JP2012004415A - 荷電粒子ビーム描画装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】内部を真空雰囲気に保持可能な真空容器115と、真空容器115の一端に設けられ、荷電粒子を発生させる荷電粒子線源116と、真空容器内に設けられ、荷電粒子線源116で発生する荷電粒子の軌道を制御する偏向電極132と、真空容器外に設けられ、真空容器に対し着脱可能で、偏向電極に電圧を印加する偏向アンプと、真空容器外に設けられ、偏向電極と偏向アンプを電気的に接続するための接続部と、着脱時に偏向アンプを支持し、偏向アンプの着脱を容易にするガイド部と、を備えることを特徴とする荷電粒子ビーム描画装置。
【選択図】図1
Description
tr=2.2・ts/(−ln(re))・・・(式1)
で表わされる。
102 描画部
104 制御部
106 記憶部
114 鏡筒
115 真空容器
116 電子銃
132 偏向器
132a 偏向電極
132b 電力ケーブル
232 偏向アンプ
250 接続部
260 ガイド部
270 電力ケーブル
Claims (5)
- 内部を真空雰囲気に保持可能な真空容器と、
前記真空容器の一端に設けられ、荷電粒子を発生させる荷電粒子線源と、
前記真空容器内に設けられ、前記荷電粒子線源で発生する荷電粒子の軌道を制御する偏向電極と、
前記真空容器外に設けられ、前記真空容器に対し着脱可能で、前記偏向電極に電圧を印加する偏向アンプと、
前記真空容器外に設けられ、前記偏向電極と前記偏向アンプを電気的に接続するための接続部と、
着脱時に前記偏向アンプを支持し、前記偏向アンプの着脱を容易にするガイド部と、
を備えることを特徴とする荷電粒子ビーム描画装置。 - 前記偏向アンプが放熱部材を有することを特徴とする請求項1記載の荷電粒子ビーム描画装置。
- 前記放熱部材がヒートパイプであることを特徴とする請求項2記載の荷電粒子ビーム描画装置。
- 前記接続部が前記真空容器の側壁に設けられ、前記偏向アンプと前記偏向電極が前記真空容器外では電力ケーブルを介さずに接続されることを特徴とする請求項1ないし請求項3いずれか一項記載の荷電粒子ビーム描画装置。
- 前記偏向アンプと前記偏向電極の距離が20cm以下であることを特徴とする請求項1ないし請求項4いずれか一項記載の荷電粒子ビーム描画装置。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Applications Claiming Priority (1)
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JP2012004415A true JP2012004415A (ja) | 2012-01-05 |
JP5631068B2 JP5631068B2 (ja) | 2014-11-26 |
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JP2010139217A Expired - Fee Related JP5631068B2 (ja) | 2010-06-18 | 2010-06-18 | 荷電粒子ビーム描画装置 |
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JP (1) | JP5631068B2 (ja) |
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