ16b発生時の急激な溶融部16の挙動により散乱光が多く発生する。よって、反射光もスパッタ16bが発生するタイミングで立ち上がることになる(図21(A))。
上記により、スパッタ16b発生時の瞬間に赤外光は立ち上がり、反射光も立ち上がる傾向にある。
溶接欠陥の検出は、溶接工程中に全数検査を行うことにより、許容することができない大きな欠陥を溶接時に100%機械検出することができる。これにより、製造工程下流での検査工程が不要となり、低コスト化に寄与する。
イ.溶接欠陥の解消
溶接欠陥の原因究明がインライン検査であるため、瞬時に解明することができる。また、この解明はレーザ溶接中の上流工程で行なうため、生産ロスが小さい。
ウ.ラインの復旧
溶接欠陥の原因究明まで瞬時に行なうことができるため、速やかに条件再設定、欠陥原因の除去に取り掛かることが可能となり、品質管理体制を強化することができる。
2 レーザ光
3 反射光集光ユニット
4 シリンダ
4a 集光レンズ
4b 集光レンズ
5 赤外光集光ユニット
7 反射光センサユニット
9 赤外光センサユニット
9a 赤外光センサユニット
9b 赤外光センサユニット
11 溶接状態判別処理部
13 レーザ光出射ユニット
15 ワーク
15a 上板
15b 下板
16 溶融部
16a 溶融部振動状態
16b スパッタ
16c 上板孔あき
16d 上下板孔あき
16e 不着溶接
16g 正常溶接
17 光ファイバ
19a 光ファイバ
19b 光ファイバ
21 YAGレーザ光透過フィルタ
23 可視光〜赤外光用フォトダイオード
25 アンプ
27 アナログフィルタ
29 ハウジング
30 ハウジング
31 筐体
33 集光レンズ
35 集光レンズ
37 フィルタ
39 筐体
41 集光レンズ
43 ダイクロイックミラー
49 ハウジング
50 筐体
51 赤外光透過フィルタ
53 ダイクロイックミラー
55 干渉フィルタ
57 集光レンズ
59 赤外光用フォトダイオード
61 アンプ
63 アナログフィルタ
65 干渉フィルタ
67 集光レンズ
69 赤外光用フォトダイオード
71 アンプ
73 アナログフィルタ
75 A/Dコンバータ
77 FPGA
79 高速信号処理プロセッサ
81 記憶手段
83 出力手段
赤外光波形は溶融部16の熱量、溶融部16の面積の変動を表わしており、孔あき16cが発生すると当然溶融部16は無くなってしまうため波形は大きく下降する。すなわち、孔あき16cが発生するタイミングで赤外光波形は立ち下がる(図21(D)参照)。
これに対し、反射光波形はレーザ散乱光の変動を表わしており、孔あき16cが発生する直前までの溶融部16が安定している時期には、レーザ光2は溶融部16に吸収されているため波形の変動はないが、上板15aに孔あき16cが発生し、溶融していない下板15b表面にレーザ光2が照射されることで、下板15b側からのレーザ散乱光が強くなり、反射光波形が大きく検出される。すなわち、孔あき16cが発生するタイミングで反射光波形は立ち上がることになる。(図21(C)参照)
上記より、孔あき16c発生の瞬間に赤外光は立ち下がり、反射光は立ち上がる傾向となるのである。
Claims (10)
- レーザ光にて溶接されるワークの溶接部位についてその欠陥の有無を溶融状態において検出する装置であって、
上記ワークが箔状のアルミニウム合金からなり、
溶接部位から散乱される反射光を集光する反射光集光部と、
溶接部位から散乱される赤外光を集光する赤外光集光部と、
上記反射光集光部で集光された光波から所定波長の反射光を抽出し、抽出された光を電気信号に変換し該信号を溶接状態判別処理部に送る反射光センサ部と、
上記赤外光集光部で集光された光波から所定波長の赤外光を抽出し、抽出された光を電気信号に変換し該信号を溶接状態判別処理部に送る赤外光センサ部と、
上記反射光及び上記赤外光に基づく信号を溶接部位が固化されるまでの時間監視する溶接状態判別処理部とからなり、
該溶接状態判別処理部は上記反射光と上記赤外光について時間ごとの検出強度を監視する制御・演算手段と、演算結果を出力する出力手段と、予め定められた閾値を記憶する記憶手段とを備え、先ず反射光の時間ごとの検出強度のピーク値についての異常を判別し、次いで赤外光の時間ごとの検出強度のピーク値についての異常を判別することを特徴とする欠陥電極検出装置。 - 請求項1記載の欠陥電極検出装置において、上記反射光につき所定の時間T1経過後の検出強度のピーク値が予め定められた閾値A以上である場合において、赤外光の検出強度のピーク値が予め定められた閾値B以上であるときは「顕らかな欠陥」と判別し、上記閾値B未満であるときは「隠れた欠陥」と判別することを特徴とする欠陥電極検出装置。
- 請求項1又は請求項2記載の欠陥電極検出装置において、上記反射光に関する閾値時間T1が「2ms」以降であることを特徴とする欠陥電極検出装置。
- 請求項3記載の欠陥電極検出装置において、上記反射光に関する検出強度の閾値Aが「20」であることを特徴とする欠陥電極検出装置。
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- 請求項3又は請求項4記載の欠陥電極検出装置において、上記溶融状態判別処理部は上記赤外光につき検出強度のピーク値が予め定められた閾値B以上である場合において、赤外光立下り時間と反射光立上り時間の差が予め定められた値(絶対値)T2未満であって、赤外光立上り時間と反射光立上り時間の差が予め定められた値(絶対値)T3以上のときは第1異常パターンと判別し、上記値(絶対値)T3未満のときは第2異常パターンと判別することを特徴とする欠陥電極検出装置。
- 請求項3又は請求項4記載の欠陥電極検出装置において、上記溶融状態判別処理部は上記赤外光につき検出強度のピーク値が予め定められた閾値B以上である場合において、赤外光立下り時間と反射光立上り時間の差が予め定められた値(絶対値)T2以上であって、赤外光立上り時間と反射光立上り時間の差が予め定められた値(絶対値)T3以上のときは第2異常パターンと判別し、上記値(絶対値)T3未満のときは第3異常パターンと判別することを特徴とする欠陥電極検出装置。
- 請求項1又は請求項2記載の欠陥電極検出装置において、上記各集光部は溶接部位に対し傾斜して設けられることを特徴とする欠陥電極検出装置。
- 請求項9記載の欠陥電極検出装置において、上記各集光部の傾斜角度が50度であることを特徴とする欠陥電極検出装置。
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